JP2001062377A - 塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】塗布と共に長時間に亘る条件出しの手間を省
き、塗布再現性がよく、良好な塗膜を得る。 【解決手段】塗布ヘッド１先端部のフロントエッジ面１
２ａ、センターエッジ面１３ａ、バックエッジ面１４ａ
に沿って連続走行される可撓性支持体１００表面に、フ
ロントエッジ１２とセンタエッジ１３の間に形成された
下層塗膜形成用スリット４２と、センターエッジとバッ
クエッジ１４の間に形成された上層塗膜形成用スリット
４３との各スリット先端部から各々塗布液を連続押出
し、支持体表面に同時に重層塗布する方法。支持体がフ
ロントエッジ面と非接触で、かつ支持体とフロントエッ
ジ上流端Ｈの距離ΔＳが０．０１０〜０．０７０ｍｍ、
バックエッジ面下流端Ａにおけるバックエッジ面の接線
とバックエッジ面下流端で塗布ヘッド側に屈曲された支
持体がなす角度θｂが８〜１２．８°となる位置決め操
作で、支持体を塗布ヘッドにセッティングする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、連続的に走行され
る支持体の上に磁性塗料等の塗布液を同時重層する塗布
方法に関し、特に、予め支持体と塗布ヘッドの配置関係
を定める相対位置決め操作およびこれに基づくセッティ
ング操作を発明の要部とする塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化、薄層化
が進みそれに伴って、従来、単層から形成されていた塗
布層が、２層以上積層された多層化構造に移行しつつあ
る。多層化構造のものは、各層の機能をそれぞれ分担さ
せ、下層を下塗り層とすれば支持体と塗布層の接着性を
向上させることができ耐久性を向上させることができる
という利点がある。

【０００３】このような多層（重層）構成を備える媒体
については、例えば、特開昭５８−１５０１２９号公報
にその技術が開示されている。

【０００４】また、多層化構造を実現する手法として、
従来はウエットオンドライ法と称して塗布層の数だけ塗
布工程および乾燥工程を順次繰り返す手法が一般的であ
った。これをさらに改善し、生産効率を上げることがで
きるものとして、特開昭５０−１３８０３６号公報や、
特開昭６３−８８０８０号公報等に記載されているよう
な重層塗布用の押出し塗布ヘッドを用い、一度の塗布で
同時に多層の塗膜を得ることができるウエットオンウエ
ット法が検討されつつあるといえる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前述の公報
等に記載された重層塗布用の押出し塗布ヘッドを用いて
多層塗布するにあたっては、所定の流量に設定された塗
布液を塗布ヘッドに供給し塗布ヘッド先端から吐出する
塗布液を支持体面上に転移させる。

【０００６】このとき塗布ヘッド先端に形成されたエッ
ジ面に対し支持体を適切な角度でラップさせるのが重要
なポイントであり、ラップ状態が適当でないと所望の多
層塗膜は得られない。

【０００７】こういった最適条件は、作業者の経験によ
るところが大きく、塗布スタート時に後述する支持体へ
の塗布ヘッドの押込みと塗布ヘッドの角度を操作するこ
とにより、ラップ角を調整しながら塗布面を確認する
「条件出し」を行うが、様子を見ながら調整することに
なり、最終的に安定した塗布条件を見出すまでに塗布す
る調整用塗料もかなりの量となってしまっているのが現
状である。

【０００８】また、塗布ヘッド自体も永久に使用できる
ものではなく、エッジの摩耗といった問題がつきまとい
摩耗が進めば所望の塗膜が得られなくなることは言うま
でもない。当然、このような場合には新しい塗布ヘッド
に交換するのであるがエッジ自体マイクロメータのオー
ダーで仕上げるものの完全に同一形状とはならず、微妙
な個体差が生じる問題もある。

【０００９】このような塗布ヘッド交換時においては、
交換前と同様の押込みおよび塗布ヘッド角度条件にして
も塗膜状態の再現性が取れない場合もあり、前述の「条
件出し」を繰り返しながら最適塗布条件を探すという極
めて大変な労力を必要としていた。

【００１０】また、支持体と塗布ヘッドを構成する各エ
ッジの位置関係に着目した技術として、特開平６−２９
６９１７号公報には、３個以上のブロックにより複数の
スロットおよびエッジ面を形成し、ブロックの３個以上
のエッジ面を支持体の塗布面に向けて前後移動可能と
し、塗布ヘッド前後のパスローラ間に支持体を掛け渡し
た後にエッジ面の全てを塗布面に接するように調整し、
良好な塗布を行う提案がなされている。しかしながら、
各ブロックの調整に必要な精度はマイクロメータのオー
ダーであり、各ブロックの歪みやたわみ等を考慮する
と、塗布部において組み立て、各ブロックを動かしつつ
調整を行う作業は、不都合な点が多く実際的ではないと
いえる。

【００１１】このような実状のもとに本発明は創案され
たものであって、その目的は、塗布液を塗布させながら
長時間に亘って行われる複雑な条件出しの手間を極力省
くことができ、塗布再現性がよく、良好な塗膜が安定し
て得られる塗布方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明は、塗布ヘッドの先端部を構成するフ
ロントエッジ面、センターエッジ面及びバックエッジ面
に沿って連続的に走行される可撓性支持体の表面に、フ
ロントエッジとセンターエッジの間に形成された下層塗
膜形成用スリットと、センターエッジとバックエッジの
間に形成された上層塗膜形成用スリットとの各スリット
先端部から各々塗布液を連続的に押出して、前記支持体
表面に各塗布液を同時に重層塗布する塗布方法におい
て、該方法は、予め支持体と塗布ヘッドの配置関係を算
出して定める相対位置決め操作が行われ、この相対位置
決め操作に基づき、実際に支持体を塗布ヘッドにセッテ
ィングするセッティング操作が行われ、前記相対位置決
め操作は、支持体がフロントエッジ面と非接触状態で、
かつ支持体とフロントエッジ上流端の距離ΔＳが、０．
０１０〜０．０７０ｍｍの範囲内となるように設定さ
れ、さらに、支持体をバックエッジ面下流端で塗布ヘッ
ド側に屈曲させるとともに、バックエッジ面下流端にお
けるバックエッジ面の接線と屈曲された支持体とがなす
角度θｂが、８〜１２．８°の範囲内となるように設定
されるように構成される。

【００１３】より好ましい態様として、前記支持体は、
センターエッジ面上で接触するように設定される。

【００１４】より好ましい態様として、前記相対位置決
め操作は、塗布ヘッドの位置および／または塗布ヘッド
の上流側および下流側に配置されたガイドロールの位置
を調整することにより行われる。これらの操作はスリッ
トが１つのみの塗布ヘッドにも適用可能である。

【００１５】より好ましい態様として、前記相対位置決
め操作は、前記塗布ヘッドの各部の寸法をあらかじめ計
測し、該塗布ヘッド前後に配置されたガイドロールと塗
布ヘッドの相対位置より前記支持体と前記塗布ヘッドの
各エッジとの接触状態を算出し、得られたデ−タに基づ
きバックアップロール位置および／または塗布ヘッドの
位置を調整し支持体と塗布ヘッドの各エッジ面との接触
状態を所定の状態としてなるように構成される。これら
の操作はスリットが１つのみの塗布ヘッドにも適用可能
である。

【００１６】また、本発明は、塗布ヘッドのスリット先
端部から塗布液を連続的に押出して、支持体表面に塗布
液を塗布する塗布方法において、該方法は、予め支持体
と塗布ヘッドの配置関係を算出して定める相対位置決め
操作が行われ、この相対位置決め操作に基づき、実際に
支持体を塗布ヘッドにセッティングするセッティング操
作が行われ、前記相対位置決め操作は、塗布ヘッドの位
置および／または塗布ヘッドの上流側および下流側に配
置されたガイドロールの位置を調整することにより行わ
れるように構成される。

【００１７】また、本発明は、塗布ヘッドのスリット先
端部から塗布液を連続的に押出して、支持体表面に塗布
液を塗布する塗布方法において、該方法は、予め支持体
と塗布ヘッドの配置関係を算出して定める相対位置決め
操作が行われ、この相対位置決め操作に基づき、実際に
支持体を塗布ヘッドにセッティングするセッティング操
作が行われ、前記相対位置決め操作は、前記塗布ヘッド
の各部の寸法をあらかじめ計測し、該塗布ヘッド前後に
配置されたガイドロールと塗布ヘッドの相対位置より前
記支持体と前記塗布ヘッドのエッジとの接触状態を算出
し、得られたデ−タに基づきバックアップロール位置お
よび／または塗布ヘッドの位置を調整し支持体と塗布ヘ
ッドのエッジ面との接触状態を所定の状態としてなるよ
うに構成される。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の塗布方法について
詳細に説明する。

【００１９】まず、最初に本発明の塗布方法に用いられ
る塗布ヘッドについて説明する。図１には、本発明の塗
布方法に用いられる同時重層塗布用の塗布ヘッド１の好
適例が示されており、この塗布ヘッド１は、支持体が搬
送される上流側（図面の左方）から、フロントバー２、
センターバー３およびバックバー４の３つのブロックに
より構成されている。フロントバー２およびバックバー
４は、それぞれボルトによって中央に位置するセンター
バー３に一体的に結合されている。

【００２０】フロントバー２とセンターバー３を合せる
ことにより、２つのバーの合わせ部には、下層塗膜形成
用の塗布液の液溜めである下層ポケット５２と支持体幅
方向（図１において紙面奥行き方向）に下層塗膜形成用
の塗布液の流量を均一化する下層塗膜形成用スリット４
２（以下、下層スリット４２と称す）が形成され、ま
た、同様にセンターバー３とバックバー４を合せること
により、２つのバーの合わせ部には上層塗膜形成用の塗
布液の液溜めである上層ポケット５３と、支持体幅方向
（図１において紙面奥行き方向）に上層塗膜形成用の塗
布液の流量を均一化する上層塗膜形成用スリット４３
（以下、上層スリット４３と称す）が形成される構造に
なっている。

【００２１】このような塗布ヘッド１は、そのバックバ
ー４の上面であるバックエッジ面１４ａおよびセンター
バー３の上面であるセンターエッジ面１３ａをＲ面（円
弧）形状とし、フロントバー２上面のフロントエッジ面
１２ａを平面形状とするのが好ましい。バックエッジ面
１４ａのＲ面形状の曲率半径Ｒｂは、その曲率中心を図
面中のＯｂ位置とし、３ｍｍ≦Ｒｂ≦４０ｍｍの範囲
内、特に、１３ｍｍ≦Ｒｂ≦３５ｍｍの範囲内に設定す
ることが好ましい。また、センターエッジ面１３ａのＲ
形状の曲率半径Ｒｃはその曲率中心を図面中のＯｃ位置
とし、３ｍｍ≦Ｒｃ≦３０ｍｍの範囲内、特に、３ｍｍ
≦Ｒｃ≦１０ｍｍの範囲内に設定することが好ましい。

【００２２】また、バックエッジ１４の長さＬｂ、セン
ターエッジ１３の長さＬｃは、各々０．２〜３ｍｍ程度
とするのがよく、好ましくは各エッジの長さの和（Ｌｂ
＋Ｌｃ）を０．４〜４ｍｍの範囲とするのがよい。フロ
ントエッジ１２の長さＬｆは、０．０３〜０．３ｍｍ程
度とするのがよく、好ましくは０．０５〜０．２ｍｍの
範囲とするのがよい。ここで、バックエッジ１４の長さ
Ｌｂ、およびセンターエッジ１３の長さＬｃは、最下流
側（図面の右方）のスリットである上層スリット４３の
塗布液流出方向を基準線とし各エッジの両端点において
基準線に平行線を引き、その平行線の距離をそれぞれの
エッジの長さとしている。フロントエッジ１２の長さＬ
ｆは、１２ａの長さである。

【００２３】上層スリット４３および下層スリット４２
は、その開口幅ＷｕおよびＷｌが０．０５〜０．６ｍｍ
程度であり、塗布ヘッド１の幅方向（支持体搬送方向に
対し直角方向：紙面奥行き方向）に沿って形成されてい
る流路である。また、スリット部の流路長ＰｕおよびＰ
ｌは、例えば、塗布液の組成および物性、塗布液の供給
量等に基づいて適宜、設定することができる。なお、上
層スリット４３と下層スリット４２を同じ開口幅、同じ
スリット長さにしてもよく、また異なった開口幅および
／またはスリット長さに設定してもよい。

【００２４】各エッジ面１２ａ，１３ａ，１４ａの高さ
方向の位置調整については、前述したように３つのバー
をネジ止めにより結合し一体化する構造となっておりセ
ンターバー３を基準としてフロントバー２およびバック
バー４の相対的位置を合わせ、ボルトで固定することで
調整する。

【００２５】本発明に用いる塗布ヘッド１においては、
各エッジ面の高さ方向の相対位置を次の通りとすること
が好ましい。すなわち、センターエッジ１３の下流端点
を基準としたバックエッジ１４の上流端の位置のずれ
（以下、上層段差）を−１５μｍ≦ΔＨｕ≦＋１５μｍ
とし、フロントエッジ１２の下流端点を基準としたセン
ターエッジ１３の上流端の位置のずれ（以下、下層段
差）を＋１０μｍ≦ΔＨｌ≦＋１００μｍとするのがよ
い。

【００２６】このようにして組み立てられた塗布ヘッド
１について、フロントバー上流側基準面６２および塗布
ヘッド底面６３の交点である塗布ヘッド基準点Ｏｎを基
準に各エッジ上の点を計測する。なお、本発明の実施の
形態においては上層スリット４３の塗布液流出方向と塗
布ヘッド底面は直角であって塗布ヘッド基準点Ｏｎを原
点にして以下に述べるＡ〜Ｈの各点をｘ−ｙ座標で計測
することができる。

【００２７】位置算出が必要なポイントは図２に示すよ
うにバックエッジ１４では、下流端点Ａ、上流端点Ｃ、
およびバックエッジ面１４ａ上での任意の点Ｂであり、
センターエッジ１３では、下流端点Ｄ、上流端点Ｆ、お
よびセンターエッジ面１３ａ上での任意の点Ｅであり、
フロントエッジ１２では、下流端点Ｇ、および上流側端
点Ｈである。計測手段は、特に限定せず塗布ヘッド基準
点Ｏｎを基準に各点を直接計測しても良いし、各点の相
対的な位置関係がわかっていれば、上記Ａ〜Ｈの任意の
点を計測しそのデータから各点の座標を塗布ヘッド基準
点Ｏｎ基準で表してもよい。例えば、点Ａを高さの基準
点として高さＨ´を計測し、点Ｄを水平方向の基準点と
して水平距離Ｌ１を計測して各エッジ長さ、各段差等よ
り塗布ヘッド基準点Ｏｎを基準に各点の座標を求めても
よい。

【００２８】なお、バックエッジ面１４ａ上の任意の点
Ｂは、バックエッジ面１４ａがＲ面形状となっているの
でＡ点、Ｂ点およびＣ点の３点からバックエッジ面のＲ
中心Ｏｂ、半径Ｒｂを算出するために必要であり、同様
にセンターエッジ面１３ａ上の任意の点Ｅは、センター
エッジ面１３ａがＲ面形状となっているのでＤ点、Ｅ点
およびＦ点の３点からセンターエッジ面のＲ中心Ｏｃ、
半径Ｒｃを算出するために必要である。

【００２９】このような塗布ヘッド１は、通常、受け台
に固定され塗布に用いられる。受け台は図示してない
が、直線移動機能と回動機能を備えた構造となってお
り、この受け台に設置された塗布ヘッド１は、例えば、
図３に示されるように矢印（α）−（α）方向の直線移
動と矢印（β）−（β）方向の回動運動ができるように
なっている。これにより、支持体１００と塗布ヘッド１
との位置調整が容易にできる。

【００３０】塗布にあたっては、図３に示すように塗布
ヘッド１の上流および下流にバックアップロール５およ
び６が配置され、この２本のロール間に所定の張力をも
って支持体１００が懸架される。バックアップロールに
より支持体の背面が支持されない領域に塗布ヘッド１の
先端部を支持体１００に対して押し付け、各エッジ面と
支持体１００との関係を適正化することにより良好な塗
布が行える。

【００３１】本発明においては、前記塗布ヘッド１の各
スリット４２，４３から塗布液を吐出する塗布操作の前
に、予め支持体１００と塗布ヘッドの配置関係を算出し
て定める相対位置決め操作が行われ、この相対位置決め
操作に基づき、実際に支持体を塗布ヘッドにセッティン
グするセッティング操作が行われる。この相対位置決め
操作は、セッティングの条件を定めるものであり本発明
の要部を構成する。なお、本発明の技術的思想は、上記
のようなスリットを２つ有するものに限定されるもので
はなく、スリットを１つのみ有するものであっても、一
旦、最適な配置関係（例えば、後述するΔＳおよびθｂ
に相当するパラメータ）が決められれば同様に相対位置
決め操作を行うことにより本発明の目的を達することが
できる。

【００３２】本発明における相対位置決め操作は、図３
に示されるように支持体１００がフロントエッジ面１２
ａと非接触状態で、かつ支持体１００とフロントエッジ
１２の上流端Ｈとの距離ΔＳが、０．０１０〜０．０７
０ｍｍの範囲内となるように設定される。さらに、支持
体１００をバックエッジ面１４ａの下流端Ａで塗布ヘッ
ド側に屈曲させるとともに、バックエッジ面１４ａ下流
端Ａにおけるバックエッジ面１４ａの接線５０と屈曲さ
れた支持体１００ａとがなす角度θｂが、８〜１２．８
°の範囲内となるように設定される。なお、バックエッ
ジ面１４ａは、図１に示されるように曲率半径Ｒｂの曲
面であり、その曲率中心はＯｂ位置である。

【００３３】上記ΔＳの値および角度θｂの値の範囲を
定めることによって、良好な塗布が行えることはもちろ
んのこと、従来のような塗布開始後の長時間に亘る塗布
条件の設定が不要になる。塗布ヘッドの交換を行っても
立ち上げ時間は極めて短かくなる。

【００３４】上記ΔＳの値および角度θｂの調整は（相
対位置決め操作およびセッティング操作ともに）、上述
したように受け台を介して、塗布ヘッド１を直線移動さ
せたり回動移動させたりして行ってもよいし（図３）、
また、塗布ヘッド１を固定しておき、塗布ヘッドの上流
側に位置するバックアップロール５および／または下流
側に位置するバックアップロール６を塗布ヘッド方向に
相対的に移動（図３の矢印（γ）−（γ）方向、（δ）
−（δ）方向）させて行ってもよい。

【００３５】本発明に使用することのできる支持体１０
０としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の
プラスチックフィルム、紙や金属箔等からなる長尺の可
撓性支持体等を挙げることができ、特に制限はない。ま
た、支持体に予め種々の処理層が形成されたものであっ
てもよい。

【００３６】本発明に使用することのできる塗布液は、
押出し塗布ヘッドによる塗布に適した塗布液であれば特
に制限はない。押出し塗布方法は、塗布層の厚さ制御性
に優れており、従来より安定した塗布膜厚が要求される
ような用途において用いられている。このような用途の
一つとして、磁気記録媒体の磁気記録層やバックコート
層の形成があり、磁性粉、バインダーおよび溶媒を有す
る磁性塗布液、あるいはバックコート用塗布液は、本発
明に使用することのできる好適な塗布液の一つである。

【００３７】ここで、磁性塗布液の例を挙げると、磁性
粉としては、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂０₃ 、
Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ含有Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｒ０₂ 、バリウムフェ
ライト、ストロンチウムフェライト等の酸化物微粉末、
Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合金粉末、
炭化鉄等がいずれも使用可能である。また、バインダと
しては、公知の各種バインダはいずれも使用可能であ
る。さらに、溶媒は特に制限はなく、例えば、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン系、トルエン等の芳香族系等の各種溶媒を
目的に応じて適宜選択することができる。また、磁性塗
布液には、必要に応じてカーボン、無機微粒子、潤滑剤
等の各種添加剤を含有させてもよい。

【００３８】上記のような磁性塗布液を用いて形成され
る磁気記録層は、乾燥膜厚が０．０５〜６μｍ程度であ
り、この磁気記録層の３０〜９２重量％を磁性粉が占め
るような構成が好ましい。また、近年行われているよう
に塗布液を湿潤状態で多層化して塗布層を設けてもよ
い。この場合、塗布液は磁性液に限定されるものではな
く、非磁性液、樹脂の溶解液等、上述の通り押出し塗布
ヘッドによる塗布に適した塗布液ならば適用可能であ
り、塗布層の層構成についても必要に応じて選択するこ
とができる。

【００３９】また、バックコート用塗布液、非磁性層用
塗布液の例を挙げると、顔料としてはカーボンブラッ
ク、α−Ｆｅ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂ 、ＣａＯ、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂
Ｏ₃、α−Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＣ、ＣａＣＯ₃、ＢａＳＯ₄、
ＺｎＯ、ＭｇＯ、窒化ホウ素、ＴｉＣ等の非磁性無機粉
末等いずれも使用可能である。

【００４０】また、バインダーとしては、公知の各種バ
インダーはいずれも使用可能である。さらに、溶媒は特
に制限はなく、例えば、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系、トル
エン等の芳香族系等の各種溶媒を目的に応じて適宜選択
することができる。また、バックコート用塗布液は、必
要に応じて無機微粒子、潤滑剤等の各種添加剤を含有さ
せてもよい。上記のようなバックコート用塗布液を用い
て形成されるバックコート層は、乾燥膜厚が０．１〜
１．０μｍ程度であり、このバックコート層の３０〜８
２重量％を顔料が占めるような構成が好ましい。また、
非磁性層用塗布液は、必要に応じてカーボン、無機微粒
子、潤滑剤等の各種添加剤を含有させてもよい。さら
に、顔料なしのバインダー溶液であってもよい。上記の
ような非磁性層用塗布液を用いて形成される非磁性塗布
層は、乾燥膜厚が０．０５〜３．０μｍ程度であり、こ
の非磁性層の０〜８２重量％を顔料が占めるような構成
が好ましい。

【００４１】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明する。

【００４２】まず、最初に下記に示されるような３種類
の塗布液I〜IIIを準備した。 （塗布液の組成I） ・Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂Ｏ₃（ＢＥＴ値３１ｍ²／ｇ；Ｈｃ７００Ｏｅ） … １００重量部 ・極性基含有塩化ビニル系共重合体 … １５重量部 ・スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 … ６重量部 （固形分換算） ・分散剤 … １．５重量部 ・ステアリン酸 … １重量部 ・ステアリン酸ブチル … １重量部 ・α−アルミナ … ２重量部 ・カーボンブラック … ８重量部 ・メチルエチルケトン … １６０重量部 ・トルエン … ４０重量部 ・シクロヘキサノン … １００重量部 ・硬化剤（日本ポリウレタン（株）製 Ｃ−３０４１ ＮＶ５０％） … ８．４重量部

【００４３】 （塗布液の組成II） ・Ｆｅ系金属磁性粉（ＢＥＴ値４５ｍ²／ｇ；Ｈｃ１５００Ｏｅ） … １００重量部 ・極性基含有塩化ビニル系共重合体 … １５重量部 ・スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 … ６重量部 （固形分換算） ・分散剤 … １．５重量部 ・ステアリン酸 … １重量部 ・ステアリン酸ブチル … １重量部 ・α−アルミナ … ２重量部 ・カーボンブラック … ７．５重量部 ・メチルエチルケトン … １５０重量部 ・トルエン … ３０重量部 ・シクロヘキサノン … ９０重量部 ・硬化剤（日本ポリウレタン（株）製 Ｃ−３０４１ ＮＶ５０％） … ８．４重量部

【００４４】 （塗布液の組成III） ・α-Ｆｅ₂Ｏ₃（ＢＥＴ値５０ｍ²／ｇ） … １００重量部 ・極性基含有塩化ビニル系共重合体 … １５重量部 ・スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂 … ６重量部 （固形分換算） ・分散剤 … １．５重量部 ・ステアリン酸 … １重量部 ・ステアリン酸ブチル … １重量部 ・α−アルミナ … ２重量部 ・メチルエチルケトン … １６０重量部 ・トルエン … ４０重量部 ・シクロヘキサノン … １００重量部 ・硬化剤（日本ポリウレタン（株）製 Ｃ−３０４１ ＮＶ５０％） … ８．４重量部

【００４５】次いで、塗布実験に用いる４種類の重層塗
布用の押出し塗布ヘッドＡ，Ｂ，Ｃ，およびＤを準備し
た。これらの各塗布ヘッドの仕様は、前述した塗布ヘッ
ドの好ましい態様の範囲の中から適宜選定して設定した
ものである。

【００４６】これらの塗布ヘッドおよび塗布液を用い
て、下記に示すような具体的塗布実験を行った。

【００４７】（実験例I）下層塗膜形成用の塗布液とし
て上記塗布液組成IIIのものを用い、上層塗膜形成用の
塗布液として上記塗布液組成Iのものを用い、下記の塗
布条件で、１５μｍ厚さのポリエチレンテレフタレート
支持体の上に、下層塗膜および上層塗膜の重層塗布を行
った。

【００４８】塗布条件 下層塗膜形成用の塗布液の吐出量：１２ｃｃ／ｍ² 上層塗膜形成用の塗布液の吐出量：５ｃｃ／ｍ² 支持体搬送速度（塗布速度）：４００ｍ／ｍｉｎ 塗布部テンション：３５ｋｇ／ｍ幅

【００４９】塗布ヘッドから塗布液を吐出する塗布操作
の前に、予め支持体と塗布ヘッドの配置関係を算出して
定める相対位置決め操作を行ない、この相対位置決め操
作に基づき、実際に支持体を塗布ヘッドにセッティング
するセッティング操作を行なった。相対位置決め操作お
よびセッティング操作条件は、下記表１に示されるよう
な条件とし、塗布を開始した後には、塗布ヘッドの調整
は行わなかった。塗布は支持体長さ５０００ｍに渡って
行い、塗布後乾燥してロール状に巻き取った後、１／２
インチ幅にスリットしてパンケーキ状とした

【００５０】また、得られた塗布形成物の塗膜の状態
（スジの発生状況）を、下記の基準で評価した。塗布形
成物のスジが発生している部分は、パンケーキの外周表
面にへこみや盛り上がりなどの変形が見られるので、全
パンケーキについてこれら変形の有無を目視にて確認
し、全パンケーキに対する変形発生パンケーキ数をパー
セントで表した。

【００５１】塗膜の状態（スジの発生状況） ○…２％未満 ×…２％以下 ××…塗布状態が不安定または塗布不可

【００５２】結果を下記表１に示した。

【表１】

【００５３】（実験例II）下層塗膜形成用の塗布液とし
て上記塗布液組成IIIのものを用い、上層塗膜形成用の
塗布液として上記塗布液組成IIのものを用い、下記の塗
布条件で、１５μｍ厚さのポリエチレンテレフタレート
支持体の上に、下層塗膜および上層塗膜の重層塗布を行
った。

【００５４】塗布条件 下層塗膜形成用の塗布液の吐出量：１２ｃｃ／ｍ² 上層塗膜形成用の塗布液の吐出量：４ｃｃ／ｍ² 支持体搬送速度（塗布速度）：３００ｍ／ｍｉｎ 塗布部テンション：３５ｋｇ／ｍ幅

【００５５】塗布ヘッドから塗布液を吐出する塗布操作
の前に、予め支持体と塗布ヘッドの配置関係を算出して
定める相対位置決め操作を行ない、この相対位置決め操
作に基づき、実際に支持体を塗布ヘッドにセッティング
するセッティング操作を行なった。相対位置決め操作お
よびセッティング操作条件は、下記表２に示されるよう
な条件とし、塗布を開始した後には、塗布ヘッドの調整
は行わなかった。

【００５６】また、得られた塗布形成物の塗膜の状態
（スジの発生状況）を、上記と同様の基準で評価した。

【００５７】結果を下記表２に示した。

【表２】

【００５８】

【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明は、塗布ヘッドの先端部を構成
するフロントエッジ面、センターエッジ面及びバックエ
ッジ面に沿って連続的に走行される可撓性支持体の表面
に、フロントエッジとセンターエッジの間に形成された
下層塗膜形成用スリットと、センターエッジとバックエ
ッジの間に形成された上層塗膜形成用スリットとの各ス
リット先端部から各々塗布液を連続的に押出して、前記
支持体表面に各塗布液を同時に重層塗布する塗布方法に
おいて、該方法は、予め支持体と塗布ヘッドの配置関係
を算出して定める相対位置決め操作が行われ、この相対
位置決め操作に基づき、実際に支持体を塗布ヘッドにセ
ッティングするセッティング操作が行われ、前記相対位
置決め操作は、支持体がフロントエッジ面と非接触状態
で、かつ支持体とフロントエッジ上流端の距離ΔＳが、
０．０１０〜０．０７０ｍｍの範囲内となるように設定
され、さらに、支持体をバックエッジ面下流端で塗布ヘ
ッド側に屈曲させるとともに、バックエッジ面下流端に
おけるバックエッジ面の接線と屈曲された支持体とがな
す角度θｂが、８〜１２．８°の範囲内となるように設
定されているので、塗布液を塗布させながら長時間に亘
って行われる複雑な条件出しの手間を極力省くことがで
き、塗布再現性がよく、良好な塗膜が安定して得られる
塗布方法を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の塗布方法に用いられる同時重層塗布用
の塗布ヘッドの好適例を示す断面図である。

【図２】本発明の塗布方法に用いられる同時重層塗布用
の塗布ヘッドの好適例を示す断面図である。

【図３】支持体を塗布ヘッドにセッティングする状態を
示す断面図である。

【符号の説明】

１…塗布ヘッド ２…フロントバー ３…センターバー ４…バックバー １２…フロントエッジ １２ａ…フロントエッジ面 １３…センターエッジ １３ａ…センターエッジ面 １４…バックエッジ １４ａ…バックエッジ面 ４２…下層塗膜形成用スリット ４３…上層塗膜形成用スリット １００…支持体 Ｈ…フロントエッジ上流端 Ａ…バックエッジ面下流端

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D075 AC02 AC09 AC92 AC93 AE03 CA48 DA04 DB48 DC28 EA05 4F040 AA22 AB01 AC01 BA35 CA03 DA02 DA12 4F041 AA12 AB01 BA05 BA13 BA34 BA56 CA02 CA12 CA22 CA25

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塗布ヘッドの先端部を構成するフロント
   エッジ面、センターエッジ面及びバックエッジ面に沿っ
   て連続的に走行される可撓性支持体の表面に、フロント
   エッジとセンターエッジの間に形成された下層塗膜形成
   用スリットと、センターエッジとバックエッジの間に形
   成された上層塗膜形成用スリットとの各スリット先端部
   から各々塗布液を連続的に押出して、前記支持体表面に
   各塗布液を同時に重層塗布する塗布方法において、 該方法は、予め支持体と塗布ヘッドの配置関係を算出し
   て定める相対位置決め操作が行われ、この相対位置決め
   操作に基づき、実際に支持体を塗布ヘッドにセッティン
   グするセッティング操作が行われ、 前記相対位置決め操作は、支持体がフロントエッジ面と
   非接触状態で、かつ支持体とフロントエッジ上流端の距
   離ΔＳが、０．０１０〜０．０７０ｍｍの範囲内となる
   ように設定され、さらに、支持体をバックエッジ面下流
   端で塗布ヘッド側に屈曲させるとともに、バックエッジ
   面下流端におけるバックエッジ面の接線と屈曲された支
   持体とがなす角度θｂが、８〜１２．８°の範囲内とな
   るように設定されてなることを特徴とする塗布方法。
2. 【請求項２】 前記支持体は、センターエッジ面上で接
   触するように設定される請求項１に記載の塗布方法。
3. 【請求項３】 前記相対位置決め操作は、塗布ヘッドの
   位置および／または塗布ヘッドの上流側および下流側に
   配置されたガイドロールの位置を調整することにより行
   われる請求項１または請求項２に記載の塗布方法。
4. 【請求項４】 前記相対位置決め操作は、前記塗布ヘッ
   ドの各部の寸法をあらかじめ計測し、該塗布ヘッド前後
   に配置されたガイドロールと塗布ヘッドの相対位置より
   前記支持体と前記塗布ヘッドの各エッジとの接触状態を
   算出し、得られたデ−タに基づきバックアップロール位
   置および／または塗布ヘッドの位置を調整し支持体と塗
   布ヘッドの各エッジ面との接触状態を所定の状態として
   なる請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の塗布方
   法。
5. 【請求項５】 塗布ヘッドのスリット先端部から塗布液
   を連続的に押出して、支持体表面に塗布液を塗布する塗
   布方法において、 該方法は、予め支持体と塗布ヘッドの配置関係を算出し
   て定める相対位置決め操作が行われ、この相対位置決め
   操作に基づき、実際に支持体を塗布ヘッドにセッティン
   グするセッティング操作が行われ、 前記相対位置決め操作は、塗布ヘッドの位置および／ま
   たは塗布ヘッドの上流側および下流側に配置されたガイ
   ドロールの位置を調整することにより行われることを特
   徴とする塗布方法。
6. 【請求項６】 塗布ヘッドのスリット先端部から塗布液
   を連続的に押出して、支持体表面に塗布液を塗布する塗
   布方法において、 該方法は、予め支持体と塗布ヘッドの配置関係を算出し
   て定める相対位置決め操作が行われ、この相対位置決め
   操作に基づき、実際に支持体を塗布ヘッドにセッティン
   グするセッティング操作が行われ、 前記相対位置決め操作は、前記塗布ヘッドの各部の寸法
   をあらかじめ計測し、該塗布ヘッド前後に配置されたガ
   イドロールと塗布ヘッドの相対位置より前記支持体と前
   記塗布ヘッドのエッジとの接触状態を算出し、得られた
   デ−タに基づきバックアップロール位置および／または
   塗布ヘッドの位置を調整し支持体と塗布ヘッドのエッジ
   面との接触状態を所定の状態としてなることを特徴とす
   る塗布方法。