JPH0210098B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0210098B2
JPH0210098B2 JP1081284A JP1081284A JPH0210098B2 JP H0210098 B2 JPH0210098 B2 JP H0210098B2 JP 1081284 A JP1081284 A JP 1081284A JP 1081284 A JP1081284 A JP 1081284A JP H0210098 B2 JPH0210098 B2 JP H0210098B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glaze
less
composition
heat resistance
devitrify
Prior art date
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Expired
Application number
JP1081284A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60155550A (ja
Inventor
Kazuo Kondo
Tatsunori Kurachi
Masahiko Okuyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP1081284A priority Critical patent/JPS60155550A/ja
Publication of JPS60155550A publication Critical patent/JPS60155550A/ja
Priority to US06/847,480 priority patent/US4746578A/en
Priority to US07/121,831 priority patent/US4839313A/en
Publication of JPH0210098B2 publication Critical patent/JPH0210098B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Electronic Switches (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、耐熱性に著しく優れるとともに、表
面平滑性およびセラミツク基板とのマツチング性
に優れ、過酷な条件で反復使用されても信頼性の
高いセラミツク基板用グレース組成物に関するも
のである。 グレーズド基板はフアクシミリのサーマルヘツ
ドやプリンタ―ヘツドに汎用されているが、近
年、印字速度が益々高速化されるにつれ、温度の
急激な上昇、降下という極めて厳しい条件にさら
されるようになつてきた。また装置の小型化、コ
ストダウン化を目的とし、グレーズド基板上に
ICドライブ回路を形成したり、あるいは厚膜工
程を導入すると、グレーズに対して従来よりもさ
らに高度な耐熱性が要求されており、少なくとも
温度800℃、保持時間30分程度の熱処理になんら
変化しないグレーズ層が要望されている。ところ
が従来のグレーズ組成物にあつては、グレーズ表
面の平滑性、あるいは生産性を重視するため、ア
ルカリないしはアルカリと鉛が添加されており、
通常600℃程度しか耐えることができなかつた。 また、近年アルカリ、鉛を含有しない“高温タ
イプ”と称されるグレーズにおいても700℃付近
の温度までしか耐えることができなかつた。更に
グレーズの耐熱性を向上せしめんとすれば表面平
滑性がそこなわれたり、熱膨張係数が低下してセ
ラミツク基板との膨張差が増大してしまうという
難点があつた。 グレーズとセラミツク基板との熱膨張係数差が
大きいと、グレーズ焼き付け時に、すでにグレー
ズ層内に大きな応力が発生しており、フアクシミ
リのサーマルヘツド等に使用されると温度の急激
な上昇等の過酷な条件により、さらに熱応力が加
わり、グレーズ層にマイクロクラツク等が生じ、
極めて信頼性に乏しい。また著しく膨張差が大き
いと焼き付け冷却時にすでにクラツクが生じる事
は公知である。 本発明は上記の難点を克服するためになされた
もので、その要旨とする処は重量基準でSiO246
〜56%、Al2O35〜13%、La2O33〜17%、CaO2〜
14%及びBaO3〜13%からなることを特徴とする
セラミツク基板用グレーズ組成物に存する。 また、上記特定発明と関連する同様に本発明の
要旨とする処はSiO246〜56%、Al2O35〜13%、
La2O33〜17%、CaO2〜14%及びBaO3〜13%を
必須成分とし、該必須成分とSrO25%以下、
MgO1%以下、B2O35%以下及びY2O310%以下の
うちから選ばれる一種以上の選択成分とからなる
ことを特徴とするセラミツク基板用グレーズ組成
物に存する。 本発明セラミツク基板用グレーズ組成物を構成
する各成分の含有量を上記のように限定した理由
を以下に示す。 SiO2はガラス構造を形成するものであるが、
46%未満では失透傾向があり、良好なグレーズと
なり難く、56%を超えると熱膨張係数が小さくな
る傾向が著しく、本発明の目的に適さない。
Al2O3はアルカリ、Pbを含まない本発明組成にお
いては、少量でも失透傾向を低下させ、また熱特
性も向上させる性質を持つが、5%未満では失透
傾向が強くグレーズとなり難く、13%を超えると
グレーズ表面が平滑になりにくい。La2O3はグレ
ーズの熱膨張係数を上げるものであるが、3%未
満ではその効果が現われず、17%を超えると失透
傾向が現われる。従来グレーズの熱膨張係数を上
げるためにはアルカリ酸化物、PbOまたはBaO
が添加されるが、これらはいずれも添加する前と
比べてグレーズの耐熱性を低下させるのに対し、
La2O3は逆に若干乍らも耐熱性と表面平滑性を向
上させる効果を有している。CaOはフリツトを溶
融し易くするものであるが、2%未満ではその効
果に乏しく、14%を超えると失透傾向が現われ
る。BaOはフリツトを溶融し易くするとともに
失透傾向を低下させ、また熱膨張係数を上げる効
果を有するが、3%未満ではそれらの効果に乏し
く、13%を超えると平滑なグレーズ表面が得られ
にくくまた耐熱性も低下する。 本発明セラミツク基板用グレーズ組成物は上記
必須成分のみからなる場合では本発明の目的を十
分に達するが、所望によりSrO、MgO、B2O3
よびY2O3を選択成分として含有させても良くそ
の場合は以下の効果が付加される。 SrOは失透傾向を低下させるほか、平滑なグレ
ーズ表面を形成するものである。少量の添加でも
効果があるが、CaOをSrOに多量に置換してもよ
い。この場合、得られるグレーズ組成物は耐熱性
は多少低下するが表面平滑性は向上する。しか
し、25%を超えると却つてグレーズ表面の平滑性
が悪くなる。MgOはグレーズ焼き付け時の泡抜
け等を促進させるが、1%を超えると失透傾向が
現われる。B2O3は少量でもグレーズ表面の平滑
性を著しく向上させ、失透傾向をも抵下させる
が、添加とともに耐熱性を低下させるため、上限
を5%とした。Y2O3はグレーズの耐熱性を向上
させるとともに、グレーズの熱膨張係数も増大さ
せる。またグレーズ焼き付け時の浮抜けを促進
し、平滑なグレーズ表面を与え、さらにグレーズ
焼き付け温度の好ましい範囲を広げる効果もあ
る。さらにまた薄膜層のエツチング時に使用され
る(HF+HNO3)混合溶液等に対する耐食性を
向上させ、硬度も向上させるが、10%を超えると
焼き付け時の失透傾向が強くなる。 通常、サーマルヘツドに使用される基板材質は
機械的強度、熱伝導率、価格等の点でアルミナが
最も望ましいとされているが、本発明グレーズ組
成物はアルミナに対して熱膨張係数その他諸特性
において極めて良く適合するものである。 以下実施例を示す。 実施例 溶融後に第1表の組成(重量基準で第1表の2
の組成)になるようにSiO2、Al(OH)3、La2O3
CaCO3、BaCO3、SrCO3、MgCO3、H3BO3
Y2O3、Na2CO3、K2CO3およびPb3O4を秤量し、
ライカイ機にて混合し、白金るつぼ中温度1450℃
で溶融した後、水中に投入してガラス化し、アル
ミナ製ボールミルで微粉砕して本発明グレーズ組
成物No.1〜No.8の比較のためのグレーズ組成物No.
9、No.10を製造した。
【表】
【表】 上記グレーズ組成物No.1〜No.10の熱特性を測定
した結果を第2表に示す。
【表】 次に上記グレーズ組成物No.1〜No.10をそれぞれ
エチルセルローズ系バインダーと混合しペースト
とし、Al2O397重量%、大きさ50×50×1(mm)
のアルミナ基板に塗布し、1180〜1250℃、保持時
間2時間で焼き付けてグレーズドセラミツク基板
とした。これらグレーズドセラミツク基板の耐熱
性の評価として温度800℃、保持時間30分の熱処
理を施した後、表面状態を観察した処、本発明グ
レーズ組成物No.1〜No.8を塗布したセラミツク基
板は何等異状無かつたが、比較のためにグレーズ
組成物No.9を塗布したセラミツク基板はグレーズ
の軟化変形により基板縁が丸味を帯びており、ま
た同じく比較のためにグレーズ組成物No.10を塗布
したセラミツク基板は表面のグレーズに亀裂が生
じていた。 以上のように本発明セラミツク基板用グレーズ
組成物はサーマルヘツド、プリンターヘツド等の
セラミツク基板の表面グレーズ化に好適なもので
あり、その外に封着材料としても使用できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 重量基準でSiO246〜56%、Al2O35〜13%、
    La2O33〜17%、CaO2〜14%及びBaO3〜13%か
    らなることを特徴とするセラミツク基板用グレー
    ズ組成物。 2 重量基準でSiO246〜56%、Al2O35〜13%、
    La2O33〜17%、CaO2〜14%及びBaO3〜13%を
    必須成分とし、該必須成分とSrO25%以下、
    MgO1%以下、B2O35%以下及びY2O310%以下の
    うちから選ばれる一種以上の選択成分とからなる
    ことを特徴とするセラミツク基板用グレーズ組成
    物。
JP1081284A 1984-01-09 1984-01-24 セラミツク基板用グレ−ズ組成物 Granted JPS60155550A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1081284A JPS60155550A (ja) 1984-01-24 1984-01-24 セラミツク基板用グレ−ズ組成物
US06/847,480 US4746578A (en) 1984-01-09 1986-04-03 Glaze compositions for ceramic substrates
US07/121,831 US4839313A (en) 1984-01-09 1987-11-17 Glaze compositions for ceramic substrates

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1081284A JPS60155550A (ja) 1984-01-24 1984-01-24 セラミツク基板用グレ−ズ組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60155550A JPS60155550A (ja) 1985-08-15
JPH0210098B2 true JPH0210098B2 (ja) 1990-03-06

Family

ID=11760755

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1081284A Granted JPS60155550A (ja) 1984-01-09 1984-01-24 セラミツク基板用グレ−ズ組成物

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4634684A (en) * 1985-10-23 1987-01-06 Corning Glass Works Strontium aluminosilicate glass substrates for flat panel display devices
WO2004063110A2 (en) * 2003-01-03 2004-07-29 Battelle Memorial Institute Glass-ceramic material and method of making
TWI467706B (zh) 2009-04-09 2015-01-01 Ind Tech Res Inst 陶瓷基板及其製造方法

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JPS60155550A (ja) 1985-08-15

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