JPH0416420B2 - - Google Patents
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- JPH0416420B2 JPH0416420B2 JP20042884A JP20042884A JPH0416420B2 JP H0416420 B2 JPH0416420 B2 JP H0416420B2 JP 20042884 A JP20042884 A JP 20042884A JP 20042884 A JP20042884 A JP 20042884A JP H0416420 B2 JPH0416420 B2 JP H0416420B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はガラス組成物に関する。
［従来の技術］
感熱記録ヘツドは、アルミナ基板上の保温のた
めのガラス層を形成し、このガラス層上にヒータ
ー等を形成しこのヒーター上にカバーコートが形
成された構造をしている。ガラス層に要求される
特性としては、熱膨脹係数がアルミナ基板のそれ
に近いこと、ガラス層上のヒーター及び導体が厚
膜法によつて形成されるが、それらの形成により
ヒーター及び導体と反応し、ヒーターの抵抗値を
変化させたり、導体（通常はAu）に発泡を生じ
たりすることがないこと、更に焼結したガラス層
が緻密であること等がある。かかるガラスとして
例えばSiO241％、Al2O38％、BaO33％、ZnO10
％、MgO3％、ZrO23％の組成のものが使用され
ていた。 ［本発明が解決しようとする問題点］ かかるガラスは、上記導体及び抵抗体に発泡を
生じ、また抵抗値の変化も大きいためかかる特性
の改善が要望されていた。本発明はかかる欠点を
改善したガラス組成物の提供を目的とする。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明はガラス粉末70〜99重量％と残部フイラ
ーからなる組成物であつて、該ガラス粉末は重量
％表示で実質的に SiO2 35〜45 Al2O3 13〜20 BaO 10〜25 ZnO ７〜15 CaO ６〜12 MgO １〜５ ZrO2 １〜５ からなり、該フイラーはコランダム、α−石英又
はジルコンから選ばれた少なくとも１者であるガ
ラス組成物である。 本発明の組成物はガラス粉末が重量％で70〜99
の範囲を占めるが、ガラス粉末が70％未満では焼
結時にガラスが十分に流動し難いため、緻密なガ
ラス表面が形成されず好ましくない。一方ガラス
表面が99％を越えるとガラス層上に形成する抵抗
体、導体のパターンが焼結時に変形し易く好まし
くない。ガラス粉末上記範囲中３〜25％の範囲が
より望ましい。 本発明によるガラス粉末の成分の限定理由は次
の通りである。 SiO2は、ガラスのネツトワークフオーマーで
あるとともに焼成時に一部析出する結晶の主成分
でもある。SiO2が35％未満であるとガラスの軟
化温度が低くなり過ぎ上部に形成される抵抗体、
導体との反応性が大きくなり、また、45％より多
くなるとガラスの溶解性が悪くなりいずれも好ま
しくない。SiO2は上記範囲中37〜42％の範囲が
より望ましい。 Al2O3は析出結晶の成分であり、13％未満では
該結晶の析出が不充分となりガラス層上に形成さ
れる抵抗体等の焼成時に流動し易くそれらのパタ
ーンを変形する恐れがあり好ましくない。Al2O3
は上記範囲中15〜18％の範囲がより望ましい。 BaOは、Al2O3等と同析出結晶の成分であり10
％未満では析出結晶が不充分でAl2O3の少ない場
合と同様の難点を生じるので好ましくない。一
方、25％を越えるとガラスの熱膨脹係数がアミナ
のそれより大きくなり過ぎ、基板に反りを生じる
ので好ましくない。BaOは上記範囲中12〜23％
の範囲がより望ましい。 ZnOはガラス溶解時のフラツクスとして作用し
７％未満では溶解性が悪く、一方15％を越えると
ガラスの軟化点が低くなり過ぎ抵抗体等の焼成時
にそれらのパターンを変形させる恐れがあり、い
ずれも好まくしくない。ZnOは上記範囲中９〜13
％の範囲より望ましい。 CaOはガラスの溶解性を向上するために添加す
る。６％未満では添加による効果が少なく、一方
12％を越えると熱膨脹係数が大きくなり過ぎるの
で、いずれも好ましくない。CaOは上記範囲中８
〜10％範囲がより望ましい。 MgOはCaOと同様ガラスの溶解性を向上する
ために添加する。１％未満では添加による効果が
不充分であり、５％を越えると失透を生じ易くな
るので好ましくない。MgOは上記範囲中２〜４
％の範囲がより望ましい。 ZrO2は化学的耐久性の向上を図る目的で添加
する。１％未満では添加による効果が少なく、５
％を越えるとガラス化が難しくなり、いずれも好
ましくない。ZrO2は上記範囲中２〜４％の範囲
がより望ましい。 本発明におけるガラス粉末は以上の成分で98％
以上占め残部２％について着色剤その他特性を改
善するための成分を添加することができる。本発
明において、かかるガラス粉末とともに使用され
るフイラー即ちコランダム、α−石英及びジルコ
ンは、軟化温度が高く、焼成温度において充分な
強度を有し、かつ比較的入手し易いので望まし
い。 本発明による組成物は例えば次のようにして製
造される。 目標ガラス組成となるように、原料を調合し溶
融してガラス化する。次いで、溶融ガラスを水砕
等により粉末化した後微粉化し１〜3μｍ程度の
ガラス粉末とする。次いでこのガラス粉末と上記
フイラーとを所定割合で混合することにより本発
明の組成物が得られる。かくして得られた組成物
は通常有機バインダーと混練しペースト状にして
使用される。 実施例 目標達成となるように各原料を調合し1400〜
1500℃にて２〜３時間溶解した後、フレーク化し
た。次いでこれをポツトミルにて微粉砕し１〜
3μｍの平均粒径にし、表１に記載の８種類の組
成のガラス粉末を得た。 次いで、このガラス粉末と表１に記載のフイラ
ーとを同表に記載の割合で混合し本発明の組成物
を得た。 次いでかかる組成物にα−テルピネオールとエ
チルセルロースからなる有機バインダーを添加し
ペーストを製造した。このペーストを用い次の特
性を評価しその結果を表１に併記した。なお、比
較例として本発明以外の組成物についても同様な
評価を行ないその結果を同表に併記した。 上記Au導体の発泡の有無； 上記ペーストを用い2″×2″のアルミナ基板上に
２cm×２cmのパターンをスクリーン印刷し930℃
10分間焼成する。次いでこのパターン上に市販の
Auペーストを印刷し930℃10分間焼成しAu導体
を形成する。次いでAu導体の表面を80倍の実体
顕微鏡で観察し、発泡が全く認められないものを
同表にて無しとした。 基板の反り； 上記ペーストを用い25mm幅×300mm長×１mm厚
のアルミナ基板上に15mm×280mmのパターンをス
クリーン印刷し焼成した。次いでアルミナ基板
300mmのスパンについて反りを測定し、反りが0.2
mm以下を小、0.3mm以上を大として表１に記載し
た。 抵抗値変化率； 上記ペーストをアルミナ基板上印刷し900℃で
10分間焼成しガラス層を形成した。次いで、この
ガラス層上にRuO2ペーストを印刷し、焼成し抵
抗体を形成した。この抵抗値R0を測定した後、
同試料を900℃10分間再度焼成し、再び抵抗値R1
を測定した。そしてR1−R0／R0が10％未満であるも のを小とし10％以上を大として表１に記載した。 熱膨脹係数； ガラス粉末をプレスし930℃15分間焼成したも
のについて測定した結果を表１に記載した。 【表】
めのガラス層を形成し、このガラス層上にヒータ
ー等を形成しこのヒーター上にカバーコートが形
成された構造をしている。ガラス層に要求される
特性としては、熱膨脹係数がアルミナ基板のそれ
に近いこと、ガラス層上のヒーター及び導体が厚
膜法によつて形成されるが、それらの形成により
ヒーター及び導体と反応し、ヒーターの抵抗値を
変化させたり、導体（通常はAu）に発泡を生じ
たりすることがないこと、更に焼結したガラス層
が緻密であること等がある。かかるガラスとして
例えばSiO241％、Al2O38％、BaO33％、ZnO10
％、MgO3％、ZrO23％の組成のものが使用され
ていた。 ［本発明が解決しようとする問題点］ かかるガラスは、上記導体及び抵抗体に発泡を
生じ、また抵抗値の変化も大きいためかかる特性
の改善が要望されていた。本発明はかかる欠点を
改善したガラス組成物の提供を目的とする。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明はガラス粉末70〜99重量％と残部フイラ
ーからなる組成物であつて、該ガラス粉末は重量
％表示で実質的に SiO2 35〜45 Al2O3 13〜20 BaO 10〜25 ZnO ７〜15 CaO ６〜12 MgO １〜５ ZrO2 １〜５ からなり、該フイラーはコランダム、α−石英又
はジルコンから選ばれた少なくとも１者であるガ
ラス組成物である。 本発明の組成物はガラス粉末が重量％で70〜99
の範囲を占めるが、ガラス粉末が70％未満では焼
結時にガラスが十分に流動し難いため、緻密なガ
ラス表面が形成されず好ましくない。一方ガラス
表面が99％を越えるとガラス層上に形成する抵抗
体、導体のパターンが焼結時に変形し易く好まし
くない。ガラス粉末上記範囲中３〜25％の範囲が
より望ましい。 本発明によるガラス粉末の成分の限定理由は次
の通りである。 SiO2は、ガラスのネツトワークフオーマーで
あるとともに焼成時に一部析出する結晶の主成分
でもある。SiO2が35％未満であるとガラスの軟
化温度が低くなり過ぎ上部に形成される抵抗体、
導体との反応性が大きくなり、また、45％より多
くなるとガラスの溶解性が悪くなりいずれも好ま
しくない。SiO2は上記範囲中37〜42％の範囲が
より望ましい。 Al2O3は析出結晶の成分であり、13％未満では
該結晶の析出が不充分となりガラス層上に形成さ
れる抵抗体等の焼成時に流動し易くそれらのパタ
ーンを変形する恐れがあり好ましくない。Al2O3
は上記範囲中15〜18％の範囲がより望ましい。 BaOは、Al2O3等と同析出結晶の成分であり10
％未満では析出結晶が不充分でAl2O3の少ない場
合と同様の難点を生じるので好ましくない。一
方、25％を越えるとガラスの熱膨脹係数がアミナ
のそれより大きくなり過ぎ、基板に反りを生じる
ので好ましくない。BaOは上記範囲中12〜23％
の範囲がより望ましい。 ZnOはガラス溶解時のフラツクスとして作用し
７％未満では溶解性が悪く、一方15％を越えると
ガラスの軟化点が低くなり過ぎ抵抗体等の焼成時
にそれらのパターンを変形させる恐れがあり、い
ずれも好まくしくない。ZnOは上記範囲中９〜13
％の範囲より望ましい。 CaOはガラスの溶解性を向上するために添加す
る。６％未満では添加による効果が少なく、一方
12％を越えると熱膨脹係数が大きくなり過ぎるの
で、いずれも好ましくない。CaOは上記範囲中８
〜10％範囲がより望ましい。 MgOはCaOと同様ガラスの溶解性を向上する
ために添加する。１％未満では添加による効果が
不充分であり、５％を越えると失透を生じ易くな
るので好ましくない。MgOは上記範囲中２〜４
％の範囲がより望ましい。 ZrO2は化学的耐久性の向上を図る目的で添加
する。１％未満では添加による効果が少なく、５
％を越えるとガラス化が難しくなり、いずれも好
ましくない。ZrO2は上記範囲中２〜４％の範囲
がより望ましい。 本発明におけるガラス粉末は以上の成分で98％
以上占め残部２％について着色剤その他特性を改
善するための成分を添加することができる。本発
明において、かかるガラス粉末とともに使用され
るフイラー即ちコランダム、α−石英及びジルコ
ンは、軟化温度が高く、焼成温度において充分な
強度を有し、かつ比較的入手し易いので望まし
い。 本発明による組成物は例えば次のようにして製
造される。 目標ガラス組成となるように、原料を調合し溶
融してガラス化する。次いで、溶融ガラスを水砕
等により粉末化した後微粉化し１〜3μｍ程度の
ガラス粉末とする。次いでこのガラス粉末と上記
フイラーとを所定割合で混合することにより本発
明の組成物が得られる。かくして得られた組成物
は通常有機バインダーと混練しペースト状にして
使用される。 実施例 目標達成となるように各原料を調合し1400〜
1500℃にて２〜３時間溶解した後、フレーク化し
た。次いでこれをポツトミルにて微粉砕し１〜
3μｍの平均粒径にし、表１に記載の８種類の組
成のガラス粉末を得た。 次いで、このガラス粉末と表１に記載のフイラ
ーとを同表に記載の割合で混合し本発明の組成物
を得た。 次いでかかる組成物にα−テルピネオールとエ
チルセルロースからなる有機バインダーを添加し
ペーストを製造した。このペーストを用い次の特
性を評価しその結果を表１に併記した。なお、比
較例として本発明以外の組成物についても同様な
評価を行ないその結果を同表に併記した。 上記Au導体の発泡の有無； 上記ペーストを用い2″×2″のアルミナ基板上に
２cm×２cmのパターンをスクリーン印刷し930℃
10分間焼成する。次いでこのパターン上に市販の
Auペーストを印刷し930℃10分間焼成しAu導体
を形成する。次いでAu導体の表面を80倍の実体
顕微鏡で観察し、発泡が全く認められないものを
同表にて無しとした。 基板の反り； 上記ペーストを用い25mm幅×300mm長×１mm厚
のアルミナ基板上に15mm×280mmのパターンをス
クリーン印刷し焼成した。次いでアルミナ基板
300mmのスパンについて反りを測定し、反りが0.2
mm以下を小、0.3mm以上を大として表１に記載し
た。 抵抗値変化率； 上記ペーストをアルミナ基板上印刷し900℃で
10分間焼成しガラス層を形成した。次いで、この
ガラス層上にRuO2ペーストを印刷し、焼成し抵
抗体を形成した。この抵抗値R0を測定した後、
同試料を900℃10分間再度焼成し、再び抵抗値R1
を測定した。そしてR1−R0／R0が10％未満であるも のを小とし10％以上を大として表１に記載した。 熱膨脹係数； ガラス粉末をプレスし930℃15分間焼成したも
のについて測定した結果を表１に記載した。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ガラス粉末70〜99重量％と残部フイラーから
なる組成物であつて、該ガラス粉末は重量％表示
で実質的に SiO2 35〜45 Al2O3 13〜20 BaO 10〜25 ZnO ７〜15 CaO ６〜12 MgO １〜５ ZrO2 １〜５ からなり、該フイラーはコランダム、α−石英又
はジルコンから選ばれた少なくとも１者であるガ
ラス組成物。 ２ 前記ガラス粉末は重量％表示で実質的に SiO2 37〜42 Al2O3 12〜23 BaO 12〜23 ZnO ９〜13 CaO ８〜10 MgO ２〜４ ZrO2 ２〜４ である特許請求の範囲第１項記載のガラス組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20042884A JPS6183647A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20042884A JPS6183647A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | ガラス組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6183647A JPS6183647A (ja) | 1986-04-28 |
| JPH0416420B2 true JPH0416420B2 (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=16424133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20042884A Granted JPS6183647A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | ガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6183647A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4808673A (en) * | 1986-10-02 | 1989-02-28 | General Electric Company | Dielectric inks for multilayer copper circuits |
| JP6205751B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2017-10-04 | Toto株式会社 | 高拡散反射性耐汚染性釉薬層を形成可能な釉薬組成物およびそれにより形成された釉薬層を有する部材 |
| CN112624616B (zh) * | 2021-01-06 | 2022-02-11 | 中国科学院新疆理化技术研究所 | 一种耐高温真空热敏电阻器封装用玻璃陶瓷材料及其制备方法 |
-
1984
- 1984-09-27 JP JP20042884A patent/JPS6183647A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6183647A (ja) | 1986-04-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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