JPH07266511A - 耐擦傷性を有する艶消し化粧シート - Google Patents

耐擦傷性を有する艶消し化粧シート

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JPH07266511A
JPH07266511A JP8588194A JP8588194A JPH07266511A JP H07266511 A JPH07266511 A JP H07266511A JP 8588194 A JP8588194 A JP 8588194A JP 8588194 A JP8588194 A JP 8588194A JP H07266511 A JPH07266511 A JP H07266511A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高い耐擦傷性、耐衝撃性、及び成形加工性を
兼ね備え、且つ表面艶消の化粧シートを提供することに
ある 【構成】 化粧シート基材上に、粒径0.1〜50μm
の耐衝撃性樹脂微粒子を含有する電離放射線硬化型樹脂
組成物を塗工し、電離放射線の照射により硬化させてな
る艶消し化粧シート。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、家具、壁面、床面など
の表面に対して意匠賦与および表面保護の目的で設けら
れる建材用化粧シートとその製造方法に関する。詳しく
は、テーブル、棚、框、床等のような水平面の表面化粧
材としても十分使用可能な、耐擦傷性を有する艶消し化
粧シートに関する。
【0002】
【従来の技術】本発明の従来の技術として、プラスチッ
クフィルム等の表面に絵柄印刷した化粧シートの表面に
電離放射線硬化型樹脂組成物を塗布し、紫外線や電子線
等の電離放射線を照射して表面保護層を形成する方法が
知られている。更に特公昭62−21815には、無機
質装填材料を含む光重合組成物からなる耐摩耗性の透明
又は半透明フィルムで支持体をコートする光硬化組成物
が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題として、本発明の従来の技術で述べた電離放射
線硬化型樹脂組成物のみの硬化塗膜では、硬化塗膜の硬
度を高くするにはその架上橋密度を上げることによって
可能であるが、耐衝撃性に乏しくなり、後工程として家
具、壁、棚、床等への化粧基材にラッピング加工、真空
ラミネーション加工、Vカット加工等における曲げ加工
等によって、表面に龜裂や割れ目が生じ易くなる欠点が
ある。
【0004】また、特公昭62−21815は、塗膜硬
度を向上させるために無機質装填材料としてシリカまた
はアルミナを光重合性組成物中に含有させることによっ
て、塗膜表面の耐磨耗性を有することを可能としたもの
である。しかしながら、塗膜の透明性を得るためには、
粒子の大きさを0.001μm〜0.1μmとするこ
と、その無機質装填材料の粒子表面をグラフト法によっ
て化学的に親有機性とすることが必要とされる。
【0005】これに対して、本発明は十分な耐擦傷性と
艶消し意匠効果を有し、尚且つ十分な曲げ加工適性と可
撓性とを有する化粧シートを提供することを課題とす
る。
【0006】本発明は又、膜厚以下の粒径の微粒子及び
膜厚以上の粒径の微粒子を含有することにより、塗膜表
面の凹凸により艶消し効果を得ながら、塗膜自体の透明
性を損なわず、しかも微粒子表面は煩雑な工程による化
学処理を行わずとも親有機性であるため、電離放射線硬
化型樹脂との強固な接着性を可能とする化粧シートを提
供する。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明は、
化粧シート基材上に電離放射線の照射により硬化された
電離放射線硬化型樹脂の保護層を有する化粧シートにお
いて、該電離放射線硬化型樹脂層が、粒径0.1〜50
μmの耐衝撃性樹脂微粒子を含有してなることを特徴と
する耐擦傷性を有する艶消し化粧シートである。本発明
の第2の発明は、第1の発明の電離放射線硬化型樹脂層
中の耐衝撃性樹脂微粒子が、平均重合度50〜160の
ビスフェノール型ポリカーボネート樹脂微粒子であるこ
とを特徴とする耐擦傷性を有する艶消し化粧シートであ
る。
【0008】前記構成による本発明の耐衝撃性を有する
艶消し化粧シートにおいて、粒径0.1〜50μmの耐
衝撃性樹脂微粒子としては、耐衝撃性樹脂を粉砕法、重
合法、または溶解度差法などの方法によって微粒子化さ
れたものである。耐衝撃性樹脂は、アイゾット衝撃値1
0Kgcm/cm以上、好ましくは、30Kgcm/cm以上の樹脂
が用いられる。アイゾット衝撃値10Kgcm/cm未満の樹
脂の微粒子を使用した場合には、粒子自体が衝撃や引掻
きに対して急激に弱くなるに伴って、該粒子を含有する
塗膜の衝撃や引掻きに対する耐性がなくなる。又塗膜の
折り曲げ加工等の成形加工適性が低下し、成形加工時の
龜裂等が生じやすくなる。該耐衝撃性樹脂微粒子の形状
としては、球又はこれに類する形状のものが好ましい。
但し、塗膜の耐擦傷性、成形加工適性、及び艶消し性を
損なわない範囲であれば、これ以外の形状のものを仕様
しても良い。
【0009】アイゾット衝撃値10Kgcm/cm以上に樹脂
としては、硬質ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリアセタール、ナイロン、エチルセルロース、硝酸セ
ルロース、プロピルセルロース、酢酸セルロース、ポリ
カーボネート、ポリエチレンテレフタレート、3フッ化
塩化エチレン、フッ化ビニリデン、4フッ化エチレン、
ポリウレタンや、耐衝撃性型ポリメチルメタクリレー
ト、耐衝撃性型ポリプロピレンや、ガラス繊維強化型ポ
リウレタン、ガラス繊維強化型不飽和ポリエステル等が
使用できる。
【0010】本発明の第2の発明のポリカーボネート
は、炭酸と多価アルコールまたは多価フェノールとの縮
重合体であるが、なかでも多価フェノールをビスフェノ
ールAの場合は下記の構造を有するものである(以下ビ
スフェノール型ポリカーボネート樹脂と呼称する)。そ
のなかでも、平均重合度50〜160、好ましくは平均
重合度80〜130のビスフェノール型ポリカーボネー
ト樹脂は、アイゾット衝撃値60〜80Kgcm/cmと高い
耐衝撃性を有する。ここで、平均重合度50以上では、
強度が著しく低下し、また平均重合度160以上では、
微粒子状態においては脆くなり、かつ電離放射線硬化型
樹脂との接着性及び塗膜強度が低下する。又ポリカーボ
ネートは、透明性に優れる為、保護層の透明性の低下、
白化白濁を生じることなく、表面の艶消し性、耐衝撃
性、及び成形性の賦与を可能ならしめる。ポリカーボネ
ートの粒子化の方法、粒子形状しては、各種のものが採
用し得るが、特に特公昭46−30947号公報等に記
載される様な、溶媒中から析出させる方法で作成した微
粒子は、表面が平滑で、電離放射線硬化型樹脂との濡れ
も良好で、分散性が良い。その結果保護層の耐衝撃性、
成形性、耐擦傷性も良好となり好ましい。
【0011】本発明の電離放射線硬化型樹脂としては、
電離放射線により架橋重合反応を起こし固体化するポリ
マー、プレポリマー、或いはモノマーが用いられる。具
体的には、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル
ニトリル、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エ
ステルなどの(メタ)アクリロイル基をもつ化合物から
なるラジカル重合系(此処で、(メタ)アクリロイルと
はアクリロイル又はメタアクリロイルを意味する。以下
同様)、エポキシ、環状エーテル、環状アセタール、ラ
クトン、ビニルモノマー、環状シロキサンとアリールジ
アゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩などとの組合
せからなるカチオン重合系、チオール基を有する化合物
例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレー
ト、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペ
ンタエリスリトールテトラチオグリコールとポリエン化
合物からなるポリエン・チオール系などが使用できる。
該電離放射線硬化型樹脂の厚みは、1〜50μm程度で
あるが、耐擦傷性、成形加工性の兼ね合いから特に10
〜30μmが好ましい。
【0012】ラジカル重合系の(メタ)アクリレート化
合物の単官能モノマーとしては、例えば、メチル(メ
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチ
ル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アク
リレート、メトキシブチル(メタ)アクリレート、ブト
キシエチル(メタ)アクリレート、2エチルヘキシル
(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノメチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル
(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノプロピ
ル(メタ)アクリレート、N,N−ジベンジルアミノエ
チル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレ
ート、イソボルニル(メタ)アクリレート、エチルカル
ビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、テトラヒドキシフルフリル(メ
タ)クリレート、メトキシトリプロピレングリコール
(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−
(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタ
レート、
【0013】およびラジカル重合系の多官能モノマーと
しては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキシルジオール
ジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ
(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリプロリレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ビスフェノールA−ジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイ
ドトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、グリセリンポリエチレンオキサ
イドトリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリ
ロイルオキシエチルフォスフェート等、
【0014】プレポリマーとしてはアルキッド(メタ)
アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキ
シ(メタ)アクリレート、ポリエスル(メタ)アクリレ
ート、ポリブタジエン(メタ)アクリレート等の(メ
タ)アクリレート、不飽和ポリエステルなどがある。
【0015】これら(メタ)アクリロイル基を含む化合
物の中でも特にアクリロイル基を含む化合物、即ちアク
リレートの方がより重合反応速度が速い。その為、電離
放射線硬化型樹脂層を塗工形成する生産速度を重視する
場合はアクリレートの方がメタアクリレートより好まし
い。
【0016】以上の化合物を必要に応じて1種もしくは
2種以上混合して用いる。また混合された組成物の(メ
タ)アクリロイル基の総和が0.2〜12mmol/
g、好ましくは、2〜10mmol/gがよい。
【0017】ここで、紫外線照射による硬化の場合の光
重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファ
イド、ジエチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾー
ル、イソプロピル−N,N−ジメチルアミノベンゾエー
トなどの1種もしくは2種以上を該電離放射線硬化型樹
脂100重量部に対して、0.1〜10重量部を混合し
て用いることができる。
【0018】此処で該電離放射線硬化型樹脂を含む組成
物中に、該電離放射線硬化型樹脂を溶解しその粘度など
を調整し塗工適性を持たせるための溶剤として、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、エチルイソブチル
ケトン等のケトン類、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール類などの
1種または2種以上を任意に混合して使用することがで
きる。
【0019】該電離放射線硬化型樹脂を含む組成物中に
はまた、塗膜の耐擦傷性、成形加工適性、艶消し性、及
び硬化性を損なわない範囲であれば、必要に応じ、これ
以外の添加剤を添加しても良い。例えば、耐衝撃性樹脂
微粒子の分散性を向上させる為、粒径が耐衝撃性樹脂微
粒子の1/3以下のシリカ、タルク、炭酸カルシウム、
硫酸バリウム、有機ベントナイト等の微粒子状分散改良
材、耐衝撃性樹脂微粒子の分散性を向上或いは塗膜の帯
電防止の為の界面活性剤、染料や顔料等の着色剤等が上
げられる。
【0020】本発明の化粧シート用基材としては、合成
樹脂シートが成形性、塗工適性の点で最も好ましい。例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニル
アルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレンビ
ニルアルコール共重合体等のビニル樹脂、ポリエチレン
テレフタート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエ
ステル、ポリスチレン、アクリルスチレン共重合体、A
BS樹脂等のスチレン系樹脂、ポリカーボネート、ナイ
ロン、アイオノマー樹脂等が使用できる。これらの中で
も、特に厚さ50〜300μmで可塑剤部数が8〜30
重量部の半硬質ポリ塩化ビニル、或いはこれと同等の可
撓性、弾性的性質を有する樹脂シートが化粧シート全体
の成形性、耐衝撃性、及び耐擦傷性の点で良好である。
【0021】その他基材としては、薄葉紙、上質紙等の
紙、織布、不織布等の布帛等が挙げられる。
【0022】又該基材の表面には例えば、木目、石目、
天然皮革の表面柄、布目、抽象柄などを表現する印刷が
付されてもよく、さらに、木目の導管部に模した凹部を
はじめ石目、皮革の絞り、布目などに類似する形状をな
す凹部を前述の印刷模様を組み合わせて賦形させてもよ
い。
【0023】なお、凹部を有する化粧シート基材として
は、前述の印刷面に対して凹部を直接形成させたもので
あっても、あるいは印刷が付されている熱可塑性合成樹
脂シートの印刷面に対して別製の熱可塑性合成樹脂シー
トを熱接着によって積層すると共に、積層されたシート
表面にエンボスによる賦形を行うことによって得られる
いわゆるダブリングエンボスすることによって得られる
積層シートを化粧シート用基材として使用することがで
きる。特に、印刷模様層を有する場合、耐摩耗性が要求
されるが、耐擦傷性に加えて耐摩耗性をも賦与する為に
は、印刷模様層を2つの基材シートの間に挾み、『裏面
シート基材/印刷模様層/透明表面シート基材/透明保
護層』の層構成にすると良い。その理由は、耐擦傷性即
ち、引っ掻き傷への耐性は、表面への瞬間的、且つ局部
的な応力の集中に耐える事のみで得られるのに対して、
耐摩耗性即ち、長期間繰り返し摩擦による表面層の削り
取られへの耐性は、保護層の物理的厚みにより得るのが
有効だからである。但し、電離放射線硬化型樹脂層を厚
くし過ぎると(特に50μm以上)、硬化収縮による化
粧シートの反り、塗膜/基材界面の収縮応力集中による
塗膜密着の低下等の弊害が出てくる。よって保護層は耐
擦傷性を出すのに十分な最大50μmに止め、それで不
足する耐摩耗性は透明表面シート基材の厚みで賦与する
事が最適である(実施例6参照)。
【0024】化粧シート用基材の表面における凹部内に
着色塗料を充填させるためのワイピング処理は、例え
ば、ビヒクルとして熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、また
は電離放射線硬化型脂を用いた塗料を使用することがで
きる。尚図1に、化粧シート基材表面に印刷模様と凹部
を形成した後、その表面に保護層を形成してなる本発明
の化粧シートの断面図を示す。
【0025】また、本発明の化粧シートは各種の材料に
貼合わせて使用される。例えば、不織布、織布等の布
帛、突板、パーチクルボード、木質合板等の木質基材、
ABS板、アクリル板等のプラスチック板、アルミ箔な
どの金属箔、、アルミニウム板、鋼板等の金属板、硅酸
カルシウム板、石膏板、セメント板等の窯業系板などに
適用される。
【0026】次に、本発明の製造方法における耐衝撃性
樹脂の微粒子化には、耐衝撃性樹脂を粉砕法、重合法、
または溶解度差法などの方法が用いられる。
【0027】電離放射線硬化型樹脂中への耐衝撃性樹脂
微粒子の分散方法には、ジェット粉砕機等の乾式法や、
ロールミル、ボールミル、サンドミル等の湿式法等が用
いられる。
【0028】電離放射線硬化型樹脂組成物の化粧シート
表面への形成方法としては、例えば塗布による。塗布方
法には、グラビアコート、グラビアリバースコート、グ
ラビアオフセットコート、ロールコート、リバースロー
ルコート、ナイフコート、ワイヤーバーコート、フロー
コート、コンマコート、ディップコート、ホイラーコー
ト、スピンナーコート、スプレーコート、シルクスクリ
ーン、かけ流しコート、刷毛塗り等が適用される。
【0029】化粧シート基材への印刷方法には、グラビ
ア、グラビアオフセット等の凹版印刷、活版、フレキソ
等の凸版印刷、平版オフセット、ダイリソ等の平版印刷
や、シルクスクリーン印刷、静電印刷、インクジェット
等の無版印刷が適用される。
【0030】電離放射線としては、可視光線、紫外線、
X線、電子線等の電磁波又は粒子線が用いられる。実用
上主に使用されるのは、紫外線又は電子線である。紫外
線源としては、高圧水銀燈、超高圧水銀燈、低圧水銀
燈、カーボンアーク、ブラックライト、メタルハライド
ランプ、などの光源が使用できる。
【0031】電子線源としては、コックロフトワルトン
型、バンデグラフトがた、共振変圧器型、絶縁コア変圧
器型、あるいは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型
などの各種電子線加速器を用い、100〜1000Ke
V、好ましくは、100〜30KeVのエネルギーをも
つ電子を照射するものを使用できる。通常照射線量は
0.5〜30Mrad程度である。
【0032】尚電離放射線の照射方法として、まず紫外
線を照射して該電離放射線硬化型樹脂層を少なくとも表
面が指触乾燥する程度以上に硬化させ、而る後電子線で
完全に硬化させるようにしても良い。
【0033】
【作用】上記のように構成された本発明の第1の発明の
耐擦傷性を有する化粧シートは、粒径0.1〜50μm
の耐衝撃性樹脂微粒子を電離放射線硬化型樹脂中に含有
させることにより、透明または半透明で耐衝撃性の発現
と同時に艶消し効果を得ることができる。詳しくは、電
離放射線硬化型樹脂層の厚さが10〜30μmの場合に
は、耐衝撃性樹脂微粒子の粒径が該層の厚さ以上のもの
については、該微粒子表面に接着電離放射線硬化型樹脂
が付着硬化された状態で膜表面に凸状に隆起して、外部
からの衝撃や引掻きに対して樹脂自体の耐衝撃性が働
き、更に外部応力の分散、吸収により電離放射線硬化型
樹脂への応力の局部的集中を防止し、保護層の耐擦傷性
の向上、及び成形加工時の保護層の龜裂発生の防止の効
果が発揮される。一方、該層の厚さ以下の該微粒子は、
電離放射線硬化型樹脂層内部の電離放射線硬化型樹脂と
密着して硬化固着して膜を強固にする。特に化粧シート
基材として厚さ50〜300μmで可塑剤部数が8〜3
0重量部の半硬質ポリ塩化ビニル、或いはこれと同等の
可撓性、粘弾性的性質を有する樹脂シートを用いると、
該シート基材自身の粘弾性乃至は撓み変形により外部応
力を分散、或いは吸収させることにより、化粧シート全
体の成形性、耐衝撃性、及び耐擦傷性を向上させる。
【0034】
【実施例】次に本発明における化粧シートの実施例につ
いて具体的に説明する。
【0035】(実施例1)ポリ塩化ビニルシート(可塑
剤23phr、厚さ200μm)の表面に、塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体樹脂をビヒクルとする3色のインキ
のグラビア印刷によって、オーク材の木目模様に類似す
る印刷層を設けて化粧シート用基材を得た。次にこの化
粧シート用基材の表面に対して、下記の電離放射線硬化
型樹脂組成物(A)をロールコーター法によって塗工
し、溶剤を乾燥し厚み25μmの塗工膜を形成した後
に、160W/cmの2燈の高圧水銀燈による紫外線の
照射を、ライン速度20m/minで行う工程により、
透明な電離放射線硬化型樹脂層を有する化粧シートを得
た。
【0036】 電離放射線硬化型樹脂組成物(A) 電離放射線硬化型樹脂 ウレタンアクリレートプレポリマー 29重量部 ポリエチレングリコールジアクリレート 6重量部 エチルカルビトールアクリレート 8重量部 2−エチルヘキシルアクリレート 7重量部 光重合開始剤(メチルベンゾイルフォーメート) 2重量部 溶剤(イソプロピルアルコール等) 44重量部 耐衝撃性樹脂微粒子(平均重合度90、アイゾット衝撃 値70Kgcm/cm、のビスフ ェノール型ポリカーボネート樹脂 からなる粒径分布0.1〜50μm の球状微粒子) 4重量部
【0037】(実施例2)実施例1の電離放射線硬化型
樹脂組成物(A)の代わりに、下記の電離放射線硬化型
樹脂組成物(B)を使用し、その他の構成については実
施例1の対応する構成と同一である化粧シートを得た。
【0038】 電離放射線硬化型樹脂組成物(B) 電離放射線硬化型樹脂 ウレタンアクリレートプレポリマー 29重量部 ポリエチレングリコールジアクリレート 6重量部 エチルカルビトールアクリレート 8重量部 2−エチルヘキシルアクリレート 7重量部 光重合開始剤(メチルベンゾイルフォーメート) 2重量部 溶剤(イソプロピルアルコール等) 44重量部 耐衝撃性樹脂微粒子(吸水度2%、アイゾット衝撃値 20Kgcm/cm、のナイロ ン66樹脂からなる粒径分布が 0.1〜50μmの球状微粒子) 4重量部
【0039】(実施例3)実施例1の電離放射線硬化型
樹脂組成物(A)の代わりに、下記の電離放射線硬化型
樹脂組成物(C)を使用し、その他の構成については実
施例1の対応する構成と同一である化粧シートを得た。
【0040】 電離放射線硬化型樹脂組成物(C) 電離放射線硬化型樹脂 エポキアクリレートプレポリマー 35重量部 イソボルニルアクリレート 15重量部 光重合開始剤(メチルベンゾイルフォーメート) 2重量部 溶剤(イソプロピルアルコール等) 44重量部 耐衝撃性樹脂微粒子(平均重合度90、アイゾット衝撃 値70Kgcm/cm、のビスフ ェノール型ポリカーボネート樹脂 からなる粒径分布0.1〜50μm の球状微粒子) 4重量部
【0041】(実施例4)実施例1、実施例2および実
施例3の電離放射線型硬化型樹脂組成物(A)、(B)
および(C)において光重合開始剤を除いた電離放射線
型硬化型樹脂組成物(D)、(E)および(F)を各々
使用し、さらに実施例1、実施例2および実施例3の紫
外線の照射の代わりに、電子線の照射を175KeV、
3Mrad、ライン速度30m/minで行い、その他
の構成については実施例1の対応する構成と同一である
化粧シートを得た。
【0042】(実施例5)実施例1、実施例2および実
施例3の紫外線のみの照射の代わりに、160W/cm
の2燈の高圧水銀燈による紫外線の照射を、ライン速度
20m/minで行う工程の後、電子線の照射を175
KeV、3Mrad、ライン速度30m/minで行
い、その他の構成については実施例1の対応する構成と
同一である化粧シートを得た。
【0043】(実施例6)実施例1の化粧用基材のポリ
塩化ビニルシート(可塑剤23phr、厚さ200μ
m)の表面に、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂をビ
ヒクルとする3色のインキのグラビア印刷によって、オ
ーク材の木目模様に類似する印刷層を形成した後、この
ポリ塩化ビニルシートの印刷面と、別製の厚さ100μ
mの透明ポリ塩化ビニルシートとを、木目導管形状の逆
凹凸を表面に有するロールエンボス版を用いて、版温度
150℃、線圧1t、速度15m/minによる輪転の
熱プレス同時エンボス(ダブリングエンボス)に付すこ
とにより、両者を積層すると同時に透明ポリ塩化ビニル
シートの表面に木目の導管に相当する凹部を賦形し、次
いで、その凹部に塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂を
ビヒクルとする黒色系統ワイピング用インキを塗工、ワ
イピングの工程によって得た化粧用基材を使用し、その
他の構成については実施例1の対応する構成と同一であ
る化粧シートを得た。
【0044】(比較例)実施例1の電離放射線硬化型樹
脂組成物(A)の代わりに、下記の電離放射線硬化型樹
脂組成物(X)を使用し、その他の構成については実施
例1の対応する構成と同一である化粧シートを得た。
【0045】 電離放射線硬化型樹脂組成物(X) 電離放射線硬化型樹脂 ウレタンアクリレートプレポリマー 29重量部 ポリエチレングリコールジアクリレート 6重量部 エチルカルビトールアクリレート 8重量部 2−エチルヘキシルアクリレート 7重量部 光重合開始剤(メチルベンゾイルフォーメート) 2重量部 溶剤(イソプロピルアルコール等) 44重量部 耐衝撃性樹脂微粒子(アイゾット衝撃値6Kgcm/ cmの ポリエチレン樹脂からなる粒径 0.1〜50μmの微粒子) 4重量部
【0046】(測定・評価方法)以下に測定・評価方法
を記載する。
【0047】(1)引掻試験 JIS K6902に準拠して測定を行った。
【0048】(2)耐摩耗性 JIS K6902に準拠して測定を行った。総荷重1
060g
【0049】(3)鉛筆硬度測定 JIS K5400に準拠して測定を行い、H以上を
○、F以下を×とした。
【0050】(4)爪スクラッチ 爪を試料面に対して垂直に立てて、10回強く擦る。
【0051】
【表1】
【0052】
【発明の効果】本発明の化粧シートは上記のように構成
されているので、保護層たる電離放射線樹脂中の分散微
粒子の耐衝撃性により耐擦傷性が電離放射線硬化型樹脂
のみからなる保護層に比べ強く、且つ折り曲げ加工等の
成形性も良好である。又、微粒子が樹脂であることによ
り、そのため無機充填材料の如く親有機化処理を必要と
することもなく、電離放射線硬化型樹脂との密着性が強
い。さらに、樹脂微粒子を分散させた層は、無機質充填
剤に比べ、電離放射線樹脂との屈折率差が少なく、且つ
それ自体透明な為、保護層が透明また半透明となる。よ
って着色剤を保護層に添加しない場合は化粧シーシト基
材上の印刷層や色調を明瞭に見ることができ、又着色剤
を保護層に添加する場合は添加した着色剤の色調をより
有効に引き出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の化粧シートの一実施例を示す概略断面
【符号の説明】
1 化粧シート基材 2 印刷模様 3 凹部 4 耐衝撃性樹脂微粒子 5 硬化した電離放射線硬化型樹脂 6 保護層 7 化粧シート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B32B 33/00 7148−4F

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 化粧シート基材上に電離放射線の照射に
    より硬化された電離放射線硬化型樹脂の保護層を有する
    化粧シートに於いて、該電離放射線硬化型樹脂層が、粒
    径0.1〜50μmの耐衝撃性樹脂微粒子を含有してな
    ることを特徴とする耐擦傷性を有する艶消し化粧シー
    ト。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の電離放射線硬化型樹脂
    層中の耐衝撃性樹脂微粒子が、平均重合度50〜160
    のビスフェノール型ポリカーボネート樹脂微粒子である
    ことを特徴とする耐擦傷性を有する艶消し化粧シート。
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