JPH07254148A - 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 蒸着型テープのバックコート層の形成に際
し、ゴミの付着等の問題を解消し、且つバックコート
層、磁性層、磁性層上の保護層及び保護層上のトップコ
ート層を有する磁気記録媒体を製造する際の生産性を向
上させる。 【構成】 非磁性支持体の一方の面に形成されたバック
コート層と、該バックコート層が形成されている面と反
対の面に形成された磁性層と、該磁性層上に形成された
トップコート層とを有する磁気記録媒体の製造におい
て、前記バックコート層、前記磁性層、前記保護層及び
前記トップコート層を真空中で形成する方法及びこの方
法に用いられる磁気記録媒体の製造装置、並びにそれに
よって製造された磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造方
法及び製造装置並びにそれによる磁気記録媒体に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体、例えば磁気テープには、
非磁性支持体であるフィルム上に磁性粉をバインダーに
分散させた磁性塗料を塗布してなる従来からある塗布型
テープと、フィルム上に真空中で金属を蒸着してなるバ
インダーを全く含まない蒸着型テープとがある。

【０００３】蒸着型テープは、磁性層にバインダーを含
まないことから磁性材料の密度を高められるため、高密
度記録に有望であるとされている。

【０００４】現在発売又は開発されている蒸着型テープ
の主な構成は、図４に示すようになっている。フィルム
51は、PET （ポリエチレンテレフタレート）、ポリイミ
ド、アラミドなどが用いられている。厚さは２〜50μｍ
までいろいろ用いられている。

【０００５】磁性層52は、フィルム51上に、真空蒸着法
を用いて、Co−Ni合金（80％−20％）を1500Åの厚さで
付着させている。尚、フィルム51と磁性層52との間に結
着性等の向上のためアンダーコート層を介在させること
もある。また、必要に応じて、磁性層52とトップコート
層53の間に保護層を設ける場合もある。

【０００６】トップコート層53は、磁性層52を保護し、
また記録・再生用ヘッドとの接触をスムーズにするため
の潤滑剤としての働きを持たせるためにコートする。コ
ートする方法はグラビア法又はダイ塗工法が用いられて
いる。成分はフッ素系の潤滑剤で、パーフルオロポリエ
ーテル（例えばモンテジソン社製の商品名「ホンブリ
ン」）が用いられている。

【０００７】バックコート層54は、カーボンブラック
（粒径10〜100 nm）をバインダー（塩ビ系、ウレタン
系、硝化綿系などを単独又は混合して用いる）中に分散
させ、グラビア法、リバース法又はダイ塗工方式で、乾
燥後の厚さが 0.4〜 1.0μｍになるように、フィルム51
の磁性層52の蒸着面とは反対側の面に塗布する。

【０００８】ここで、バックコート層の主な役割として
は、下記の点が挙げられる。 (1) 導電性を持たせ、帯電防止効果によりゴミの付着を
防止する。 (2) 表面性（摩擦係数）をコントロールして、良好な走
行安定性を得る。 (3) 硬さなどの点で、磁気記録媒体の両面のバランスを
とって、反りの発生を防止する。 従来は、バックコート層として、カーボンをバインダー
に分散させた塗料を塗布しており、上記(1) をカーボン
の導電性により、上記(3) をカーボンの粒径と塗布工程
のコントロールにより、上記(3) をバインダーと塗布厚
のコントロールにより、それぞれ満足させていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おいては、蒸着型テープにおいても、バックコート層は
塗布型となっており、バックコート層を先に塗布してか
ら、磁性層を真空蒸着すると、真空系でバックコート層
からの脱ガス（バインダーの溶剤から発生する）を生
じ、真空度が落ちる結果、蒸着がうまくいかない。

【００１０】そこで、従来においては、真空中で磁性層
を蒸着した後、大気中にテープを取出してから、バック
コート層を塗布している。

【００１１】しかし、この方法では、バックコート層を
塗布する工程で、磁性層が傷ついたり、汚れたり、ゴミ
が付着して、ドロップアウト検査（磁気テープを検査用
のカセットデッキに入れて一定の信号を記録しつつ再生
し、テープ表面の傷や異物の付着などによる再生信号の
欠落であるところのドロップアウトを検出する検査）に
おいて、ドロップアウト数を増加させるという問題点が
あった。

【００１２】また、カーボンブラックは導電性は良好で
あるが、バインダーを入れるため、導電性が低下してし
まい、帯電防止効果が低下するという問題点があった。

【００１３】尚、どのぐらいの導電性が必要かと言え
ば、抵抗値（表面電気抵抗）として、10⁷ Ω／□以下と
言われている（市販の８mmビデオテープの場合）。実際
のテープでの値は10⁶ Ω／□であるが、優れた値とは言
えない状態であり、より高い導電性が望まれている。

【００１４】一方、前述したように、金属薄膜型の磁気
記録媒体のトップコート層にはフッ素系潤滑剤が繁用さ
れているが、フッ素系の潤滑剤は、200 ℃以上で分解す
るなど高温に弱く蒸気圧が低いため、真空中での塗布は
実質的に不可能であり、トップコート層は、やはり別途
空気中での塗布工程により形成されており、生産性を悪
くする原因の一つとなっていた。

【００１５】本発明は、このような実情に鑑み、非磁性
支持体上の磁性層蒸着面と反対側の面にバックコート層
を形成するに際し、或いは磁性層上にトップコート層を
形成するに際し、更には磁性層上に保護層とトップコー
ト層を形成するに際し、ゴミの付着等の問題を解決で
き、しかも性能面でも十分な性能が得られる磁気記録媒
体を提供し、また、金属薄膜型の磁気記録媒体を製造す
るあたり、更に生産性を向上させることを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段と作用】本発明者らは上記
課題を解決すべく鋭意研究した結果、本発明を完成する
に至った。

【００１７】すなわち本発明は、非磁性支持体の一方の
面に形成されたバックコート層と、該バックコート層が
形成されている面と反対の面に形成された磁性層と、該
磁性層上に形成された保護層と、該保護層上に形成され
たトップコート層とを有する磁気記録媒体の製造におい
て、前記バックコート層、前記磁性層、前記保護層及び
前記トップコート層を、これらの層の形成工程を通して
真空状態を維持しつつ形成することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法を提供するものである。この製造方法
は、バックコート層、磁性層、保護層及びトップコート
層の４層を、これらの層の形成工程を通じて、即ち、テ
ープ巻出しからテープ巻き取りまでの工程を通じて、途
中で真空状態が途切れることなく、連続的に形成する方
法である。

【００１８】本発明の磁気記録媒体の製造方法におい
て、バックコート層は、金属又は半金属を真空中で付着
させることにより形成することが好ましく、この場合、
酸化性ガスを導入しながら行なうのが好ましい。

【００１９】本発明の磁気記録媒体の製造方法におい
て、トップコート層は、潤滑剤を噴霧することが好まし
く、特に、超音波を印加して霧化された潤滑剤を噴霧す
ることによりトップコート層を形成することが好まし
い。また、潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤が好まし
い。

【００２０】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法に
おいて、磁性層は、鉄、鉄を主体とする強磁性合金及び
これらの窒化物もしくは炭化物から選ばれる少なくとも
１種であることが好ましい。

【００２１】以下に本発明の磁気記録媒体の製造方法に
ついて詳述する。

【００２２】〔バックコート層〕本発明の磁気記録媒体
の製造方法では、バックコート層は、真空中で金属又は
半金属を、非磁性支持体の磁性層が形成される面と反対
の面に付着させることにより形成する。ここで、真空中
で金属又は半金属を付着させる方法は限定されないが、
物理的蒸着法(PVD) 、特に熱蒸発法、スパッタリング法
が挙げられる。

【００２３】また、単に金属又は半金属を付着させただ
けではバックコート層の表面が平滑すぎて走行安定性が
悪くなる場合があるので、そのような場合はバックコー
ト層の摩擦係数をコントロールするために付着するとき
に酸化性ガスを導入して、酸化作用により表面を粗くす
る。酸化性ガスとしては、酸素、空気、オゾン等が挙げ
られる。

【００２４】ここで、バックコート層の表面電気抵抗が
金属を用いる場合は５〜10⁵ Ω／□、特に 10²〜10³ Ω
／□となるように酸化性ガス導入量を設定することが望
ましい。また、半金属を用いる場合は 10⁵〜10⁸ Ω／
□、特に 10⁶〜10⁷ Ω／□となるように酸化性ガス導入
量を設定することが望ましい。

【００２５】すなわち、酸素等の酸化性ガスを導入する
ことにより、金属又は半金属の結合が弱まって、導電性
が低下するから、そのために、表面電気抵抗値を決め
て、酸化性ガス導入量を規制するのである。

【００２６】金属バックコート層の場合、表面電気抵抗
値を５〜10⁵ Ω／□とするのは、表面電気抵抗値が５Ω
／□より低い場合、酸素量が少なくてバックコート層の
摩擦係数が低くなりすぎてしまう。表面電気抵抗値が10
⁵ Ω／□より高いと、摩擦係数が高くなり過ぎてしまう
他、導電率が低下し過ぎて、ゴミの付着を招く恐れがあ
る。目標とすべきはおおよそ 10²〜10³ Ω／□である。
尚、中心線平均粗さでは、Ｒａ＝４〜20nmに相当する。

【００２７】バックコート層として付着する金属として
は、いろいろ考えられるが、Al，Cu，Zn，Sn，Ni，Agな
ど及びこれらの合金が用いられる。但し、価格、付着速
度、酸化後の安定性の点から、Al，Cuが最適である。ま
た、バックコート層を形成する半金属としては、Si，G
e，As，Sc，Sbなどが用いられる。特に、価格、付着速
度等の点から、Siが最適である。

【００２８】バックコート層の厚さは、0.05〜1.0 μm
程度である。バックコート層を形成するための熱蒸発法
やスパッタリング法を行う際の真空度は10^-4〜10^-7Torr
程度、特に10^-5〜10^-6Torrである。

【００２９】〔磁性層〕本発明の磁気記録媒体の製造方
法において、磁性層を形成する磁性材料としては、通常
の金属薄膜型の磁気記録媒体の製造に用いられる強磁性
金属材料が挙げられ、例えばCo, Ni, Fe等の強磁性金
属、また、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−
Fh、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、Co−La、Co−P
r、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn−Bi、Mn−S
b、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni
−Co−Cr等の強磁性合金が挙げられる。磁性層としては
鉄の薄膜或いは鉄を主体とする強磁性合金粉末の薄膜が
好ましく、特に、鉄、鉄を主体とする強磁性合金及びこ
れらの窒化物もしくは炭化物から選ばれる少なくとも１
種が好ましい。

【００３０】高密度記録のためには磁気記録媒体の磁性
層は、斜め蒸着により基材上に形成することが好まし
い。斜め蒸着の方法は特に限定されず、従来公知の方法
に準ずる。蒸着の際の真空度は10^-4〜10^-7Torr程度であ
る。蒸着による磁性層は単層構造でも多層構造の何れで
も良く、特に、酸化性ガスを導入して磁性層表面に酸化
物を形成することにより、耐久性の向上を図ることがで
きる。なお、本発明においては、磁性層は一層或いは多
層とすることができるが、蒸着で多層の磁性層を形成す
る場合、磁性層の厚さは、二層の場合、下層の磁性層の
厚さが 100〜2000Å、上層の磁性層の厚さが50〜1000Å
が好ましく、三層の場合、下層の磁性層の厚さが100 〜
2000Å、中間の磁性層の厚さが 100〜1000Å、上層の磁
性層の厚さが50〜1000Åが好ましい。また、磁性層の数
は高周波記録に対応するには、多い方が良いが、実用的
な範囲としては二〜五層が適当と考えられる。

【００３１】〔保護層〕本発明の磁気記録媒体の製造方
法において、保護層は、真空中で磁性層の上に形成され
るが、保護層は、炭素或いは炭化物、窒化物、酸化物、
特にダイヤモンドライクカーボン、ダイヤモンド、炭化
ホウ素、炭化ケイ素、窒化ホウ素、窒化ケイ素、酸化ケ
イ素、酸化アルミニウム等を磁性層上に付着して成膜す
ることにより形成される。本発明において、保護層を形
成するための付着方法としては、化学的気相成長法(CV
D) と物理的蒸着法(PVD) の何れでもよい。CVD 法では
特にマイクロ波を用いたECR (Electron Cyclotron Reso
nance)法や、高周波(RF)を用いた方法が有効である。CV
D 法により保護層を形成する場合、原料はガス状、液状
或いは固体状の何れのものを用いてもよい。ガス状の原
料によりダイヤモンドライクカーボンを形成する場合
は、メタンとアルゴンの混合ガス、エタンと水素の混合
ガス、メタンと水素の混合ガスを用いるのがよい。ま
た、液状の原料によりダイヤモンドライクカーボンを形
成する場合は、アルコールや不飽和炭化水素を用いるの
がよい。更に固体状の原料によりダイヤモンドライクカ
ーボンを形成する場合は、ナフタリンや高級パラフィン
を用いるのがよい。この場合、固体を加熱したり超音波
をかけてもよい。

【００３２】また、PVD 法としては、熱蒸発法、スパッ
タ法、イオンプレーティング法等が挙げられるが、何れ
を用いることもできる。本発明においては、特にスパッ
タ法が有効である。スパッタ法によりダイヤモンドライ
クカーボンを形成する場合は、グラファイトのターゲッ
トを用いてメタンとアルゴンの混合ガス又はメタンと水
素の混合ガス中でスパッタするのがよい。また、窒化ケ
イ素の保護層を形成する場合、ターゲットがケイ素で、
放電ガスはアルゴンと窒素の混合ガス、アルゴンとアン
モニアの混合ガス、窒素ガス、アンモニアガス、アンモ
ニアとモノシラン(SiH₄)の混合ガス等がよい。また、酸
化アルミニウムの保護層を形成する場合、ターゲットが
アルミニウムで放電ガスはアルゴンと酸素の混合ガスが
効果的である。

【００３３】蒸着の際の真空度はCVD 法の場合、10^-2〜
10^-5Torr程度、PVD 法の場合、10^-4〜10^-7Torr程度であ
る。また保護層の厚さは特に限定しないが、10〜300
Å、好ましくは30〜150 Å程度が適当である。

【００３４】〔トップコート層〕本発明の磁気記録媒体
の製造方法において、潤滑剤は、超音波発振器を備えた
噴霧器（以下、超音波噴霧器という）により非磁性支持
体上に形成された磁性層上に噴霧するのが好ましい。よ
り詳細には、超音波噴霧器は、潤滑剤の供給手段と、該
供給手段から供給された潤滑剤に超音波を印加して霧化
する手段（超音波発振器）と、霧化された潤滑剤を噴霧
するノズルとからなる。また、ノズルタイプの噴霧装置
を用いてもよい。ノズルタイプの噴霧装置は一般に一流
体ノズルと呼ばれる装置が使用できる。

【００３５】超音波噴霧器を使用して潤滑剤を微細な粒
子として噴霧することにより、高温（200 ℃以上）に弱
く蒸気圧が低いため、従来空気中での塗布によるトップ
コート層の形成に用いられていたパーフルオロポリエー
テル等の弗素系潤滑剤の真空中での噴霧が可能となる。

【００３６】パーフルオロポリエーテルとしては、分子
量2000〜5000のものが好適であり、例えば「FOMBLIN Z
DIAC」〔カルボキシル基変性、モンテカチーニ (株)
製〕、「FOMBLIN Z DOL 」〔アルコール変性、モンテカ
チーニ (株) 製〕の商品名で市販されているものが使用
できる。これらは末端に水酸基或いはカルボキシル基を
有するため、潤滑剤と磁性層との結着を高め得るので、
本発明に特に好適に用いられる。

【００３７】尚、これら以外にも、ベンゼン環、二重結
合、分岐鎖等を含むフッ素系の潤滑剤、脂肪酸系の潤滑
剤、その他の潤滑剤を使用することも使用できる。しか
しながら、フッ素系潤滑剤は、脂肪酸系潤滑剤と比べ耐
久性だけでなく耐蝕性も向上させるため、本発明に特に
好適に用いられる。

【００３８】また、潤滑剤の噴霧にあたっては、潤滑剤
をフッ素系不活性溶媒（例えば住友スリーエム (株) 製
「フロリナート」等のパーフルオロカーボン、モンテカ
チーニ (株) 製「ガルデン」等のパーフルオロポリエー
テル）、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、アルコー
ル系溶媒、ケトン系溶媒等の適当な溶媒に溶解させた0.
001〜10重量％程度、特に0.02〜2.0 重量％の溶液とし
て用いるのが好ましい。潤滑剤としてパーフルオロポリ
エーテルを用いる場合、溶媒としてはパーフルオロカー
ボンが使用でき、その場合の濃度は 0.001〜1.0 重量％
程度、特に0.05〜0.2 重量％が好ましい。

【００３９】本発明の磁気記録媒体の製造方法において
は、噴霧する潤滑剤（潤滑剤溶液）の微粒子は出来るだ
け微細であることが望ましく、潤滑剤の種類や粘度によ
って適用する超音波の周波数が決定されるが、一般的に
は 20kHz〜10MHz の範囲から選択される。

【００４０】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法に
おいて、潤滑剤の噴霧量は、磁気記録媒体の用途や潤滑
剤の種類等を考慮して適宜決定すればよいが、形成され
たトップコート層の厚さは10〜200 Å程度となるように
調節するのが好ましい。潤滑剤を噴霧する際の真空度は
５×10^-4〜５×10 Torr 程度、好ましくは５×10^-1〜５
×10^-2 Torr である。

【００４１】なお、トップコート層は、図５に示すよう
にバックコート層の上に形成してもよい。バックコート
層上にトップコート層を形成することにより、より走行
性、耐久性を向上することができる。

【００４２】〔本発明の製造方法の実施態様〕上記した
ような本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施態様とし
ては、例えば、以下のようなものがあるが、これらには
限定されない。

【００４３】(1) 非磁性支持体上の磁性層蒸着面と反対
側の面にバックコート層を形成するに際し、真空中に
て、金属又は半金属を付着させることを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。

【００４４】(2) バックコート層を最初に非磁性支持体
上に形成する磁気記録媒体の製造方法。

【００４５】(3) 磁性層を最初に非磁性支持体上に形成
する磁気記録媒体の製造方法。

【００４６】(4) 非磁性支持体の一方の面に形成された
バックコート層と、該バックコート層が形成されている
面と反対の面に形成された磁性層と、該磁性層上に形成
された保護層と、該保護層上に形成されたトップコート
層とを有する磁気記録媒体の製造において、真空中で非
磁性支持体を走行させ、該非磁性支持体の一方の面に金
属又は半金属を付着させることによりバックコート層を
形成し、次いで、該非磁性支持体の前記金属バックコー
ト層が形成されている面と反対の面に、磁性材料を付着
させることにより磁性層を形成し、次いで、該磁性層上
にCVD 法又はPVD 法により保護層を形成し、次いで、該
保護層上に潤滑剤を噴霧してトップコート層を形成する
磁気記録媒体の製造方法。

【００４７】(5) 非磁性支持体の一方の面に形成された
バックコート層と、該バックコート層が形成されている
面と反対の面に形成された磁性層と、該磁性層上に形成
された保護層と、該保護層上に形成されたトップコート
層とを有する磁気記録媒体の製造において、真空中で非
磁性支持体を走行させ、該非磁性支持体の一方の面に、
磁性材料を付着させることにより磁性層を形成し、次い
で、該磁性層上にCVD法又はPVD法により保護層を形成
し、次いで、該保護層上に潤滑剤を噴霧してトップコー
ト層を形成し、次いで、前記該非磁性支持体の前記磁性
層が形成されている面と反対の面に金属又は半金属を付
着させることによりバックコート層を形成する磁気記録
媒体の製造方法。

【００４８】(6) 非磁性支持体の一方の面に形成された
バックコート層と、該バックコート層が形成されている
面と反対の面に形成された磁性層と、該磁性層上に形成
された保護層と、該保護層上に形成されたトップコート
層とを有する磁気記録媒体の製造において、真空中で非
磁性支持体を走行させ、該非磁性支持体の一方の面に、
磁性材料を付着させることにより磁性層を形成し、次い
で、前記該非磁性支持体の前記磁性層が形成されている
面と反対の面に金属又は半金属を付着させることにより
バックコート層を形成し、次いで、前記磁性層上にCVD
法又はPVD 法により保護層を形成し、次いで、該保護層
上に潤滑剤を噴霧してトップコート層を形成する磁気記
録媒体の製造方法。

【００４９】(7) 上記 (1)〜(6) における各層の形成工
程を、真空状態を維持し、且つ連続的に行なう磁気記録
媒体の製造方法。

【００５０】等が挙げられる。

【００５１】なお、本発明の磁気記録媒体の製造方法に
おいて、非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレートのようなポリエステ
ル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン; セルローストリアセテート、セルロースジアセテー
ト等のセルロース誘導体；ポリカーボネート；ポリ塩化
ビニル；ポリイミド；芳香族ポリアミド等のプラスチッ
ク等が使用される。これらの非磁性支持体の厚さは３〜
50μm 程度である。

【００５２】〔本発明の製造装置Ａ〕また、本発明は、
第１、第２、第３及び第４のチャンバを有するハウジン
グと、前記各チャンバを真空に保つ真空手段とを含む、
非磁性支持体上に磁性層を形成してなる磁気記録媒体の
製造装置であって、前記各チャンバが、第１、第２、第
３、第４のチャンバの順又は第１、第２、第４、第３の
チャンバの順に隣接して配置され、隣接されたチャンバ
が相互に非磁性支持体通過用開口を介して連通され、前
記第１のチャンバは、非磁性支持体を搬送する第１の冷
却キャンと、該第１の冷却キャンの下方に配設された第
１の蒸着手段とを有し、前記第２のチャンバは、非磁性
支持体を搬送する第２の冷却キャンと、該第２の冷却キ
ャンの下方に配設された第２の蒸着手段とを有し、前記
第３のチャンバは、非磁性支持体を搬送する第３の冷却
キャンと、該第３の冷却キャンの下方に配設された第３
の蒸着手段とを有し、前記第４のチャンバは、非磁性支
持体を搬送する加熱キャンと、該加熱キャンの下方に配
設された潤滑剤の噴霧手段を有することを特徴とする磁
気記録媒体の製造装置（本発明の製造装置Ａ）を提供す
るものである。

【００５３】本発明の製造装置Ａにおいて、真空手段と
しては、真空ポンプ等通常用いられているものが使用で
きる。また、非磁性支持体通過用開口は、通常、各チャ
ンバを連通するスリットからなる。

【００５４】本発明の製造装置Ａは、第１、第２及び第
３のチャンバで磁性層と保護層とバックコート層を形成
し、第４のチャンバでトップコート層を形成するもので
あるが、チャンバの配列は第１、第２、第３、第４の
順、又は第１、第２、第４、第３の順である。本発明の
製造装置Ａにおけるチャンバの配列を以下に模式的に示
すが、〜はそれぞれ第１〜第４のチャンバを意味す
る。 （ア）磁性層→保護層→バックコート層→トッ
プコート層 （イ）磁性層→バックコート層→保護層→トッ
プコート層 （ウ）バックコート層→磁性層→保護層→トッ
プコート層 （エ）磁性層→保護層→トップコート層→バッ
クコート層 各チャンバには、形成する層に応じた金属材料、磁性材
料、炭化物、酸化物等が選択される。また、本発明の製
造装置Ａとしては、前記第１のチャンバが、蒸着中又は
蒸着後に酸化性ガスを導入する第１の酸化性ガス導入手
段を有し、前記第２又は第３のチャンバが、蒸着後又は
蒸着中に酸化性ガスを導入する第２の酸化性ガス導入手
段を有する装置が好ましい。酸化性ガス導入手段の導入
手段は何れも酸化性ガス導入管や適当な開口等からな
る。また、本発明の製造装置Ａは、必要に応じて搬送ロ
ーラーや、チャンバ内部を画定する遮蔽板等を有する。

【００５５】本発明の製造装置Ａの例を以下に示す。

【００５６】(1) 前記第１及び／又は第２及び／又は第
３の蒸着手段が、前記第１、第２又は第３の冷却キャン
に対して開口している金属材料の収容容器と、該収容容
器中の金属材料に電子ビームを照射するための電子ビー
ム発生装置を含む、本発明の磁気記録媒体の製造装置。

【００５７】(2) 前記第１、第２又は第３のチャンバ
が、更に、蒸着中に窒素イオン又は窒素イオンと窒素の
混合ガスを供給する第１の窒素イオン供給手段を有す
る、本発明の磁気記録媒体の製造装置。かかる窒素イオ
ン供給手段は、磁性層を形成するチャンバに配設され、
これから供給される窒素イオンが磁性金属の蒸気と反応
して金属窒化物が生成し、金属窒化物の薄膜からなる磁
性層が非磁性支持体上に形成される。なお、前述の酸化
性ガス導入手段は磁性層の表面を酸化する位置に配置さ
れる。

【００５８】(3) 前記第１、第２又は第３のチャンバ
が、更に、前記第１、第２又は第３の冷却キャンの下方
に配設された第４の蒸着手段と、該第４の蒸着手段によ
る蒸着中に窒素イオンを供給する第２の窒素イオン供給
手段と、該第４の蒸着手段による蒸着後に酸化性ガスを
導入する第３の酸化性ガス導入手段と、前記第１、第２
又は第３の蒸着手段と前記第４の蒸着手段の蒸着領域を
画定する手段を有する上記(2) の磁気記録媒体の製造装
置。第４の蒸着手段、第２の窒素イオン供給手段、及び
第３の酸化性ガス導入手段は、磁性層が形成されるチャ
ンバに配設される。

【００５９】(4) 前記第４のチャンバにおける前記潤滑
剤の噴霧手段が、超音波発振器と噴霧ノズルを含むもの
である、本発明の磁気記録媒体の製造装置。

【００６０】(5) 前記第４のチャンバが、更に、潤滑剤
が噴霧された非磁性支持体を加熱する手段を有する、本
発明の磁気記録媒体の製造装置。潤滑剤が噴霧された非
磁性支持体を加熱する手段としては、加熱ランプが適当
であり、その設置位置は、潤滑剤が噴霧された非磁性支
持体を加熱できる位置であれば、特に限定はない。加熱
ランプにより非磁性支持体を加熱する場合、加熱温度は
80〜100 ℃が最適である。

【００６１】本発明の製造装置Ａは、バックコート層、
磁性層、磁性層上の保護層及び保護層上のトップコート
層を、真空系を空気圧に戻し別ラインに移行することな
く、真空中で連続的に形成できる。本発明の製造装置Ａ
は生産性が非常に高く、空気中での非磁性支持体へのゴ
ミの付着も防止できる。

【００６２】〔本発明の製造装置Ｂ〕また、本発明は、
真空状態に保持された第１のチャンバ内で支持体上に第
１の層を形成する手段と、次いで真空状態に保持された
第２のチャンバ内で前記支持体上又は前記第１の層上に
第２の層を形成する手段と、次いで真空中状態に保持さ
れた第３のチャンバ内で前記支持体上、前記第１の層上
又は前記第２の層上に第３の層を形成する手段と、次い
で真空中状態に保持された第４のチャンバ内で前記第２
の層上又は前記第３の層上に第４の層を形成する手段
と、前記第１のチャンバから前記第２のチャンバへと前
記支持体を搬送する手段と、前記第２のチャンバから前
記第３のチャンバへと前記支持体を搬送する手段と、前
記第３のチャンバから前記第４のチャンバへと前記支持
体を搬送する手段とを有する磁気記録媒体の製造装置を
提供するものである。

【００６３】この製造装置Ｂは、磁気記録媒体を構成す
るバックコート層、磁性層、保護層及びトップコート層
の４層を真空中で形成する装置である。各チャンバは目
的とする層を形成できるような手段を有するが、具体的
には、製造装置Ａで述べた要素を有することができる。

【００６４】〔本発明の磁気記録媒体〕本発明は、非磁
性支持体の一方の面に形成されたバックコート層と、該
バックコート層が形成されている面と反対の面に形成さ
れた磁性層と、該磁性層上に形成された保護層と、該保
護層上に形成されたトップコート層とを有する磁気記録
媒体において、前記バックコート層、前記磁性層、前記
保護層及び前記トップコート層が真空中で形成されてい
ることを特徴とする磁気記録媒体を提供するものであ
る。本発明の磁気記録媒体は、バックコート層、磁性
層、保護層及びトップコート層の４層が真空中で形成さ
れていることを特徴とする。

【００６５】磁性層、バックコート層を真空中で形成す
る方法は、熱蒸発、スパッタリング等のPVD 法が挙げら
れる。バックコート層を形成する金属、半金属、磁性層
を形成する磁性材料、非磁性支持体の種類や各層の厚さ
等は、先に述べた本発明の製造方法に準じる。

【００６６】保護層は熱蒸発、スパッタリング等のPVD
法やCVD 法により形成することができ、先に述べた本発
明の製造方法に準じる。また、トップコート層は、真空
中で潤滑剤を噴霧することにより形成されることが望ま
しく、潤滑剤の種類や噴霧方法等は先に述べた本発明の
製造方法に準じる。

【００６７】本発明の磁気記録媒体は、バックコート層
が、金属もしくは半金属又はこれらの酸化物の蒸着層で
あることが好ましい。バックコート層が金属又はその酸
化物からなる場合は、バックコート層の表面電気抵抗値
が５〜10⁵ Ω／□であることが望ましい。また、バック
コート層が半金属又はその酸化物からなる場合は、バッ
クコート層の表面電気抵抗値が10⁵〜10⁸Ω／□であるの
が好ましい。特にバックコート層が半金属により形成さ
れた本発明の磁気記録媒体は、真空中で製造できる場合
のメリットの他に、更にエンベロープ特性が改良され
る。これは半金属でバックコート層を形成することによ
り、磁気記録媒体に適度な弾力性を付与し、磁気記録媒
体と再生ヘッドの接触の程度（あたり）が適切に保たれ
るためと考えられる。

【００６８】

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。しかしな
がら、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。

【００６９】実施例１ (i) 製造装置 図１は本発明による磁気記録媒体の製造装置の一例を示
す略図であり、該装置では最初にバックコート層が、次
いで磁性層が、次いで保護層が、最後にトップコート層
が形成される。

【００７０】ハウジング１は第１のチャンバ２、第２の
チャンバ３、第３のチャンバ４及び第３のチャンバ５に
より画定されている。また各チャンバは、図示しない真
空手段に接続され、適当な真空度を保っている。なお、
各チャンバの真空度は付着させる材料等により適宜決定
され、全てが同一でも異なっていてもよい。

【００７１】第１のチャンバ２は、巻き出しロール６
と、非磁性支持体９を搬送する第１の冷却キャン７と、
送りロール８と、第１の蒸着手段と、第１の酸素ガス導
入管14を有する。また、巻き出しロール６を出た非磁性
支持体、或いは送りロール８に入る非磁性支持体に微細
なごみやちりが付着しないように、ボンバード装置 10,
10' が設置されている。

【００７２】第１のチャンバ２における第１の蒸着手段
は、第１の冷却キャン７の下方に配設されたルツボ11と
電子銃13からなり、このルツボ11は冷却キャン７に対し
て開口しており、凹部内にバックコート層となる金属ア
ルミニウム12が収容されている。電子銃13から電子ビー
ムが発射され、この電子ビームがルツボ11のアルミニウ
ム12に照射されるようになっている。また、アルミニウ
ム蒸気の蒸発領域内には第１の酸素ガス導入管14により
酸素ガスが導入され、アルミニウムを酸化し、酸化アル
ミニウムの薄膜がバックコート層として形成される。酸
素導入量は図示しない流量制御弁により調整可能であ
る。

【００７３】バックコート層が形成された非磁性支持体
９は、送りロール８上を搬送され、非磁性支持体通過用
開口であるスリット32を経て第２のチャンバ３に誘導さ
れる。

【００７４】第２のチャンバ３は、送りロール15,15'
と、非磁性支持体９が走行する第２の冷却キャン16とを
有する。図１では、第２のチャンバが、第２の蒸着手段
と第４の蒸着手段を有する装置が示されている。

【００７５】第２の蒸着手段は、第２の冷却キャン16の
下方に配設されたルツボ17と電子銃19からなり、このル
ツボ17は第２の冷却キャン16に対して開口しており、凹
部内に磁性層となる金属鉄18が収容されている。電子銃
19から電子ビームが発射され、この電子ビームがルツボ
17中の金属鉄18に照射されるようになっている。

【００７６】また、鉄の蒸発領域内には第１の窒素イオ
ン供給手段20より窒素イオンが供給され、蒸発した鉄を
窒化し、これが非磁性支持体上に付着し、窒化鉄の薄膜
が非磁性支持体上に形成される。

【００７７】次いで、第２の酸素ガス導入管14' より、
蒸着後に酸素ガスが供給され、磁性層の表面近傍を酸化
する。第２のチャンバでは酸素ガス導入管は、窒化鉄が
非磁性支持体に付着した直後に磁性層の表面を酸化でき
る位置に設置する必要がある。

【００７８】第４の蒸着手段も、第２の蒸着手段と同
様、第２の冷却キャン16の下方に配設されたルツボ17'
と電子銃19' からなり、このルツボ17' は第２の冷却キ
ャン16に対して開口しており、凹部内に磁性層となる金
属鉄18' が収容されている。電子銃19' から電子ビーム
が発射され、この電子ビームがルツボ17'中の金属鉄18'
に照射されるようになっている。

【００７９】また、鉄の蒸発領域内には第２の窒素イオ
ン供給手段20' より窒素イオンが供給され、蒸発した鉄
を窒化し、これが非磁性支持体上に付着し、窒化鉄の薄
膜が非磁性支持体上に形成される。

【００８０】次いで、第３の酸素ガス導入管14''より、
蒸着後に酸素ガスが供給され、磁性層の表面近傍を酸化
する。本装置では、前記の第２の酸素ガス導入管14' と
第３の酸素ガス導入管14''は、同じ酸素供給源につなが
る分岐管により構成されている。

【００８１】また、前記第２の蒸着手段と第４の蒸着手
段から発生する金属蒸気の領域を画定する手段は、遮蔽
板37であり、通常は金属板からなる。

【００８２】本装置では、コランダムの傾斜方向が互い
に異なる２層の磁性層が形成される。磁性層が形成され
た非磁性支持体９は送りロール15' 上を搬送され、スリ
ット32' を経て第３のチャンバ４に誘導される。

【００８３】第３のチャンバ４は、送りロール21,21'
と、非磁性支持体９が走行する第３の冷却キャン22とを
有する。図１では、第３のチャンバでCVD 法により保護
層が形成される。

【００８４】第３の蒸着手段は、第３の冷却キャン22の
下方に配設されたCVD 装置であり、ガス導入口25から導
入されるガス、例えばメタンと水素或いはメタンとアル
ゴン等の混合ガスは、マイクロ波発振器24とマグネット
23,23'から発生するプラズマにより励起されチャンバ４
内部に発散され、冷却キャン22を走行する非磁性支持体
９の磁性層上に活性種（炭素や窒化物等）が付着する。
保護層が形成された非磁性支持体９は送りロール20' 上
を搬送され、スリット32''を経て第４のチャンバ５に誘
導される。

【００８５】第４のチャンバ５は、送りロール 26, 26'
と、非磁性支持体９を搬送する加熱キャン27と、巻取り
ロール28と、潤滑剤の噴霧手段を有する。ここで、潤滑
剤の噴霧手段は、超音波噴霧装置29と、噴霧ノズル30か
らなり、加熱キャン27の下方、図面左側に配設されてい
る。潤滑剤は超音波により微粒子化され、噴霧ノズル30
から加熱キャン27を走行する非磁性支持体９に噴霧され
て、磁性層上に形成された保護層上にトップコート層が
形成される。また、本装置は、第４のチャンバが加熱ラ
ンプ31を有し、非磁性支持体に噴霧された潤滑剤の乾燥
を促進している。

【００８６】かくしてトップコート層が形成された非磁
性支持体28は、送りロール26' 上を搬送されて巻取りロ
ール28により巻き取られる。

【００８７】(ii)磁気記録媒体の製造 図１に示す装置を用いて、非磁性支持体上にバックコー
ト層、磁性層、保護層及びトップコート層を形成した。

【００８８】先ず、第１のチャンバ２内の冷却キャン７
上を厚さ 9.8μｍのPET フィルムを走行させ、酸素を導
入（10cc／分）しながら、Fe（鉄）を厚さが1000Åとな
るように第１の蒸着手段により前記PET フィルム上に蒸
着し、バックコート層を形成した。

【００８９】次に、第２のチャンバ３内の冷却キャン16
上に前記PET フィルムを走行させ、前記バックコート層
が形成されている面と反対の面に、第２の蒸着手段によ
り、Fe（鉄）を厚さが 800Åとなるよう、酸素を導入
（３cc／分）しながら蒸着する。また、蒸着中は窒素イ
オン供給手段20より窒素イオンを供給した。このように
して、第１の磁性層を形成し、その後同様にして第２の
チャンバ内部で、第４の蒸着手段により第２の磁性層を
形成した。

【００９０】次に、第３のチャンバ４内の冷却キャン22
上を前記PET フィルムを走行させ、前記磁性層の上に、
CVD 装置により保護層を形成した。本実施例で用いたCV
D 装置は2.5GHzのマイクロ波の発振器24を有する。保護
層は、プラズマをつくる石英の部屋にメタンとアルゴン
の混合ガス（４：１）を25cc／分の割合で導入し、マイ
クロ波電力を送り放電を起こさせ、ダイヤモンドライク
カーボンからなる保護層を形成した。その際、マイクロ
波電力は500W、真空度は５×10^-3Torr、成膜レートは９
Å／秒であった。また、メタンとアルゴンは何れも純度
が99.99 ％のものを用いた。保護層の膜厚は100 Åであ
った。これはオージェ電子分光により測定した。

【００９１】次いで第４のチャンバ５内の加熱キャン27
上を前記PET フィルムを走行させ、潤滑剤として「FOMB
LIN Z DIAC」〔カルボキシル基変性、モンテカチーニ
(株)製〕を用いる、超音波噴霧手段により厚さが30Åと
なるよう、前記PET フィルムの保護層に噴霧して、トッ
プコート層を形成し、巻取りロール28によりフィルムを
巻き取った。

【００９２】(iii)磁気記録媒体の性能評価 上記によりバックコート層、磁性層、保護層及びトップ
コート層が形成されたフィルムを８mm幅のテープ状に裁
断し、カセットケースに入れて、８mmビデオカセットテ
ープを得た。耐久性の目安としてスチル耐久性を測定し
た。スチル耐久性は、市販のハイバンド８mmＶＴＲ装置
を用い、８mmビデオカセットテープを１時間スチル状態
とし、７MHz の出力の低下を測定した。その結果、７MH
z の出力の低下は0.2 dBであった。

【００９３】また、保護層を形成する膜がダイヤモンド
ライクカーボンであることを確認するために、EELS（電
子エネルギー損失分光法）により保護層の組成を分析し
た。EELSのチャートを図２に示すが、このチャートから
保護層を形成する物質はダイヤモンドとグラファイトの
中間の物質であり、良好なダイヤモンドライクカーボン
であることを確認した。

【００９４】実施例２ 前記実施例１と同様の装置を用いてバックコート層、磁
性層、保護層及びトップコート層を有する磁気記録媒体
を製造した。ただし、本実施例における第３のチャンバ
は、図３に示すように、第３の蒸着手段として冷却キャ
ン22の下方に配設されたPVD 装置（直流のマグネトロン
・スパッタ装置）を供えている。またターゲットはケイ
素、出力は５kWである。

【００９５】第１のチャンバ及び第２のチャンバによ
り、バックコート層と磁性層が形成された非磁性支持体
９を第３のチャンバ内に走行させ、ガス導入口35からア
ルゴンと窒素の混合ガス（１：４）を導入（15cc／分）
し、磁性層上に窒化ケイ素からなる保護層を形成した。
保護層の膜厚は110 Åであった。これはオージェ電子分
光により測定した。その後、保護層上にトップコート層
を形成し、以下実施例１と同様に８mmビデオカセットテ
ープを得た。

【００９６】得られた８mmビデオカセットテープのスチ
ル耐久性を実施例１と同様に測定したところ、７MHz の
出力の低下は0.4 dBであった。

【００９７】比較例１ 実施例１において、フィルム上に磁性層を形成した後、
フィルムを巻き取って、それを一旦大気中に取り出して
から保護層を形成した。その後、実施例１と同様に８mm
ビデオカセットテープを製造し、スチル耐久性を実施例
１と同様に測定したところ、７MHz の出力の低下は0.7
dBであった。

【００９８】比較例２ 実施例１において、保護層の形成を行わずに、バックコ
ート層、磁性層及び磁性層上のトップコート層の三層の
みを形成した。その後、実施例１と同様に８mmビデオカ
セットテープを製造し、スチル耐久性を実施例１と同様
に測定したところ、７MHz の出力の低下は 1.4dBであっ
た。

【００９９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、真
空中にてバックコート層を蒸着により形成するため、ゴ
ミの付着等の問題が解消される。

【０１００】本発明によれば、金属薄膜型の磁気記録媒
体のバックコート層、磁性層、保護層及びトップコート
層を真空中で連続的に形成することができるため、生産
性が非常に高くなる。

【０１０１】また、バックコート層を単なる真空蒸着に
より形成すると、表面が平滑すぎて走行安定性が悪くな
る場合があるが、蒸着するときに酸化性ガスを導入し
て、バックコート層の摩擦係数をコントロールすること
により、走行安定性も維持できる。しかも、酸化性ガス
を導入することにより、表面粗さをコントロールするば
かりでなく、耐食性をも向上できる。酸化性ガスを導入
することにより、金属結合が弱まって、導電性が低下す
るが、表面電気抵抗値を決めて、酸化性ガス導入量を規
制することにより、導電性も維持できる。

【０１０２】更に、磁性層上に保護層を形成することに
より、耐久性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の磁気記録媒体の製造装置の一例を示
す略図

【図２】 実施例１で得られた磁気記録媒体の保護層の
EELSのチャート

【図３】 本発明の磁気記録媒体の製造装置の他の例を
示す略図

【図４】 蒸着型テープの構成を示すモデル図

【図５】 本発明の蒸着型テープの構成の一例を示すモ
デル図

【符号の説明】

１ ハウジング ２ バックコート層を形成する第１のチャンバ ３ 磁性層を形成する第２のチャンバ ４ 保護層を形成する第３のチャンバ ５ トップコート層を形成する第４のチャンバ 24 マイクロ波発振器 29 超音波噴霧装置 30 噴霧ノズル 34 スパッタ電源 36 ターゲット

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成７年６月９日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２６】金属バックコート層の場合、表面電気抵抗
値を５〜10⁵ Ω／□とするのは、表面電気抵抗値が５Ω
／□より低い場合、酸素量が少なくてバックコート層の
摩擦係数が高くなりすぎてしまう。表面電気抵抗値が10
⁵ Ω／□より高いと、摩擦係数が低くなり過ぎてしまう
他、導電率が低下し過ぎて、ゴミの付着を招く恐れがあ
る。目標とすべきはおおよそ 10²〜10³ Ω／□である。
尚、中心線平均粗さでは、Ｒａ＝４〜20nmに相当する。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｂ 7303−5Ｄ

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体の一方の面に形成されたバッ
   クコート層と、該バックコート層が形成されている面と
   反対の面に形成された磁性層と、該磁性層上に形成され
   た保護層と、該保護層上に形成されたトップコート層と
   を有する磁気記録媒体の製造において、前記バックコー
   ト層、前記磁性層、前記保護層及び前記トップコート層
   を、これらの層の形成工程を通して真空状態を維持しつ
   つ形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】前記バックコート層を、物理的蒸着方法
   （PVD 法）により金属又は半金属を真空中で非磁性支持
   体の一方の面に付着させて形成することを特徴とする請
   求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】前記バックコート層を、酸化性ガスを導入
   することにより形成することを特徴とする請求項２記載
   の磁気記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】前記トップコート層を、潤滑剤を噴霧する
   ことにより形成することを特徴とする請求項１記載の磁
   気記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】前記トップコート層を、超音波を印加して
   霧化された潤滑剤を噴霧することにより形成することを
   特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】前記潤滑剤がフッ素系潤滑剤である請求項
   ４又は５記載の磁気記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】前記磁性層が、鉄、鉄を主体とする強磁性
   合金及びこれらの窒化物もしくは炭化物から選ばれる少
   なくとも１種である請求項１〜６の何れか１項記載の磁
   気記録媒体の製造方法。
8. 【請求項８】前記バックコート層を最初に非磁性支持体
   上に形成することを特徴とする請求項１記載の磁気記録
   媒体の製造方法。
9. 【請求項９】前記磁性層を最初に非磁性支持体上に形成
   することを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製
   造方法。
10. 【請求項１０】第１、第２、第３及び第４のチャンバを
    有するハウジングと、前記各チャンバを真空に保つ真空
    手段とを含む、非磁性支持体上に磁性層を形成してなる
    磁気記録媒体の製造装置であって、 前記各チャンバが、第１、第２、第３、第４のチャンバ
    の順又は第１、第２、第４、第３のチャンバの順に隣接
    して配置され、隣接されたチャンバが相互に非磁性支持
    体通過用開口を介して連通され、 前記第１のチャンバは、非磁性支持体を搬送する第１の
    冷却キャンと、該第１の冷却キャンの下方に配設された
    第１の蒸着手段とを有し、 前記第２のチャンバは、非磁性支持体を搬送する第２の
    冷却キャンと、該第２の冷却キャンの下方に配設された
    第２の蒸着手段とを有し、 前記第３のチャンバは、非磁性支持体を搬送する第３の
    冷却キャンと、該第３の冷却キャンの下方に配設された
    第３の蒸着手段とを有し、 前記第４のチャンバは、非磁性支持体を搬送する加熱キ
    ャンと、該加熱キャンの下方に配設された潤滑剤の噴霧
    手段を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造装
    置。
11. 【請求項１１】前記第１のチャンバが、蒸着中又は蒸着
    後に酸化性ガスを導入する第１の酸化性ガス導入手段を
    有し、 前記第２又は第３のチャンバが、蒸着後又は蒸着中に酸
    化性ガスを導入する第２の酸化性ガス導入手段を有する
    ことを特徴とする請求項１０記載の磁気記録媒体の製造
    装置。
12. 【請求項１２】前記第１及び／又は第２及び／又は第３
    の蒸着手段が、前記第１、第２又は第３の冷却キャンに
    対して開口している金属材料の収容容器と、該収容容器
    中の金属材料に電子ビームを照射するための電子ビーム
    発生装置を含む請求項１０又は１１記載の磁気記録媒体
    の製造装置。
13. 【請求項１３】前記第１、第２又は第３のチャンバが、
    更に、蒸着中に窒素イオンを供給する第１の窒素イオン
    供給手段を有する請求項１０〜１２の何れか１項記載の
    磁気記録媒体の製造装置。
14. 【請求項１４】前記第１、第２又は第３のチャンバが、
    更に、前記第１、第２又は第３の冷却キャンの下方に配
    設された第４の蒸着手段と、該第４の蒸着手段による蒸
    着中に窒素イオンを供給する第２の窒素イオン供給手段
    と、該第４の蒸着手段による蒸着後に酸化性ガスを導入
    する第３の酸化性ガス導入手段と、前記第１、第２又は
    第３の蒸着手段と前記第４の蒸着手段の蒸着領域を画定
    する手段を有する請求項１３記載の磁気記録媒体の製造
    装置。
15. 【請求項１５】前記潤滑剤の噴霧手段が、超音波発振器
    と噴霧ノズルを含むものである請求項１０〜１４の何れ
    か１項記載の磁気記録媒体の製造装置。
16. 【請求項１６】前記第４のチャンバが、更に、潤滑剤が
    噴霧された非磁性支持体を加熱する手段を有する請求項
    １０〜１５の何れか１項記載の磁気記録媒体の製造装
    置。
17. 【請求項１７】真空状態に保持された第１のチャンバ内
    で支持体上に第１の層を形成する手段と、次いで真空状
    態に保持された第２のチャンバ内で前記支持体上又は前
    記第１の層上に第２の層を形成する手段と、次いで真空
    中状態に保持された第３のチャンバ内で前記支持体上、
    前記第１の層上又は前記第２の層上に第３の層を形成す
    る手段と、次いで真空中状態に保持された第４のチャン
    バ内で前記第２の層上又は前記第３の層上に第４の層を
    形成する手段と、前記第１のチャンバから前記第２のチ
    ャンバへと前記支持体を搬送する手段と、前記第２のチ
    ャンバから前記第３のチャンバへと前記支持体を搬送す
    る手段と、前記第３のチャンバから前記第４のチャンバ
    へと前記支持体を搬送する手段とを有する磁気記録媒体
    の製造装置。
18. 【請求項１８】非磁性支持体の一方の面に形成されたバ
    ックコート層と、該バックコート層が形成されている面
    と反対の面に形成された磁性層と、該磁性層上に形成さ
    れた保護層と、該保護層上に形成されたトップコート層
    とを有する磁気記録媒体において、前記バックコート
    層、前記磁性層、前記保護層及び前記トップコート層が
    真空中で形成されていることを特徴とする磁気記録媒
    体。
19. 【請求項１９】前記バックコート層が、金属もしくは半
    金属又はこれらの酸化物の蒸着層である請求項１８記載
    の磁気記録媒体。
20. 【請求項２０】前記トップコート層が、真空中で潤滑剤
    を噴霧することにより形成されたものである請求項１８
    又は１９記載の磁気記録媒体。
21. 【請求項２１】前記保護層が、炭素、又は炭化物、窒化
    物もしくは酸化物からなる請求項１８〜２０の何れか１
    項記載の磁気記録媒体。