JPH07267762A - 薄膜用グレーズ基板及びその製造方法 - Google Patents
薄膜用グレーズ基板及びその製造方法Info
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- JPH07267762A JPH07267762A JP6131194A JP6131194A JPH07267762A JP H07267762 A JPH07267762 A JP H07267762A JP 6131194 A JP6131194 A JP 6131194A JP 6131194 A JP6131194 A JP 6131194A JP H07267762 A JPH07267762 A JP H07267762A
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- glaze
- glaze layer
- bao
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2209/00—Compositions specially applicable for the manufacture of vitreous glazes
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】セラミック基板の表面に、重量比で、ＳｉＯ2
を４０〜４５％、Ａｌ2Ｏ3 を５〜１０％、ＢａＯを３
５〜４５％、Ｂ2 Ｏ3 を５〜１５％、ＣａＯを０．１〜
２％含有する非晶質グレーズの被膜を形成し、また上記
ガラスの焼成温度を１１００℃以下の温度とする。 【効果】セラミック基板中へのＣａＯ及びＢａＯの拡散
を防止することができ、グレーズ層の結晶化、失透及び
セラミック基板の組成変化による反りを防止することが
できる。その結果、グレーズ層表面を平滑にし、グレー
ズ基板の歩留を向上させ、薄膜型サーマルヘッド等の印
字品質を良好にすることができる。
を４０〜４５％、Ａｌ2Ｏ3 を５〜１０％、ＢａＯを３
５〜４５％、Ｂ2 Ｏ3 を５〜１５％、ＣａＯを０．１〜
２％含有する非晶質グレーズの被膜を形成し、また上記
ガラスの焼成温度を１１００℃以下の温度とする。 【効果】セラミック基板中へのＣａＯ及びＢａＯの拡散
を防止することができ、グレーズ層の結晶化、失透及び
セラミック基板の組成変化による反りを防止することが
できる。その結果、グレーズ層表面を平滑にし、グレー
ズ基板の歩留を向上させ、薄膜型サーマルヘッド等の印
字品質を良好にすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子機器材料に用いられ
る薄膜用グレーズ基板及びその製造方法に関するもので
ある。
る薄膜用グレーズ基板及びその製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】ファクシミリやプリンタ等に用いられる
サーマルヘッドにはグレーズ基板が用いられる。このグ
レーズ基板とは、アルミナ等のセラミック基板上にガラ
スを塗布して焼成することにより、極めて滑らかな表面
を有するグレーズ層を形成したものであり、該グレーズ
層上に発熱パターン等を印刷してサーマルヘッドを構成
するようになっている。また、発熱パターン等を印刷す
る際には、薄膜手段と厚膜手段の２通りがあり、薄膜手
段でパターンを形成するためのグレーズ基板を薄膜用グ
レーズ基板と呼んでいる。
サーマルヘッドにはグレーズ基板が用いられる。このグ
レーズ基板とは、アルミナ等のセラミック基板上にガラ
スを塗布して焼成することにより、極めて滑らかな表面
を有するグレーズ層を形成したものであり、該グレーズ
層上に発熱パターン等を印刷してサーマルヘッドを構成
するようになっている。また、発熱パターン等を印刷す
る際には、薄膜手段と厚膜手段の２通りがあり、薄膜手
段でパターンを形成するためのグレーズ基板を薄膜用グ
レーズ基板と呼んでいる。
【０００３】近年、ファクシミリやプリンタ等の高速
化、小型化及び省電力化に対応して、上記グレーズ基板
の熱効率の改善が要求されている。この要求を満たすた
めには、セラミック基板に形成したグレーズ層を低熱伝
導化することにより上記の要求を満たすことが可能であ
り、例えば、ＢａＯ−ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＣａＯ−
Ｂ2 Ｏ3 系の低熱伝導グレーズ組成物が提案されている
（特開平４−４６０３５号公報参照）。
化、小型化及び省電力化に対応して、上記グレーズ基板
の熱効率の改善が要求されている。この要求を満たすた
めには、セラミック基板に形成したグレーズ層を低熱伝
導化することにより上記の要求を満たすことが可能であ
り、例えば、ＢａＯ−ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＣａＯ−
Ｂ2 Ｏ3 系の低熱伝導グレーズ組成物が提案されている
（特開平４−４６０３５号公報参照）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記低熱伝
導グレーズ組成物を用いたグレーズ基板は、グレーズ組
成物中のＢａＯとＣａＯがアルミナセラミック基板中に
拡散しやすく、セラミックス中の組成変化が著しくなっ
て反りを生じてしまうという問題点があった。
導グレーズ組成物を用いたグレーズ基板は、グレーズ組
成物中のＢａＯとＣａＯがアルミナセラミック基板中に
拡散しやすく、セラミックス中の組成変化が著しくなっ
て反りを生じてしまうという問題点があった。
【０００５】つまり、ＢａＯやＣａＯはガラスの溶融温
度を低下させると共に、グレーズ層の熱伝導率を低下さ
せ、熱膨張係数を大きくするための成分であり、グレー
ズ組成物中に合計３５〜４５％含有してある。一方、上
記低熱伝導グレーズ組成物は、ガラス軟化点が８２０℃
〜９４０℃と高いために、１１００〜１２５０℃の温度
で焼成しなければならず、その結果ＣａＯ及びＢａＯが
アルミナセラミック基板に拡散し、基板の組成が変わ
り、反りが発生するのである。
度を低下させると共に、グレーズ層の熱伝導率を低下さ
せ、熱膨張係数を大きくするための成分であり、グレー
ズ組成物中に合計３５〜４５％含有してある。一方、上
記低熱伝導グレーズ組成物は、ガラス軟化点が８２０℃
〜９４０℃と高いために、１１００〜１２５０℃の温度
で焼成しなければならず、その結果ＣａＯ及びＢａＯが
アルミナセラミック基板に拡散し、基板の組成が変わ
り、反りが発生するのである。
【０００６】また、上記低熱伝導グレーズ組成物を用い
たグレーズ基板では、ＢａＯが偏析することで結晶性が
増し、ガラスが失透する為、表面平滑性が得られず、良
好なグレーズ基板が得られないといった問題があった。
たグレーズ基板では、ＢａＯが偏析することで結晶性が
増し、ガラスが失透する為、表面平滑性が得られず、良
好なグレーズ基板が得られないといった問題があった。
【０００７】
【発明の目的】本発明は上記課題に鑑みてなされたもの
で、グレーズ層の表面が平滑で反りが少なく、サーマル
ヘッド等の印字装置に用いた場合、印字特性が良好な薄
膜用グレーズ基板を歩留良く提供せんとするものであ
る。
で、グレーズ層の表面が平滑で反りが少なく、サーマル
ヘッド等の印字装置に用いた場合、印字特性が良好な薄
膜用グレーズ基板を歩留良く提供せんとするものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜用グレーズ
基板は、セラミック基板の表面に、重量比でＳｉＯ2を
４０〜４５％、Ａｌ2 Ｏ3 を５〜１０％、Ｂ2 Ｏ3 を５
〜１５％、ＢａＯを３５〜４５％、ＣａＯを０．１〜２
％含有する非晶質グレーズ層を形成したことを特徴とす
る。
基板は、セラミック基板の表面に、重量比でＳｉＯ2を
４０〜４５％、Ａｌ2 Ｏ3 を５〜１０％、Ｂ2 Ｏ3 を５
〜１５％、ＢａＯを３５〜４５％、ＣａＯを０．１〜２
％含有する非晶質グレーズ層を形成したことを特徴とす
る。
【０００９】また、本発明の薄膜用グレーズ基板の製造
方法は、上記組成のガラスをセラミック基板上に塗布し
た後、１１００℃以下の温度で焼成することを特徴とす
る。
方法は、上記組成のガラスをセラミック基板上に塗布し
た後、１１００℃以下の温度で焼成することを特徴とす
る。
【００１０】つまり、本発明の薄膜用グレーズ基板は、
グレーズ組成中のＣａＯ量を２重量％以下とすることに
より、セラミック基板中へのＣａＯの拡散を防止し、ま
た、焼成温度を１１００℃以下とすることによってグレ
ーズ組成中のＢａＯの拡散を防止した。その結果、セラ
ミック基板中にＢａＯやＣａＯの拡散が少ないことか
ら、反りを防止することができる。
グレーズ組成中のＣａＯ量を２重量％以下とすることに
より、セラミック基板中へのＣａＯの拡散を防止し、ま
た、焼成温度を１１００℃以下とすることによってグレ
ーズ組成中のＢａＯの拡散を防止した。その結果、セラ
ミック基板中にＢａＯやＣａＯの拡散が少ないことか
ら、反りを防止することができる。
【００１１】また、薄膜用グレーズ基板は、厚膜用グレ
ーズ基板のように高い耐熱性が要求されない為、グレー
ズ層を成すガラスの軟化点は７５０℃以上であれば良
く、望ましくは７８０℃〜８５０℃である。したがっ
て、軟化点がこの範囲内となり、１１００℃以下の低温
焼成を可能とするために、各成分の組成比を決定した。
ーズ基板のように高い耐熱性が要求されない為、グレー
ズ層を成すガラスの軟化点は７５０℃以上であれば良
く、望ましくは７８０℃〜８５０℃である。したがっ
て、軟化点がこの範囲内となり、１１００℃以下の低温
焼成を可能とするために、各成分の組成比を決定した。
【００１２】まず ＳｉＯ2 を４０〜４５重量％とした
のは、ＳｉＯ2 はガラス構造を形成するものであり、４
０重量％未満であると非晶質のガラスを形成しにくく、
一方４５重量％より多いと熱伝導率が高くなり、ガラス
軟化点が高くなって１１００℃以下で焼成できなくな
り、また熱膨張係数が小さくなってセラミック基板との
マッチング性が悪くなり、クラックが発生し易くなるた
めである。
のは、ＳｉＯ2 はガラス構造を形成するものであり、４
０重量％未満であると非晶質のガラスを形成しにくく、
一方４５重量％より多いと熱伝導率が高くなり、ガラス
軟化点が高くなって１１００℃以下で焼成できなくな
り、また熱膨張係数が小さくなってセラミック基板との
マッチング性が悪くなり、クラックが発生し易くなるた
めである。
【００１３】Ａｌ2 Ｏ3 は、ＳｉＯ2 とともにガラス構
造を形成するものであるが５重量％に満たないと耐熱性
が低下し、１０重量％を超えると失透し易くなる上、軟
化点が高くなるため、５〜１０重量％とした。
造を形成するものであるが５重量％に満たないと耐熱性
が低下し、１０重量％を超えると失透し易くなる上、軟
化点が高くなるため、５〜１０重量％とした。
【００１４】Ｂ2 Ｏ3 は、ガラス化を促進し、軟化点を
低下させる作用があるが、５重量％未満ではその作用に
乏しく、１５重量％を超えると耐熱性の低下が著しいた
め、、５〜１５重量％とした。
低下させる作用があるが、５重量％未満ではその作用に
乏しく、１５重量％を超えると耐熱性の低下が著しいた
め、、５〜１５重量％とした。
【００１５】ＢａＯはＣａＯと共存下でガラスの溶融温
度を低下させると共に、グレーズ層の熱伝導率を低下さ
せる上、熱膨張係数を大きくするものであるが、３５重
量％に満たないとその作用に乏しく、４５重量％以上で
は結晶化が起こり失透し易くなると同時に、熱膨張係数
が大きくなりすぎて基板に反りが発生するため、３５〜
４５重量％とした。なお、上記したように、ＢａＯにつ
いては焼成温度を１１００℃以下とすればセラミック基
板中への拡散を防止できるため、多く含んでいても問題
ない。
度を低下させると共に、グレーズ層の熱伝導率を低下さ
せる上、熱膨張係数を大きくするものであるが、３５重
量％に満たないとその作用に乏しく、４５重量％以上で
は結晶化が起こり失透し易くなると同時に、熱膨張係数
が大きくなりすぎて基板に反りが発生するため、３５〜
４５重量％とした。なお、上記したように、ＢａＯにつ
いては焼成温度を１１００℃以下とすればセラミック基
板中への拡散を防止できるため、多く含んでいても問題
ない。
【００１６】ＣａＯはＢａＯと同様の作用を成すもので
あり、０．１重量％未満であるとその作用に乏しく、２
重量％を超えるとセラミック基板に拡散してしまうた
め、０．１〜２重量％とした。つまり、ＣａＯは焼成温
度を１１００℃以下としてもセラミック基板への拡散を
防止できないため、２重量％以下と含有量を低くするこ
とによって拡散を防止した。
あり、０．１重量％未満であるとその作用に乏しく、２
重量％を超えるとセラミック基板に拡散してしまうた
め、０．１〜２重量％とした。つまり、ＣａＯは焼成温
度を１１００℃以下としてもセラミック基板への拡散を
防止できないため、２重量％以下と含有量を低くするこ
とによって拡散を防止した。
【００１７】さらに、上記成分以外にＳｒＯを５重量％
以下の範囲で含有しても良い。ＳｒＯは、ＢａＯやＣａ
Ｏと同様の作用を成すものである。
以下の範囲で含有しても良い。ＳｒＯは、ＢａＯやＣａ
Ｏと同様の作用を成すものである。
【００１８】また、本発明のグレーズ基板の製造方法
は、上記組成のガラス粉末に所定のバインダーを加えて
ペースト状とし、これをスクリーン印刷等の方法でセラ
ミック基板上に塗布した後、焼成を行えば良い。このと
き、ＢａＯの拡散を防止するために焼成温度は１１００
℃以下とするが、好ましくは９５０〜１０５０℃が良
い。
は、上記組成のガラス粉末に所定のバインダーを加えて
ペースト状とし、これをスクリーン印刷等の方法でセラ
ミック基板上に塗布した後、焼成を行えば良い。このと
き、ＢａＯの拡散を防止するために焼成温度は１１００
℃以下とするが、好ましくは９５０〜１０５０℃が良
い。
【００１９】
【作用】本発明によれば、ＣａＯ及びＢａＯのセラミッ
ク基板への拡散を防止することにより、グレーズ層の失
透やセラミック基板の組成変化による反りを防止するこ
とができ、グレーズ層表面を平滑にし、グレーズ基板の
歩留を向上させ、薄膜型サーマルヘッド等の印字品質を
良好にすることができる。
ク基板への拡散を防止することにより、グレーズ層の失
透やセラミック基板の組成変化による反りを防止するこ
とができ、グレーズ層表面を平滑にし、グレーズ基板の
歩留を向上させ、薄膜型サーマルヘッド等の印字品質を
良好にすることができる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明実施例を詳細に説明する。
【００２１】まず、アルミナセラミック基板中へのＢａ
ＯとＣａＯの拡散状態を調べる実験を行った。ＳｉＯ2
−Ａｌ2 Ｏ3 −Ｂ2 Ｏ3 −ＲＯ系（ＲＯはＢａＯ及びＣ
ａＯ）のグレーズ組成物を使用し、１１００℃と１２０
０℃で焼成した後、グレーズ層からのＣａＯ及びＢａＯ
の拡散状態を分析した結果を図１、図２に示す。これ
は、得られたグレーズ基板をＸＭＡ（ＥＤＡ）でライン
分析（加速電圧１５ｋＶ）を行ったものであり、縦軸は
グレーズ層及びアルミナ基板中の各成分のＸ線強度、横
軸はグレーズ層とアルミナ基板との境界線からの深さ
（μｍ）を示している。
ＯとＣａＯの拡散状態を調べる実験を行った。ＳｉＯ2
−Ａｌ2 Ｏ3 −Ｂ2 Ｏ3 −ＲＯ系（ＲＯはＢａＯ及びＣ
ａＯ）のグレーズ組成物を使用し、１１００℃と１２０
０℃で焼成した後、グレーズ層からのＣａＯ及びＢａＯ
の拡散状態を分析した結果を図１、図２に示す。これ
は、得られたグレーズ基板をＸＭＡ（ＥＤＡ）でライン
分析（加速電圧１５ｋＶ）を行ったものであり、縦軸は
グレーズ層及びアルミナ基板中の各成分のＸ線強度、横
軸はグレーズ層とアルミナ基板との境界線からの深さ
（μｍ）を示している。
【００２２】この結果より、図２に示す１２００℃で焼
成したものでは、ＢａとＣａがアルミナ基板中の深さ６
〜１０μｍの地点で検出され、ＢａＯとＣａＯがアルミ
ナ基板中に拡散していることがわかる。これに対し図１
に示す１１００℃で焼成したものでは、ＣａＯは同様に
アルミナ基板中に拡散しているが、ＢａＯはアルミナ基
板中には拡散していなかった。
成したものでは、ＢａとＣａがアルミナ基板中の深さ６
〜１０μｍの地点で検出され、ＢａＯとＣａＯがアルミ
ナ基板中に拡散していることがわかる。これに対し図１
に示す１１００℃で焼成したものでは、ＣａＯは同様に
アルミナ基板中に拡散しているが、ＢａＯはアルミナ基
板中には拡散していなかった。
【００２３】したがって、グレーズの焼成温度を１１０
０℃以下とすればＢａＯの拡散は防止できることがわか
り、好ましくは９５０〜１０５０℃で焼成すれば良い。
０℃以下とすればＢａＯの拡散は防止できることがわか
り、好ましくは９５０〜１０５０℃で焼成すれば良い。
【００２４】実施例１ 本発明実施例として、重量比でＳｉＯ2 ４２％、Ａｌ2
Ｏ3 ６％、ＢａＯ３８％、ＳｒＯ３％、 ＣａＯ１％、 Ｂ
2 Ｏ3 １０％のグレーズ組成からなる軟化点７９０℃の
ガラスフリットをアルミナポットで粉砕し、 エチルセル
ロース系バインダーとα−テルピネオール、 ＤＢＰを混
合しペーストとした。このペーストをアルミナ基板（Ａ
ｌ2 Ｏ3 純度９６％）にスクリーン印刷で塗布し、温度
１０５０℃で２０分保持して焼成し、グレーズ層厚み５
０μｍのグレーズ基板を作製した（表１中Ｎｏ．１）。
Ｏ3 ６％、ＢａＯ３８％、ＳｒＯ３％、 ＣａＯ１％、 Ｂ
2 Ｏ3 １０％のグレーズ組成からなる軟化点７９０℃の
ガラスフリットをアルミナポットで粉砕し、 エチルセル
ロース系バインダーとα−テルピネオール、 ＤＢＰを混
合しペーストとした。このペーストをアルミナ基板（Ａ
ｌ2 Ｏ3 純度９６％）にスクリーン印刷で塗布し、温度
１０５０℃で２０分保持して焼成し、グレーズ層厚み５
０μｍのグレーズ基板を作製した（表１中Ｎｏ．１）。
【００２５】実施例２ 本発明実施例として、重量比でＳｉＯ2 ４４％、Ａｌ2
Ｏ3 ７．５％、ＢａＯ４２％、 ＣａＯ１．５％、 Ｂ2 Ｏ
3 ５％のグレーズ組成からなる軟化点８２０℃のガラス
フリットをアルミナポットで粉砕し、 エチルセルロース
系バインダーとα−テルピネオール、 ＤＢＰを混合しペ
ーストとした。このペーストをアルミナ基板（Ａｌ2 Ｏ
3 純度９６％）にスクリーン印刷で塗布し、温度１１０
０℃で２０分保持して焼成し、グレーズ層厚み５０μｍ
のグレーズ基板を作製した（表１中Ｎｏ．２）。
Ｏ3 ７．５％、ＢａＯ４２％、 ＣａＯ１．５％、 Ｂ2 Ｏ
3 ５％のグレーズ組成からなる軟化点８２０℃のガラス
フリットをアルミナポットで粉砕し、 エチルセルロース
系バインダーとα−テルピネオール、 ＤＢＰを混合しペ
ーストとした。このペーストをアルミナ基板（Ａｌ2 Ｏ
3 純度９６％）にスクリーン印刷で塗布し、温度１１０
０℃で２０分保持して焼成し、グレーズ層厚み５０μｍ
のグレーズ基板を作製した（表１中Ｎｏ．２）。
【００２６】一方比較例として表１中のＮｏ．３，４に
示す組成のガラスフリットを用いて、上記と同様にして
グレーズ基板を作製した。
示す組成のガラスフリットを用いて、上記と同様にして
グレーズ基板を作製した。
【００２７】これらの本発明実施例及び比較例につい
て、得られたグレーズ基板の反り量、表面粗さ（Ｒ
ａ）、熱伝導率をそれぞれ測定したところ、表２に示す
通りであった。
て、得られたグレーズ基板の反り量、表面粗さ（Ｒ
ａ）、熱伝導率をそれぞれ測定したところ、表２に示す
通りであった。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【表２】
【００３０】この結果より明らかに、Ｎｏ．３〜６の比
較例では基板の反りが０．５ｍｍ程度と大きく、表面粗
さ（Ｒａ）も０．１μｍ以上と粗いものであった。これ
は、ＣａＯを多く含み、焼成温度が１１００℃よりも高
いために、ＢａＯとＣａＯがアルミナ基板中に拡散した
ためであると考えられる。
較例では基板の反りが０．５ｍｍ程度と大きく、表面粗
さ（Ｒａ）も０．１μｍ以上と粗いものであった。これ
は、ＣａＯを多く含み、焼成温度が１１００℃よりも高
いために、ＢａＯとＣａＯがアルミナ基板中に拡散した
ためであると考えられる。
【００３１】これに対し、本発明実施例では、基板の反
りが０．２ｍｍ以下と小さく、表面粗さ（Ｒａ）が０．
０２μｍ以下と滑らかな表面を有し、熱伝導率にも優れ
たグレーズ基板を得られることがわかる。
りが０．２ｍｍ以下と小さく、表面粗さ（Ｒａ）が０．
０２μｍ以下と滑らかな表面を有し、熱伝導率にも優れ
たグレーズ基板を得られることがわかる。
【００３２】なお、本発明ではグレーズ層を形成するた
めのセラミック基板としてＡｌ2 Ｏ3 含有量９０％以上
のアルミナセラミックスからなる基板を用いることが望
ましいが、この他ににムライト、ジルコニア等の基板を
用いることも可能である。また、グレーズ層はセラミッ
ク基板上の全面に形成したものに限らず、部分的に形成
しても良い。さらに、本発明のグレーズ基板はサーマル
ヘッドに限らず、厚膜基板や薄膜基板等の各種電子機器
材料として用いることができる。
めのセラミック基板としてＡｌ2 Ｏ3 含有量９０％以上
のアルミナセラミックスからなる基板を用いることが望
ましいが、この他ににムライト、ジルコニア等の基板を
用いることも可能である。また、グレーズ層はセラミッ
ク基板上の全面に形成したものに限らず、部分的に形成
しても良い。さらに、本発明のグレーズ基板はサーマル
ヘッドに限らず、厚膜基板や薄膜基板等の各種電子機器
材料として用いることができる。
【００３３】
【発明の効果】本発明の薄膜用グレーズ基板は、セラミ
ック基板の表面に、重量比で、ＳｉＯ2 を４０〜４５
％、Ａｌ2 Ｏ3 を５〜１０％、ＢａＯを３５〜４５％、
Ｂ2 Ｏ3を５〜１５％、ＣａＯを０．１〜２％含有する
非晶質グレーズ層を形成し、また上記ガラスの焼成温度
を１１００℃以下としたことによって、セラミック基板
中へのＣａＯ及びＢａＯの拡散を防止することができ、
グレーズ層の結晶化、失透及びセラミック基板の組成変
化による反りを防止することができる。その結果、グレ
ーズ層表面を平滑にし、グレーズ基板の歩留を向上さ
せ、薄膜型サーマルヘッド等の印字品質を良好にするこ
とができる。
ック基板の表面に、重量比で、ＳｉＯ2 を４０〜４５
％、Ａｌ2 Ｏ3 を５〜１０％、ＢａＯを３５〜４５％、
Ｂ2 Ｏ3を５〜１５％、ＣａＯを０．１〜２％含有する
非晶質グレーズ層を形成し、また上記ガラスの焼成温度
を１１００℃以下としたことによって、セラミック基板
中へのＣａＯ及びＢａＯの拡散を防止することができ、
グレーズ層の結晶化、失透及びセラミック基板の組成変
化による反りを防止することができる。その結果、グレ
ーズ層表面を平滑にし、グレーズ基板の歩留を向上さ
せ、薄膜型サーマルヘッド等の印字品質を良好にするこ
とができる。
【図１】グレーズ基板におけるグレーズ層からアルミナ
基板中への各成分の拡散状態を示すグラフである。
基板中への各成分の拡散状態を示すグラフである。
【図２】グレーズ基板におけるグレーズ層からアルミナ
基板中への各成分の拡散状態を示すグラフである。
基板中への各成分の拡散状態を示すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項１】セラミック基板の表面に、重量比でＳｉＯ
2 を４０〜４５％、Ａｌ2 Ｏ3 を５〜１０％、Ｂ2 Ｏ3
を５〜１５％、ＢａＯを３５〜４５％、ＣａＯを０．１
〜２％含有する非晶質グレーズ層を形成したことを特徴
とする薄膜用グレーズ基板。 - 【請求項２】セラミック基板の表面に、重量比でＳｉＯ
2 を４０〜４５％、Ａｌ2 Ｏ3 を５〜１０％、Ｂ2 Ｏ3
を５〜１５％、ＢａＯを３５〜４５％、ＣａＯを０．１
〜２％含有するガラスを塗布し、１１００℃以下の温度
で焼成する工程から成る薄膜用グレーズ基板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6131194A JPH07267762A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 薄膜用グレーズ基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6131194A JPH07267762A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 薄膜用グレーズ基板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07267762A true JPH07267762A (ja) | 1995-10-17 |
Family
ID=13167500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6131194A Pending JPH07267762A (ja) | 1994-03-30 | 1994-03-30 | 薄膜用グレーズ基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07267762A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018140909A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 京セラ株式会社 | セラミック構造体および反射鏡部材 |
| CN112880852A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-06-01 | 上海交通大学 | 一种高温铂薄膜电阻温度传感器及其制备方法 |
-
1994
- 1994-03-30 JP JP6131194A patent/JPH07267762A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018140909A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 京セラ株式会社 | セラミック構造体および反射鏡部材 |
| CN112880852A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-06-01 | 上海交通大学 | 一种高温铂薄膜电阻温度传感器及其制备方法 |
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