JPH07215921A - 有害生物防除剤および中間体の製造方法 - Google Patents
有害生物防除剤および中間体の製造方法Info
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- JPH07215921A JPH07215921A JP6281475A JP28147594A JPH07215921A JP H07215921 A JPH07215921 A JP H07215921A JP 6281475 A JP6281475 A JP 6281475A JP 28147594 A JP28147594 A JP 28147594A JP H07215921 A JPH07215921 A JP H07215921A
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- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D277/56—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/02—Systems containing two condensed rings the rings having only two atoms in common
- C07C2602/04—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring
- C07C2602/08—One of the condensed rings being a six-membered aromatic ring the other ring being five-membered, e.g. indane
Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式
【化１】
［式中、Ｒ1は場合により置換されていてもよいアルキ
ル基を表し、そしてＲ2、Ｒ3およびＲ4は、独立して、
水素原子を表すか或は任意に置換されていてもよいアル
キル基を表す］のインダニルアミン化合物を一般式 【化２】 の化合物の水添を行った後、その生成物の転位および誘
導化を行うことにより製造する。 【効果】 一般式Ｉの化合物は、殺菌・殺カビ性を示す
Ｎ−インダニルカルボキサミド化合物の好適な立体異性
体を製造する目的で用いられ得る。
ル基を表し、そしてＲ2、Ｒ3およびＲ4は、独立して、
水素原子を表すか或は任意に置換されていてもよいアル
キル基を表す］のインダニルアミン化合物を一般式 【化２】 の化合物の水添を行った後、その生成物の転位および誘
導化を行うことにより製造する。 【効果】 一般式Ｉの化合物は、殺菌・殺カビ性を示す
Ｎ−インダニルカルボキサミド化合物の好適な立体異性
体を製造する目的で用いられ得る。
Description
【０００１】本発明は、有害生物防除剤および中間体を
製造する方法に関するものである。排他的ではないが特
に、本発明は、殺菌・殺カビ性を示すＮ−インダニルカ
ルボキサミド誘導体の好適な立体異性体を製造する目的
で主に用いられ得るインダニルアミン化合物の好適な立
体異性体の卓越した製造に関する。
製造する方法に関するものである。排他的ではないが特
に、本発明は、殺菌・殺カビ性を示すＮ−インダニルカ
ルボキサミド誘導体の好適な立体異性体を製造する目的
で主に用いられ得るインダニルアミン化合物の好適な立
体異性体の卓越した製造に関する。
【０００２】ヨーロッパ特許出願公開第０ ２８０ ２
７５号（三菱化成株式会社（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｋ
ａｓｅｉ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ））には、一般式：
７５号（三菱化成株式会社（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｋ
ａｓｅｉ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ））には、一般式：
【０００３】
【化１０】
【０００４】［式中、Ｒは低級アルキルを表し、ｎは１
から６の整数であり、そしてＡは場合により置換されて
いてもよい種々の複素環式基を表す］で表される殺菌・
殺カビ性を示すＮ−インダニルカルボキサミド誘導体が
記述されている。
から６の整数であり、そしてＡは場合により置換されて
いてもよい種々の複素環式基を表す］で表される殺菌・
殺カビ性を示すＮ−インダニルカルボキサミド誘導体が
記述されている。
【０００５】特開９２−５４１７３号（三菱化成株式会
社）には、増強された殺菌・殺カビ活性を示す光学活性
Ｎ−インダニルチアゾールカルボキサミドおよびそれの
製造方法が開示されている。この開示されている特別な
化合物は４−メチル−Ｎ−（３Ｒ−１，１，３−トリメ
チルインダン−４−イル）チアゾール−５−カルボキサ
ミドである。この化合物の製造方法は、例えば光学異性
体分離用カラムを用いて４−メチル−Ｎ−（１，１，３
−トリメチルインダン−４−イル）チアゾール−５−カ
ルボキサミドを光学的に分離させることを伴っている。
その記述されている方法の結果として得られるその好適
なエナンチオマーの収率はかなり低い可能性がある。
社）には、増強された殺菌・殺カビ活性を示す光学活性
Ｎ−インダニルチアゾールカルボキサミドおよびそれの
製造方法が開示されている。この開示されている特別な
化合物は４−メチル−Ｎ−（３Ｒ−１，１，３−トリメ
チルインダン−４−イル）チアゾール−５−カルボキサ
ミドである。この化合物の製造方法は、例えば光学異性
体分離用カラムを用いて４−メチル−Ｎ−（１，１，３
−トリメチルインダン−４−イル）チアゾール−５−カ
ルボキサミドを光学的に分離させることを伴っている。
その記述されている方法の結果として得られるその好適
なエナンチオマーの収率はかなり低い可能性がある。
【０００６】本発明は、殺菌・殺カビ性を示すＮ−イン
ダニルカルボキサミド誘導体の好適な立体異性体の製造
で用いられ得るインダニルアミン化合物の新規な製造方
法を発見したことを基にしている。
ダニルカルボキサミド誘導体の好適な立体異性体の製造
で用いられ得るインダニルアミン化合物の新規な製造方
法を発見したことを基にしている。
【０００７】本発明の第一の態様に従えば、一般式
【０００８】
【化１１】
【０００９】［式中、Ｒ1は場合により置換されていて
もよいアルキル基を表し、そしてＲ2、Ｒ3およびＲ4は
独立して水素原子を表すか或は場合により置換されてい
てもよいアルキル基を表す］で表されるインダニルアミ
ン化合物の製造方法が提供され、この方法は、一般式
もよいアルキル基を表し、そしてＲ2、Ｒ3およびＲ4は
独立して水素原子を表すか或は場合により置換されてい
てもよいアルキル基を表す］で表されるインダニルアミ
ン化合物の製造方法が提供され、この方法は、一般式
【００１０】
【化１２】
【００１１】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上に記
述したとおりであり、そしてＲ5およびＲ6は独立してハ
ロゲン原子、ヒドロキシル、ニトロまたはシアノ基を表
すか、或は場合により置換されていてもよいアルキル、
アルコキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボキ
シまたはアルキルアミノ基を表し、但し、Ｒ5およびＲ6
は異なる原子または基を表すものとする］で示される化
合物の水添を行った後、その生成物の転位(rearrangeme
nt)および(dreivatisation)誘導化を行う段階を含んで
いる。
述したとおりであり、そしてＲ5およびＲ6は独立してハ
ロゲン原子、ヒドロキシル、ニトロまたはシアノ基を表
すか、或は場合により置換されていてもよいアルキル、
アルコキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボキ
シまたはアルキルアミノ基を表し、但し、Ｒ5およびＲ6
は異なる原子または基を表すものとする］で示される化
合物の水添を行った後、その生成物の転位(rearrangeme
nt)および(dreivatisation)誘導化を行う段階を含んで
いる。
【００１２】この方法は、該化合物の好適な立体異性体
が優勢であり得る一般式Ｉで示される化合物を製造する
に有利であることが見いだされた。これは、一般式ＩＩ
で示される化合物内の基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−が示すキラル性質
から生じるものである考えている。この基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−
が示す１つの構造配置が、一般式ＩＩで示される化合物
内で適切に優勢になる。好適には、この一般式ＩＩで示
される化合物は、本質的に、この基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−の単一
構造配置を含んでいる。
が優勢であり得る一般式Ｉで示される化合物を製造する
に有利であることが見いだされた。これは、一般式ＩＩ
で示される化合物内の基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−が示すキラル性質
から生じるものである考えている。この基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−
が示す１つの構造配置が、一般式ＩＩで示される化合物
内で適切に優勢になる。好適には、この一般式ＩＩで示
される化合物は、本質的に、この基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−の単一
構造配置を含んでいる。
【００１３】一般に、本明細書で記述する何らかの原子
団がアルキル基を含んでいる場合、このアルキル基は線
状であるか或は分枝していて、適切には１から４個の炭
素原子を含んでいてもよく、ここで適切な例はメチル、
エチルおよびプロピルである。任意に置換されていても
よいとして何らかの基を表示する場合、これらの任意に
存在していてもよい置換基は、有害生物防除剤化合物の
開発および／またはそれらが示す構造／活性、残存性、
浸透性または他の特性に影響を与える上記化合物の改質
で通常に用いられる置換基のいずれであってもよい。任
意に置換されていてもよいアルキルまたはアルキレン基
を含んでいる、本明細書で定義する原子団に関する、上
記置換基の特定例には、ハロゲン、特にフッ素、塩素ま
たは臭素原子、並びにニトロ、シアノ、ヒドロキシル、
Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルコキシ、（Ｃ1-4アル
コキシ）カルボニル基、アミノおよびＣ1-4アルキルア
ミノ基などが含まれる。しかしながら、アルキル原子団
は未置換であるか或はハロゲン置換されているのが好適
であり、そしてアルキレン原子団は未置換であるか或は
置換されていてもその置換基がアルキル基のみであるの
が好適である。
団がアルキル基を含んでいる場合、このアルキル基は線
状であるか或は分枝していて、適切には１から４個の炭
素原子を含んでいてもよく、ここで適切な例はメチル、
エチルおよびプロピルである。任意に置換されていても
よいとして何らかの基を表示する場合、これらの任意に
存在していてもよい置換基は、有害生物防除剤化合物の
開発および／またはそれらが示す構造／活性、残存性、
浸透性または他の特性に影響を与える上記化合物の改質
で通常に用いられる置換基のいずれであってもよい。任
意に置換されていてもよいアルキルまたはアルキレン基
を含んでいる、本明細書で定義する原子団に関する、上
記置換基の特定例には、ハロゲン、特にフッ素、塩素ま
たは臭素原子、並びにニトロ、シアノ、ヒドロキシル、
Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4ハロアルコキシ、（Ｃ1-4アル
コキシ）カルボニル基、アミノおよびＣ1-4アルキルア
ミノ基などが含まれる。しかしながら、アルキル原子団
は未置換であるか或はハロゲン置換されているのが好適
であり、そしてアルキレン原子団は未置換であるか或は
置換されていてもその置換基がアルキル基のみであるの
が好適である。
【００１４】本明細書に関連して、言葉「優勢」（また
は同様な用語）は、５０％以上、より好適には６０％以
上を意味している。
は同様な用語）は、５０％以上、より好適には６０％以
上を意味している。
【００１５】好適には、Ｒ1は未置換のアルキル基を表
す。Ｒ1は好適にはＣ1-2アルキル基を表す。より好適に
は、Ｒ1はメチル基を表す。
す。Ｒ1は好適にはＣ1-2アルキル基を表す。より好適に
は、Ｒ1はメチル基を表す。
【００１６】好適には、Ｒ2は水素原子またはＣ1-2アル
キル基を表す。より好適には、Ｒ2は水素原子を表す。
キル基を表す。より好適には、Ｒ2は水素原子を表す。
【００１７】好適には、Ｒ3およびＲ4は独立して水素原
子またはＣ1-2アルキル基を表す。より好適には、Ｒ3お
よびＲ4はＣ1-2アルキル基を表す。特に好適な場合は、
Ｒ3およびＲ4がメチル基を表す場合である。
子またはＣ1-2アルキル基を表す。より好適には、Ｒ3お
よびＲ4はＣ1-2アルキル基を表す。特に好適な場合は、
Ｒ3およびＲ4がメチル基を表す場合である。
【００１８】好適には、Ｒ5は場合により置換されてい
てもよいＣ1-6アルキル基を表す。より好適には、Ｒ5は
Ｃ1-4アルキル基を表す。特に好適な場合は、Ｒ5がメチ
ル基を表す場合である。
てもよいＣ1-6アルキル基を表す。より好適には、Ｒ5は
Ｃ1-4アルキル基を表す。特に好適な場合は、Ｒ5がメチ
ル基を表す場合である。
【００１９】好適には、Ｒ6はハロゲン原子、ヒドロキ
シル基または場合により置換されていてもよいアルコキ
シ、アルコキシカルボニルまたはアルキルカルボキシ基
を表す。より好適には、Ｒ6はハロゲン原子、特に塩素
原子を表すか、或はヒドロキシルまたはＣ1-6アルキル
カルボキシ基を表す。特に好適な場合は、Ｒ6が塩素原
子またはヒドロキシルもしくはアセトキシ基を表す場合
である。
シル基または場合により置換されていてもよいアルコキ
シ、アルコキシカルボニルまたはアルキルカルボキシ基
を表す。より好適には、Ｒ6はハロゲン原子、特に塩素
原子を表すか、或はヒドロキシルまたはＣ1-6アルキル
カルボキシ基を表す。特に好適な場合は、Ｒ6が塩素原
子またはヒドロキシルもしくはアセトキシ基を表す場合
である。
【００２０】上記水添段階において、上記一般式ＩＩで
表される化合物の水添を行って一般式
表される化合物の水添を行って一般式
【００２１】
【化１３】
【００２２】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5および
Ｒ6は上に記述したとおりである］で示される化合物を
生じさせる。
Ｒ6は上に記述したとおりである］で示される化合物を
生じさせる。
【００２３】上記水添段階を行うための反応体および条
件は、好適には、上記一般式ＩＩＩで示される化合物の
好適なジアステレオマー形態を優勢に生じさせるような
反応体と条件である。
件は、好適には、上記一般式ＩＩＩで示される化合物の
好適なジアステレオマー形態を優勢に生じさせるような
反応体と条件である。
【００２４】好適には、不均一触媒の存在下で、上記一
般式ＩＩで示される化合物の水添反応を実施する。上記
不均一触媒には好適には遷移金属触媒が含まれ、パラジ
ウム／炭素触媒が特に好適である。
般式ＩＩで示される化合物の水添反応を実施する。上記
不均一触媒には好適には遷移金属触媒が含まれ、パラジ
ウム／炭素触媒が特に好適である。
【００２５】好適には気体状水素を用いてこの水添反応
を実施する。
を実施する。
【００２６】好適には有機溶媒の存在下でこの水添反応
を実施する。上記溶媒は好適には極性を示す溶媒であ
る。好適な溶媒はアルコール類または低級アルカン酸類
であり、メタノールおよび酢酸が特に好適である。
を実施する。上記溶媒は好適には極性を示す溶媒であ
る。好適な溶媒はアルコール類または低級アルカン酸類
であり、メタノールおよび酢酸が特に好適である。
【００２７】好適には、周囲温度および周囲圧力でこの
水添反応を実施する。適切には、上記有機溶媒の中に上
記一般式ＩＩで示される化合物と上記不均一触媒が入っ
ている溶液を、水素雰囲気中で長期間撹拌する。この水
添反応を行った後、適切には濾過でその触媒を除去し、
そして一般式ＩＩＩで示される化合物を標準操作で単離
する。
水添反応を実施する。適切には、上記有機溶媒の中に上
記一般式ＩＩで示される化合物と上記不均一触媒が入っ
ている溶液を、水素雰囲気中で長期間撹拌する。この水
添反応を行った後、適切には濾過でその触媒を除去し、
そして一般式ＩＩＩで示される化合物を標準操作で単離
する。
【００２８】次に、一般式Ｉで表される化合物を製造す
る目的で、好適には、上記一般式ＩＩＩで示される化合
物を処理して、それらの転位および誘導化、例えば加水
分解などを生じさせる。この処理には、好適には、一般
式ＩＩＩで示される化合物を強酸にゆっくりと添加する
ことが含まれる。この初期段階は、一般式
る目的で、好適には、上記一般式ＩＩＩで示される化合
物を処理して、それらの転位および誘導化、例えば加水
分解などを生じさせる。この処理には、好適には、一般
式ＩＩＩで示される化合物を強酸にゆっくりと添加する
ことが含まれる。この初期段階は、一般式
【００２９】
【化１４】
【００３０】で示される中間体化合物の生成をもたらし
得るものであり、これの単離は行う必要がない。
得るものであり、これの単離は行う必要がない。
【００３１】その反応混合物に水と弱酸、例えば酢酸の
如きアルカン酸などを添加することによって、一般式Ｉ
Ｖで示される化合物の加水分解を行うことができる。次
に、適切にはこの反応混合物を加熱する。次に、標準操
作を用いて、所望の一般式Ｉで示される化合物をその反
応混合物から単離することができる。
如きアルカン酸などを添加することによって、一般式Ｉ
Ｖで示される化合物の加水分解を行うことができる。次
に、適切にはこの反応混合物を加熱する。次に、標準操
作を用いて、所望の一般式Ｉで示される化合物をその反
応混合物から単離することができる。
【００３２】上に記述した一般式ＩＩＩで示される化合
物はキラル原子を少なくとも２個有しており、即ち基Ｒ
1を持っているＣ−４原子と基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−を持ってい
る炭素原子を有しており、従ってこの化合物は種々のジ
アステレオマー形態で存在し得ることは理解されるであ
ろう。一般式ＩＩＩで示される化合物から一般式Ｉで示
される化合物に進ませる過程中、一般に、立体異性体の
構造配置が維持されることを見い出した。例えば、
Ｒ1、Ｒ3およびＲ4がメチル基を表し、Ｒ2が水素原子を
表し、そしてＲ5およびＲ6が本明細書の説明のいずれか
の中に記述する如きである好適な態様において、この方
法における製造は、一般式ＩＩＩで示される化合物が示
すジアステレオマー純度と同様なエナンチオマー純度を
示す一般式Ｉで示される化合物をもたらすことが見いだ
された。
物はキラル原子を少なくとも２個有しており、即ち基Ｒ
1を持っているＣ−４原子と基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−を持ってい
る炭素原子を有しており、従ってこの化合物は種々のジ
アステレオマー形態で存在し得ることは理解されるであ
ろう。一般式ＩＩＩで示される化合物から一般式Ｉで示
される化合物に進ませる過程中、一般に、立体異性体の
構造配置が維持されることを見い出した。例えば、
Ｒ1、Ｒ3およびＲ4がメチル基を表し、Ｒ2が水素原子を
表し、そしてＲ5およびＲ6が本明細書の説明のいずれか
の中に記述する如きである好適な態様において、この方
法における製造は、一般式ＩＩＩで示される化合物が示
すジアステレオマー純度と同様なエナンチオマー純度を
示す一般式Ｉで示される化合物をもたらすことが見いだ
された。
【００３３】また、この方法における最初の面を用いる
ことによって、適当なキラリティー（ｃｈｉｒａｌｉｔ
ｙ）を示す基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−を持たせるように一般式ＩＩ
で示される化合物の管理を行うことができ、そして一般
式ＩＩで示される化合物の立体選択水添を行うことによ
って、一般式ＩＩＩで示される化合物の立体化学を管理
することができ、その結果として、好適な立体異性体を
優勢に生じさせるように、一般式Ｉで示される化合物の
管理を行うことができる。例えば、Ｒ1、Ｒ3およびＲ4
がメチル基を表しそしてＲ2が水素原子を表す、上に記
述した好適な態様では、一般式Ｉで示される化合物の好
適なエナンチオマーを優勢に生じさせるようにその反応
を管理することができる。
ことによって、適当なキラリティー（ｃｈｉｒａｌｉｔ
ｙ）を示す基Ｒ5Ｒ6ＣＨ−を持たせるように一般式ＩＩ
で示される化合物の管理を行うことができ、そして一般
式ＩＩで示される化合物の立体選択水添を行うことによ
って、一般式ＩＩＩで示される化合物の立体化学を管理
することができ、その結果として、好適な立体異性体を
優勢に生じさせるように、一般式Ｉで示される化合物の
管理を行うことができる。例えば、Ｒ1、Ｒ3およびＲ4
がメチル基を表しそしてＲ2が水素原子を表す、上に記
述した好適な態様では、一般式Ｉで示される化合物の好
適なエナンチオマーを優勢に生じさせるようにその反応
を管理することができる。
【００３４】好適なエナンチオマーが優勢である一般式
【００３５】
【化１５】
【００３６】［式中、Ｒ5およびＲ6は上に記述したとお
りであり、そしてＬ1は脱離基である］で示される化合
物と、一般式
りであり、そしてＬ1は脱離基である］で示される化合
物と、一般式
【００３７】
【化１６】
【００３８】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上に記
述したとおりである］で示される化合物とを反応させる
ことによって、一般式ＩＩで示される化合物を製造する
ことができる。
述したとおりである］で示される化合物とを反応させる
ことによって、一般式ＩＩで示される化合物を製造する
ことができる。
【００３９】Ｌ1は、ハロゲン原子、特に塩素原子を表
すか、或はヒドロキシル、アジド、アルコキシ、場合に
より置換されていてもよいフェノキシ、またはアルキル
カルボキシ基を表す。好適には、上記一般式Ｖで示され
る化合物は、Ｌ1が一般式
すか、或はヒドロキシル、アジド、アルコキシ、場合に
より置換されていてもよいフェノキシ、またはアルキル
カルボキシ基を表す。好適には、上記一般式Ｖで示され
る化合物は、Ｌ1が一般式
【００４０】
【化１７】
【００４１】［式中、Ｒ5およびＲ6は上に記述したとお
りである］で示される基を表すか或は一般式
りである］で示される基を表すか或は一般式
【００４２】
【化１８】
【００４３】［式中、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は独立して水
素原子を表すか、或は場合により置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、アルキニルまたはフェニル基を
表す］で示される基を表す無水物である。好適には、Ｒ
7、Ｒ8およびＲ9はメチル基を表す。
素原子を表すか、或は場合により置換されていてもよい
アルキル、アルケニル、アルキニルまたはフェニル基を
表す］で示される基を表す無水物である。好適には、Ｒ
7、Ｒ8およびＲ9はメチル基を表す。
【００４４】好適な態様において、上記一般式Ｖで示さ
れる化合物は、Ｌ−（＋）−アセトキシ乳酸またはＳ−
（−）−２−クロロプロピオン酸の無水物を表してい
る。一般式Ｖで示される化合物は商業的に入手可能であ
りそして／または標準操作を用いて製造可能である。
れる化合物は、Ｌ−（＋）−アセトキシ乳酸またはＳ−
（−）−２−クロロプロピオン酸の無水物を表してい
る。一般式Ｖで示される化合物は商業的に入手可能であ
りそして／または標準操作を用いて製造可能である。
【００４５】一般式ＶＩで示される化合物は標準操作で
製造可能である。
製造可能である。
【００４６】上記一般式ＩＩ、ＩＩＩおよびＩＶで示さ
れる化合物は新規であると考えており、本質的に、これ
らの化合物およびこれらの化合物の製造方法は本発明の
さらなる態様を構成している。
れる化合物は新規であると考えており、本質的に、これ
らの化合物およびこれらの化合物の製造方法は本発明の
さらなる態様を構成している。
【００４７】一般式Ｉで示される化合物と、一般式
【００４８】
【化１９】
【００４９】［式中、Ｌ2は脱離基を表し、そしてＡは
一般式
一般式
【００５０】
【化２０】
【００５１】（ここで、Ｘはハロゲン原子、メチル基ま
たはトリフルオロメチル基を表し、Ｙは水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、アミノ基、メルカプト基ま
たは低級アルキルチオ基を表し、Ｒ11はメチル基または
トリフルオロメチル基を表し、そしてＲ12およびＲ13は
独立して水素原子またはメチル基を表す）で示される基
を表す］で示される化合物とを反応させることで、有害
生物防除剤、より詳細には一般式
たはトリフルオロメチル基を表し、Ｙは水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、アミノ基、メルカプト基ま
たは低級アルキルチオ基を表し、Ｒ11はメチル基または
トリフルオロメチル基を表し、そしてＲ12およびＲ13は
独立して水素原子またはメチル基を表す）で示される基
を表す］で示される化合物とを反応させることで、有害
生物防除剤、より詳細には一般式
【００５２】
【化２１】
【００５３】で示される殺菌・殺カビ性化合物を製造す
ることができる。
ることができる。
【００５４】Ｌ2は好適にはハロゲン原子、特に塩素原
子を表すか、或はヒドロキシル、アジド、アルコキシ、
場合により置換されていてもよいフェノキシ、アルキル
カルボキシまたはアルコキシカルボキシ基を表す。より
好適には、Ｌ2はアルコキシ基を表す。
子を表すか、或はヒドロキシル、アジド、アルコキシ、
場合により置換されていてもよいフェノキシ、アルキル
カルボキシまたはアルコキシカルボキシ基を表す。より
好適には、Ｌ2はアルコキシ基を表す。
【００５５】好適には、Ａは式
【００５６】
【化２２】
【００５７】［式中、ＸおよびＹは上に記述したとおり
である］で示される基を表す。
である］で示される基を表す。
【００５８】より好適には、Ａは一般式
【００５９】
【化２３】
【００６０】で示される基を表す。
【００６１】特開９２−５４１７３号に記述されている
方法と同様な方法で、上記一般式Ｉで示される化合物と
一般式ＶＩＩで示される化合物との反応を実施すること
ができる。一般式ＶＩＩＩで示される化合物の製造で
は、好適には、これらの反応体を溶媒内で一緒に混合す
る。好適な溶媒にはアルコールおよびアルカリ金属のア
ルコキサイドが含まれる。好適には、上昇させた温度、
適切には還流温度でこの反応を実施する。標準操作を用
いて所望生成物の単離を行うことができる。
方法と同様な方法で、上記一般式Ｉで示される化合物と
一般式ＶＩＩで示される化合物との反応を実施すること
ができる。一般式ＶＩＩＩで示される化合物の製造で
は、好適には、これらの反応体を溶媒内で一緒に混合す
る。好適な溶媒にはアルコールおよびアルカリ金属のア
ルコキサイドが含まれる。好適には、上昇させた温度、
適切には還流温度でこの反応を実施する。標準操作を用
いて所望生成物の単離を行うことができる。
【００６２】本発明は、本質的に、この方法の第一の態
様を用いて製造した時の一般式Ｉで示される化合物に及
んでいる。
様を用いて製造した時の一般式Ｉで示される化合物に及
んでいる。
【００６３】本発明の第二の態様に従えば、上述した如
き一般式ＶＩＩＩで示される化合物の製造方法が提供さ
れ、この方法は、上述した如き一般式Ｉで示される化合
物と上述した一般式ＶＩＩで示される化合物とを反応さ
せることを含んでいる。
き一般式ＶＩＩＩで示される化合物の製造方法が提供さ
れ、この方法は、上述した如き一般式Ｉで示される化合
物と上述した一般式ＶＩＩで示される化合物とを反応さ
せることを含んでいる。
【００６４】本発明は、本質的に、この方法の第二の態
様を用いて製造した時の一般式ＶＩＩＩで示される化合
物に及んでいる。
様を用いて製造した時の一般式ＶＩＩＩで示される化合
物に及んでいる。
【００６５】好適な態様において、この方法の第一の態
様を用いて製造した一般式Ｉで示される化合物内のＲ1
はメチル基を表しており、Ｒ2は水素原子を表してお
り、そしてＲ3およびＲ4は両方ともメチル基を表してい
る。この基Ｒ1が結合しているＣ−３原子は、好適には
優勢的に「Ｒ」（レクタス（ｒｅｃｔｕｓ））構造配置
である。
様を用いて製造した一般式Ｉで示される化合物内のＲ1
はメチル基を表しており、Ｒ2は水素原子を表してお
り、そしてＲ3およびＲ4は両方ともメチル基を表してい
る。この基Ｒ1が結合しているＣ−３原子は、好適には
優勢的に「Ｒ」（レクタス（ｒｅｃｔｕｓ））構造配置
である。
【００６６】以下の実施例を参照してここに本発明のさ
らなる説明を行う。
らなる説明を行う。
【００６７】
【実施例】実施例１ ４−アミノ−１，１，３−トリメチルインダン［３Ｒ−
４−アミノ−１，１，−３−トリメチルインダン立体異
性体が豊富な］の製造 ［一般式Ｉで示される化合物において、Ｒ1＝メチル；
Ｒ2＝Ｈ；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル］ Ａ． ルート番号１ （ｉ）１−（２Ｓ−２−クロロプロピオニル）−１，２
−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリンの製造 ［一般式ＩＩで示される化合物において、Ｒ1＝メチ
ル；Ｒ2＝水素；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル；Ｒ5＝メチル；およ
びＲ6＝塩素］ テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）の中に入っているＳ−
（−）−２−クロロプロピオン酸（１０．３ｇ、９５ミ
リモル）にＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド
（９．８３ｇ、４７．５ミリモル）を加えた後、この混
合物を周囲温度で１．５時間撹拌した。副生成物である
Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素を濾過で除去し、そし
てその濾液を濃縮することで粗無水物（１０．８ｇ）が
得られ、さらなる精製を行うことなくこれを用いた。こ
れと１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリ
ン（６．５ｇ、３７．５ミリモル）とを混合した後、窒
素雰囲気下１００−１０５℃で８時間加熱した。冷却
後、この生成物をジエチルエーテルに溶解させ、逆洗
（２ｘ５ＮのＨＣｌに続いて重炭酸ナトリウム）を行
い、乾燥させた後、溶媒を除去することにより、該アミ
ド（９．９ｇ、ガスクロによる純度８９％、収率８９
％）が得られた。
４−アミノ−１，１，−３−トリメチルインダン立体異
性体が豊富な］の製造 ［一般式Ｉで示される化合物において、Ｒ1＝メチル；
Ｒ2＝Ｈ；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル］ Ａ． ルート番号１ （ｉ）１−（２Ｓ−２−クロロプロピオニル）−１，２
−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリンの製造 ［一般式ＩＩで示される化合物において、Ｒ1＝メチ
ル；Ｒ2＝水素；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル；Ｒ5＝メチル；およ
びＲ6＝塩素］ テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）の中に入っているＳ−
（−）−２−クロロプロピオン酸（１０．３ｇ、９５ミ
リモル）にＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド
（９．８３ｇ、４７．５ミリモル）を加えた後、この混
合物を周囲温度で１．５時間撹拌した。副生成物である
Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル尿素を濾過で除去し、そし
てその濾液を濃縮することで粗無水物（１０．８ｇ）が
得られ、さらなる精製を行うことなくこれを用いた。こ
れと１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリ
ン（６．５ｇ、３７．５ミリモル）とを混合した後、窒
素雰囲気下１００−１０５℃で８時間加熱した。冷却
後、この生成物をジエチルエーテルに溶解させ、逆洗
（２ｘ５ＮのＨＣｌに続いて重炭酸ナトリウム）を行
い、乾燥させた後、溶媒を除去することにより、該アミ
ド（９．９ｇ、ガスクロによる純度８９％、収率８９
％）が得られた。
【００６８】ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3）：δ（ｐｐｍ）１.
４８，１.５５，２.０５，２.０６（３Ｈ，ｓ）、１.６
７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４.７４（１Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、５.５２（１Ｈ，ｓ）、６.８３（１Ｈ，ｂ
ｄ）、７.１−７.３（３Ｈ，ｍ）。
４８，１.５５，２.０５，２.０６（３Ｈ，ｓ）、１.６
７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４.７４（１Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、５.５２（１Ｈ，ｓ）、６.８３（１Ｈ，ｂ
ｄ）、７.１−７.３（３Ｈ，ｍ）。
【００６９】キラル溶媒和剤である［（−）−２，２，
２−トリフルオロ−１−（９−アントリル）エタノー
ル］を添加した結果、この材料は各２Ｓ／２Ｒ異性体が
３／１であるエナンチオマー混合物を含んでいることが
示された。
２−トリフルオロ−１−（９−アントリル）エタノー
ル］を添加した結果、この材料は各２Ｓ／２Ｒ異性体が
３／１であるエナンチオマー混合物を含んでいることが
示された。
【００７０】質量分光法：Ｍ＋，２６３／２６５ （１
／３）。
／３）。
【００７１】（ｉｉ）１−（２−クロロプロピオニル）
−１，２，３，４−テトラヒドロ−２，２，４−トリメ
チルキノリンの製造 ［一般式ＩＩＩで示される化合物において、Ｒ1＝メチ
ル；Ｒ2＝Ｈ；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル；Ｒ5＝メチル；および
Ｒ6＝塩素］ ５％Ｐｄ／Ｃ触媒（０．２ｇ）が入っているメタノール
（２５ｍＬ）の中に入れた、Ａ（ｉ）で製造した化合物
（２ｇ）の溶液を、周囲温度および周囲圧力の水素雰囲
気中で１５時間撹拌した。この触媒を濾過で除いた後、
その溶媒を除去することにより、該テトラヒドロキノリ
ン（１．７ｇ）が得られた。粗収率８４％。
−１，２，３，４−テトラヒドロ−２，２，４−トリメ
チルキノリンの製造 ［一般式ＩＩＩで示される化合物において、Ｒ1＝メチ
ル；Ｒ2＝Ｈ；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル；Ｒ5＝メチル；および
Ｒ6＝塩素］ ５％Ｐｄ／Ｃ触媒（０．２ｇ）が入っているメタノール
（２５ｍＬ）の中に入れた、Ａ（ｉ）で製造した化合物
（２ｇ）の溶液を、周囲温度および周囲圧力の水素雰囲
気中で１５時間撹拌した。この触媒を濾過で除いた後、
その溶媒を除去することにより、該テトラヒドロキノリ
ン（１．７ｇ）が得られた。粗収率８４％。
【００７２】ガスクロを用いてジアステレオマー比と出
発材料のエナンチオマー純度を分析することによって測
定して、この生成物は、各（４Ｒ，２Ｓ）、（４Ｓ，２
Ｒ）、（４Ｓ，２Ｓ）および（４Ｒ，２Ｒ）異性体が１
５／５／３／１である混合物を含んでいた。
発材料のエナンチオマー純度を分析することによって測
定して、この生成物は、各（４Ｒ，２Ｓ）、（４Ｓ，２
Ｒ）、（４Ｓ，２Ｓ）および（４Ｒ，２Ｒ）異性体が１
５／５／３／１である混合物を含んでいた。
【００７３】ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3）：［４Ｒ，２Ｓま
たは４Ｓ，２Ｒ 異性体］δ（ｐｐｍ）：１.３４，１.
５４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝Ｈｚ）、１.５２，１.６３（３
Ｈ，ｓ）、２.７２（１Ｈ，ｍ）、４.５８（１Ｈ，ｑ，
Ｊ＝Ｈｚ）、６.７０（１Ｈ，ｂｄ）、７.１−７.３
（３Ｈ，ｍ）。
たは４Ｓ，２Ｒ 異性体］δ（ｐｐｍ）：１.３４，１.
５４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝Ｈｚ）、１.５２，１.６３（３
Ｈ，ｓ）、２.７２（１Ｈ，ｍ）、４.５８（１Ｈ，ｑ，
Ｊ＝Ｈｚ）、６.７０（１Ｈ，ｂｄ）、７.１−７.３
（３Ｈ，ｍ）。
【００７４】［４Ｓ，２Ｓまたは４Ｒ，２Ｒ異性体］δ
（ｐｐｍ）１.３３，１.６９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、１.４８，１.６７（３Ｈ，ｓ）、２.８２（１
Ｈ，ｍ）、４.７５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７.１−
７.３（３Ｈ，ｍ）。
（ｐｐｍ）１.３３，１.６９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、１.４８，１.６７（３Ｈ，ｓ）、２.８２（１
Ｈ，ｍ）、４.７５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７.１−
７.３（３Ｈ，ｍ）。
【００７５】（ｉｉｉ）４−アミノ−１，１，３−トリ
メチルインダンの製造 ９８％硫酸（２ｍＬ）に、Ａ（ｉｉ）で製造した化合物
（１．７ｇ）を加えた後、５０−６０℃で３０分間加熱
した。水（２ｍＬ）と酢酸（０．５ｍＬ）を注意深く加
えた後、この混合物を３時間還流させた。塩基性にする
ことにより（ＮＨ3水）、そのアミノインダン生成物の
単離を行った後、ジエチルエーテルの中に抽出した。収
量１．１ｇ（２段階に渡って８３％）。
メチルインダンの製造 ９８％硫酸（２ｍＬ）に、Ａ（ｉｉ）で製造した化合物
（１．７ｇ）を加えた後、５０−６０℃で３０分間加熱
した。水（２ｍＬ）と酢酸（０．５ｍＬ）を注意深く加
えた後、この混合物を３時間還流させた。塩基性にする
ことにより（ＮＨ3水）、そのアミノインダン生成物の
単離を行った後、ジエチルエーテルの中に抽出した。収
量１．１ｇ（２段階に渡って８３％）。
【００７６】ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3）：δ（ｐｐｍ）１.
２４，１.３５（３Ｈ，ｓ）、１.３７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
Ｈｚ）、１.６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６，１２Ｈｚ）、
２.２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９，１２Ｈｚ）、３.２６
（１Ｈ，ｍ）、３.６４（２Ｈ，ｂｓ）、６.５１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６.６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７.０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
２４，１.３５（３Ｈ，ｓ）、１.３７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
Ｈｚ）、１.６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６，１２Ｈｚ）、
２.２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９，１２Ｈｚ）、３.２６
（１Ｈ，ｍ）、３.６４（２Ｈ，ｂｓ）、６.５１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６.６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７.０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【００７７】キラル溶媒和剤である［（−）−２，２，
２−トリフルオロ−１−（９−アントリル）エタノー
ル］を添加し、最大フィールドメチルシグナル（ｔｈｅ
ｈｉｇｈｅｓｔ ｆｉｅｌｄ ｍｅｔｈｙｌ ｓｉｇ
ｎａｌｓ）の積分を行うことで測定して、この生成物は
各ＲおよびＳエナンチオマー類が２／１である混合物を
含んでいることが示された。（このＲ異性体からのシグ
ナルは、そのＳ異性体シグナルのダウンフィールド（ｄ
ｏｗｎｆｉｅｌｄ）で共鳴する。） Ｂ． ルート番号２ （ｉ）１−（２Ｓ−２−アセトキシプロピオニル）−
１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリンの
製造 ［一般式ＩＩで示される化合物において、Ｒ1＝メチ
ル；Ｒ2＝Ｈ；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル；Ｒ5＝メチル；および
Ｒ6＝−ＯＡｃ］ テトラヒドロフラン（５００ｍＬ）の中に入っているＬ
−（＋）−アセトキシ酪酸（７２ｇ、０．５５モル）
に、テトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）の中に入れた
１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ、５
６ｇ、０．２７モル）を周囲温度で加えた後、１．５時
間撹拌した。副生成物である固体尿素を濾過で除去し、
そしてその濾液の瞬間蒸発を行って溶媒を除去した。
１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリン
（３８ｇ、０．２２モル）を加えた後、この混合物を１
００℃で８時間加熱した。この生成物をジエチルエーテ
ル／水の間で分割させ、その有機層の逆洗（５ＮのＨＣ
ｌに続いて重炭酸ナトリウム）を行い、乾燥（ＭｇＳＯ
4）させた後、溶媒を除去することにより、該アミド
（５９ｇ、ガスクロが示す純度８７％、収率８１％）が
油状物として得られた。
２−トリフルオロ−１−（９−アントリル）エタノー
ル］を添加し、最大フィールドメチルシグナル（ｔｈｅ
ｈｉｇｈｅｓｔ ｆｉｅｌｄ ｍｅｔｈｙｌ ｓｉｇ
ｎａｌｓ）の積分を行うことで測定して、この生成物は
各ＲおよびＳエナンチオマー類が２／１である混合物を
含んでいることが示された。（このＲ異性体からのシグ
ナルは、そのＳ異性体シグナルのダウンフィールド（ｄ
ｏｗｎｆｉｅｌｄ）で共鳴する。） Ｂ． ルート番号２ （ｉ）１−（２Ｓ−２−アセトキシプロピオニル）−
１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリンの
製造 ［一般式ＩＩで示される化合物において、Ｒ1＝メチ
ル；Ｒ2＝Ｈ；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル；Ｒ5＝メチル；および
Ｒ6＝−ＯＡｃ］ テトラヒドロフラン（５００ｍＬ）の中に入っているＬ
−（＋）−アセトキシ酪酸（７２ｇ、０．５５モル）
に、テトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）の中に入れた
１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ、５
６ｇ、０．２７モル）を周囲温度で加えた後、１．５時
間撹拌した。副生成物である固体尿素を濾過で除去し、
そしてその濾液の瞬間蒸発を行って溶媒を除去した。
１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリン
（３８ｇ、０．２２モル）を加えた後、この混合物を１
００℃で８時間加熱した。この生成物をジエチルエーテ
ル／水の間で分割させ、その有機層の逆洗（５ＮのＨＣ
ｌに続いて重炭酸ナトリウム）を行い、乾燥（ＭｇＳＯ
4）させた後、溶媒を除去することにより、該アミド
（５９ｇ、ガスクロが示す純度８７％、収率８１％）が
油状物として得られた。
【００７８】ＮＭＲ （ＣＤＣｌ3）：δ（ｐｐｍ）
１.２２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１.２５，１.６
４，２.０２，２.０９（３Ｈ，ｓ）、５.５１（１Ｈ，
ｓ）、５.６４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７.１−７.
３（３Ｈ，ｍ）、７.３８（１Ｈ，ｂｄ）。
１.２２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１.２５，１.６
４，２.０２，２.０９（３Ｈ，ｓ）、５.５１（１Ｈ，
ｓ）、５.６４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７.１−７.
３（３Ｈ，ｍ）、７.３８（１Ｈ，ｂｄ）。
【００７９】（ｉｉ）１−（２−アセトキシプロピオニ
ル）−１，２，３，４−テトラヒドロ−２，２，４−ト
リメチルキノリンの製造 ［一般式ＩＩＩで示される化合物において、Ｒ1＝メチ
ル；Ｒ2＝Ｈ；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル；Ｒ5＝メチル；および
Ｒ6＝−ＯＡｃ］ 炭素上５％パラジウム触媒（３ｇ）が入っている酢酸
（２５０ｍＬ）の中に入れた、Ｂ（ｉ）で製造した化合
物（５８ｇ、ＧＣ純度８７％、０．１７５モル）の混合
物を、周囲温度および大気圧下で８時間水添した。全体
で３．３リットルの水素が吸収された。この触媒を濾過
で除いた後、その濾液の脱溶媒を行い、そしてトルエン
／重炭酸ナトリウムの間で分割させた。溶媒を瞬間蒸発
させることによって、その還元されたアミドが油状物と
して残存した（５７ｇ、ガスクロが示す純度９１％、収
率１００％）。ＮＭＲ／ＧＣ分析を行った結果、７０／
３０の比率でジアステレオマーが存在していることが示
された。
ル）−１，２，３，４−テトラヒドロ−２，２，４−ト
リメチルキノリンの製造 ［一般式ＩＩＩで示される化合物において、Ｒ1＝メチ
ル；Ｒ2＝Ｈ；Ｒ3＝Ｒ4＝メチル；Ｒ5＝メチル；および
Ｒ6＝−ＯＡｃ］ 炭素上５％パラジウム触媒（３ｇ）が入っている酢酸
（２５０ｍＬ）の中に入れた、Ｂ（ｉ）で製造した化合
物（５８ｇ、ＧＣ純度８７％、０．１７５モル）の混合
物を、周囲温度および大気圧下で８時間水添した。全体
で３．３リットルの水素が吸収された。この触媒を濾過
で除いた後、その濾液の脱溶媒を行い、そしてトルエン
／重炭酸ナトリウムの間で分割させた。溶媒を瞬間蒸発
させることによって、その還元されたアミドが油状物と
して残存した（５７ｇ、ガスクロが示す純度９１％、収
率１００％）。ＮＭＲ／ＧＣ分析を行った結果、７０／
３０の比率でジアステレオマーが存在していることが示
された。
【００８０】（主要異性体：４Ｒ，２Ｓ） ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3） δ（ｐｐｍ）１.１１，１.３３（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１.１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１２
Ｈｚ）、１.４６，１.６３，２.１６（３Ｈ，ｓ）、１.
８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３，１２Ｈｚ）、２.６８（１
Ｈ，ｍ）、５.６２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７.１−
７.３（３Ｈ，ｍ）、７.５５（１Ｈ，ｍ）。
（ＣＤＣｌ3） δ（ｐｐｍ）１.１１，１.３３（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１.１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１２
Ｈｚ）、１.４６，１.６３，２.１６（３Ｈ，ｓ）、１.
８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３，１２Ｈｚ）、２.６８（１
Ｈ，ｍ）、５.６２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７.１−
７.３（３Ｈ，ｍ）、７.５５（１Ｈ，ｍ）。
【００８１】（ｉｉｉ）４−アミノ−１，１，３−トリ
メチルインダンの製造 ９８％Ｈ2ＳＯ4（５０ｍＬ）に、Ｂ（ｉｉ）で製造した
アセテート化合物（５５ｇ、ＧＣ純度９１％、０．１７
２モル）を４５分かけて２５−６０℃（発熱）で加え
た。６０℃で更に３０分間撹拌した後、酢酸（１０ｍ
Ｌ）が入っている水（５０ｍＬ）を注意深く滴下し、そ
してこの混合物を１００℃で３時間加熱した。ペトロー
ル（６０／８０ｂ．ｐ．、１００ｍＬ）を加えた後、３
５％アンモニア水（１５０ｍＬ）を用いてこの混合物を
塩基性にすることによりｐＨ９にした。有機層を分離
し、乾燥（ＭｇＳＯ4）させた後、溶媒を瞬間蒸発させ
ることによって、所望の生成物が得られた（２２．６
ｇ、ＧＣ純度９２％、収率６９％）。キラル溶媒和剤で
ある［（−）−２，２，２−トリフルオロ−１−（９−
アントリル）エタノール］を用いたＮＭＲ分析により、
（−）異性体が優位なエナンチオマー類の７０／３０混
合物であることが示された。
メチルインダンの製造 ９８％Ｈ2ＳＯ4（５０ｍＬ）に、Ｂ（ｉｉ）で製造した
アセテート化合物（５５ｇ、ＧＣ純度９１％、０．１７
２モル）を４５分かけて２５−６０℃（発熱）で加え
た。６０℃で更に３０分間撹拌した後、酢酸（１０ｍ
Ｌ）が入っている水（５０ｍＬ）を注意深く滴下し、そ
してこの混合物を１００℃で３時間加熱した。ペトロー
ル（６０／８０ｂ．ｐ．、１００ｍＬ）を加えた後、３
５％アンモニア水（１５０ｍＬ）を用いてこの混合物を
塩基性にすることによりｐＨ９にした。有機層を分離
し、乾燥（ＭｇＳＯ4）させた後、溶媒を瞬間蒸発させ
ることによって、所望の生成物が得られた（２２．６
ｇ、ＧＣ純度９２％、収率６９％）。キラル溶媒和剤で
ある［（−）−２，２，２−トリフルオロ−１−（９−
アントリル）エタノール］を用いたＮＭＲ分析により、
（−）異性体が優位なエナンチオマー類の７０／３０混
合物であることが示された。
【００８２】実施例２ ４−メチル−Ｎ−（１，１，３−トリメチルインダン−
４−イル）チアゾール−５−カルボキサミド［４−メチ
ル−Ｎ−（３Ｒ−１，１，３−トリメチルインダン−４
−イル）チアゾール−５−カルボキサミド立体異性体が
豊富な］の製造実施例１で製造した４−アミノ−１，
１，３−トリメチルインダンと４−メチルチアゾール−
５−カルボン酸クロライドとを、特開９２−５４１７３
号に記述されている条件と同様な条件下で反応させるこ
とによって、この化合物を製造することができる。
４−イル）チアゾール−５−カルボキサミド［４−メチ
ル−Ｎ−（３Ｒ−１，１，３−トリメチルインダン−４
−イル）チアゾール−５−カルボキサミド立体異性体が
豊富な］の製造実施例１で製造した４−アミノ−１，
１，３−トリメチルインダンと４−メチルチアゾール−
５−カルボン酸クロライドとを、特開９２−５４１７３
号に記述されている条件と同様な条件下で反応させるこ
とによって、この化合物を製造することができる。
【００８３】実施例３ 有害生物防除活性 実施例２で製造した化合物が殺菌・殺カビ性を示すこと
を確認した。加うるに、この３Ｒエナンチオマーが示す
殺菌・殺カビ活性は相当する３Ｓエナンチオマーのそれ
よりも高いことを確認した。
を確認した。加うるに、この３Ｒエナンチオマーが示す
殺菌・殺カビ活性は相当する３Ｓエナンチオマーのそれ
よりも高いことを確認した。
【００８４】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。
ある。
【００８５】１． 一般式
【００８６】
【化２４】
【００８７】［式中、Ｒ1は場合により置換されていて
もよいアルキル基を表し、そしてＲ2、Ｒ3およびＲ4は
独立して水素原子を表すか或は場合により置換されてい
てもよいアルキル基を表す］で示されるインダニルアミ
ン化合物の製造方法において、一般式
もよいアルキル基を表し、そしてＲ2、Ｒ3およびＲ4は
独立して水素原子を表すか或は場合により置換されてい
てもよいアルキル基を表す］で示されるインダニルアミ
ン化合物の製造方法において、一般式
【００８８】
【化２５】
【００８９】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上に記
述したとおりであり、そしてＲ5およびＲ6は独立してハ
ロゲン原子、ヒドロキシル、ニトロまたはシアノ基を表
すか、或は場合により置換されていてもよいアルキル、
アルコキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボキ
シまたはアルキルアミノ基を表し、但し、Ｒ5およびＲ6
は異なる原子または基を表すものとする］で示される化
合物の水添を行った後、その生成物の転位および誘導化
を行う段階を含む方法。
述したとおりであり、そしてＲ5およびＲ6は独立してハ
ロゲン原子、ヒドロキシル、ニトロまたはシアノ基を表
すか、或は場合により置換されていてもよいアルキル、
アルコキシ、アルコキシカルボニル、アルキルカルボキ
シまたはアルキルアミノ基を表し、但し、Ｒ5およびＲ6
は異なる原子または基を表すものとする］で示される化
合物の水添を行った後、その生成物の転位および誘導化
を行う段階を含む方法。
【００９０】２． Ｒ1、Ｒ3およびＲ4がメチル基を表
し、そしてＲ2が水素原子を表す第１項記載の方法。
し、そしてＲ2が水素原子を表す第１項記載の方法。
【００９１】３． Ｒ5がＣ1-6アルキル基を表し、そし
てＲ6が塩素原子またはヒドロキシルもしくはＣ1-6アル
キルカルボキシ基を表す第１または２項記載の方法。
てＲ6が塩素原子またはヒドロキシルもしくはＣ1-6アル
キルカルボキシ基を表す第１または２項記載の方法。
【００９２】４． 上記水添段階において、上記一般式
ＩＩで示される化合物の水添を行って一般式
ＩＩで示される化合物の水添を行って一般式
【００９３】
【化２６】
【００９４】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5および
Ｒ6は上に記述したとおりである］で示される中間体化
合物を生じさせる前項のいずれかに記載の方法。
Ｒ6は上に記述したとおりである］で示される中間体化
合物を生じさせる前項のいずれかに記載の方法。
【００９５】５． 上記一般式ＩＩＩで示される化合物
を、一般式
を、一般式
【００９６】
【化２７】
【００９７】［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5および
Ｒ6は上に記述したとおりである］で示される中間体化
合物が生じるように処理する第４項記載の方法。
Ｒ6は上に記述したとおりである］で示される中間体化
合物が生じるように処理する第４項記載の方法。
【００９８】６． 本質的に前項のいずれかに記載の一
般式ＩＩで示される中間体化合物。
般式ＩＩで示される中間体化合物。
【００９９】７． 第６項記載の一般式ＩＩで示される
中間体化合物の製造方法において、一般式
中間体化合物の製造方法において、一般式
【０１００】
【化２８】
【０１０１】で示される化合物と一般式
【０１０２】
【化２９】
【０１０３】で示される化合物とを反応させることを含
み、上記式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は前
項のいずれかに記述したとおりであり、そしてＬ1は脱
離基である方法。
み、上記式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は前
項のいずれかに記述したとおりであり、そしてＬ1は脱
離基である方法。
【０１０４】８． 本質的に第４項記載の一般式ＩＩＩ
で示される中間体化合物。
で示される中間体化合物。
【０１０５】９． 第８項記載の一般式ＩＩＩで示され
る中間体化合物の製造方法において、前項のいずれかに
記載の一般式ＩＩで示される化合物の水添を行うことを
含む方法。
る中間体化合物の製造方法において、前項のいずれかに
記載の一般式ＩＩで示される化合物の水添を行うことを
含む方法。
【０１０６】１０． 本質的に第５項記載の一般式ＩＶ
で示される中間体化合物。
で示される中間体化合物。
【０１０７】１１． 第１０項記載の一般式ＩＶで示さ
れる中間体化合物の製造方法において、第４項記載の一
般式ＩＩＩで示される化合物の転位を生じさせる段階を
含む方法。
れる中間体化合物の製造方法において、第４項記載の一
般式ＩＩＩで示される化合物の転位を生じさせる段階を
含む方法。
【０１０８】１２． 一般式
【０１０９】
【化３０】
【０１１０】で示される化合物の製造方法において、第
１から５項のいずれかの方法に従って製造した一般式Ｉ
で示される化合物と一般式
１から５項のいずれかの方法に従って製造した一般式Ｉ
で示される化合物と一般式
【０１１１】
【化３１】
【０１１２】［式中、Ｌ2は脱離基を表し、そしてＡは
一般式
一般式
【０１１３】
【化３２】
【０１１４】（ここで、Ｘはハロゲン原子、メチル基ま
たはトリフルオロメチル基を表し、Ｙは水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、アミノ基、メルカプト基ま
たは低級アルキルチオ基を表し、Ｒ11はメチル基または
トリフルオロメチル基を表し、そしてＲ12およびＲ13は
独立して水素原子またはメチル基を表す）で示される基
を表す］で示される化合物とを反応させることを含む方
法。
たはトリフルオロメチル基を表し、Ｙは水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、アミノ基、メルカプト基ま
たは低級アルキルチオ基を表し、Ｒ11はメチル基または
トリフルオロメチル基を表し、そしてＲ12およびＲ13は
独立して水素原子またはメチル基を表す）で示される基
を表す］で示される化合物とを反応させることを含む方
法。
【０１１５】１３． 上記一般式ＶＩＩＩで示される化
合物において、Ａが式
合物において、Ａが式
【０１１６】
【化３３】
【０１１７】で示される基を表す第１２項記載の方法。
【０１１８】１４． 本質的に第１から５項のいずれか
に記載の方法で製造された時の一般式Ｉで示される化合
物。
に記載の方法で製造された時の一般式Ｉで示される化合
物。
【０１１９】１５． 本質的に第１２または１３項記載
の方法で製造された時の一般式ＶＩＩＩで示される化合
物。
の方法で製造された時の一般式ＶＩＩＩで示される化合
物。
【０１２０】１６． 各態様が本質的に本実施例を参照
して記述する如きである、一般式Ｉで示される化合物の
製造方法、一般式ＩＩで示される中間体化合物、一般式
ＩＩで示される中間体化合物の製造方法、一般式ＩＩＩ
で示される中間体化合物、一般式ＩＩＩで示される中間
体化合物の製造方法、一般式ＩＶで示される中間体化合
物、一般式ＩＶで示される中間体化合物の製造方法、こ
の方法で製造した時の一般式Ｉで示される化合物、一般
式ＶＩＩＩで示される化合物の製造方法、並びにこの方
法で製造した時の一般式ＶＩＩＩで示される化合物。
して記述する如きである、一般式Ｉで示される化合物の
製造方法、一般式ＩＩで示される中間体化合物、一般式
ＩＩで示される中間体化合物の製造方法、一般式ＩＩＩ
で示される中間体化合物、一般式ＩＩＩで示される中間
体化合物の製造方法、一般式ＩＶで示される中間体化合
物、一般式ＩＶで示される中間体化合物の製造方法、こ
の方法で製造した時の一般式Ｉで示される化合物、一般
式ＶＩＩＩで示される化合物の製造方法、並びにこの方
法で製造した時の一般式ＶＩＩＩで示される化合物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 241/24 275/03 277/56 285/06 307/68 // Ａ０１Ｎ 43/08 Ｆ 43/60 43/78 Ａ 43/80 １０２ 43/828
Claims (12)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1は場合により置換されていてもよいアルキ
ル基を表し、そしてＲ2、Ｒ3およびＲ4は独立して水素
原子を表すか或は場合により置換されていてもよいアル
キル基を表す］で示されるインダニルアミン化合物の製
造方法において、一般式 【化２】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上に記述したとおり
であり、そしてＲ5およびＲ6は独立してハロゲン原子、
ヒドロキシル、ニトロまたはシアノ基を表すか、或は場
合により置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、
アルコキシカルボニル、アルキルカルボキシまたはアル
キルアミノ基を表し、但し、Ｒ5およびＲ6は異なる原子
または基を表すものとする］で示される化合物を水添
し、次いでその生成物の転位および誘導化を行う段階を
含むことを特徴とする方法。 - 【請求項２】 上記水添段階において、上記一般式ＩＩ
で示される化合物の水添を行って一般式 【化３】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は上に記述
したとおりである］で示される中間体化合物を生じさせ
る請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 上記一般式ＩＩＩで示される化合物を、
一般式 【化４】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は上に記述
したとおりである］で示される中間体化合物が生じるよ
うに処理する請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 本質的に前項のいずれかに記載の一般式
ＩＩで示される中間体化合物。 - 【請求項５】 請求項４記載の一般式ＩＩで示される中
間体化合物の製造方法において、一般式 【化５】 で示される化合物と一般式 【化６】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は前項いず
れかに記述したとおりであり、そしてＬ1は脱離基であ
る］で表される化合物とを反応させることを特徴とする
方法。 - 【請求項６】 本質的に請求項２記載の一般式ＩＩＩで
示される中間体化合物。 - 【請求項７】 請求項６記載の一般式ＩＩＩで示される
中間体化合物の製造方法において、前項のいずれかに記
載の一般式ＩＩで示される化合物の水添を行うことを特
徴とする方法。 - 【請求項８】 本質的に請求項７記載の一般式ＩＶで示
される中間体化合物。 - 【請求項９】 請求項８記載の一般式ＩＶで表される中
間体化合物の製造方法において、請求項２記載の一般式
ＩＩＩで示される化合物の転位を生じさせる段階を含む
方法。 - 【請求項１０】 一般式 【化７】 で示される化合物の製造方法において、請求項１から３
のいずれかの方法に従って製造した一般式Ｉで表される
化合物と一般式 【化８】 ［式中、Ｌ2は脱離基を表し、そしてＡは一般式 【化９】 （ここで、Ｘはハロゲン原子、メチル基またはトリフル
オロメチル基を表し、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル基、アミノ基、メルカプト基または低級アル
キルチオ基を表し、Ｒ11はメチル基またはトリフルオロ
メチル基を表し、そしてＲ12およびＲ13は独立して水素
原子またはメチル基を表す）で表される基を表す］で示
される化合物とを反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項１１】 本質的に請求項１から３いずれか記載
の方法で製造された時の一般式Ｉで示される化合物。 - 【請求項１２】 本質的に請求項１０記載の方法で製造
された時の一般式ＶＩＩＩで示される化合物。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE93308420.4 | 1993-10-22 | ||
| EP93308420 | 1993-10-22 | ||
| US08/457,203 US5728869A (en) | 1993-10-22 | 1995-06-01 | Processes for the preparation of pesticides and intermediates |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07215921A true JPH07215921A (ja) | 1995-08-15 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011162397A1 (en) * | 2010-06-24 | 2011-12-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition and method of controlling plant disease |
| WO2014103811A1 (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 住友化学株式会社 | 精製されたアミン化合物の製造方法 |
| JP2016510313A (ja) * | 2012-12-19 | 2016-04-07 | バイエル・クロップサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 殺菌剤としてのジフルオロメチル−ニコチン酸−インダニルカルボキサミド類 |
| KR20160118256A (ko) * | 2014-02-07 | 2016-10-11 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | (r)-1,1,3-트리메틸-4-아미노인단의 제조 방법 |
| JP2019511524A (ja) * | 2016-04-15 | 2019-04-25 | スティヒティング アイ−エフ プロダクト コラボレイション | ４−アミノインダン誘導体及び関連アミノインダンアミドの調製方法 |
| JP2020525443A (ja) * | 2017-06-27 | 2020-08-27 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 置換４−アミノインダン誘導体を調製する方法 |
| WO2022014414A1 (ja) | 2020-07-17 | 2022-01-20 | 住友化学株式会社 | 光学活性な化合物の製造方法 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2001288329A1 (en) * | 2000-09-18 | 2002-04-02 | Pharmacia Ab | Process to prepare (2s)-2-(dipropylamino)-6-ethoxy-2,3-dihydro-1h-indene-5- carboxamide |
| DE10250110A1 (de) | 2002-10-28 | 2004-05-13 | Bayer Cropscience Ag | Thiazol-(bi)cycloalkyl-carboxanilide |
| US9375004B2 (en) | 2010-11-15 | 2016-06-28 | Bayer Intellectual Property Gmbh | 5-halogenopyrazolecarboxamides |
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| WO2013167544A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Bayer Cropscience Ag | 5-halogenopyrazole indanyl carboxamides |
| EP2662360A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-13 | Bayer CropScience AG | 5-Halogenopyrazole indanyl carboxamides |
| WO2013167545A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Bayer Cropscience Ag | Pyrazole indanyl carboxamides |
| EP2662362A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-13 | Bayer CropScience AG | Pyrazole indanyl carboxamides |
| WO2014069611A1 (ja) * | 2012-11-02 | 2014-05-08 | 住友化学株式会社 | 化合物のラセミ体の製造方法 |
| US9428459B2 (en) | 2012-12-19 | 2016-08-30 | Bayer Cropscience Ag | Difluoromethyl-nicotinic- tetrahydronaphtyl carboxamides |
| JP6624050B2 (ja) * | 2014-03-18 | 2019-12-25 | 住友化学株式会社 | 光学活性な化合物の製造方法 |
| TW201738200A (zh) * | 2016-02-03 | 2017-11-01 | 拜耳作物科學股份有限公司 | 製備經取代的４－胺基茚烷衍生物之方法 |
| EP3560911B1 (en) * | 2016-03-17 | 2021-05-05 | FMC Corporation | Process for converting s-enantiomer to its racemic form |
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Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH355146A (de) * | 1956-01-18 | 1961-06-30 | Bofors Ab | Verfahren zur Herstellung von N-Alkyl-tetrahydrochinaldinsäureamiden |
| DE2930451A1 (de) * | 1979-07-26 | 1981-02-19 | Bayer Ag | N-( alpha -chlorpropionyl)-1,2,3,4- tetrahydro-chinaldin, verfahren zu dessen herstellung und dessen verwendung als gegenmittel zum schutz von kulturpflanzen vor schaedigungen durch herbizide |
| US4837242A (en) * | 1987-01-20 | 1989-06-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Thiazoles and pyrazoles as fungicides |
| US4914097A (en) * | 1987-02-25 | 1990-04-03 | Mitsubishi Kasei Corporation | N-indanyl carboxamide derivative and agricultural/horticultural fungicide containing the derivative as active ingredient |
| JPH02157266A (ja) * | 1988-12-12 | 1990-06-18 | Mitsubishi Kasei Corp | Ｎ−インダニルカルボン酸アミド誘導体およびこれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 |
| JPH0597778A (ja) * | 1991-10-03 | 1993-04-20 | Kawasaki Steel Corp | ２−アミノインダンおよびその塩類の製造方法 |
| JP3228792B2 (ja) * | 1992-08-07 | 2001-11-12 | 杏林製薬株式会社 | 新規環状アミノフェニル酢酸誘導体、その製造法及びそれらを有効成分とする免疫応答の修飾剤 |
-
1994
- 1994-10-12 US US08/322,044 patent/US5521317A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-19 IL IL11133794A patent/IL111337A0/xx unknown
- 1994-10-20 CA CA002133942A patent/CA2133942A1/en not_active Abandoned
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- 1994-10-21 SK SK1284-94A patent/SK128494A3/sk unknown
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- 1994-10-21 HU HU9403057A patent/HUT68838A/hu unknown
- 1994-10-21 ZA ZA948308A patent/ZA948308B/xx unknown
- 1994-10-22 CN CN94117482A patent/CN1108239A/zh active Pending
-
1995
- 1995-06-01 US US08/457,203 patent/US5728869A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8580836B2 (en) | 2010-06-24 | 2013-11-12 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Plant disease control composition and method of controlling plant disease |
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| JP2016510313A (ja) * | 2012-12-19 | 2016-04-07 | バイエル・クロップサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト | 殺菌剤としてのジフルオロメチル−ニコチン酸−インダニルカルボキサミド類 |
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