JP2005087884A - 塗布方法 - Google Patents

Abstract

【課題】可撓性支持体上に多層に、かつ均一に高速で塗布膜を形成し、しかも塗布層間の界面の乱れを極力抑制できる塗布方法を提供する。
【解決手段】可撓性支持体の表面に複数の塗布層を形成する塗布方法。連続走行する帯状の可撓性支持体Ｗの表面に、擬塑性流体である第１の塗布液Ｆ１を塗布し、未乾燥の第１の塗布液の上に第２の塗布液Ｆ２を塗布する。この第１の塗布液Ｆ１の粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ を２００超とすることが好ましい。
【選択図】 図２

Description

本発明は塗布方法に係り、特に、ガイドローラなどの走行案内手段により支持されて連続走行する可撓性支持体上に塗布液を塗布し、２層以上の塗布層を形成する塗布方法に関する。

近年、磁気記録媒体、写真感光材料、電子材料、塗布型電池、反射防止膜、磁気テープ等の光学膜、研磨テープ、情報記録紙等の高機能化、高性能化が指向されており、これに対処すべく、可撓性支持体上に多層に、かつ均一に高速で塗布する技術が求められている。

たとえば、磁気記録媒体の製造においては、記録媒体の高密度化に対応すべく、磁気記録層の薄層化や磁気記録層の多層化が検討されている。特に、ＭＲヘッド等の高感度の磁気ヘッドの普及に伴い、磁気記録層の薄層化の要求は急速に高まっている。この磁気記録層の厚さとして、具体的には、乾燥膜の状態で０. ０２〜０. ２μｍ（湿潤状態で０. ２〜２. ０μｍ）のように極めて薄い膜の塗布技術が要求されている。このような極めて薄い膜の塗布技術については、従来より各種の提案がなされており（特許文献１等参照）、所定の効果が得られている。
特開２００２−８６０５０号公報

しかしながら、上記のような従来の技術においては、２層以上の塗布層を形成する塗布方法における塗布膜の薄層化に伴い、非磁性層と磁性層との界面の乱れが大きくなり、その結果、磁気記録媒体のノイズが上昇する傾向にあり、好ましい磁気記録媒体が得られないという問題があった。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、可撓性支持体上に多層に、かつ均一に高速で塗布膜を形成し、しかも塗布層間の界面の乱れを極力抑制できる塗布方法を提供することを目的とする。

本発明は、前記目的を達成するために、可撓性支持体の表面に複数の塗布層を形成する塗布方法において、連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、擬塑性流体である第１の塗布液を塗布する工程と、未乾燥の前記第１の塗布液の上に第２の塗布液を塗布する工程と、を含むことを特徴とする塗布方法を提供する。

本発明によれば、塗布された第１の塗布液が擬塑性流体であり、湿潤状態の擬塑性流体の上に第２の塗布液が塗布される。これにより、塗布層間の界面が平滑化し、塗布層間の界面の乱れを極力抑制できる。

なお、「擬塑性流体」とは、流体のせん断応力τと速度勾配ｄｕ／ｄｙとの関係を示す式、τ＝Ｋ（ｄｕ／ｄｙ）ⁿ において、このｎが１未満である流体を言い、擬プラスチック流体（又はpseudoplastic fluid ）とも称呼される。この擬塑性流体は、ずり変形率の増加と同時に見かけの粘性率又は粘稠性が減少する流体である。

本発明において、前記第１の塗布液の粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ を２００超とすることが好ましい。第１の塗布液が、このような特性の擬塑性流体であれば、本発明の効果が一層発揮できる。

なお、η₁₀とは、せん断速度が１０ｓｅｃ^-1の粘度であり、η₁₀₀₀₀ とは、せん断速度が１００００ｓｅｃ^-1の粘度である。

また、本発明において、前記第１の塗布液の乾燥後の厚さを、塗布時の厚さの７５％超とすることが好ましい。このように、第１の塗布液の湿潤状態の厚さと乾燥後の厚さの変化を少なくすることにより、塗布膜の乾燥時の粒子の混合が抑止され、平滑な界面が得られ、本発明の効果が一層発揮できる。

更に、本発明の効果を発揮させるために、前記第１の塗布液と第２の塗布液のバインダーの種類、バインダーの濃度を略等しくすることが好ましい。このようにすることにより、塗布膜の乾燥までの相互拡散が抑止され、界面が乱れにくくなる効果が得られる。

また、本発明において、前記第２の塗布液には磁性体が含まれることが好ましい。このように、第２の塗布液に磁性体が含まれ、磁気記録媒体として製造した場合、ノイズが大幅に低減し、高密度化に好適に対応できる。

以上説明したように、本発明によれば、連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、擬塑性流体である第１の塗布液を塗布し、未乾燥の前記第１の塗布液の上に第２の塗布液を塗布する。塗布された第１の塗布液は擬塑性流体であり、この湿潤状態の擬塑性流体の上に第２の塗布液が塗布される。これにより、塗布層間の界面が平滑化し、塗布層間の界面の乱れを極力抑制できる。

以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様の例について説明する。図１は、本発明に係る塗布方法に適用される塗布装置のうち、塗布ヘッド１０の一部を切断して示す斜視図である。図２は、塗布ヘッド１０の先端部分と可撓性支持体（以下、「ウェブ」と称する）Ｗとの位置関係を示す概略断面図であり、ウェブＷを塗布ヘッド１０に対してセットし、塗布液を塗布している状態を示す。

図１及び図２に示されるように、塗布ヘッド１０は、２種類の塗布液を供給できるように独立した下記の液供給系が２組設けられている。以下、この２組の液供給系の構成について説明するが、上流側の液供給系については添え字Ａを附し、下流側の液供給系については添え字Ｂを附して区別することとする。

塗布ヘッド１０の本体１２には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びた液溜め部１４Ａ、１４Ｂと、液溜め部１４Ａ、１４Ｂと連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を塗出するスリット１６Ａ、１６Ｂと、液溜め部１４Ａ、１４Ｂへ塗布液を供給する液供給口１８Ａ、１８Ｂと、液溜め部１４Ａ、１４Ｂから塗布液を引き抜く液排出口２０Ａ、２０Ｂと、を備えている。

液溜め部１４Ａ、１４Ｂは、「ポケット」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図１に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。液溜め部１４Ａ、１４Ｂの貫通した両端開口部は、図１に示されるように、本体１２の両端部に取付けられる閉鎖板２２、２４により閉止されている。なお、既述の液供給口１８Ａ、１８Ｂは閉鎖板２２に、液排出口２０Ａ、２０Ｂは閉鎖板２４にそれぞれ設けられている。

スリット１６Ａ、１６Ｂは、液溜め部１４Ａ、１４ＢからウェブＷに向け、通常、０. ０１〜０. ５ｍｍの開口幅をもって塗布ヘッド１０の本体１２内部を貫通し、かつ液溜め部１４Ａ、１４Ｂと同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。

なお、スリット１６Ａ、１６ＢにおけるウェブＷに向けた流路の長さは、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスリット１６Ａ、１６Ｂから供給できればよい。

次に、スリット１６Ａ、１６Ｂの開口部について、図２を参照しながら説明する。スリット１６Ａは、塗布ヘッド１０の本体１２（図１参照）のフロントエッジ２６と第１ドクターエッジ２８とにより形成される。スリット１６Ｂは、塗布ヘッド１０の本体１２の第１ドクターエッジ２８と第２ドクターエッジ３０とにより形成される。また、塗布ヘッド１０の本体１２の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面２６ａ、第１ドクターエッジ面２８ａ、第２ドクターエッジ面３０ａがそれぞれ形成されている。

図２に示されるように、フロントエッジ面２６ａは断面が略直線状に、第１ドクターエッジ面２８ａと第２ドクターエッジ面３０ａは、断面がそれぞれ所定の曲率半径Ｒ１、Ｒ２の円弧状に形成されている。また、フロントエッジ面２６ａの後端エッジ部と第１ドクターエッジ面２８ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、第１ドクターエッジ面２８ａの後端エッジ部と第２ドクターエッジ面３０ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、いずれも塗布液Ｆ１、Ｆ２の所定厚さの膜が形成できるようになっている。

次に、本発明に使用される各種材料について説明する。ウェブＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましく使用できる。

ウェブＷの幅としては、０. １〜３ｍが、ウェブＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、ウェブＷの厚さとしては、０. ５〜１００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。但し、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。

これらのウェブＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。ウェブＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。

また、ウェブＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。

第２の塗布液により形成される磁性層に使用する強磁性粉末としては、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことが更に好ましい。

強磁性粉末には少量の水酸化物、又は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。１）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、２）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ又はＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、３）金属カルボニル化合物を熱分解する方法、４）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩又はヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、５）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法、などである。

このようにして得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。

第１の塗布液及び磁性体を含む第２の塗布液の液組成としては、目的に応じて公知の各種の組成が選択できる。第１の塗布液を擬塑性流体とすべく調整する手段としては、１）塗布液の固形分濃度を調整する、２）塗布液のバインダー分子量を調整する、３）官能基の種類を選択する、４）官能基の数を選択する、５）バインダーと溶剤の親和性を最適化する、等の手段のいずれか、又はこれらの複数の手段の組み合わせを採用できる。

第１の塗布液の乾燥後の厚さを、塗布時の厚さの７５％超とする具体的な手段としては、第１の塗布液の固形分の形状、固形分の濃度を調整する方法が採用できる。なお、後述する実施例においては、厚さ収縮を収縮率（％）として表示する。ちなみに、「収縮率（％）＝（塗布時の厚さ−乾燥時の厚さ）／塗布時の厚さ×１００」の式で表示できる。

第１の塗布液により形成される層は、実質的に非磁性であればその構成は制限されないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、たとえば、無機粉末又は有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末であるが、この層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得る。

非磁性粉末としては、たとえば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としてはたとえばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組合せで使用される。

これらの非磁性粉末の表面には表面処理が施され、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、Ｙ₂ Ｏ₃ が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ であるが、更に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

次に、塗布ヘッド１０を主体として、塗布装置を使用した塗布液の塗布について説明する。第１の塗布液Ｆ１、第２の塗布液Ｆ２は、連続的に、かつ一定の流量で送液可能な定量送液手段、一般的には定量ポンプ（図示略）により、図１に示されるように、液供給口１８Ａ、１８Ｂを経て液溜め部１４Ａ、１４Ｂに供給される。定量ポンプとしては、たとえば、プランジャポンプ、歯車ポンプ等の流量可変の送液手段が好ましく使用できる。

液溜め部１４Ａ、１４Ｂに供給された第１の塗布液Ｆ１、第２の塗布液Ｆ２は、所定量がスリット１６Ａ、１６Ｂの開口部より吐出され、残りの量が液排出口２０Ａ、２０Ｂより排出され、定量送液手段に回収される。このような運転を行うことにより、第１の塗布液Ｆ１、第２の塗布液Ｆ２が液溜め部１４Ａ、１４Ｂ内で著しく滞留することを防止できる。このような運転方法は、揺変性を有しかつ凝集し易い磁性塗布液に対しては極めて有効である。但し、液排出口２０Ａ、２０Ｂを具備しない構造であり、スリット１６Ａ、１６Ｂの開口部より吐出される所定量を液供給口１８Ａ、１８Ｂより供給する構造であってもよい。

ガイドローラなどの走行案内手段（図示略）により支持されて連続走行するウェブＷは、ガイドローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもって、かつその厚さ方向に若干湾曲可能な状態に装架され、図２に示されるように、塗布ヘッド１０の上面（ウェブＷと対向する面）に押し付けられながら図の矢印方向に所定速度で移動する。これにより、スリット１６Ａの開口部より吐出された第１の塗布液Ｆ１は、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって所定厚さに塗布される。そして、その下流において、スリット１６Ｂの開口部より吐出された第２の塗布液Ｆ２は、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって、第１の塗布液Ｆ１の上に所定厚さに塗布される。

ウェブＷの走行速度としては、一般的に３０〜１５００ｍ／分の広い範囲で選択できるが、この範囲に限られるものではない。ウェブＷの、塗布ヘッド１０の上面に押し付けられる圧力が均一になるように、各走行案内手段の間でウェブＷに加えられる張力としては、ウェブＷの幅１ｍあたり４９〜４９０Ｎ（５〜５０ｋｇｆ）が好ましい。この値は、塗布条件により、適宜調整することが好ましい。

このような塗布状態を実現するためには、既述したように、塗布ヘッド１０の上下流側にそれぞれガイドローラなどの走行案内手段を設け、ウェブＷの塗布面の反対側の面を走行案内手段に巻き掛けて走行させる。この走行案内手段と塗布ヘッド１０との距離は５０〜３００ｍｍ程度に設定するのが好ましい。また、この走行案内手段は、ウェブＷの塗布ヘッド１０への進入角度や離脱角度を調整できるように、図２の上下方向に移動調整できる構成とすることが好ましい。

更に、剛性の低いウェブＷの場合には、ツレシワの発生を抑止できるように、ウェブＷの走行経路中にエキスパンダーロールや、クラウンロール、コンケーブロール等を設けることも好ましい。

以上、本発明に係る塗布方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。

たとえば、本実施形態の例では、図１及び図２に示されるエクストルージョン塗布方法を採用したが、このような塗布方法に限らず、各種の態様が採用できる。この例として、１種類の塗布液を供給できるような液供給系のエクストルージョン塗布ヘッドを２台直列に配して、第１の塗布液と第２の塗布液を連続して塗布する構成、３種類の塗布液を供給できるように独立した液供給系が３組設けられているエクストルージョン塗布ヘッドを使用して塗布液を連続して塗布する構成、連続して走行するウェブＷにあらかじめ上流側で第１の塗布液を塗布しておき、その第１の塗布液の一部を塗布ヘッドの先端エッジで掻き落としながら、第２の塗布液を連続して塗布する構成等、いわゆるウェット・オン・ウェットの塗布手段であれば広く適用できる。

更に、塗布ヘッド１０の構成は、エクストルージョン塗布方法に限られず、カーテン塗布方法等の各種方式も採用できる。

また、エクストルージョン塗布方法を採用する場合であっても、ウェブＷを塗布ヘッド１０に押し付ける構成とせず、ウェブＷをバックアップローラに巻き掛け、ウェブＷの表面と塗布ヘッド１０の先端面との間に所定のクリアランスをもって塗布する構成も採用できる。

更に、実施形態の例では、第１の塗布液として非磁性の塗布液を、第２の塗布液として磁性体を含む塗布液を使用し、磁気記録媒体を製造する態様として説明したが、本発明は、磁気記録媒体の製造のみならず、これ以外の用途にも広く適用できる。

次に、本発明の実施例を、比較例と対比して説明する。なお、以下の各例において、「部」の表示は「重量部」 を意味する。以下の例において、磁性体を含まない第１の塗布液、及び磁性体を含む第２の塗布液の組成は以下のように調整した。

（１）磁性体を含まない第１の塗布液
非磁性粉体 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ １００部
平均長軸長 ０．１μｍ
ＢＥＴ法による比表面積 ４８ｍ² ／ｇ
ｐＨ８、 Ｆｅ₂ Ｏ₃ 含有量 ９０％以上
ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面被覆化合物 Ａｌ₂ Ｏ₃
カーボンブラック ２０部
平均１次粒子径 １６μｍ
ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ８
ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ² ／ｇ
揮発分 １. ５％
塩化ビニル共重合体 １０部
日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂 図３の表参照
分子量 ３．５万
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１
−ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０−４ｅｑ／ｇ含有
シクロヘキサノン 図３の表参照
図３の表に示されるように、ポリエステルポリウレタン樹脂の量を５〜１０部まで変化させ、シクロヘキサノンの量を６０〜１４０部まで変化させ、各成分を連続ニーダーで混練し、その後サンドミルを使用して分散処理を行った。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、その後、メチルエチルケトンを１００部加えて塗布液Ｌ１〜Ｌ８とした。

この塗布液Ｌ１〜Ｌ８それぞれについて、ロトビスコ粘度計によりη₁₀、η₁₀₀₀₀ を測定し、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ を算出した。それぞれの結果は、図３の表に示される。

また、塗布液Ｌ１〜Ｌ８それぞれについて、厚さ収縮率を算出した。この際、塗布時の膜厚は、定量送液手段（定量ポンプ）の供給液量より算出し、乾燥後の膜厚は、触針式の膜厚計により測定し、既述の式により収縮率を算出した。それぞれの結果は、図３の表に示される。

（２）磁性体を含む第２の塗布液
強磁性金属微粉末 組成：Ｆｅ／Ｃｏ＝８０／２０ １００部
Ｈｃ １８３ｋＡ／ｍ（２３００ Ｏｅ）
ＢＥＴ法による比表面積 ５４ｍ² ／ｇ
結晶子サイズ １６. ５ｎｍ
表面被覆化合物 Ａｌ₂ Ｏ₃
粒子サイズ（長軸径） ０. １０μｍ
針状比 ８
σｓ １５０Ａ・ｍ² ／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）
塩化ビニル系重合体 ５部
日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０. ９／２. ６／１
−ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０−４ｅｑ／ｇ含有
αアルミナ（粒子サイズ ０. １μｍ） ５部
カーボンブラック（粒子サイズ ０. １０μｍ） ０. ５部
ブチルステアレート １. ５部
ステアリン酸 ０. ５部
メチルエチルケトン １００部
シクロヘキサノン ５０部
トルエン ２０部
各成分を連続ニーダーで混練し、その後サンドミルを使用して分散処理を行った。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、その後、メチルエチルケトンを１００部加えて塗布液とした。

図１及び図２に示される塗布ヘッド１０を使用して、ウェブＷの表面に第１の塗布液（Ｌ１〜Ｌ８のいずれか）を塗布し、未乾燥の第１の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布して磁気記録媒体を製造した。

なお、使用した塗布ヘッドは、図２に示される塗布ヘッド１０と若干異なり、フロントエッジ面２６ａの断面形状を半径１ｍｍの円弧状とした。また、第１ドクターエッジ面２８ａの曲率半径Ｒ１を２ｍｍと、第２ドクターエッジ面３０ａの曲率半径Ｒ２を２ｍｍとした。スリット１６Ａ、１６Ｂの開口幅は、いずれも０. ２ｍｍとした。

ウェブＷとして、厚さ５．５μｍのポリエチレンナフタレートを使用した。ウェブＷの走行速度を２００ｍ／分とした。そして、第１の塗布液の層（図４の表では「下層液」と表示）の湿潤状態の厚さが６. ０μｍに、乾燥後の第２の塗布液の層の湿潤状態の厚さを変化させるように、塗布液Ｆ１及びＦ２の吐出量を制御した。

乾燥後の各塗布膜（条件１〜１１）を評価し、図４の表に示す。表において、第２の塗布液の層の膜厚（「上層厚さ」と表示）は、乾燥後の膜厚を触針式の膜厚計により測定して求めた。

図４の表の「界面粗さＲａ」は、ウェブＷを切断し、第１の塗布液の層と第２の塗布液の層との界面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で撮影し、これより界面の粗さを読み取ってＲａを算出した。

図４の表の「評価」は、上記界面粗さＲａの値が５ｎｍ以下のものを◎と、Ｒａの値が５ｎｍ超で１０ｎｍ以下のものを○と、Ｒａの値が１０ｎｍ超のものを×と分類して表示した。

図４の条件１は、界面粗さが２５. ３ｎｍと大きく、評価が×であった。この例に使用された下層液Ｌ１の収縮率は８５であり、収縮が少ないものの、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が５６と小さく、これにより界面粗さが大きくなったものと推定される。

図４の条件２は、界面粗さが２３. ５ｎｍと大きく、評価が×であった。この例に使用された下層液Ｌ２の収縮率は８１であり、収縮が少ないものの、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が９６と小さく、これにより界面粗さが大きくなったものと推定される。

図４の条件３は、界面粗さが２０. ４ｎｍと大きく、評価が×であった。この例に使用された下層液Ｌ３の収縮率は８２であり、収縮が少ないものの、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が１８２と、まだ小さく、これにより界面粗さが大きくなったものと推定される。

図４の条件４は、界面粗さが９．０ｎｍと小さく、評価が○であった。この例に使用された下層液Ｌ４の収縮率は７９であり、収縮が少なく、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が２４１と大きく、これにより界面粗さが小さくなったものと推定される。

図４の条件５は、界面粗さが４．０ｎｍと非常に小さく、評価が◎であった。この例に使用された下層液Ｌ５の収縮率は７５であり、収縮が少なく、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が２８４と大きく、これにより界面粗さが非常に小さくなったものと推定される。

図４の条件６は、界面粗さが２１. ２ｎｍと大きく、評価が×であった。この例に使用された下層液Ｌ６の収縮率は８２であり、収縮が少ないものの、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が１９３と、まだ小さく、これにより界面粗さが大きくなったものと推定される。

図４の条件７は、界面粗さが８. ３ｎｍと小さく、評価が○であった。この例に使用された下層液Ｌ７の収縮率は７８であり、収縮が少なく、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が３８８と大きく、これにより界面粗さが小さくなったものと推定される。

図４の条件８は、界面粗さが３. ５ｎｍと非常に小さく、評価が◎であった。この例に使用された下層液Ｌ８の収縮率は７４であり、収縮が少なく、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が４００と大きく、これにより界面粗さが非常に小さくなったものと推定される。

以上の条件１〜８の、第２の塗布液の層の膜厚（上層厚さ）は、全て０. １５μｍとした。

図４の条件９〜１１に使用された下層液Ｌ４は、条件４に使用されたものと同一である。ここでは、第２の塗布液の層の膜厚（上層厚さ）を変化させてあり、条件９〜１１でそれぞれ、０. ２、０. １、０. ０５μｍとした。条件９〜１１は、界面粗さがそれぞれ、７. ９、８. １、６. ５ｎｍと、いずれも小さく、評価が○であった。この例に使用された下層液Ｌ４の収縮率は７９であり、収縮が少なく、粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ が２４１と大きく、これにより界面粗さが小さくなったものと推定される。すなわち、条件４と略同様の結果であり、第２の塗布液の層の膜厚（上層厚さ）が０. ０５〜０. ２μｍの範囲では大差のない結果が得られている。

以上の結果より、本発明の効果が確認できた。

塗布装置のうち、塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図 塗布ヘッドの先端部分と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図 第１の塗布液の各値を示す表 実施例の結果を示す表

符号の説明

１０…塗布ヘッド、１２…本体、１４…液溜め部、１６…スリット、１８…液供給口、２０…液排出口、２２、２４…閉鎖板、２６…フロントエッジ、２８…第１ドクターエッジ、３０…第２ドクターエッジ、Ｆ１…第１の塗布液、Ｆ２…第２の塗布液、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）

Claims (4)

1. 可撓性支持体の表面に複数の塗布層を形成する塗布方法において、
   連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、擬塑性流体である第１の塗布液を塗布する工程と、
   未乾燥の前記第１の塗布液の上に第２の塗布液を塗布する工程と、
   を含むことを特徴とする塗布方法。
2. 前記第１の塗布液の粘度比η₁₀／η₁₀₀₀₀ を２００超とする請求項１に記載の塗布方法。
3. 前記第１の塗布液の乾燥後の厚さを、塗布時の厚さの７５％超とする請求項１又は２に記載の塗布方法。
4. 前記第２の塗布液には磁性体が含まれる請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布方法。

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