JPH028975B2 - - Google Patents
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- JPH028975B2 JPH028975B2 JP23950883A JP23950883A JPH028975B2 JP H028975 B2 JPH028975 B2 JP H028975B2 JP 23950883 A JP23950883 A JP 23950883A JP 23950883 A JP23950883 A JP 23950883A JP H028975 B2 JPH028975 B2 JP H028975B2
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Description
本発明は、耐熱性に著しく優れるとともに、表
面平滑性およびセラミツク基板とのマツチング性
に優れ、過酷な条件で反復使用されても信頼性の
高いセラミツク基板用グレーズ組成物に関するも
のである。 グレーズド基板はフアクシミリのサーマルヘツ
ドやプリンターヘツドに汎用されているが、近
年、印字速度が益々高速化されるにつれ、温度の
急激な上昇、降下という極めて厳しい条件にさら
されるようになつてきた。また装置の小型化、コ
ストダウン化を目的とし、グレーズド基板上に
ICドライブ回路を形成したり、あるいは厚膜工
程を導入すると、グレーズに対して従来よりもさ
らに高度な耐熱性が要求されており、少なくとも
温度800℃、保持時間30分程度の熱処理後でもな
んら変化しないグレーズ層が要望されている。と
ころが従来のグレーズ組成物にあつては、グレー
ズ表面の平滑性、あるいは生産性を重視するた
め、アルカリないしはアルカリと鉛が添加されて
おり、通常600℃程度しか耐えることができなか
つた。 また、近年アルカリ、鉛を含有しない“高温タ
イプ”と称されるグレーズにおいても700℃付近
の温度までしか耐えることができなかつた。更に
グレーズの耐熱性を向上せしめんとすれば表面平
滑性がそこなわれたり、熱膨張係数が低下してセ
ラミツク基板との膨張差が増大してしまうという
難点があつた。 グレーズとセラミツク基板との熱膨張係数差が
大きいと、グレーズ焼き付け時に、すでにグレー
ズ層内に大きな応力が発生しており、フアクシミ
リのサーマルヘツド等に使用されると温度の急激
な上昇等の過酷な条件により、さらに熱応力が加
わり、グレーズ層のマイクロクラツク等が生じ、
極めて信頼性の乏しい。また著しく膨張差が大き
いと焼き付け冷却時にすでにグレーズが生じる事
は公知である。 本発明は上記の難点を克服するためになされた
もので、その要旨とする処は重量基準でSiO244
〜59%、Al2O36〜13%、SrO1〜26%、B2O30.5
〜3%、CaO1〜14%、BaO2〜20%およびY2O32
〜10%よりなることを特徴とするセラミツク基板
用グレーズ組成物に存する。 また上記特定発明と関連する同様に本発明の要
旨とするところは重量基準でSiO244〜59%、
Al2O36〜13%、SrO1〜26%、B2O30.5〜3%、
CaO1〜14%、BaO2〜20%およびY2O32〜10%を
必須成分とし、これに選択成分としてZnO1%以
下およびMgO1%以下のうちから選ばれる一種以
上を含有することを特徴とするセラミツク基板用
グレーズ組成物に存する。 本発明セラミツク基板用グレーズ組成物を構成
する各成分の含有量を上記のように限定した理由
を以下に示す。 SiO2はガラス構造を形成するものであるが、
44%未満では失透傾向があり、良好なグレーズと
なり難く、59%を超えると熱膨張係数が小さくな
る傾向が著しく、本発明の目的に適さない。 Al2O3はアルカリ、Pbを含まない本発明組成に
おいては、少量でも失透傾向を低下させ、また熱
特性も向上させる性質を持つが、6%未満では失
透傾向が強くグレーズとなり難く、13%を超える
とフリツトが溶融しがたく、またグレーズ表面が
平滑になりにくい。 SrOは失透傾向を低下させるほか、良好なグレ
ーズ表面を形成するのに極めて有効であり、
BaOと併用すれば流動性が増し、平滑な表面が
得られるが、1%未満ではその効果に乏しく、26
%を超えると却つてグレーズ表面の平滑性が悪く
なる。 B2O3はSiO2同様にガラス構造を形成するもの
で、グレーズ表面の平滑性向上に対して少量でも
効果があるが、0.5%未満ではその効果に乏しく
表面にうねりを生じ、3%を超えると熱特性の低
下が著しく本発明の目的に適さない。 CaOはフリツトを溶融し易くするものでありま
た耐水性も向上させるが、1%未満ではその効果
に乏しく、14%を超えると失透傾向が強く良好な
グレーズとならない。 BaOはフリツトを溶融し易くするとともに失
透傾向を低下させ、また熱膨張係数を高める効果
を有するが、2%未満ではその効果に乏しく20%
を超えると泡抜けが悪くて平滑なグレーズ表面が
得られにくく、また熱特性も低下する。 Y2O3はグレーズの耐熱性を向上させるととも
に、グレーズの熱膨張係数も増大させる。またグ
レーズ焼付け時の泡抜けを促進し、平滑なグレー
ズ表面を与え、さらにグレーズ焼き付け温度の好
ましい範囲を広げる効果もある。さらにまた薄膜
層のエツチング時に使用される(HF+HNO3)
混合溶液等に対するガラスの耐食性を向上させ、
グレーズの硬度も向上させるが、2%未満ではそ
れらの効果が現われず、10%を超えると焼き付け
時の失透傾向が強くなる。 本発明セラミツク基板用グレーズ組成物は上記
必須成分のみからなる場合でも本発明の目的を十
分に達するが、所望によりZnOおよびMgOを選
択成分として含有させても良く、その場合は以下
の効果が付加される。 ZnOはグレーズの平滑性を向上させる効果があ
るが、1%を超えると失透傾向が強くなる。 MgOは表面絶縁抵抗を向上させるが、1%を
超えると面状態が悪化する。 以下実施例を示す。 実施例 溶融後に第1表の組成になるようにSiO2、Al
(OH)3、H3BO3、CaCO3、BaCO3、MgCO3、
SrCO3、Na2CO3、K2CO3、Y2O3、Pb3O4および
ZnOを秤量し、ライカイ機にて混合し、白金るつ
ぼ中温度1450℃で溶融した後、水中に投入してガ
ラス化し、アルミナ製ボールミルで微粉砕して本
発明グレーズ組成物No.1〜No.6を製造した。また
比較のために本発明グレーズ組成物と同様の手順
を経てグレーズ組成物No.7とNo.8を製造した。
面平滑性およびセラミツク基板とのマツチング性
に優れ、過酷な条件で反復使用されても信頼性の
高いセラミツク基板用グレーズ組成物に関するも
のである。 グレーズド基板はフアクシミリのサーマルヘツ
ドやプリンターヘツドに汎用されているが、近
年、印字速度が益々高速化されるにつれ、温度の
急激な上昇、降下という極めて厳しい条件にさら
されるようになつてきた。また装置の小型化、コ
ストダウン化を目的とし、グレーズド基板上に
ICドライブ回路を形成したり、あるいは厚膜工
程を導入すると、グレーズに対して従来よりもさ
らに高度な耐熱性が要求されており、少なくとも
温度800℃、保持時間30分程度の熱処理後でもな
んら変化しないグレーズ層が要望されている。と
ころが従来のグレーズ組成物にあつては、グレー
ズ表面の平滑性、あるいは生産性を重視するた
め、アルカリないしはアルカリと鉛が添加されて
おり、通常600℃程度しか耐えることができなか
つた。 また、近年アルカリ、鉛を含有しない“高温タ
イプ”と称されるグレーズにおいても700℃付近
の温度までしか耐えることができなかつた。更に
グレーズの耐熱性を向上せしめんとすれば表面平
滑性がそこなわれたり、熱膨張係数が低下してセ
ラミツク基板との膨張差が増大してしまうという
難点があつた。 グレーズとセラミツク基板との熱膨張係数差が
大きいと、グレーズ焼き付け時に、すでにグレー
ズ層内に大きな応力が発生しており、フアクシミ
リのサーマルヘツド等に使用されると温度の急激
な上昇等の過酷な条件により、さらに熱応力が加
わり、グレーズ層のマイクロクラツク等が生じ、
極めて信頼性の乏しい。また著しく膨張差が大き
いと焼き付け冷却時にすでにグレーズが生じる事
は公知である。 本発明は上記の難点を克服するためになされた
もので、その要旨とする処は重量基準でSiO244
〜59%、Al2O36〜13%、SrO1〜26%、B2O30.5
〜3%、CaO1〜14%、BaO2〜20%およびY2O32
〜10%よりなることを特徴とするセラミツク基板
用グレーズ組成物に存する。 また上記特定発明と関連する同様に本発明の要
旨とするところは重量基準でSiO244〜59%、
Al2O36〜13%、SrO1〜26%、B2O30.5〜3%、
CaO1〜14%、BaO2〜20%およびY2O32〜10%を
必須成分とし、これに選択成分としてZnO1%以
下およびMgO1%以下のうちから選ばれる一種以
上を含有することを特徴とするセラミツク基板用
グレーズ組成物に存する。 本発明セラミツク基板用グレーズ組成物を構成
する各成分の含有量を上記のように限定した理由
を以下に示す。 SiO2はガラス構造を形成するものであるが、
44%未満では失透傾向があり、良好なグレーズと
なり難く、59%を超えると熱膨張係数が小さくな
る傾向が著しく、本発明の目的に適さない。 Al2O3はアルカリ、Pbを含まない本発明組成に
おいては、少量でも失透傾向を低下させ、また熱
特性も向上させる性質を持つが、6%未満では失
透傾向が強くグレーズとなり難く、13%を超える
とフリツトが溶融しがたく、またグレーズ表面が
平滑になりにくい。 SrOは失透傾向を低下させるほか、良好なグレ
ーズ表面を形成するのに極めて有効であり、
BaOと併用すれば流動性が増し、平滑な表面が
得られるが、1%未満ではその効果に乏しく、26
%を超えると却つてグレーズ表面の平滑性が悪く
なる。 B2O3はSiO2同様にガラス構造を形成するもの
で、グレーズ表面の平滑性向上に対して少量でも
効果があるが、0.5%未満ではその効果に乏しく
表面にうねりを生じ、3%を超えると熱特性の低
下が著しく本発明の目的に適さない。 CaOはフリツトを溶融し易くするものでありま
た耐水性も向上させるが、1%未満ではその効果
に乏しく、14%を超えると失透傾向が強く良好な
グレーズとならない。 BaOはフリツトを溶融し易くするとともに失
透傾向を低下させ、また熱膨張係数を高める効果
を有するが、2%未満ではその効果に乏しく20%
を超えると泡抜けが悪くて平滑なグレーズ表面が
得られにくく、また熱特性も低下する。 Y2O3はグレーズの耐熱性を向上させるととも
に、グレーズの熱膨張係数も増大させる。またグ
レーズ焼付け時の泡抜けを促進し、平滑なグレー
ズ表面を与え、さらにグレーズ焼き付け温度の好
ましい範囲を広げる効果もある。さらにまた薄膜
層のエツチング時に使用される(HF+HNO3)
混合溶液等に対するガラスの耐食性を向上させ、
グレーズの硬度も向上させるが、2%未満ではそ
れらの効果が現われず、10%を超えると焼き付け
時の失透傾向が強くなる。 本発明セラミツク基板用グレーズ組成物は上記
必須成分のみからなる場合でも本発明の目的を十
分に達するが、所望によりZnOおよびMgOを選
択成分として含有させても良く、その場合は以下
の効果が付加される。 ZnOはグレーズの平滑性を向上させる効果があ
るが、1%を超えると失透傾向が強くなる。 MgOは表面絶縁抵抗を向上させるが、1%を
超えると面状態が悪化する。 以下実施例を示す。 実施例 溶融後に第1表の組成になるようにSiO2、Al
(OH)3、H3BO3、CaCO3、BaCO3、MgCO3、
SrCO3、Na2CO3、K2CO3、Y2O3、Pb3O4および
ZnOを秤量し、ライカイ機にて混合し、白金るつ
ぼ中温度1450℃で溶融した後、水中に投入してガ
ラス化し、アルミナ製ボールミルで微粉砕して本
発明グレーズ組成物No.1〜No.6を製造した。また
比較のために本発明グレーズ組成物と同様の手順
を経てグレーズ組成物No.7とNo.8を製造した。
【表】
上記グレーズ組成物No.1〜No.8の熱特性を測定
した結果を第2表に示す。
した結果を第2表に示す。
【表】
次に上記グレーズ組成物No.1〜No.8をそれぞれ
エチルセルローズ系バインダーと混合しペースト
とし、Al2O397重量%、大きさ50×50×1(mm)
のアルミナ基板に塗布し、1200〜1250℃、保持時
間2時間で焼き付けてグレーズドセラミツク基板
とした。これらグレーズドセラミツク基板の耐熱
性の評価として温度800℃、保持時間30分の熱処
理を施した後、表面状態を観察した処、本発明グ
レーズ組成物No.1〜No.6を塗布したセラミツク基
板は何等異状無かつたが、比較のためにグレーズ
組成物No.7を塗布したセラミツク基板はグレーズ
の軟化変形により基板縁が丸味を帯びており、ま
た同じく比較のためにグレーズ組成物No.8を塗布
したセラミツク基板は表面のグレーズに亀裂が生
じていた。 以上のように本発明セラミツク基板用グレーズ
組成物はサーマルヘツド、プリンターヘツド等の
セラミツク基板の表面グレーズ化に好適なもので
あり、その外に封着材料としても使用できる。
エチルセルローズ系バインダーと混合しペースト
とし、Al2O397重量%、大きさ50×50×1(mm)
のアルミナ基板に塗布し、1200〜1250℃、保持時
間2時間で焼き付けてグレーズドセラミツク基板
とした。これらグレーズドセラミツク基板の耐熱
性の評価として温度800℃、保持時間30分の熱処
理を施した後、表面状態を観察した処、本発明グ
レーズ組成物No.1〜No.6を塗布したセラミツク基
板は何等異状無かつたが、比較のためにグレーズ
組成物No.7を塗布したセラミツク基板はグレーズ
の軟化変形により基板縁が丸味を帯びており、ま
た同じく比較のためにグレーズ組成物No.8を塗布
したセラミツク基板は表面のグレーズに亀裂が生
じていた。 以上のように本発明セラミツク基板用グレーズ
組成物はサーマルヘツド、プリンターヘツド等の
セラミツク基板の表面グレーズ化に好適なもので
あり、その外に封着材料としても使用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 重量基準でSiO244〜59%、Al2O36〜13%、
SrO1〜26%、B2O30.5〜3%、CaO1〜14%、
BaO2〜20%及びY2O32〜10%よりなることを特
徴とするセラミツク基板用グレーズ組成物。 2 重量基準でSiO244〜59%、Al2O36〜13%、
SrO1〜26%、B2O30.5〜3%、CaO1〜14%、
BaO2〜20%及びY2O32〜10%を必須成分とし、
これに選択成分としてZnO1%以下及びMgO1%
以下のうちから選ばれる一種以上を含有すること
を特徴とするセラミツク基板用グレーズ組成物。 3 セラミツク基板がアルミナ基板である特許請
求の範囲第1項又は第2項記載のセラミツク基板
用グレーズ組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23950883A JPS60131881A (ja) | 1983-12-19 | 1983-12-19 | セラミツク基板用グレ−ズ組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23950883A JPS60131881A (ja) | 1983-12-19 | 1983-12-19 | セラミツク基板用グレ−ズ組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60131881A JPS60131881A (ja) | 1985-07-13 |
JPH028975B2 true JPH028975B2 (ja) | 1990-02-28 |
Family
ID=17045827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23950883A Granted JPS60131881A (ja) | 1983-12-19 | 1983-12-19 | セラミツク基板用グレ−ズ組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60131881A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5116789A (en) * | 1991-08-12 | 1992-05-26 | Corning Incorporated | Strontium aluminosilicate glasses for flat panel displays |
JP4707608B2 (ja) * | 2006-05-19 | 2011-06-22 | 株式会社アドバンテスト | 測定回路及び試験装置 |
JP4714094B2 (ja) * | 2006-06-23 | 2011-06-29 | 株式会社アドバンテスト | 信号発生装置及び試験装置 |
TWI467706B (zh) | 2009-04-09 | 2015-01-01 | Ind Tech Res Inst | 陶瓷基板及其製造方法 |
-
1983
- 1983-12-19 JP JP23950883A patent/JPS60131881A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60131881A (ja) | 1985-07-13 |
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