JP2005111306A - 塗布方法 - Google Patents

Abstract

【課題】２層以上の塗布層を形成する塗布方法において、塗布時の不安定現象を排除でき、膜厚分布が均一であり、表面が平滑な塗布層を形成でき、かつ、稼働率の向上、歩留りの向上が達成できる塗布方法を提供する。
【解決手段】連続走行する帯状の可撓性支持体Ｗの表面に第１の塗布装置で第１の塗布液Ｆ１を塗布し、この第１の塗布液を乾燥させて下層を形成する工程と、下層の表面に第２の塗布装置１０で第２の塗布液Ｆ２を塗布し上層を形成する工程と、を有する塗布方法。上層を形成する工程において、可撓性支持体Ｗの、下層の塗布開始部分Ｆ１Ｓが第２の塗布装置１０を通過した後に第２の塗布液の塗布を開始させる。
【選択図】 図２

Description

本発明は塗布方法に係り、特に、ガイドローラなどの走行案内手段により支持されて連続走行する可撓性支持体上に磁気記録層等を塗布するのに好適に使用される塗布方法に関する。

写真感光材料や磁気記録媒体は、連続走行する帯状の支持体（以下、「ウェブ」という）上に磁性液等の所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程を経て製造される。特に、磁気記録テープ等の磁気記録媒体は、近年、放送用やコンピュータ用として急速に容量、記録密度が向上しており、膜厚が極薄く、膜厚分布が均一であり、かつ表面が平滑な磁性層を得ることのできる塗布技術が求められている。

このような市場の要求に対応すべく、本出願人により色ムラや縦スジの発生を効果的に抑えることができ、従来以上に高品質な塗布層が形成でき、電磁変換特性にすぐれた磁気記録媒体を製造可能とする塗布方法（特許文献１、２参照）等の提案がなされている。

この技術は、エクストルージョン方式の塗布装置を使用した塗布方法において、各種の工夫を加え、これにより塗布欠陥を低減できるとするものであり、特許文献１は、塗布ヘッドとウェブとの接触のタイミングに合わせて塗布を開始させるものであり、特許文献２は、塗布を開始する際に瞬時に所定の塗布液流量とするものである。
特公平６−０９１９８０号公報 特公平６−００９６７２号公報

しかしながら、上記のような従来の技術においても、解決しきれていない問題点があった。すなわち、２層以上の塗布層を形成する塗布方法における従来技術は、連続走行するウェブの表面に下層となる塗布液を塗布し、直後に、その上に上層となる塗布液を塗布する、いわゆる「ウェット・オン・ウェット」方式であった。そして、この方式では、上層となる塗布液を塗布する際に外乱を生じると、塗布ヘッドの先端部に形成された塗布液のメニスカスが壊れ、これにより塗布状態が不安定となる問題点があった。

特に、塗布の開始時に、下層となる塗布液の塗布開始部分が上層となる塗布液の塗布ヘッドを通過すると、塗布開始部分の急激な厚さ変化や、急激な塗れ性変化により、上層となる塗布液のメニスカスが壊れ、これにより、上流部に液が掻き戻り、スジ状の塗布厚さムラを生じさせることが多い。これにより、稼働率の低下、歩留りの低下等の不具合となることより、改善が強く求められていた。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、２層以上の塗布層を形成する塗布方法において、塗布時の不安定現象を排除でき、膜厚分布が均一であり、表面が平滑な塗布層を形成でき、かつ、稼働率の向上、歩留りの向上が達成できる塗布方法を提供することを目的とする。

本発明は、前記目的を達成するために、連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に第１の塗布装置で第１の塗布液を塗布し、該第１の塗布液を乾燥させて下層を形成する工程と、前記下層の表面に第２の塗布装置で第２の塗布液を塗布し上層を形成する工程と、を有する塗布方法において、前記可撓性支持体の、前記下層の第１の塗布液の塗布開始部分が前記第２の塗布装置を通過した後に前記第２の塗布液の塗布を開始させることを特徴とする塗布方法を提供する。

本発明によれば、乾燥された下層を有するウェブ（可撓性支持体）に第２の塗布液を塗布し上層を形成する。そして、下層の塗布開始部分が第２の塗布装置を通過した後に第２の塗布液の塗布を開始する。したがって、第２の塗布液の塗布開始時には、外乱となる段差部等が通過することはなく、第２の塗布液のメニスカスが壊れることもない。これにより、塗布時の不安定現象を排除でき、膜厚分布が均一であり、表面が平滑な塗布層を形成でき、かつ、稼働率の向上、歩留りの向上が達成できる。

本発明において、前記第２の塗布装置の塗布液供給部に前記可撓性支持体を押し付けて塗布を行なうことが好ましい。このような塗布方法を行なう際に本発明の効果が好適に発揮できる。

また、本発明において、前記第２の塗布液による上層を形成する工程において、前記可撓性支持体の、前記下層の第１の塗布液の塗布終了部分が前記第２の塗布装置を通過する前に前記第２の塗布液の塗布を終了させることが好ましい。塗布終了時においても、このような方法を採用すれば、外乱となる段差部等が通過することはなく、本発明の効果が一層発揮できる。

また、本発明において、前記下層の第１の塗布液の塗布開始部分が前記第２の塗布装置を通過してから０. ２秒以上後に前記第２の塗布液の塗布を開始させることが好ましい。このような条件を採用することにより、後述するような本発明の効果が好適に発揮できる。

また、本発明において、前記下層の第１の塗布液の塗布終了部分が前記第２の塗布装置を通過する０. ５秒以上前に前記第２の塗布液の塗布を終了させることが好ましい。このような条件を採用することにより、後述するような本発明の効果が好適に発揮できる。

また、本発明において、前記第２の塗布装置の塗布液供給部には、前記支持体の幅方向において前記支持体と対向し、開口部より塗布液を吐出するスリットが設けられ、該スリット開口部の上流側エッジの曲率半径が５μｍ以下となっていることが好ましい。このような構成の塗布装置を使用することにより、膜厚分布が均一であり、かつ表面が平滑な塗布層を形成できる。

以上説明したように、本発明によれば、ウェブ（可撓性支持体）の表面に第１の塗布液を塗布し、この第１の塗布液を乾燥させて下層を形成し、この下層を有するウェブに第２の塗布液を塗布し上層を形成する。そして、下層の塗布開始部分が第２の塗布装置を通過した後に第２の塗布液の塗布を開始する。したがって、第２の塗布液の塗布開始時には、外乱となる段差部等が通過することはなく、第２の塗布液のメニスカスが壊れることもない。これにより、塗布時の不安定現象を排除でき、膜厚分布が均一であり、表面が平滑な塗布層を形成でき、かつ、稼働率の向上、歩留りの向上が達成できる。

以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様の例について説明する。図１は、本発明に適用される塗布装置のうち、塗布ヘッド１０の一部を切断して示す斜視図である。図２は、塗布ヘッド１０の先端部分と可撓性支持体（以下、「ウェブ」と称する）Ｗとの位置関係を示す概略断面図であり、ウェブＷを塗布ヘッド１０に対してセットし、塗布液を塗布している状態を示す。

図１及び図２に示されるように、塗布ヘッド１０は、塗布液を供給できるような下記の液供給系が設けられている。すなわち、塗布ヘッド１０の本体１２には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びた液溜め部１４と、液溜め部１４と連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を塗出するスリット１６と、液溜め部１４へ塗布液を供給する液供給口１８と、液溜め部１４から塗布液を引き抜く液排出口２０と、を備えている。

液溜め部１４は、「ポケット」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図１に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。液溜め部１４の貫通した両端開口部は、図１に示されるように、本体１２の両端部に取付けられる閉鎖板２２、２４により閉止されている。なお、既述の液供給口１８は閉鎖板２２に、液排出口２０は閉鎖板２４にそれぞれ設けられている。

スリット１６は、液溜め部１４からウェブＷに向け、通常、０. ０５〜１．０ｍｍの開口幅をもって塗布ヘッド１０の本体１２内部を貫通し、かつ液溜め部１４と同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。なお、スリット１６におけるウェブＷに向けた流路の長さは、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスリット１６から供給できればよい。

次に、塗布ヘッド１０の先端部分について、図２を参照しながら説明する。スリット１６は、塗布ヘッド１０の本体１２（図１参照）のフロントエッジ２６とバックエッジ２８とにより形成される。塗布ヘッド１０の本体１２の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面２６ａ、バックエッジ面２８ａがそれぞれ形成されている。

図２に示されるように、フロントエッジ面２６ａは断面が略直線状に、バックエッジ面２８ａは、断面が山型に形成されている。また、フロントエッジ面２６ａの後端エッジ部２６ｂとバックエッジ面２８ａの先端エッジ部２８ｂとには所定の段差が設けられ、塗布液Ｆの所定厚さの膜が形成できるようになっている。

このスリット１６の開口部の上流側エッジに該当する後端エッジ部２６ｂの曲率半径は、５μｍ以下となっている。このような後端エッジ部２６ｂを有する塗布装置１０を使用することにより、膜厚分布が均一であり、かつ表面が平滑な塗布層を形成できる。

なお、図２に示されるフロントエッジ面２６ａ、バックエッジ面２８ａの断面形状は一例であり、他の断面形状、たとえば円弧状、放物線状等、各種の形状が採用できる。

スリット１６の、液溜め部１４との境界部から開口部までの距離（ウェブＷに向けた流路の長さ）は、スリット１６のウェブＷの幅方向の開口長さ、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件により異なるが、スリット１６のウェブＷの幅方向の開口長さが１０００〜１２００ｍｍ程度の場合には３０〜８０ｍｍの範囲が好ましく採用できる。

次に、本発明に使用される各種材料について説明する。ウェブＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましく使用できる。

ウェブＷの幅としては、０. １〜３ｍが、ウェブＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、ウェブＷの厚さとしては、０. ５〜１００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。

これらのウェブＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。ウェブＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。

また、ウェブＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。

磁性体を含む塗布液を使用し、磁性層を形成する場合には、磁性層に使用する強磁性粉末としては、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことが更に好ましい。

強磁性粉末には少量の水酸化物、又は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。１）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、２）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ又はＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、３）金属カルボニル化合物を熱分解する方法、４）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩又はヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、５）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法、などである。

このようにして得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれかを施したものでも用いることができる。

塗布液の液組成としては、目的に応じて公知の各種の組成が選択できる。

磁性体を含まない塗布液を使用し、非磁性層を形成する場合には、塗布液に含まれる非磁性の構成は制限されないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、たとえば、無機粉末又は有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末であるが、この層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得る。

非磁性粉末としては、たとえば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としてはたとえばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組合せで使用される。

これらの非磁性粉末の表面には表面処理が施され、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、Ｙ₂ Ｏ₃ が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ であるが、更に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

次に、塗布ヘッド１０を主体として、塗布装置を使用した塗布方法について説明する。塗布液Ｆは、連続的に、かつ一定の流量で送液可能な定量送液手段、一般的には定量ポンプ（図示略）により、図１に示されるように、液供給口１８を経て液溜め部１４に供給される。定量ポンプとしては、たとえば、プランジャポンプ、歯車ポンプ等の流量可変の送液手段が好ましく使用できる。

液溜め部１４に供給された塗布液Ｆは、所定量がスリット１６の開口部より吐出され、残りの量が液排出口２０より排出され、定量送液手段に回収される。このような運転を行うことにより、塗布液Ｆが液溜め部１４内で著しく滞留することを防止できる。このような運転方法は、揺変性を有しかつ凝集し易い磁性塗布液に対しては極めて有効である。ただし、液排出口２０を具備しない構造であり、スリット１６の開口部より吐出される所定量を液供給口１８より供給する構造であってもよい。また、液供給口をウェブＷの幅方向の両端部に設け、両方の液供給口より略等量の塗布液を供給する構造であってもよい。この場合に、液排出口を他の箇所に設ける構成であっても、液排出口を設けない構成であっても可能である。

ウェブＷには、あらかじめ他の塗布手段（第１の塗布装置）により第１の塗布液を塗布し、この第１の塗布液を乾燥させて下層が形成されている。図２に示される下層は、第１の塗布液により形成されているが、１層に限られる訳ではなく、２層以上よりなる下層であってもよい。要は、塗布ヘッド１０により塗布液（第２の塗布液）を塗布して上層を形成する際に、下層が乾燥されている状態（いわゆる、「ウェット・オン・ドライ」方式）であればよい。

また、３層以上に塗布膜を形成する場合、このウェット・オン・ドライ方式の塗布方法がいずれかの層の形成に導入されていれば、本発明の効果が得られる。

他の塗布手段（第１の塗布装置）による第１の塗布液の塗布、及び、第１の塗布液の乾燥による下層の形成は、本塗布装置の上流側に設けられる連続生産手段であってもよいし、オフライン、たとえば他のラインで製造された下層形成済みのウェブＷをロール状に巻回した原反ロールより、このウェブＷを繰り出して走行させながら、塗布ヘッド１０に供給する生産方式であってもよい。

ガイドローラなどの走行案内手段（図示略）により支持されて連続走行するウェブＷは、ガイドローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもって、かつその厚さ方向に若干湾曲可能な状態に装架され、図２に示されるように、塗布ヘッド１０の上面（ウェブＷと対向する面）に押し付けられながら図の矢印方向に所定速度で移動する。これにより、スリット１６の開口部より吐出された塗布液Ｆは、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって所定厚さに塗布される。

ウェブＷの走行速度としては、一般的に３０〜１５００ｍ／分の広い範囲で選択できるが、この範囲に限られるものではない。ウェブＷの、塗布ヘッド１０の上面に押し付けられる圧力が均一になるように、各走行案内手段の間でウェブＷに所定の張力を加える構成が好ましい。加えられる張力としては、ウェブＷの幅１ｍあたり４９〜４９０Ｎ（５〜５０ｋｇｆ）の範囲が好ましく採用できる。この値は、塗布条件により、適宜調整することが好ましい。

このような塗布状態を実現するためには、既述したように、塗布ヘッド１０の上下流側にそれぞれガイドローラなどの走行案内手段を設け、ウェブＷの塗布面の反対側の面を走行案内手段に巻き掛けて走行させる。この走行案内手段と塗布ヘッド１０との距離は５０〜３００ｍｍ程度に設定するのが好ましい。また、この走行案内手段は、ウェブＷの塗布ヘッド１０への進入角度や離脱角度を調整できるように、図２の上下方向に移動調整できる構成とすることが好ましい。

更に、剛性の低いウェブＷの場合には、ツレシワの発生を抑止できるように、ウェブＷの走行経路中にエキスパンダーロールや、クラウンロール、コンケーブロール等を設けることも好ましい。

図２において、ウェブＷのうち、下層（第１の塗布液Ｆ１）が形成された塗布層の塗布開始部分Ｆ１Ｓが、塗布ヘッド１０、より正確にはスリット１６を通過後に、塗布ヘッド１０で第２の塗布液Ｆ２の塗布が開始されている。

このような塗布方法を採用すれば、第２の塗布液Ｆ２の塗布開始時には、外乱となる段差部等（塗布開始部分Ｆ１Ｓ）が通過することはなく、第２の塗布液Ｆ２のメニスカスが壊れることもない。これにより、塗布時の不安定現象を排除でき、膜厚分布が均一であり、表面が平滑な塗布層を形成でき、かつ、稼働率の向上、歩留りの向上が達成できる。

すなわち、このような塗布ヘッド１０で塗布する際のメニスカス部において、１）ウェブＷに同伴される空気により発生する圧力、２）第２の塗布液Ｆ２に発生している圧力、３）第２の塗布液Ｆ２の表面張力、の３者が力学的にバランスすることにより、安定した塗布がなされる。そして、この力学的なバランスが崩れることにより、メニスカスが壊れ、これにより、上流部に液が掻き戻り、スジ状の塗布厚さムラを生じさせる。ところが、本発明によれば、このような現象を排除できることとなる。

なお、ウェブＷが巻回されたウェブ供給ロールを新規のウェブ供給ロールと交換する際には、以下の２種類の方法が採用される。１）製造ラインを停止させ、終了後のウェブ供給ロールを新規のウェブ供給ロールと交換し、ウェブＷの後端部と新規ウェブＷの先端部とを接続し、製造ラインの運転を再開する。２）製造ラインを停止させずに、ウェブＷの後端部と新規ウェブＷの先端部とを自動的に接続させる。

特に、上記２）の方法を採用する場合、ウェブＷの接続部が塗布ヘッド１０のスリット１６の開口部と接触し、塗布ヘッド１０を損傷させるおそれがある。したがって、この場合には（ウェブＷの接続部が塗布ヘッド１０を通過する際には）、一旦塗布を停止させ、ウェブＷを塗布ヘッド１０より離間させ、ウェブＷの接続部が塗布ヘッド１０を通過した後に塗布を再開させることが好ましい。

以上、本発明に係る塗布方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。

たとえば、本実施形態の例では、図１及び図２に示されるエクストルージョン塗布方法を採用したが、このような塗布方法に限らず、各種の態様が採用できる。この例として、１種類の塗布液を供給できるような液供給系のエクストルージョン塗布ヘッドを２台直列に配して、第１の塗布液と第２の塗布液を連続して塗布する構成、３種類の塗布液を供給できるように独立した液供給系が３組設けられているエクストルージョン塗布ヘッドを使用して塗布液を連続して塗布する構成等広く適用できる。

このうちの代表例を図３及び図４に示す。図３及び図４に示されるように、塗布ヘッド１０’は、２種類の塗布液を、いわゆる「ウェット・オン・ウェット」方式で供給できるように独立した液供給系が２組設けられている。それぞれの構成要素に附されている番号は、図１及び図２の塗布ヘッド１０と同様であることより、その詳細な説明は省略する。ただし、上流側の液供給系については部材番号の後にＡを附し、下流側の液供給系については部材番号の後にＢを附して区別することとする。

図４に示されるように、塗布ヘッド１０’の本体１２の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面２６ａ、第１のバックエッジ面２８ａ、第２のバックエッジ面３０ａがそれぞれ形成されている。フロントエッジ面２６ａは断面が略直線状に、第１のバックエッジ面２８ａ及び第２のバックエッジ面３０ａは、断面がそれぞれ曲率半径Ｒ１、Ｒ２の円弧状に形成されている。

また、フロントエッジ面２６ａの後端エッジ部と第１のバックエッジ面２８ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、塗布液Ｆ１の所定厚さの膜が形成できるようになっている。同様に、第１のバックエッジ面２８ａの後端エッジ部と第２のバックエッジ面３０ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、塗布液Ｆ２の所定厚さの膜が形成できるようになっている。

なお、ウェブＷには、あらかじめ下層Ｆ０が形成されており、いわゆる「ウェット・オン・ドライ」方式の塗布が可能となっている。

次に、採り得る他の態様について説明する。塗布ヘッド１０を使用する構成として、上記実施形態の例のように、ウェブＷを塗布ヘッド１０に押し付ける構成とせず、ウェブＷをバックアップローラに巻き掛け、ウェブＷの表面と塗布ヘッド１０の先端面との間に所定のクリアランスをもって塗布する構成も採用できる。

更に、塗布ヘッド１０の構成は、エクストルージョン塗布方法に限られず、グラビアコート方法、ロールコート方法、ディップコート方法、スライドコート方法、バーコート方法、カーテンコート方法等も採用できる。

更に、実施形態の例では、塗布液として磁性体を含む塗布液を使用し、磁気記録媒体を製造する態様として説明したが、本発明は、磁気記録媒体の製造のみならず、これ以外の用途にも広く適用できる。

更に、本実施形態の例では、液溜め部１４を円筒状の空洞部としたが、このような円筒状のものに限らず、角形、船底形、等の各種の態様が採用できる。要は、ウェブＷの幅方向に液圧分布を均一可能とする形状であれば、特に限定されない。

本発明の実施例を、比較例と対比して説明する。なお、以下の各例において、「部」の表示は「重量部」 を意味する。以下の各例（実施例１〜実施例４）において、３種の塗布液（塗布液１〜３）を使用した。各塗布液の組成は以下のように共通とした。

（１）塗布液１
非磁性粉体 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ８０部
平均長軸長 ０．１μｍ
ＢＥＴ法による比表面積 ４８ｍ² ／ｇ
ｐＨ８、 Ｆｅ₂ Ｏ₃ 含有量 ９０％以上
ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面被覆化合物 Ａｌ₂ Ｏ₃
カーボンブラック ２０部
平均１次粒子径 １６μｍ
ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ８
ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ² ／ｇ
揮発分 １. ５％
塩化ビニル共重合体 １０部
日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部
分子量 ３．５万
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１
−ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０−４ｅｑ／ｇ含有
ステアリン酸 １部
メチルエチルケトン １００部
シクロヘキサノン ５０部
トルエン ５０部
（２）塗布液２
強磁性金属微粉末 組成：Ｆｅ／Ｃｏ＝８０／２０ １００部
Ｈｃ １８３ｋＡ／ｍ（２３００ Ｏｅ）
ＢＥＴ法による比表面積 ５４ｍ² ／ｇ
結晶子サイズ １６. ５ｎｍ
表面被覆化合物 Ａｌ₂ Ｏ₃
粒子サイズ（長軸径） ０. １０μｍ
針状比 ８
σｓ １５０Ａ・ｍ² ／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）
塩化ビニル系重合体 ５部
日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０. ９／２. ６／１
−ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０−４ｅｑ／ｇ含有
αアルミナ（粒子サイズ ０. １μｍ） ５部
カーボンブラック（粒子サイズ ０. １０μｍ） ０. ５部
ステアリン酸 ０. ５部
メチルエチルケトン ９０部
シクロヘキサノン ３０部
トルエン ６０部
（３）塗布液３
強磁性金属微粉末 １００部
組成：Ｃｏ置換バリウムフェライト
ＢＥＴ法による比表面積 ３５ｍ² ／ｇ
平均粒子径 ０. ０６μｍ
板状比 ５
塩化ビニル系重合体 ９部
日本ゼオン社製 ＭＲ−１１０
ＣｒＯ₂ （粒子サイズ ０. ３μｍ） ７部
ポリエステルポリウレタン樹脂 １０部
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０. ９／２. ６／１
ステアリン酸 ０. ５部
メチルエチルケトン ７０部
トルエン ２０部
シクロヘキサノン ６０部
上記の塗布液（塗布液１〜３）については、各成分を連続ニーダーで混練し、その後、スチールボールを使用したサンドミルを使用して６時間分散処理を行った。得られた分散液にポリイソシアネートを３部加え、更に、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの混合溶媒を適宜添加し、ブルックフィールド粘度計にて１〜５０Ｐ（ポアズ）になるように粘度調整した。粘度調整後の粘度は、それぞれ、塗布液１を１０．７Ｐ（ポアズ）、塗布液２を３２．５Ｐ（ポアズ）、塗布液３を３．４Ｐ（ポアズ）、とした。

先ず、ウェット・オン・ドライ方式の塗布を行うためのウェブＷを準備した。すなわち、塗布ヘッド１０と同一仕様の塗布ヘッドを使用して、下層（第１層目）として、あらかじめ塗布液１による塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥させた。塗布・乾燥後のウェブＷをロール状に巻回した原反ロールとし、この原反ロールよりウェブＷを繰り出して走行させながら、塗布ヘッド１０に供給する方式とした。

ウェブＷとして、厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートを使用した。ウェブＷの走行速度を２００ｍ／分とした。そして、塗布液１の層の湿潤状態の厚さが１０. ０μｍになるように、塗布液Ｆ１の吐出量を制御した。塗布ヘッド１０のスリット１６の開口幅（ギャップ）は、０．２ｍｍとした。フロントエッジ面２６ａ（図２参照）は、断面を直線状とし、ウェブＷの入射角度に対し５度の傾斜を持たせた。バックエッジ面２８ａは、断面を曲率半径が３ｍｍの円弧状とし、先端エッジ部２８ｂがウェブＷの退出角度と平行になるようにした。なお、ウェブＷの裏面には、あらかじめバック層を塗布形成しておいた。

バック層には、平均一次粒子サイズが３０ｎｍ以下の導電性カーボンブラックと、平均一次粒子サイズが３０ｎｍ以上で、平均一次粒子サイズの標準偏差σが平均粒子径の３０％以下で、かつ、平均一次粒子サイズがバック層の厚さの２５〜１００％の非磁性無機質粉末が含有されることが好ましい。

この非磁性無機質粉末としては、平均一次粒子サイズ、平均一次粒子サイズの標準偏差σが上記範囲のもので、アルミナ、シリカ、酸化クロム、α−酸化鉄等の金属酸化物、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の塩類、メラミン、ベンゾグアナミン等の樹脂粒子、カーボンブラック粒子を使用できる。これらの非磁性無機質粉末の平均一次粒子サイズは、３０〜５００ｎｍが好ましく、８０〜３００ｎｍがより好ましい。

また、これらの非磁性無機質粉末の平均一次粒子サイズは、バックコート層の厚さの２０〜１００％が好ましく、３５〜８５％がより好ましい。更に、これらの非磁性無機質粉末の平均一次粒子サイズの標準偏差σは、平均一次粒子径の３０％以下が好ましく、２５％以下がより好ましい。

非磁性無機質粉末の添加量は、本願の請求項１を満たすべく、バックコートの厚さ、粒子サイズ等により最適化できるが、平均一次粒子サイズが３０ｎｍ以下の導電性カーボンブラック１００部に対して約２〜２０部の範囲が好ましい。バックコートの厚さは、通常０．２〜１μｍに設定する。

微粒子状カーボンブラックの具体的な商品名として、以下のものが列挙できる。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｍμ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｍμ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｍμ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＴＥＸ９０（１４ｍμ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｍμ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｍμ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｍμ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｍμ）（三菱化成工業社製）。

更に、バックコートにモース硬度が５〜９の硬質無機質粉末を添加することにより、強度を向上させることも可能である。この場合も、前記の非磁性無機質粉末のサイズに合致したものを使用することが好ましい。

［実施例１］
図１及び図２に示される塗布ヘッド１０を使用して、塗布液２の塗布を行った。ウェブＷの走行速度を２００ｍ／分とした。そして、塗布液２の層の湿潤状態の厚さが１〜５μｍになるように、塗布液２の吐出量を制御した。塗布ヘッド１０のスリット１６の開口幅（ギャップ）は、０．１５ｍｍとした。フロントエッジ面２６ａ（図２参照）は、断面を直線状とし、ウェブＷの入射角度に対し５度の傾斜を持たせた。バックエッジ面２８ａは、断面を曲率半径が１．５ｍｍの円弧状とし、先端エッジ部２８ｂがウェブＷの退出角度と平行になるようにした。

塗布層１の塗布開始部分（図２におけるＦ１Ｓ）が塗布ヘッド１０のスリット１６の開口を通過した後に塗布ヘッド１０で塗布液２の塗布を開始するまでの時間（後述する図５の表では、「塗布液１通過後から塗布液２を塗り始めるまでの時間」と表示）、を−０．３〜１．２秒まで変化させ、このときの塗布状態を評価した。なお、この時間が負になっているものは、塗布層１の塗布開始部分Ｆ１Ｓが塗布ヘッド１０のスリット１６の開口を通過する前に、塗布ヘッド１０で塗布液２の塗布を開始することを意味する。結果を図５の表に示す。

塗布状態の評価は、スリット１６の開口部上流側のメニスカス部での塗布液の掻き取り状態の有無を、目視により観察することにより行った。同一条件で塗布を３回繰り返し行い、２回以上掻き取り状態が発生したものを×と、１回掻き取り状態が発生したものを△と、１回も掻き取り状態が発生しなかったものを○と分類した。

なお、塗布液２の層の湿潤状態の厚さは、定量送液手段（定量ポンプ）よりの給液配管中に流量計を設け、給液量を実測し、塗布面積（ウェブＷの幅と、ウェブＷの走行速度より算出）で除して算出した。

また、塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６の開口を通過後に塗布液２の塗布を開始するまでの時間は、スリット１６の開口の上流側に光学センサを設け、塗布開始部分Ｆ１Ｓの通過タイミングを検知するとともに、図示しない塗布ヘッド１０の制御部により、塗布液２の塗布開始タイミングを検知することにより求めた。

図５の表に示される結果によれば、比較例（例４、８、９）は、いずれも、塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６の開口を通過した後に塗布液２の塗布を開始するまでの時間が−０．３秒のものであり、評価は△又は×であった（○ではなかった）。ただし、この３者のうち、最も塗布厚さの小さい例９（塗布厚さが１．３μｍ）は評価が△であり、塗布しやすい条件であると言える。

塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６の開口を通過した後に塗布液２の塗布を開始するまでの時間が０．１秒の例３は評価が○であり、例７は評価が△であり、いずれも同一塗布厚さの比較例より良好な結果であった。ただし、この２者のうち、塗布厚さの小さい例３（塗布厚さが３．２μｍ）は評価が○であり、塗布厚さの大きい例７（塗布厚さが５．１μｍ、評価が△）より塗布しやすい条件であると言える。

塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６の開口を通過した後に塗布液２の塗布を開始するまでの時間が１．２秒の例１、０．５秒の例２、５、０．２秒の例６は、いずれも評価が○であり、いずれも同一塗布厚さの比較例より良好な結果であった。

［実施例２］
図１及び図２に示される塗布ヘッド１０を使用して、塗布液３の塗布を行った。ウェブＷの走行速度を２００ｍ／分とした。そして、塗布液３の層の湿潤状態の厚さが１〜５μｍになるように、塗布液３の吐出量を制御した。塗布ヘッド１０のスリット１６の開口幅（ギャップ）は、０．１５ｍｍとした。フロントエッジ面２６ａ（図２参照）は、断面を直線状とし、ウェブＷの入射角度に対し５度の傾斜を持たせた。バックエッジ面２８ａは、断面を曲率半径が１．５ｍｍの円弧状とし、先端エッジ部２８ｂがウェブＷの退出角度と平行になるようにした。

塗布層１の塗布開始部分（図２におけるＦ１Ｓ）が塗布ヘッド１０のスリット１６の開口を通過した後に塗布ヘッド１０で塗布液３の塗布を開始するまでの時間（後述する図６の表では、「塗布液１通過後から塗布液３を塗り始めるまでの時間」と表示）、を−０．３〜１．２秒まで変化させ、このときの塗布状態を評価した。なお、実施例１と同様に、この時間が負になっているものは、塗布層１の塗布開始部分Ｆ１Ｓが塗布ヘッド１０のスリット１６の開口を通過する前に、塗布ヘッド１０で塗布液３の塗布を開始することを意味する。結果を図６の表に示す。

塗布状態の評価及び塗布厚さの測定は、実施例１と同様に行った。

図６の表に示される結果によれば、比較例（例１５、１９、２０）は、いずれも、塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６の開口を通過した後に塗布液３の塗布を開始するまでの時間が−０．３秒のものであり、塗布厚さの大小にかかわらず（塗布厚さが１．３〜５．１μｍ）評価は×であった。

塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６の開口を通過した後に塗布液３の塗布を開始するまでの時間が０．１秒の例１４、１８は評価が△であり、いずれも同一塗布厚さの比較例より良好な結果であった。

塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６の開口を通過した後に塗布液３の塗布を開始するまでの時間が１．２秒の例１１、０．５秒の例１２、１６、０．２秒の例１３、１７は、いずれも評価が○であり、いずれも同一塗布厚さの比較例より良好な結果であった。

［実施例３］
図３及び図４に示される塗布ヘッド１０’を使用して、塗布液２及び塗布液３の塗布を行った。ウェブＷの走行速度を２００ｍ／分とした。そして、塗布液２の層の湿潤状態の厚さが約７μｍになるように、塗布液２の吐出量を制御し、塗布液３の層の湿潤状態の厚さが約２μｍになるように、塗布液３の吐出量を制御した。塗布ヘッド１０’のスリット１６Ａ、１６Ｂの開口幅（ギャップ）は、いずれも０．１５ｍｍとした。なお、ウェブＷの下層Ｆ０（図４参照）は塗布液１により形成されている。

フロントエッジ面２６ａ（図４参照）は、断面を直線状とし、ウェブＷの入射角度に対し５度の傾斜を持たせた。第１のバックエッジ面２８ａは、断面を曲率半径が２ｍｍの円弧状とし、第２のバックエッジ面３０ａは、断面を曲率半径が３ｍｍの円弧状とし、先端エッジ部がウェブＷの退出角度と平行になるようにした。

塗布層１の塗布開始部分が塗布ヘッド１０’のスリット１６Ａの開口を通過した後に塗布ヘッド１０’で塗布液２の塗布を開始するまでの時間（後述する図７の表では、「塗布液１通過後から塗布液２及び３を塗り始めるまでの時間」と表示）、を−０．３〜１．２秒まで変化させ、このときの塗布状態を評価した。なお、実施例１、２と同様に、この時間が負になっているものは、塗布層１の塗布開始部分Ｆ１Ｓが塗布ヘッド１０’のスリット１６Ａの開口を通過する前に、塗布ヘッド１０’で塗布液２の塗布を開始することを意味する。結果を図７の表に示す。

塗布状態の評価及び塗布厚さの測定は、実施例１、２と同様に行った。

図７の表に示される結果によれば、比較例（例２５）は、塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６Ａの開口を通過した後に塗布液２の塗布を開始するまでの時間が−０．３秒のものであり、評価は×であった。

塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６Ａの開口を通過した後に塗布液２の塗布を開始するまでの時間が０．１秒の例２４は評価が×であった。塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６Ａの開口を通過した後に塗布液２の塗布を開始するまでの時間が１．２秒の例２１、０．５秒の例２２、０．２秒の例２３は、いずれも評価が○であり、いずれも同一塗布厚さの比較例より良好な結果であった。

また、塗布の状況を目視観察した結果によれば、塗布液２が安定的に広がるまでに０．２秒かかっており、塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６Ａの開口を通過した後に塗布液２の塗布を開始するまでの時間が０．１秒の場合では、塗布液２が安定的に広がるまでに、塗布開始部分Ｆ１Ｓがスリット１６Ａに到達していることが確認された。この観察結果は、上記の図７の表に示される実験結果と一致する。

以上の実施例１〜３の結果より、以下のことが導ける。
１）上層の塗布開始後に、下層の塗布開始部分Ｆ１Ｓが塗布手段を通過すると、上層となる塗布液のメニスカスが壊れ、これにより、上流部に液が掻き戻り、スジ状の塗布厚さムラを生じさせることが多い。
２）上層の塗布液の粘度が低い程、上層の塗布層の厚さが大きい程、上記現象は顕著となる。
３）エクストルージョン塗布方法による２層同時塗布の場合も、上記１）、２）と同様の結果である。

［実施例４］
既述の実施例１〜３は、ウェブＷの表面に第１の塗布液を塗布・乾燥させた下層の表面に第２の塗布液を塗布する工程において、下層の塗布開始部分が第２の塗布装置を通過した後に第２の塗布液の塗布を開始させる塗布方法の効果を確認するための実験であった。これに対し、本実施例４は、下層の塗布終了部分が第２の塗布装置を通過する前に第２の塗布液の塗布を終了させる塗布方法の効果を確認するための実験である。

図１及び図２に示される塗布ヘッド１０を２組（１０Ａと１０Ｂ）使用して、塗布液１及び塗布液２の塗布を行った。塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂの距離は十分に離し、中間に乾燥手段を設け、塗布液２の塗布前に塗布液１の乾燥が終了するようにした。なお、ウェブＷには下層の塗布を行っていないものを使用した。

ウェブＷの走行速度を２００ｍ／分とした。そして、塗布液１の層の湿潤状態の厚さが約１０μｍになるように、塗布液１の吐出量を制御し、塗布液２の層の湿潤状態の厚さが約３. ２μｍになるように、塗布液２の吐出量を制御した。塗布ヘッド１０Ａのスリット１６開口幅（ギャップ）を０．２ｍｍとし、塗布ヘッド１０Ｂのスリット１６開口幅（ギャップ）を０．１５ｍｍとした。

塗布ヘッド１０Ａのフロントエッジ面２６ａ（図２参照）は、断面を直線状とし、ウェブＷの入射角度に対し５度の傾斜を持たせた。塗布ヘッド１０Ａのバックエッジ面２８ａは、断面を曲率半径が３ｍｍの円弧状とし、先端エッジ部がウェブＷの退出角度と平行になるようにした。塗布ヘッド１０Ｂのフロントエッジ面２６ａ（図２参照）は、断面を直線状とし、ウェブＷの入射角度に対し５度の傾斜を持たせた。塗布ヘッド１０Ｂのバックエッジ面２８ａは、断面を曲率半径が１. ５ｍｍの円弧状とし、先端エッジ部がウェブＷの退出角度と平行になるようにした。

このように、下層の塗布終了部分が塗布装置を通過する前に塗布液の塗布を終了させる条件を変える実験を行った。図８は、実施例４の構成を示す概念図であり、図９は、実施例４の動作を示すタイミングチャートである。

図８において、ウェブＷが巻回され、ウェブＷを送り出すウェブ供給ローラ３６のウェブＷが僅少となった際には、新規のウェブ供給ローラ３８に自動的に交換される。この際、ウェブＷの終端部は、新規のウェブ供給ローラ３８のウェブＷの先端部と自動的に接合される。連続供給されるウェブＷは、塗布ヘッド１０Ａ、第一の乾燥手段４０、塗布ヘッド１０Ｂ、第二の乾燥手段４２の順で処理が行われ、ウェブ巻き取りローラ４４に収納される。図９のタイミングチャートには、このウェブＷの接合時前後における塗布のタイミングが示されている。

ウェブＷの接合部が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂを通過する際には、塗布は行われていない。塗布ヘッド１０Ｂにおいて、ウェブＷの接合部の通過時前において、塗布ヘッド１０Ｂによる塗布が終了される、そして、その５秒後であり、ウェブＷの接合部の通過時後において、塗布ヘッド１０Ａによる塗布が開始され、更にその０．５秒後に塗布ヘッド１０Ｂによる塗布が開始される。

下層の塗布終了部分が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂのスリット１６の開口を通過した後に塗布ヘッド１０での塗布液の塗布を終了するまでの時間（後述する図１０の表では、「下層端通過後から上層塗布を終了させるまでの時間」と表示）、を−３〜０．５秒まで変化させ、このときの塗布状態を評価した。なお、実施例１〜３と同様に、この時間が負になっているものは、下層の塗布終了部分が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂのスリット１６の開口を通過する前に、塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂで塗布液の塗布を終了させることを意味する。結果を図１０の表に示す。

塗布状態の評価は、図９のタイミングチャートに示した太矢印で示されるタイミング以降に、塗布後に発生したスジの本数を、目視観察で計測することにより行った。

図１０の表に示される結果によれば、比較例（例３１、３２）は、下層の塗布終了部分が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂのスリット１６の開口を通過した後に塗布ヘッド１０での塗布液の塗布を終了させたものであり。スジの本数は、それぞれ７本、９本であり不良状態にある。このスジの発生は、下層の塗布終了部分による段差によって、スリット１６の開口近傍に汚れやかすが付着し、これによる影響で発生するものと考えられる。

例３３は、下層の塗布終了部分が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂのスリット１６の開口を通過した瞬間に塗布ヘッド１０での塗布液の塗布を終了させたものであり、例３４は、下層の塗布終了部分が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂのスリット１６の開口を通過する０. ２秒前に塗布ヘッド１０での塗布液の塗布を終了させたものであり、スジの本数は、いずれも３本であり、比較例よりはましなものの、不良状態にある。

例３５は、下層の塗布終了部分が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂのスリット１６の開口を通過する０. ５秒前に塗布ヘッド１０での塗布液の塗布を終了させたものであり、スジの本数は１本であり、例３３、３４より改善されている。

例３６、３７は、それぞれ、下層の塗布終了部分が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂのスリット１６の開口を通過する１秒前、３秒前に塗布ヘッド１０での塗布液の塗布を終了させたものであり、スジの発生は見られず、良好な状態にある。

以上の結果より、下層の塗布終了部分が塗布ヘッド１０Ａ、１０Ｂのスリット１６の開口を通過する０. ５秒以上前に塗布ヘッド１０での塗布液の塗布を終了させることが好ましいといえる。

なお、実施例１〜４において、バック層の塗布開始部分及び塗布終了部分の影響も観察したが、塗布膜の性能との相関は見られなかった。

以上の結果より、本発明の効果が確認できた。

塗布装置のうち、塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図 塗布ヘッドの先端部分と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図 塗布装置のうち、塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図 塗布ヘッドの先端部と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図 実施例１の結果を示す表 実施例２の結果を示す表 実施例３の結果を示す表 実施例４の構成を示す概念図 実施例４の動作を示すタイミングチャート 実施例４の結果を示す表

符号の説明

１０…塗布ヘッド、１２…本体、１４…液溜め部、１６…スリット、１８…液供給口、２０…液排出口、２２、２４…閉鎖板、２６…フロントエッジ、２６ａ…フロントエッジ面、２６ｂ…後端エッジ部、２８…バックエッジ、２８ａ…バックエッジ面、２８ｂ…先端エッジ部、Ｆ１…第１の塗布液、Ｆ２…第２の塗布液、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）

Claims (6)

1. 連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に第１の塗布装置で第１の塗布液を塗布し、該第１の塗布液を乾燥させて下層を形成する工程と、
   前記下層の表面に第２の塗布装置で第２の塗布液を塗布し上層を形成する工程と、を有する塗布方法において、
   前記可撓性支持体の、前記下層の第１の塗布液の塗布開始部分が前記第２の塗布装置を通過した後に前記第２の塗布液の塗布を開始させることを特徴とする塗布方法。
2. 前記第２の塗布装置の塗布液供給部に前記可撓性支持体を押し付けて塗布を行なう請求項１に記載の塗布方法。
3. 前記第２の塗布液による上層を形成する工程において、前記可撓性支持体の、前記下層の第１の塗布液の塗布終了部分が前記第２の塗布装置を通過する前に前記第２の塗布液の塗布を終了させる請求項１又は２に記載の塗布方法。
4. 前記下層の第１の塗布液の塗布開始部分が前記第２の塗布装置を通過してから０. ２秒以上後に前記第２の塗布液の塗布を開始させる請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布方法。
5. 前記下層の第１の塗布液の塗布終了部分が前記第２の塗布装置を通過する０. ５秒以上前に前記第２の塗布液の塗布を終了させる請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布方法。
6. 前記第２の塗布装置の塗布液供給部には、前記支持体の幅方向において前記支持体と対向し、開口部より塗布液を吐出するスリットが設けられ、該スリット開口部の上流側エッジの曲率半径が５μｍ以下となっている請求項１〜５のいずれか１項に記載の塗布方法。

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