JPH07185449A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPH07185449A JPH07185449A JP5349098A JP34909893A JPH07185449A JP H07185449 A JPH07185449 A JP H07185449A JP 5349098 A JP5349098 A JP 5349098A JP 34909893 A JP34909893 A JP 34909893A JP H07185449 A JPH07185449 A JP H07185449A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/04—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to opposite sides of the work
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
- B05D1/265—Extrusion coatings
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 両面塗布における第２面への押出し塗布法に
よる塗布の開始時、再開時および塗布の終了時、中断時
の厚膜部分の発生を有効に防止することのできる塗布方
法を提供する。 【構成】 塗布液が押出された状態で第２塗布ヘッドを
ウェブに接触させ所定の出口角度を形成し、その後、第
２塗布ヘッドより上流側最近傍のサポートロールを移動
させて所定の入口角度を形成するようにして第２塗布ヘ
ッドによる塗布を開始または再開し、出口角度を維持し
たまま第２塗布ヘッドより上流側最近傍のサポートロー
ルを移動させて入口角度を大きくし、その後、第２塗布
ヘッドをウェブから離間させることにより第２塗布ヘッ
ドによる塗布を終了または中断する。
よる塗布の開始時、再開時および塗布の終了時、中断時
の厚膜部分の発生を有効に防止することのできる塗布方
法を提供する。 【構成】 塗布液が押出された状態で第２塗布ヘッドを
ウェブに接触させ所定の出口角度を形成し、その後、第
２塗布ヘッドより上流側最近傍のサポートロールを移動
させて所定の入口角度を形成するようにして第２塗布ヘ
ッドによる塗布を開始または再開し、出口角度を維持し
たまま第２塗布ヘッドより上流側最近傍のサポートロー
ルを移動させて入口角度を大きくし、その後、第２塗布
ヘッドをウェブから離間させることにより第２塗布ヘッ
ドによる塗布を終了または中断する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塗布方法に係り、特に塗
布液をウェブの両面に均一に塗布することが可能な塗布
方法に関する。
布液をウェブの両面に均一に塗布することが可能な塗布
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ウェブ上に塗布液を塗布する方法
として、ロールコート法、グラビアコート法、スライド
ビードコート法、ドクターコート法等の種々の方法が用
いられているが、生産性や操作性が高く塗布膜の厚さ制
御性に優れることから、近年、押出し塗布法が注目され
ている。
として、ロールコート法、グラビアコート法、スライド
ビードコート法、ドクターコート法等の種々の方法が用
いられているが、生産性や操作性が高く塗布膜の厚さ制
御性に優れることから、近年、押出し塗布法が注目され
ている。
【０００３】押出し塗布法は、押出し型の塗布ヘッドを
ウェブに押しつけ、塗布ヘッドとウェブとを塗布膜の厚
さだけのクリアランスで保持させて塗布を行うものであ
る。このような押出し塗布法を用いてウェブ上に塗布を
行う場合、塗布開始時あるいは塗布終了時に、塗布ヘッ
ドがウェブと相対的に接触、離間する際に厚膜部分が発
生し、この厚膜部分の乾燥不良等によってガイドロール
等の汚染が起こり、例えば、塗布液が磁性塗布液である
場合には、ドロップアウトの発生、歩留の低下等の問題
を生じていた。
ウェブに押しつけ、塗布ヘッドとウェブとを塗布膜の厚
さだけのクリアランスで保持させて塗布を行うものであ
る。このような押出し塗布法を用いてウェブ上に塗布を
行う場合、塗布開始時あるいは塗布終了時に、塗布ヘッ
ドがウェブと相対的に接触、離間する際に厚膜部分が発
生し、この厚膜部分の乾燥不良等によってガイドロール
等の汚染が起こり、例えば、塗布液が磁性塗布液である
場合には、ドロップアウトの発生、歩留の低下等の問題
を生じていた。
【０００４】上記のような押出し塗布法による厚膜部分
の発生を防止する方法として、塗布ヘッドよりも下流側
に設置した固体スムーザーを用いて膜厚を規制したり、
塗布ヘッドよりも下流側に設置した掻き落とし用ロール
を用いて厚膜部分を除去する方法がある（特開平２−２
２９５７２号公報、特願平４−２７３８５１号）。ま
た、塗布開始時においては、塗布ヘッドがウェブに接触
してから塗布液の押出しを開始し、塗布終了時において
は、まず、塗布液の押出しを停止し、その後、塗布ヘッ
ドをウェブから離間させることにより厚膜部分の発生を
防止する方法が開示されている（特開昭６２−９５１６
９号公報）。さらに、塗布ヘッドのバックエッジ（ウェ
ブ搬送方向上流側）をウェブに接触させた後に塗布液の
押出しを開始し、次に塗布ヘッドのドクターエッジ（ウ
ェブ搬送方向下流側）をウェブに接触させることによ
り、塗布開始時のウェブと塗布ヘッドとの接触により生
じた削り屑による塗布面へのスジ発生を防止する方法が
開示されている（特開平３−２９６４６７号公報）。
の発生を防止する方法として、塗布ヘッドよりも下流側
に設置した固体スムーザーを用いて膜厚を規制したり、
塗布ヘッドよりも下流側に設置した掻き落とし用ロール
を用いて厚膜部分を除去する方法がある（特開平２−２
２９５７２号公報、特願平４−２７３８５１号）。ま
た、塗布開始時においては、塗布ヘッドがウェブに接触
してから塗布液の押出しを開始し、塗布終了時において
は、まず、塗布液の押出しを停止し、その後、塗布ヘッ
ドをウェブから離間させることにより厚膜部分の発生を
防止する方法が開示されている（特開昭６２−９５１６
９号公報）。さらに、塗布ヘッドのバックエッジ（ウェ
ブ搬送方向上流側）をウェブに接触させた後に塗布液の
押出しを開始し、次に塗布ヘッドのドクターエッジ（ウ
ェブ搬送方向下流側）をウェブに接触させることによ
り、塗布開始時のウェブと塗布ヘッドとの接触により生
じた削り屑による塗布面へのスジ発生を防止する方法が
開示されている（特開平３−２９６４６７号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウェブ
の第１面およびその反対面である第２面の両面に押出し
塗布法により塗布膜を形成する場合、あるいは、第１面
には押出し塗布法以外の他の方法により塗布膜が形成さ
れているウェブの第２面に押出し塗布法により塗布膜を
形成する場合のような両面塗布においては、第２面への
押出し塗布法による塗布の段階では、ウェブの第１面に
既に塗布膜が形成されているため、第１面側からウェブ
をサポートロールで支持することができない。したがっ
て、第２面への押出し塗布法による塗布における厚膜部
分の発生を、上述の特開平２−２２９５７２号公報、特
願平４−２７３８５１号に記載されているような固体ス
ムーザーや掻き落とし用ロールを用いて防止しようとし
ても、サポートロールによるウェブの支持が不可能であ
り、固体スムーザーや掻き落とし用ロールの効果を発揮
させるためのウェブへの押し込みが十分にとれないため
に、かえって逆効果を生じ易いという問題がある。
の第１面およびその反対面である第２面の両面に押出し
塗布法により塗布膜を形成する場合、あるいは、第１面
には押出し塗布法以外の他の方法により塗布膜が形成さ
れているウェブの第２面に押出し塗布法により塗布膜を
形成する場合のような両面塗布においては、第２面への
押出し塗布法による塗布の段階では、ウェブの第１面に
既に塗布膜が形成されているため、第１面側からウェブ
をサポートロールで支持することができない。したがっ
て、第２面への押出し塗布法による塗布における厚膜部
分の発生を、上述の特開平２−２２９５７２号公報、特
願平４−２７３８５１号に記載されているような固体ス
ムーザーや掻き落とし用ロールを用いて防止しようとし
ても、サポートロールによるウェブの支持が不可能であ
り、固体スムーザーや掻き落とし用ロールの効果を発揮
させるためのウェブへの押し込みが十分にとれないため
に、かえって逆効果を生じ易いという問題がある。
【０００６】また、特開昭６２−９５１６９号公報に開
示されている方法では、塗布開始時および塗布終了時に
おいて、塗布液が押出されていない状態の塗布ヘッドと
ウェブとが溶剤雰囲気中で接触、摺動するため、爆発の
危険性があると同時に、塗布ヘッドのエッジ部の摩耗が
加速されるという問題がある。
示されている方法では、塗布開始時および塗布終了時に
おいて、塗布液が押出されていない状態の塗布ヘッドと
ウェブとが溶剤雰囲気中で接触、摺動するため、爆発の
危険性があると同時に、塗布ヘッドのエッジ部の摩耗が
加速されるという問題がある。
【０００７】さらに、特開平３−２９６４６７号公報に
開示されている方法は、塗布開始時における厚膜部分の
発生を防止することを目的としたものではなく、厚膜部
分発生防止における十分な効果は得られず、また、塗布
終了時においてウェブから塗布ヘッドを離間させる際の
厚膜部分の発生防止についても開示しているものではな
い。
開示されている方法は、塗布開始時における厚膜部分の
発生を防止することを目的としたものではなく、厚膜部
分発生防止における十分な効果は得られず、また、塗布
終了時においてウェブから塗布ヘッドを離間させる際の
厚膜部分の発生防止についても開示しているものではな
い。
【０００８】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、両面塗布における第２面への押出し塗布
法による塗布の開始時、再開時および塗布の終了時、中
断時の厚膜部分の発生を有効に防止することのできる塗
布方法を提供することを目的とする。
たものであり、両面塗布における第２面への押出し塗布
法による塗布の開始時、再開時および塗布の終了時、中
断時の厚膜部分の発生を有効に防止することのできる塗
布方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は走行するウェブの一方の面である第
１面に第１塗布ヘッドにより塗布液を塗布した後、押出
し型の第２塗布ヘッドにより前記ウェブの他方の面であ
る第２面に塗布液を塗布する塗布方法において、前記第
２塗布ヘッドおよび前記第２塗布ヘッドより上流側最近
傍のサポートロールとを前記ウェブに対してそれぞれ相
対的に移動可能とし、前記第２塗布ヘッドによる塗布の
開始時または再開時には、塗布液が押出された状態の前
記第２塗布ヘッドを所定の出口角度が形成されるように
前記ウェブに接触させた後、前記サポートロールを所定
の入口角度が形成されるように移動させ、一方、前記第
２塗布ヘッドによる塗布の終了時または中断時には、前
記出口角度を維持したままで前記サポートロールを前記
入口角度が大きくなるように移動させた後、前記第２塗
布ヘッドを前記ウェブから離間させるような構成とし
た。
るために、本発明は走行するウェブの一方の面である第
１面に第１塗布ヘッドにより塗布液を塗布した後、押出
し型の第２塗布ヘッドにより前記ウェブの他方の面であ
る第２面に塗布液を塗布する塗布方法において、前記第
２塗布ヘッドおよび前記第２塗布ヘッドより上流側最近
傍のサポートロールとを前記ウェブに対してそれぞれ相
対的に移動可能とし、前記第２塗布ヘッドによる塗布の
開始時または再開時には、塗布液が押出された状態の前
記第２塗布ヘッドを所定の出口角度が形成されるように
前記ウェブに接触させた後、前記サポートロールを所定
の入口角度が形成されるように移動させ、一方、前記第
２塗布ヘッドによる塗布の終了時または中断時には、前
記出口角度を維持したままで前記サポートロールを前記
入口角度が大きくなるように移動させた後、前記第２塗
布ヘッドを前記ウェブから離間させるような構成とし
た。
【００１０】以下、本発明の塗布方法について図面を参
照して説明する。
照して説明する。
【００１１】図１は本発明の塗布方法を実施することの
できる両面塗布装置の一例を示す概略構成図である。図
１において、両面塗布装置１は第１塗布ヘッド２、第２
塗布ヘッド３および乾燥装置４を備えている。この両面
塗布装置１では、図示されていない供給ロールから供給
されたウェブ１１は、バキュームロール５およびサポー
トロール６を介して第１塗布ヘッド２に導かれ、ウェブ
の一方の面である第１面１１ａに第１塗布ヘッド２によ
り塗布液が塗布される。次に、ウェブ１１は、未塗布状
態の面（第２面１１ｂ）をサポートロール７、張力検出
ロール８、バキュームロール９およびサポートロール１
０により支持されながら第２塗布ヘッド３に導かれ、第
２面１１ｂに第２塗布ヘッド３により塗布液が塗布され
る。そして、両面に塗布が行われたウェブ１１は、乾燥
装置４に導かれて無接触支持されながら塗布膜の乾燥が
行われた後、巻き取りロール（図示せず）に巻き取られ
る。
できる両面塗布装置の一例を示す概略構成図である。図
１において、両面塗布装置１は第１塗布ヘッド２、第２
塗布ヘッド３および乾燥装置４を備えている。この両面
塗布装置１では、図示されていない供給ロールから供給
されたウェブ１１は、バキュームロール５およびサポー
トロール６を介して第１塗布ヘッド２に導かれ、ウェブ
の一方の面である第１面１１ａに第１塗布ヘッド２によ
り塗布液が塗布される。次に、ウェブ１１は、未塗布状
態の面（第２面１１ｂ）をサポートロール７、張力検出
ロール８、バキュームロール９およびサポートロール１
０により支持されながら第２塗布ヘッド３に導かれ、第
２面１１ｂに第２塗布ヘッド３により塗布液が塗布され
る。そして、両面に塗布が行われたウェブ１１は、乾燥
装置４に導かれて無接触支持されながら塗布膜の乾燥が
行われた後、巻き取りロール（図示せず）に巻き取られ
る。
【００１２】このような両面塗布装置１の塗布ヘッドの
うち、少なくとも第２塗布ヘッド３は押出し型の塗布ヘ
ッドであり、この第２塗布ヘッド３は、ウェブ１１に対
して相対的に離接可能であり、さらに、ウェブ１１の幅
方向に平行な回転軸を中心として回転可能とする機能を
付加してもよい。また、第２塗布ヘッド３より上流側最
近傍のサポートロール１０もウェブ１１に対して相対的
に移動可能とされている。第２塗布ヘッド３およびサポ
ートロール１０の移動、回転は、エアーシリンダ、油圧
シリンダあるいは電動モータ等により行うことができ
る。
うち、少なくとも第２塗布ヘッド３は押出し型の塗布ヘ
ッドであり、この第２塗布ヘッド３は、ウェブ１１に対
して相対的に離接可能であり、さらに、ウェブ１１の幅
方向に平行な回転軸を中心として回転可能とする機能を
付加してもよい。また、第２塗布ヘッド３より上流側最
近傍のサポートロール１０もウェブ１１に対して相対的
に移動可能とされている。第２塗布ヘッド３およびサポ
ートロール１０の移動、回転は、エアーシリンダ、油圧
シリンダあるいは電動モータ等により行うことができ
る。
【００１３】次に、図１に示されるような両面塗布装置
１を用いた本発明の塗布方法を図２および図３を参照し
て説明する。
１を用いた本発明の塗布方法を図２および図３を参照し
て説明する。
【００１４】両面塗布装置１は、定常塗布状態にあって
は、図１に示されるような状態となっているが、塗布中
止状態あるいはウェブのスプライス部分が第２塗布ヘッ
ド３を通過する塗布中断状態においては、図２（Ａ）に
示されるように第２塗布ヘッド３はウェブ１１から離間
した状態にある。
は、図１に示されるような状態となっているが、塗布中
止状態あるいはウェブのスプライス部分が第２塗布ヘッ
ド３を通過する塗布中断状態においては、図２（Ａ）に
示されるように第２塗布ヘッド３はウェブ１１から離間
した状態にある。
【００１５】このような状態から、第２塗布ヘッド３に
よる塗布を開始または再開する時には、まず、第２塗布
ヘッド３を塗布液が押出された状態とし、この第２塗布
ヘッド３を移動（図示例では上方へ移動）することによ
りウェブ１１の第２面１１ｂに接触させる（図２
（Ｂ））。この第２塗布ヘッド３とウェブ１１の第２面
１１ｂとの接触は、第２塗布ヘッド３と第２塗布ヘッド
３から下流側へ搬送されるウェブ１１とのなす角（出口
角度θo ）が所定の角度をなすように行われる。この場
合、出口角度θo および入口角度θi は、第２塗布ヘッ
ド３のエッジ形状、塗布液粘度、ウェブ張力、塗布液厚
み等で、その設定可能な角度範囲が決まるが、例えば、
出口角度θo の設定範囲を７５〜１０５°、入口角度θ
i の設定範囲を７０〜１００°とすることができる。
尚、第２塗布ヘッド３をウェブ１１の幅方向に平行な回
転軸を中心に回転可能なものとすることにより、上記の
ようなラップ角度の調整を行っても、乾燥装置４に進入
するウェブ１１を常に水平（一定の状態）に保つことが
できる。
よる塗布を開始または再開する時には、まず、第２塗布
ヘッド３を塗布液が押出された状態とし、この第２塗布
ヘッド３を移動（図示例では上方へ移動）することによ
りウェブ１１の第２面１１ｂに接触させる（図２
（Ｂ））。この第２塗布ヘッド３とウェブ１１の第２面
１１ｂとの接触は、第２塗布ヘッド３と第２塗布ヘッド
３から下流側へ搬送されるウェブ１１とのなす角（出口
角度θo ）が所定の角度をなすように行われる。この場
合、出口角度θo および入口角度θi は、第２塗布ヘッ
ド３のエッジ形状、塗布液粘度、ウェブ張力、塗布液厚
み等で、その設定可能な角度範囲が決まるが、例えば、
出口角度θo の設定範囲を７５〜１０５°、入口角度θ
i の設定範囲を７０〜１００°とすることができる。
尚、第２塗布ヘッド３をウェブ１１の幅方向に平行な回
転軸を中心に回転可能なものとすることにより、上記の
ようなラップ角度の調整を行っても、乾燥装置４に進入
するウェブ１１を常に水平（一定の状態）に保つことが
できる。
【００１６】上述のように、本発明の塗布方法では、第
２塗布ヘッド３による塗布の開始時または再開時におい
て、まず、塗布液が押出された状態の第２塗布ヘッド３
を所定の出口角度θo が形成されるようにウェブ１１に
接触させる。これにより、第２塗布ヘッド３のバックエ
ッジ（塗布ヘッドのウェブ搬送方向下流側部）とウェブ
１１との接触を規制するとともに、第２塗布ヘッド３の
フロントエッジ（塗布ヘッドのウェブ搬送方向上流側
部）とウェブ１１との接触に余裕をもたせて、第２塗布
ヘッド３の押出し口に溜っている塗布液が一度にウェブ
１１の第２面１１ｂに移行するのを抑制している。その
後、第２塗布ヘッド３より上流側最近傍のサポートロー
ル１０を移動させて所定の入口角度θi を形成すること
により（図２（Ｃ））、定常塗布状態に対応した状態と
し、以後、安定した塗布厚が得られるようにしている。
このように、本発明の塗布方法は、第１面１１ａに既に
塗布膜が形成されているため第１面１１ａ側からのサポ
ートロールによる支持が不可能なウェブ１１の第２面１
１ｂへの押出し型塗布ヘッドによる塗布の開始時または
再開時における厚膜部分の発生を有効に防止することが
できる。
２塗布ヘッド３による塗布の開始時または再開時におい
て、まず、塗布液が押出された状態の第２塗布ヘッド３
を所定の出口角度θo が形成されるようにウェブ１１に
接触させる。これにより、第２塗布ヘッド３のバックエ
ッジ（塗布ヘッドのウェブ搬送方向下流側部）とウェブ
１１との接触を規制するとともに、第２塗布ヘッド３の
フロントエッジ（塗布ヘッドのウェブ搬送方向上流側
部）とウェブ１１との接触に余裕をもたせて、第２塗布
ヘッド３の押出し口に溜っている塗布液が一度にウェブ
１１の第２面１１ｂに移行するのを抑制している。その
後、第２塗布ヘッド３より上流側最近傍のサポートロー
ル１０を移動させて所定の入口角度θi を形成すること
により（図２（Ｃ））、定常塗布状態に対応した状態と
し、以後、安定した塗布厚が得られるようにしている。
このように、本発明の塗布方法は、第１面１１ａに既に
塗布膜が形成されているため第１面１１ａ側からのサポ
ートロールによる支持が不可能なウェブ１１の第２面１
１ｂへの押出し型塗布ヘッドによる塗布の開始時または
再開時における厚膜部分の発生を有効に防止することが
できる。
【００１７】尚、上記の出口角度θo および入口角度θ
i が適正範囲から外れると、第２塗布ヘッド３からウェ
ブ１１への塗布液の転移が正常に行われなかったり、第
２塗布ヘッド３のバックエッジ（塗布ヘッドのウェブ搬
送方向下流側部）による塗布液の掻き落としが発生した
り、あるいは、塗布面にピッチスジが発生したりして好
ましくない。また、ウェブの搬送速度は、塗料の粘度、
塗布厚み等を考慮して設定することができるが、１０〜
１０００ｍ／分程度が好ましい。
i が適正範囲から外れると、第２塗布ヘッド３からウェ
ブ１１への塗布液の転移が正常に行われなかったり、第
２塗布ヘッド３のバックエッジ（塗布ヘッドのウェブ搬
送方向下流側部）による塗布液の掻き落としが発生した
り、あるいは、塗布面にピッチスジが発生したりして好
ましくない。また、ウェブの搬送速度は、塗料の粘度、
塗布厚み等を考慮して設定することができるが、１０〜
１０００ｍ／分程度が好ましい。
【００１８】次に、定常塗布状態（図３（Ａ））から第
２塗布ヘッドによる塗布を終了または中断する時には、
上記の塗布開始時あるいは再開時の操作と逆の操作を行
う。すなわち、まず、サポートロール１０をウェブ１１
に対して移動（図示例では上方に移動）させて、入口角
度θi を定常塗布状態における角度よりも大きくする
（図３（Ｂ））。この時、出口角度θo は維持されたま
まであり、第２塗布ヘッド３のバックエッジとウェブ１
１との接触が規制され、かつ、第２塗布ヘッド３のフロ
ントエッジとウェブ１１との接触に余裕をもたせた状態
となっている。この状態で、次に、第２塗布ヘッド３を
ウェブ１１から離間させる（図３（Ｃ））。この時、第
２塗布ヘッド３は塗布液が押出された状態にあるが、入
口角度θiと出口角度θo が上記のようなの関係にある
ため、ウェブ１１から第２塗布ヘッド３が完全に離間す
るまで塗布厚みの増加は抑制される。したがって、本発
明の塗布方法は、第１面１１ａに既に塗布膜が形成され
ているため第１面１１ａ側からのサポートロールによる
支持が不可能なウェブ１１の第２面１１ｂへの押出し型
塗布ヘッドによる塗布の終了時または中断時における厚
膜部分の発生を有効に防止することができる。尚、第２
塗布ヘッド３からの塗布液の押出しは、ウェブ１１から
第２塗布ヘッド３が完全に離間した後に停止する。これ
により、塗布液が押出されていない状態の第２塗布ヘッ
ド３が直接ウェブと溶剤雰囲気中で接触することを防止
することができる。
２塗布ヘッドによる塗布を終了または中断する時には、
上記の塗布開始時あるいは再開時の操作と逆の操作を行
う。すなわち、まず、サポートロール１０をウェブ１１
に対して移動（図示例では上方に移動）させて、入口角
度θi を定常塗布状態における角度よりも大きくする
（図３（Ｂ））。この時、出口角度θo は維持されたま
まであり、第２塗布ヘッド３のバックエッジとウェブ１
１との接触が規制され、かつ、第２塗布ヘッド３のフロ
ントエッジとウェブ１１との接触に余裕をもたせた状態
となっている。この状態で、次に、第２塗布ヘッド３を
ウェブ１１から離間させる（図３（Ｃ））。この時、第
２塗布ヘッド３は塗布液が押出された状態にあるが、入
口角度θiと出口角度θo が上記のようなの関係にある
ため、ウェブ１１から第２塗布ヘッド３が完全に離間す
るまで塗布厚みの増加は抑制される。したがって、本発
明の塗布方法は、第１面１１ａに既に塗布膜が形成され
ているため第１面１１ａ側からのサポートロールによる
支持が不可能なウェブ１１の第２面１１ｂへの押出し型
塗布ヘッドによる塗布の終了時または中断時における厚
膜部分の発生を有効に防止することができる。尚、第２
塗布ヘッド３からの塗布液の押出しは、ウェブ１１から
第２塗布ヘッド３が完全に離間した後に停止する。これ
により、塗布液が押出されていない状態の第２塗布ヘッ
ド３が直接ウェブと溶剤雰囲気中で接触することを防止
することができる。
【００１９】本発明の塗布方法が適用可能な両面塗布装
置は、上述のような構成の両面塗布装置に限定されるも
のでないことは勿論である。
置は、上述のような構成の両面塗布装置に限定されるも
のでないことは勿論である。
【００２０】本発明に使用することのできるウェブとし
ては、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のプラス
チックフィルム、紙や金属箔等からなる長尺の可撓性支
持体等を挙げることができ、特に制限はない。また、ウ
ェブは、予め種々の処理層が形成されたものであっても
よい。
ては、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のプラス
チックフィルム、紙や金属箔等からなる長尺の可撓性支
持体等を挙げることができ、特に制限はない。また、ウ
ェブは、予め種々の処理層が形成されたものであっても
よい。
【００２１】本発明に使用することのできる塗布液は、
押出し型塗布ヘッドによる塗布に適した塗布液であれば
特に制限はない。押出し型塗布法は、塗布膜の厚さ制御
性に優れており、従来より安定した塗布膜厚さが要求さ
れるような用途において用いられている。このような用
途の一つとして、磁気記録媒体の磁気記録層やバックコ
ート層の形成があり、磁性粉、バインダおよび溶媒を含
有する磁性塗布液、あるいは、バックコート用塗布液
は、本発明に使用することのできる塗布液の一つであ
る。
押出し型塗布ヘッドによる塗布に適した塗布液であれば
特に制限はない。押出し型塗布法は、塗布膜の厚さ制御
性に優れており、従来より安定した塗布膜厚さが要求さ
れるような用途において用いられている。このような用
途の一つとして、磁気記録媒体の磁気記録層やバックコ
ート層の形成があり、磁性粉、バインダおよび溶媒を含
有する磁性塗布液、あるいは、バックコート用塗布液
は、本発明に使用することのできる塗布液の一つであ
る。
【００２２】ここで、磁性塗布液の例を挙げると、磁性
粉としては、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ
3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、Ｃｏ含有Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の酸化物
微粉末、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合
金微粉末、炭化鉄等がいずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶媒は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶媒を目的に応じて適宜選択することができる。
また、磁性塗布液には、必要に応じて無機微粒子、潤滑
剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記のような磁
性塗布液を用いて形成される磁気記録層は、乾燥膜厚が
０．１〜６μｍ程度であり、この磁気記録層の３０〜９
２重量％を磁性粉が占めるような構成が好ましい。ま
た、近年行われているように塗布液を湿潤状態で多層化
して塗布層を設けてもよい。この場合、塗布液は磁性液
に限定されるものではなく、非磁性液、樹脂の溶解液
等、上述の通り押出し型塗布ヘッドによる塗布に適した
塗布液ならば適用可能であり、塗布層の層構成について
も必要に応じて選択することができる。また、バックコ
ート用塗布液の例を挙げると、顔料としてはカーボンブ
ラック、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＣａＯ、ＳｉＯ
2 、Ｃｒ2 Ｏ3 、α−Ａｌ2 Ｏ3、ＳｉＣ、ＣａＣＯ
3 、ＢａＳＯ4 、ＺｎＯ、ＭｇＯ、窒化ホウ素、ＴｉＣ
等の非磁性無機粉末等いずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶媒は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶媒を目的に応じて適宜選択することができる。
また、バックコート用塗布液には、必要に応じて無機微
粒子、潤滑剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記
のようなバックコート用塗布液を用いて形成されるバッ
クコート層は、乾燥膜厚が０．１〜１．０μｍ程度であ
り、このバックコート層の３０〜８０重量％を顔料が占
めるような構成が好ましい。
粉としては、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ
3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、Ｃｏ含有Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の酸化物
微粉末、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合
金微粉末、炭化鉄等がいずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶媒は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶媒を目的に応じて適宜選択することができる。
また、磁性塗布液には、必要に応じて無機微粒子、潤滑
剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記のような磁
性塗布液を用いて形成される磁気記録層は、乾燥膜厚が
０．１〜６μｍ程度であり、この磁気記録層の３０〜９
２重量％を磁性粉が占めるような構成が好ましい。ま
た、近年行われているように塗布液を湿潤状態で多層化
して塗布層を設けてもよい。この場合、塗布液は磁性液
に限定されるものではなく、非磁性液、樹脂の溶解液
等、上述の通り押出し型塗布ヘッドによる塗布に適した
塗布液ならば適用可能であり、塗布層の層構成について
も必要に応じて選択することができる。また、バックコ
ート用塗布液の例を挙げると、顔料としてはカーボンブ
ラック、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＣａＯ、ＳｉＯ
2 、Ｃｒ2 Ｏ3 、α−Ａｌ2 Ｏ3、ＳｉＣ、ＣａＣＯ
3 、ＢａＳＯ4 、ＺｎＯ、ＭｇＯ、窒化ホウ素、ＴｉＣ
等の非磁性無機粉末等いずれも使用可能である。また、
バインダとしては、公知の各種樹脂バインダはいずれも
使用可能である。さらに、溶媒は特に制限はなく、例え
ば、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等
の各種溶媒を目的に応じて適宜選択することができる。
また、バックコート用塗布液には、必要に応じて無機微
粒子、潤滑剤等の各種添加剤を含有させてもよい。上記
のようなバックコート用塗布液を用いて形成されるバッ
クコート層は、乾燥膜厚が０．１〜１．０μｍ程度であ
り、このバックコート層の３０〜８０重量％を顔料が占
めるような構成が好ましい。
【００２３】尚、本発明においては、第１塗布ヘッドは
第２塗布ヘッドと同様に押出し型の塗布ヘッドであって
もよく、また、ロールコート法等の他の塗布方法を用い
た塗布ヘッドであってもよい。第１塗布ヘッドが押出し
型の塗布ヘッドである場合、第１塗布ヘッドによる塗布
に対しても本発明を適用して、塗布開始時や塗布終了時
の厚膜部分の発生を防止することができる。また、第１
塗布ヘッドの下流側であって第２塗布ヘッドの上流側
に、公知の固体スムーザーや掻き落とし用ロールを配設
し、第１塗布ヘッドによる塗布開始時や塗布終了時の厚
膜部分の発生を防止してもよい。
第２塗布ヘッドと同様に押出し型の塗布ヘッドであって
もよく、また、ロールコート法等の他の塗布方法を用い
た塗布ヘッドであってもよい。第１塗布ヘッドが押出し
型の塗布ヘッドである場合、第１塗布ヘッドによる塗布
に対しても本発明を適用して、塗布開始時や塗布終了時
の厚膜部分の発生を防止することができる。また、第１
塗布ヘッドの下流側であって第２塗布ヘッドの上流側
に、公知の固体スムーザーや掻き落とし用ロールを配設
し、第１塗布ヘッドによる塗布開始時や塗布終了時の厚
膜部分の発生を防止してもよい。
【００２４】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明する。
明する。
【００２５】ウェブとして幅５２０ｍｍ、厚さ１４μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。ま
た、下記の組成の磁性塗布液およびバックコート用塗布
液を準備した。 （磁性塗布液の組成） Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 …１００重量部 極性基含有塩化ビニル−アクリレート系共重合体 … １５重量部 スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 … ６重量部 （固形分換算） 分散剤 …１．５重量部 ステアリン酸 … １重量部 ステアリン酸ブチル … １重量部 α−アルミナ … ２重量部 メチルエチルケトン …１６０重量部 トルエン … ４０重量部 シクロヘキサノン …１００重量部 硬化剤（日本ポリウレタン（株）製 C-3041 NV50% ） …８．４重量部 （バックコート用塗布液の組成） カーボンブラック（中心粒径２１ｎｍ） … ８０重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 … ６５重量部 スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 … ３５重量部 メチルエチルケトン …４７０重量部 トルエン …４７０重量部 シクロヘキサノン …４７０重量部 ステアリン酸 … １重量部 ミリスチン酸 … １重量部 ステアリン酸ブチル … ２重量部 硬化剤（日本ポリウレタン（株）製 C-3041 NV50% ） … ３０重量部試料１、試料２の作成 次に、図１に示される両面塗布装置１を用い、下記の塗
布条件で、第１塗布ヘッド２（押出し型塗布ヘッド）に
よって上記の磁性塗布液をウェブ１１の第１面１１ａに
塗布し、また、本発明の操作手順１で第２塗布ヘッド３
（押出し型塗布ヘッド）によって上記のバックコート用
塗布液をウェブ１１の第２面１１ｂに塗布し、その後、
乾燥して、ウェブの第１面１１ａに磁気記録層を備え、
ウェブの第２面１１ｂにバックコート層を備えた磁気記
録媒体（試料１、試料２）を作成した。
のポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。ま
た、下記の組成の磁性塗布液およびバックコート用塗布
液を準備した。 （磁性塗布液の組成） Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 …１００重量部 極性基含有塩化ビニル−アクリレート系共重合体 … １５重量部 スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 … ６重量部 （固形分換算） 分散剤 …１．５重量部 ステアリン酸 … １重量部 ステアリン酸ブチル … １重量部 α−アルミナ … ２重量部 メチルエチルケトン …１６０重量部 トルエン … ４０重量部 シクロヘキサノン …１００重量部 硬化剤（日本ポリウレタン（株）製 C-3041 NV50% ） …８．４重量部 （バックコート用塗布液の組成） カーボンブラック（中心粒径２１ｎｍ） … ８０重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 … ６５重量部 スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 … ３５重量部 メチルエチルケトン …４７０重量部 トルエン …４７０重量部 シクロヘキサノン …４７０重量部 ステアリン酸 … １重量部 ミリスチン酸 … １重量部 ステアリン酸ブチル … ２重量部 硬化剤（日本ポリウレタン（株）製 C-3041 NV50% ） … ３０重量部試料１、試料２の作成 次に、図１に示される両面塗布装置１を用い、下記の塗
布条件で、第１塗布ヘッド２（押出し型塗布ヘッド）に
よって上記の磁性塗布液をウェブ１１の第１面１１ａに
塗布し、また、本発明の操作手順１で第２塗布ヘッド３
（押出し型塗布ヘッド）によって上記のバックコート用
塗布液をウェブ１１の第２面１１ｂに塗布し、その後、
乾燥して、ウェブの第１面１１ａに磁気記録層を備え、
ウェブの第２面１１ｂにバックコート層を備えた磁気記
録媒体（試料１、試料２）を作成した。
【００２６】尚、第１塗布ヘッド、第２塗布ヘッドとも
に図４にその断面形状が示されるような塗布ヘッドを使
用した。この塗布ヘッド３は、フロントエッジ３１、バ
ックエッジ３２、フロントエッジ３１とバックエッジ３
２との間に形成されているスリット部３３、ポケット部
３４を備えている。そして、バックエッジ３２の上端面
であるバックエッジ面３２ａがＲ面形状であり、さら
に、フロントエッジ３１の上端面であるフロントエッジ
面３１ａのスリット部３３側の端点３１ｂにおいてフロ
ントエッジ面３１ａに引いた接線Ｌよりも、バックエッ
ジ面３２ａのＲ面形状がウェブ１１側に突出している。
そして、上記のバックエッジ面３２ａのＲ面形状の曲率
半径Ｒは、Ｒ＝５ｍｍである。 （塗布条件） ウェブの搬送速度 ： １００ｍ／分および３００ｍ／
分 ウェブの張力 ： 第１塗布ヘッド ２０ｋｇ／幅 第２塗布ヘッド １５ｋｇ／幅 第１塗布ヘッドの押出し量 ： ８００ｃｃ／分および
２４００ｃｃ／分 第２塗布ヘッドの押出し量 ： ４００ｃｃ／分および
１２００ｃｃ／分 （操作手順１）上記の塗布において、第１塗布ヘッド２
の下流側のサポートロール７近傍には固体スムーザーを
設置して、第１塗布ヘッド２による塗布の開始時および
終了時の厚膜部分の発生を防止した。一方、第２塗布ヘ
ッド３による第２面１１ｂへの塗布の開始時には、ま
ず、バックコート用塗布液が押出されている状態の第２
塗布ヘッド３を、そのエッジ先端部が乾燥装置４の中心
線の延長線上に位置するように移動（上昇）しウェブに
接触させ、第２塗布ヘッド３の出口角度θo を９４．２
°に設定した。その後、第２塗布ヘッド３の上流側のサ
ポートロール１０を移動（下降）させてウェブと第２塗
布ヘッドとの角度（入口角度θi ）を７３．９°に設定
し、定常塗布状態として塗布を行った。また、第２塗布
ヘッド３よる第２面１１ｂへの塗布の終了時には、塗布
開始時とは逆に、まず、第２塗布ヘッド３の上流側のサ
ポートロール１０を移動（上昇）させ入口角度θi を定
常塗布状態よりも大きくした。その後、バックコート用
塗布液が押出されている状態の第２塗布ヘッド３を移動
（下降）し、ウェブから第２塗布ヘッド３が完全に離間
した後にバックコート用塗布液の押出しを停止した。比較試料１、比較試料２の作成 塗布時の操作手順を、比較としての下記のような操作手
順２とした他は上記の試料１、試料２と同様にして磁気
記録媒体（比較試料１、比較試料２）を作成した。 （操作手順２）第２塗布ヘッド３による第２面への塗布
の開始時に、まず、サポートロール１０を移動（下降）
させて、次にバックコート用塗布液が押出されている状
態の第２塗布ヘッド３を移動（上昇）させ、第２塗布ヘ
ッド３による第２面への塗布の終了時には、まず、バッ
クコート用塗布液が押出されている状態の第２塗布ヘッ
ド３を移動（下降）し、次にサポートロール１０を移動
（上昇）させた。比較試料３、比較試料４の作成 塗布時の操作手順を、比較としての下記のような操作手
順３とした他は上記の試料１、試料２と同様にして磁気
記録媒体（比較試料３、比較試料４）を作成した。 （操作手順３）サポートロールの位置を試料１の作成時
の定常塗布状態におけるサポートロールの位置に固定
し、バックコート用塗布液が押出されている状態の第２
塗布ヘッド３を移動（上昇あるいは下降）させることの
みにより、第２塗布ヘッド３よる第２面への塗布の開始
および終了の操作を行った。
に図４にその断面形状が示されるような塗布ヘッドを使
用した。この塗布ヘッド３は、フロントエッジ３１、バ
ックエッジ３２、フロントエッジ３１とバックエッジ３
２との間に形成されているスリット部３３、ポケット部
３４を備えている。そして、バックエッジ３２の上端面
であるバックエッジ面３２ａがＲ面形状であり、さら
に、フロントエッジ３１の上端面であるフロントエッジ
面３１ａのスリット部３３側の端点３１ｂにおいてフロ
ントエッジ面３１ａに引いた接線Ｌよりも、バックエッ
ジ面３２ａのＲ面形状がウェブ１１側に突出している。
そして、上記のバックエッジ面３２ａのＲ面形状の曲率
半径Ｒは、Ｒ＝５ｍｍである。 （塗布条件） ウェブの搬送速度 ： １００ｍ／分および３００ｍ／
分 ウェブの張力 ： 第１塗布ヘッド ２０ｋｇ／幅 第２塗布ヘッド １５ｋｇ／幅 第１塗布ヘッドの押出し量 ： ８００ｃｃ／分および
２４００ｃｃ／分 第２塗布ヘッドの押出し量 ： ４００ｃｃ／分および
１２００ｃｃ／分 （操作手順１）上記の塗布において、第１塗布ヘッド２
の下流側のサポートロール７近傍には固体スムーザーを
設置して、第１塗布ヘッド２による塗布の開始時および
終了時の厚膜部分の発生を防止した。一方、第２塗布ヘ
ッド３による第２面１１ｂへの塗布の開始時には、ま
ず、バックコート用塗布液が押出されている状態の第２
塗布ヘッド３を、そのエッジ先端部が乾燥装置４の中心
線の延長線上に位置するように移動（上昇）しウェブに
接触させ、第２塗布ヘッド３の出口角度θo を９４．２
°に設定した。その後、第２塗布ヘッド３の上流側のサ
ポートロール１０を移動（下降）させてウェブと第２塗
布ヘッドとの角度（入口角度θi ）を７３．９°に設定
し、定常塗布状態として塗布を行った。また、第２塗布
ヘッド３よる第２面１１ｂへの塗布の終了時には、塗布
開始時とは逆に、まず、第２塗布ヘッド３の上流側のサ
ポートロール１０を移動（上昇）させ入口角度θi を定
常塗布状態よりも大きくした。その後、バックコート用
塗布液が押出されている状態の第２塗布ヘッド３を移動
（下降）し、ウェブから第２塗布ヘッド３が完全に離間
した後にバックコート用塗布液の押出しを停止した。比較試料１、比較試料２の作成 塗布時の操作手順を、比較としての下記のような操作手
順２とした他は上記の試料１、試料２と同様にして磁気
記録媒体（比較試料１、比較試料２）を作成した。 （操作手順２）第２塗布ヘッド３による第２面への塗布
の開始時に、まず、サポートロール１０を移動（下降）
させて、次にバックコート用塗布液が押出されている状
態の第２塗布ヘッド３を移動（上昇）させ、第２塗布ヘ
ッド３による第２面への塗布の終了時には、まず、バッ
クコート用塗布液が押出されている状態の第２塗布ヘッ
ド３を移動（下降）し、次にサポートロール１０を移動
（上昇）させた。比較試料３、比較試料４の作成 塗布時の操作手順を、比較としての下記のような操作手
順３とした他は上記の試料１、試料２と同様にして磁気
記録媒体（比較試料３、比較試料４）を作成した。 （操作手順３）サポートロールの位置を試料１の作成時
の定常塗布状態におけるサポートロールの位置に固定
し、バックコート用塗布液が押出されている状態の第２
塗布ヘッド３を移動（上昇あるいは下降）させることの
みにより、第２塗布ヘッド３よる第２面への塗布の開始
および終了の操作を行った。
【００２７】上記のように作成した磁気記録媒体（試料
１，２、比較試料１〜４）について、乾燥炉における乾
燥不良によるガイドロールの汚れ発生の有無を調べ、結
果を下記の表１に示した。尚、ウェブの搬送速度に対応
して、乾燥炉通過時間は、試料１、比較試料１、比較試
料３の乾燥炉通過時間は、試料２、比較試料２、比較試
料４の乾燥炉通過時間の３倍であった。
１，２、比較試料１〜４）について、乾燥炉における乾
燥不良によるガイドロールの汚れ発生の有無を調べ、結
果を下記の表１に示した。尚、ウェブの搬送速度に対応
して、乾燥炉通過時間は、試料１、比較試料１、比較試
料３の乾燥炉通過時間は、試料２、比較試料２、比較試
料４の乾燥炉通過時間の３倍であった。
【００２８】
【表１】 表１に示されるように、本発明の操作手順１で作成され
た試料１および試料２は、ウェブの搬送速度に関係なく
乾燥炉における乾燥が良好であり、ガイドロールの汚れ
は発生しなかった。しかし、比較としての操作手順１お
よび操作手順２により作成された比較試料は、ウェブの
搬送速度が遅い場合（比較試料１，３）は、ガイドロー
ルの汚れが発生しなかったものの、ウェブの搬送速度が
速い場合（比較試料２，４）は、乾燥不良によりガイド
ロールの汚れが発生した。
た試料１および試料２は、ウェブの搬送速度に関係なく
乾燥炉における乾燥が良好であり、ガイドロールの汚れ
は発生しなかった。しかし、比較としての操作手順１お
よび操作手順２により作成された比較試料は、ウェブの
搬送速度が遅い場合（比較試料１，３）は、ガイドロー
ルの汚れが発生しなかったものの、ウェブの搬送速度が
速い場合（比較試料２，４）は、乾燥不良によりガイド
ロールの汚れが発生した。
【００２９】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば両
面塗布における第２面への押出し塗布法による塗布の開
始時、再開時および塗布の終了時、中断時の厚膜部分の
発生を有効に防止することができ、これにより、第２塗
布ヘッドより下流側のガイドロールに塗布膜の乾燥不良
による汚れが発生することを防止し、厚みが均一な塗布
を可能とする。
面塗布における第２面への押出し塗布法による塗布の開
始時、再開時および塗布の終了時、中断時の厚膜部分の
発生を有効に防止することができ、これにより、第２塗
布ヘッドより下流側のガイドロールに塗布膜の乾燥不良
による汚れが発生することを防止し、厚みが均一な塗布
を可能とする。
【図１】本発明の塗布方法を実施するための両面塗布装
置の一例を示す概略構成図である。
置の一例を示す概略構成図である。
【図２】本発明の塗布方法を説明するための図であり、
図２（Ａ）から図２（Ｃ）は両面塗布装置の状態変化を
示す図である。
図２（Ａ）から図２（Ｃ）は両面塗布装置の状態変化を
示す図である。
【図３】本発明の塗布方法を説明するための図であり、
図３（Ａ）から図３（Ｃ）は両面塗布装置の状態変化を
示す図である。
図３（Ａ）から図３（Ｃ）は両面塗布装置の状態変化を
示す図である。
【図４】本発明の塗布方法に使用する塗布ヘッドの一例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
１…両面塗布装置 ２…第１塗布ヘッド ３…第２塗布ヘッド ４…乾燥装置 ５，９…バキュームロール ６，７，１０…サポートロール ８…張力検出ロール １１…ウェブ １１ａ…第１面 １１ｂ…第２面
フロントページの続き (72)発明者 小野沢 克美 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 片井 一夫 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 渡辺 英一 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 走行するウェブの一方の面である第１面
に第１塗布ヘッドにより塗布液を塗布した後、押出し型
の第２塗布ヘッドにより前記ウェブの他方の面である第
２面に塗布液を塗布する塗布方法において、 前記第２塗布ヘッドおよび前記第２塗布ヘッドより上流
側最近傍のサポートロールとを前記ウェブに対してそれ
ぞれ相対的に移動可能とし、前記第２塗布ヘッドによる
塗布の開始時または再開時には、塗布液が押出された状
態の前記第２塗布ヘッドを所定の出口角度が形成される
ように前記ウェブに接触させた後、前記サポートロール
を所定の入口角度が形成されるように移動させ、一方、
前記第２塗布ヘッドによる塗布の終了時または中断時に
は、前記出口角度を維持したままで前記サポートロール
を前記入口角度が大きくなるように移動させた後、前記
第２塗布ヘッドを前記ウェブから離間させることを特徴
とする塗布方法。 - 【請求項２】 前記第２塗布ヘッドがウェブから完全に
離間した後に前記第２塗布ヘッドからの塗布液の押出し
を停止することを特徴とする請求項１に記載の塗布方
法。 - 【請求項３】 前記第１塗布ヘッドは、押出し型の塗布
ヘッドであることを特徴とする請求項１または請求項２
に記載の塗布方法。 - 【請求項４】 前記第１塗布ヘッドに用いる塗布液は、
少なくとも１種類の磁性塗布液であることを特徴とする
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の塗布方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34909893A JP3267782B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 塗布方法 |
| US08/360,282 US5458913A (en) | 1993-12-28 | 1994-12-21 | Coating method |
| KR1019940036300A KR0134839B1 (ko) | 1993-12-28 | 1994-12-23 | 도포방법 |
| EP94120836A EP0661104B1 (en) | 1993-12-28 | 1994-12-28 | Coating method |
| DE69417190T DE69417190T2 (de) | 1993-12-28 | 1994-12-28 | Beschichtungsverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34909893A JP3267782B2 (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07185449A true JPH07185449A (ja) | 1995-07-25 |
| JP3267782B2 JP3267782B2 (ja) | 2002-03-25 |
Family
ID=18401483
Family Applications (1)
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