CN1171302C - 基片装卸装置 - Google Patents

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Abstract

当输送装置(3；3a；3b)设置在至少两个工站(6A-6D；7A-7D；80A-H)之间且至少这一个搬运装置(4，5；4a)被设置在输送装置(3；3a；3b)的上方时，一种具有一个直线输送基片的输送装置(3；3a；3b)和至少一个可转动的、独立的且用于在该输送装置(3；3a；3b)和至少一个工站(6A-6D；7A-7D；80A-H)之间输送基片的搬运装置(4，5；4a)的基片装卸装置(1；1a；1b)有少量部件和需要小块地方就足够了。

Description

基片装卸装置
技术领域
本发明涉及基片装卸装置，它具有一个直线输送基片的输送装置和至少一个在输送装置和至少一个工站间输送基片的、独立的且可转动的搬运装置。
背景技术
例如在处理基片的设备中且尤其是在给基片上漆或涂覆的设备中知道了上述类型的基片装卸装置。在那里，第一搬运装置从一个输送装置中捡拾基片如CD/CD-R/DVD和其它数据存储器或数据载体以便上漆或涂覆并且基片被放在一个工站如上漆工站上。在加工后，第二搬运装置又捡拾基片并将其放在一个输出装置上或送往另一个工序。
从US-A-4824309中知道了一种具有一个前真空室、一个缓冲室和一个加工室的真空处理装置。该装置在缓冲室中具有第一圆片托座以及它具有第二圆片托座，以便从前真空室中把圆片送往缓冲室的第一圆片托座。此外，设置了第三圆片托座，它把圆片从第一圆片托座送往加工室，其中第二、第三圆片托座具有传送带。
Leybold公司的“Speedljne Prospekt”(2/97，第6页-第9页)示出了一种整体式CD生产设备，其中用于制造CD的不同加工装置被整合在一台设备中。为输送构成CD的元件，同时采用传送带和机械爪。
DE-C-19722408示出了一种在两条分开的输送路线上分头输送基片的方法和装置，该装置具有两个输送站、至少两个加工站和两个输出站。一个输送基片的输送装置可以绕一条转动轴线转动第一角度并且它具有至少两个可以按预定角间距设置在一个绕该转动轴线的圆弧上的手爪。在两个加工站之间和在两个输出站之间的这两个输送站的角间距分别等于预定间隔角度，第一角度大于这个预定角度。
从DE-C-4127341中还知道了一种对一个工件进行不同加工的装置。工件通过一个可直线运动的且具分别具有三个设置在其两侧的输送臂的输送滑架被送往一个圆分度工作台并从那里被取出。搬运装置具有一个基片爪，它可以在x、y、z方向上直线运动并绕z轴线转动。
在这样的装置中，为给工站装卸工件而设置了独立的搬运装置和独立的输送和送走装置。由此一来，装置部件的占地需求大，这尤其是在洁净房间环境的情况下导致了高成本。
发明内容
基于这样的装置，本发明的任务是提出一种成本低廉的且具有少量部件且占地要求小的装置。
根据本发明，在这样一种装置中如此完成了该任务，输送装置设置在至少两个工站之间，所述的至少一个搬运装置被设置在输送装置上方。把输送装置布置在至少两个工站之间具有以下优点，即通过设置在输送装置上方的可转动的搬运装置，可以占地小地装载许多工站。
根据一个优选设计方案，搬运装置的转动中心位于输送装置的一条中心轴线上。搬运装置最好具有设置在一个外圆上的基片捡拾机构，它们等间隔地分布在外圆上。这产生了回转对称，这样的对称可以通过搬运装置转动实现简单地给多个工站装卸基片。
为了能够在加工基片时不挡住工站并且避免介质转换，捡拾头最好设置在搬运装置的径向臂上，以便在它们之间形成自由空间。
直线输送装置具有一条传送带，这是有利的，该传送带最好延伸于一个装载站和一个卸载站之间。这具有以下优点，即为了供应和送走基片，只需要一条传送带，由此减少了所需部件数量。
根据一个特别优选的实施例，传送带具有用于基片的托座。在这种情况下，当可以规定保持不变的运动间歇时，托座在传送带运动方向上均匀间隔开以便简化传送带控制，这是有利的。为了形成相对搬运装置的对称性，托座设置在传送带的中心轴线上，或者总是至少有两个托座是相对中心轴线对称设置的，这简化了搬运装置的控制。
如果至少两个托座被设置在外圆上，以便能够同时捡拾或放下多个基片，则这也是有利的。
根据一个优选实施例，工站的捡拾头中点设置在外圆上并且工站最好完全相反地成对设置在外圆上。
在这种情况下，最好组成对的工站是同一类型的。这又提高了装置的对称性并因而简化了搬运装置的控制。
当用同一驱动装置驱动在外圆上紧邻设置的工站时，这是特别有利的，这减少了所需的驱动装置数量并缩减了与之有关的成本。
搬运装置的捡拾机构的数量有利地等于设置在外圆上的托座和工站的数量。这使得在一个工序中有效地装卸在外圆上的所有工站和托座成为可能。在这种情况下，最好在装卸载时，所有捡拾头或是被安置在输送装置的托座上，或是被安置在工站的捡拾头中点上。
根据一个优选实施例，设置了一个用于同时打开和关闭捡拾头的控制机构，以便同时让托座和工站捡拾基片或把基片放在其上。
附图说明
以下，结合优选实施例并参见附图来详细说明本发明，其中：
图1是具有一个根据本发明第一实施例的基片装卸装置的设备的俯视图；
图2是具有一个根据本发明第二实施例的基片装卸装置的设备的俯视图；
图3是具有一个根据本发明第二实施例的基片装卸装置的设备的俯视图。
具体实施方式
图1示出一台用于加工CD的设备。设备1包括根据本发明的基片装载装置2的第一实施例，它具有一个直线输送式输送装置3和两个搬运装置4、5。此外，设备1具有八个工站6A-6D和7A-7D，在这些工站上加工CD。设备1被安置在一个基体或机座8上，它例如是无机物铸锭。
搬运装置4、工站6A-6D和直线输送装置3一起构成了设备1的第一组。此外，搬运装置5、工站7A-7D一起构成了对应于第一组的设备1的第二组。设备的第一组和第二组共同使用这一个直线输送装置3。
第一实施例的装置2的直线输送装置3具有一条传送带13，它沿一条轨道14延伸。传送带13在输送装置3的转向端15、16上支承在一个空转轮17或一个主动轮18上。在直线输送装置3的端部16上设置了一个驱动装置19。驱动装置19是一个具有一个适当的未示出控制机构的伺服电动机，该驱动装置驱动主动轮18以便输送传送带13。
直线输送装置3具有一条中心轴线20，传送带13的中心轴线也是这条中心轴线。
在传送带13上设置了用于未示出CD的托座。在图1中，示出了八个托座21-28。托座21-28以均匀的间距d设置在传送带13的中心轴线20上。
用于装卸CD的未示出的搬运装置与传送装置3的转向端15、16相邻。在图1中，CD在转向端15上通过一个适当的未示出的搬运装置被放到传送带13上并在经过加工后在转向端16上通过另一个未示出的适当的搬运装置被取走。
搬运装置4、5通过适当的驱动装置而可以转动并可以抬高并且它们从上边被固定住地被设置在传送带13上方。由于搬运装置4、5基本上是一样的，所以，在图中只示出了搬运装置4。
搬运装置4的转动轴线经过外圆41的中心点40。搬运装置4的转动轴线垂直与直线输送装置3的中心轴线20。搬运装置4分别具有六个捡拾机构或捡拾头42-47，它们设置在六个径向延伸的臂48-53上。捡拾头42-47适用于通过如打开和关闭来捡拾并又放下CD，为此可以通过一个未示出的控制机构来进行适当的控制。
如图1所示，搬运装置4的捡拾头42-48位于外圆41上并且在外圆41上均匀间隔开。这六个捡拾头42-48分别以一个角度α＝60°设置在外圆41上。
如上所述地，给这两个搬运装置4或5分别配备了工站6A-6D或7A-7D。因此，只描述工站6A-6D，但这也适用于与搬运装置5有关的工站7A-7D。
工站6A和6C是上漆工站，它们具有一个转盘和可摆动的喷漆嘴。此外，它们具有带有用于要处理的CD的捡拾头中点60A、60C的捡拾头。工站6B和6D是边缘清理装置，它们具有一个转盘和一个用于在上漆后清理CD边缘的边缘刮刀。工站6B和6D也具有带有用于在工站上支承CD的捡拾头中点60B和60D的捡拾头。
捡拾头中点60A-60D设置在外圆41上，它们完全对置地成对位于外圆41上。因而，捡拾头中点60A和60C或捡拾头中点60B和60D分别组成一对。
完全相反地位于外圆41上的工站是同一类型的。工站6A和6C分别是上漆工站，工站6B和6D分别是边缘清理工站。
捡拾头中点60A-60D是如此布置的，即捡拾头中点与在外圆上紧邻的工站间隔一个角度α＝60°并且捡拾头中点分别与输送装置中心轴线20与外圆41的切点也间隔一个角度α＝60°。
设备1第一组和第二组的外圆41、66的中心点40、65间隔一段等于在直线输送装置3上的相邻托座之间距离d三倍的距离。这两个外圆41、66的直径是一样的并且等于在传送带3上的相邻托座之间距离d的两倍。
设备1如图所示地具有预定数量的工站，但这个数量只是示范性的并且是可以改变的。工站也不一定就是上漆工站和边缘清理工站，也可以进行其它加工。也不一定要采取不同的加工。此外，可以代替CD地处理其它基片。
图2示出了设备1b的第二实例施，它具有另一个第三搬运装置，该搬运装置等同于图1的第一实施例的搬运装置4、5。第三搬运装置也被设置在输送装置3b上方，它比第一实施例的直线输送装置3更长。第三搬运装置的转动轴线垂直于输送装置3b的中心轴线20b。第三搬运装置和另外四个工站一起构成了设备1b的第三组，其中这四个工站又是两个上漆工站和两个边缘清理工站。
工站CD捡拾头的捡拾头中点以及各组搬运装置的捡拾头被设置在各自的外圆上，其中点设置在输送装置3b的中心轴线20b上并且与搬运装置的转动轴线重合，如图2所示。
各外圆的直径相同。在图2的实施例中，外圆的直径是输送装置3b的相邻托座之间距离d的三倍。相邻外轴圆的中点以一个间距位于输送装置3b的中心轴线20b上，这个间距是输送装置3b相邻托座之间距离d的四倍。
如以下结合对设备1a或1b的优选工作方式的说明所详细说明的那样，第一实施例和第二实施例在给输送装置3或3b的托座装载CD方面也是有区别的。
图3示出了设备1a，它具有本发明装置2a的第三实施例。装置2a具有一个直线输送装置3a和一个转动的搬运装置4a。此外，设备1a具有工站80A-80H。
直线输送装置4a具有一条轨道，一条传送带13a设置在该轨道上。如以上对第一实施例的传送带13所作的说明那样，该传送带13a也延伸于直线输送装置3a的转向端15a、16a之间并在转向端16a上借助一个主动轮18a由一个适当的驱动装置19a如可控的伺服电动机来驱动。
输送装置3a具有一条中心轴线20a，它也是传送带13a的中心轴线。在传送带13a上设置了用于CD的托座。在图3中，可以看到托座21a-28a。托座相对中心轴线对称地成对布置。例如，托座21a和28a或托座22a和27a构成了相对中心轴线20a对称的一对。
搬运装置4a通过一个适当的驱动装置而可以转动并可以抬高并且它可从上面被固定住地设置在传送带13a的上方。搬运装置4的转动轴线垂直于直线输送装置3a的中心轴线20a。搬运装置4a在相应的径向延伸的臂420a-431a上具有十二个捡拾头400a-411a。捡拾头400a-411a用于捡拾并放下CD并且为此通过一个未示出的控制机构进行适当控制。
如图3所示，捡拾头400a-411a设置在一个外圆41a上，其中可转动的搬运装置4a的转动轴线经过外圆41a的中点40a。捡拾头400a-411a以一定角度α＝30°等间隔分布在外圆上。
外圆41a的直径是如此确定的，即在图3所示的装置2a位置上，在传送带13a上共有两个相对中心轴线20a对称的托座对位于外圆41a上。具体地说，其在图3中就是托座对23a、26a和22a、27a。相应地，外圆41a的直径等于托座22a和26a或托座23a和27a之间的距离。
图3所示的工站80A-80H或是给CD上漆的上漆工站80A-80D，或者边缘清理工站80E-80H。上漆工站80A-80D具有转盘、可摆动的喷漆嘴以及具有用于要上漆的CD的各自捡拾头中点81A-81H的捡拾头。边缘清理工站80E-80H具有转盘、边缘刮刀和具有捡拾头中点81E-81H的捡拾头。
工站80A-80H的各捡拾头中点81A-81H设置在外圆41a上并完全相反地成对位于外圆41a上。在这种情况下，结成对的工站是同类型的。
此外，两个同样的工站分别紧邻地设置在外圆41a上，它们通过一个公用驱动装置采驱动，尽管也可以设置独立的驱动装置。
以下，简短说明根据第一实施例的装置2的工作方式。
已经过处理CD位于工站上，它们在上漆工站6A、6C中经过涂覆并且其边缘在边缘清理工站中经过清理。
在搬运装置4的径向臂上的捡拾头42-47在处理CD的过程中位于一个中间位置上，即它们位于相邻工站之间。因此，如此定位搬运装置4、5，即在工站上没有任何捡拾头42-47。参见图1，这意味着搬运装置4、5转离其所示位置一个角度α/2＝30°。
传送带的托座在转向端15上通过装载站被装上要处理的CD。在装载过程后，只应装载那些被定位在外圆41和66上的传送带13托座。在图1的设备1中，这是如此进行的，即首先在转向端15上通过装载站给一个托座装载CD，不装载下个托座，对下两个托座进行装载，再对一个托座不进行装载，最后还给一个托座装载要处理的CD。传送带总是以一定的间距d按节拍移动，直到最后所有装上CD的托座都被安置在其中一个外圆41或66上为止。在图1中，这样的托座就是托座22、24、25、27。
在给托座装CD的过程中，在转向端16上通过卸载装置从传送带上卸下已有先前的工作周期处理过的CD。
一旦已装载的托座22、24、25、27都被安置在外圆41或66上，则搬运装置4、5马上转入图1所示的位置，在该位置上，捡拾头42-47或是设置在捡拾头中点60A-60C上，或是在托座22和24上，这种情况同样适用于由搬运装置5、四个工站7A-7D和传送带13构成的设备1的第二组。
在这个位置上，捡拾头42-47为了抓住CD而降低并随后又升高。在这种情况下，未处理的CD同时被托座取走并且处理过的CD被工站的捡拾头取走并一起被提高。
搬运装置4和已捡拾的CD一起顺时针转动一个角度α＝60°。在这里，例如被托座22捡拾的未处理CD被送往工站6A的捡拾头中点60A，被工站6A捡拾的CD被送往边缘清理工站6B，等等。
在新的位置上，使捡拾头降低并且它们把CD放下到工站捡拾头中点上或传送带13的托座上。
在CD被下放在托座和工站上后，使搬运装置4又转入一个中间位置或过渡位置上，在该位置上，臂48-53和进而搬运装置的捡拾头设置在相邻工站之间。这种情况同样适用于第二搬运装置5及其基片捡拾。
在CD在上漆工站和边缘清理工站中进行加工的过程中，对传送带13进行卸载并且如上所述地重新给其装载要处理的CD。
而图2的设备1b与图1的设备1的区别在于，沿加长的输送装置3设置由第三搬运装置和四个对应的工站组成的第三组。
当图2所示的装卸装置工作时，与图1相比，由此出现了一个差异。传送带的托座如此在转向端1 5b通过装载站加装CD，即在两个装上CD的且设置在各组的一个公共外圆上的托座之间留有两个未装载的托座，这两个托座在传送带装载后位于搬运装置下方。在第一托座装上CD后，放过两个托座，随后再装载两个托座，随后再放过两个托座。为了通过搬运装置捡拾来捡拾和放下CD，把传送带13b定位于图2所示的位置上，其中已装载的托座安置在搬运装置的各外圆上。
随后，控制这三个搬运装置来输送在工站和托座上的CD，如已结合图1的设备的工作方式所述的那样。
在图3的设备1a中，如此继续实施本发明的设想，即对搬运装置4a来说，共设置了十二个捡拾头400a-411a。在图3所示的位置上，可以通过这些捡拾头同时从托座22a、27a、23a、26a和工站80A-80H的捡拾头中点81A-81H中捡拾四个未处理的CD。在拾起CD后，使搬运装置4a转动一个角度2α＝60°，或者说转动在外圆41a上的两个相邻捡拾头之间的角间距的两倍。因此，同时共有四个CD被送往上漆工站80A-80D并有四个CD被送往边缘清理工站，四个已处理的CD被送往托座22a、27a、23a、26a。在放下CD后，使搬运装置4a和在上述实施例中一样转入一个中间位置，在该中间位置上，捡拾头被安置在工站或托座之间或一个工站和一个托座之间。随后，可以把处理过的CD送往卸载站并借助装载站给托座装载要处理的新CD并在工站上进行处理。
尽管结合本发明的优选实施例描述了本发明，但本发明不局限于特定的实施例。
例如，还可以通过其它组来扩建给图1、2的设备，这些组由一个与搬运装置4、5相似地具有数量适当的工站的搬运装置构成，确切地说，在相应延长直线输送装置3的情况下，扩建了图1、2的设备。在这种情况下，一定要注意，各外圆的直径与在传送带13、13a或13b上的相邻托座间的间距d成适当的比例，只给这样的托座装载CD，即它们可以被安置在相应的外圆上。此外，代替CD地，也可以加工其它基片，或者通过除传送带13、13a或13b之外的其它方式来实现直线输送装置。

Claims (20)

1、一种基片装卸装置(1；1a；1b)，它具有一个直线输送基片的输送装置(3；3a；3b)和至少一个可转动的、独立的且用于在该输送装置(3；3a；3b)和至少一个工站(6A-6D；7A-7D；80A-H)之间输送基片的搬运装置(4，5；4a)，其中，该输送装置(3；3a；3b)被设置在至少两个工站(6A-6D；7A-7D；80A-H)之间并且所述的至少一个搬运装置(4，5；4a)被设置在该输送装置(3；3a；3b)的上方。
2、如权利要求1所述的装置，其特征在于，该搬运装置(4，5；4a)的转动中心(40，65；40a)位于该输送装置(3；3a；3b)的一条中心轴线(20；20b；20a)上。
3、如权利要求1所述的装置，其特征在于，该搬运装置(4，5；4a)具有设置在一个外圆(41，66；41a)上的基片用捡拾头(42-47；400a-411a)。
4、如权利要求3所述的装置，其特征在于，这些捡拾头(42-47；400a-411a)等间隔地分布在外圆(41，66；41a)上。
5、如权利要求3所述的装置，其特征在于，这些捡拾头(42-47；400a-411a)设置在该搬运装置(4，5；4a)的径向臂(48-53；420-431)上。
6、如权利要求1所述的装置，其特征在于，该输送装置(3；3a；3b)具有一条传送带(13；13a；13b)。
7、如权利要求6所述的装置，其特征在于，该传送带(13；13a；13b)延伸于一个装载站和一个卸载站之间。
8、如权利要求6所述的装置，其特征在于，该传送带(13；13a；13b)具有用于基片的托座(21-28；21a-28a)。
9、如权利要求8所述的装置，其特征在于，这些托座(21-28；21a-28a)在该传送带(13；13a；13b)的运动方向上均匀间隔开。
10、如权利要求8所述的装置，其特征在于，这些托座(21-28)设置在该传送带(13；13b)的中心轴线(20；20a；20b)上。
11、如权利要求8所述的装置，其特征在于，分别有至少两个托座(21a-28a)是相对中心轴线(20a)对称地设置的。
12、如权利要求3所述的装置，其特征在于，至少两个托座(21-28；21a-28a)设置在该外圆(41，66；41a)上以便装卸基片。
13、如权利要求3所述的装置，其特征在于，这些工站(6A-6D；80A-H)的捡拾头中点(60A-D；80A-D)设置在该外圆(41；41a)上。
14、如权利要求12所述的装置，其特征在于，这些工站(6A-6D；80A-H)完全相反地成对设置在该外圆(41，66；41a)上。
15、如权利要求14所述的装置，其特征在于，组成对的工站(6A-6D；80A-H)是同一类型的。
16、如权利要求3所述的装置，其特征在于，用同一驱动装置驱动在该外圆(41a)上紧邻设置的工站(80A-H)。
17、如权利要求3所述的装置，其特征在于，该搬运装置(4；4a)的捡拾头(42-47；400a-411a)的数量等于设置在该外圆(41；41a)上的且用于装卸的托座(22，24；22a，23a，26a，27a)和工站(6A-6D；80A-H)的数量。
18、如权利要求17所述的装置，其特征在于，当装、卸基片时，所有捡拾头(42-47；400a-411a)或是被安置在该输送装置(3；3a；3b)的托座(22，24，25，27；22a，23a，26a，27a)上，或是被安置在这些工站(6A-6D，7A-7D；80A-H)的捡拾头中点上。
19、如权利要求3所述的装置，其特征在于，设有一个用于同时打开和关闭捡拾头(42-47；400a-411a)的控制机构。
20、一种包括至少两个工站(6A-D，7A-D，8A-D)和一个如权利要求1所述装置的设备，其中该搬运装置如此设置在该输送装置上方，即它搭接至少两个工站。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101028065B1 (ko) 2002-07-22 2011-04-08 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 기판 처리 장치
US8960099B2 (en) 2002-07-22 2015-02-24 Brooks Automation, Inc Substrate processing apparatus
US7988398B2 (en) 2002-07-22 2011-08-02 Brooks Automation, Inc. Linear substrate transport apparatus
DE10244325A1 (de) * 2002-09-23 2004-04-01 Siegmar Koblitz Mit einem Transportband arbeitende Beschickungsvorrichtung
DE102004019732A1 (de) * 2004-04-20 2005-11-17 Sse Sister Semiconductor Equipment Gmbh Vorrichtung und Verfahren für die Bearbeitung eines Substrats in der Halbleitertechnik sowie System, das eine Vorrichtung für die Bearbeitung eines Substrats umfasst
US8215473B2 (en) 2008-05-21 2012-07-10 Applied Materials, Inc. Next generation screen printing system
IT1392752B1 (it) * 2008-12-18 2012-03-16 Applied Materials Inc Sistema di stampa serigrafica di nuova generazione
DE102009005966A1 (de) * 2008-09-29 2010-04-15 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Transportvorrichtung für eine Vakuumprozessanlage, Antriebseinrichtung für eine Anlagenkomponente einer Vakuumprozessanlage, und Vakuumprozessanlage

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06105742B2 (ja) * 1983-11-28 1994-12-21 株式会社日立製作所 真空処理方法及び装置
FR2580262B1 (fr) * 1985-04-12 1987-05-22 Efcis Installation de manutention d'objets fragiles en atmosphere a empoussierement controle
KR970003907B1 (ko) * 1988-02-12 1997-03-22 도오교오 에레구토론 가부시끼 가이샤 기판처리 장치 및 기판처리 방법
US4981408A (en) * 1989-12-18 1991-01-01 Varian Associates, Inc. Dual track handling and processing system
DE4127341C2 (de) * 1991-08-19 2000-03-09 Leybold Ag Vorrichtung zum selbsttätigen Gießen, Beschichten, Lackieren, Prüfen und Sortieren von Werkstücken
TW309503B (zh) * 1995-06-27 1997-07-01 Tokyo Electron Co Ltd
US5863170A (en) * 1996-04-16 1999-01-26 Gasonics International Modular process system
DE19722408C1 (de) * 1997-05-28 1999-03-25 Singulus Technologies Ag Vorrichtung und Verfahren zum getrennten Transportieren von Substraten

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