JPH07181475A

JPH07181475A - カラーフィルタの形成方法

Info

Publication number: JPH07181475A
Application number: JP32771693A
Authority: JP
Inventors: Tomomasa Nakaya; 知眞仲谷; Takatoshi Kira; 隆敏吉良; Yasuhiro Inamasu; 靖浩稲益; Shinichi Ogawa; 伸一小川
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1993-12-24
Filing date: 1993-12-24
Publication date: 1995-07-21

Abstract

(57)【要約】【目的】信頼性が高く、表示品位の優れた液晶表示装
置を実現することができるカラーフィルタの形成方法を
提供する。【構成】基板１の表面１ａにはＩＴＯ膜２が形成され
る。ＩＴＯ膜２の表面２ａには、電着法によって黒色膜
４および第１〜第３着色膜５〜７から成るカラーフィル
タ８が形成される。カラーフィルタ８が形成されていな
い残余のＩＴＯ膜２は除去される。このようなカラーフ
ィルタ８を用いた液晶表示装置では、前記残余のＩＴＯ
膜２が除去されるので、オーバーコート膜との密着性が
向上する。また、オーバーコート膜に欠陥が発生して
も、前記オーバーコート膜上の透明電極との短絡がなく
なる。したがって、信頼性が高く、表示品位の優れた液
晶表示装置を実現することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、たとえば液晶表示装置
においてカラー表示を実現する際に用いられるカラーフ
ィルタの形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図８は、従来の電着技術に基づいて形成
されたカラーフィルタ２８を用いた液晶表示装置４０の
構成を示す斜視図であり、図９はその断面図である。液
晶表示装置４０は、透光性基板２１，３２、ＩＴＯ（In
dium Tin Oxide）膜２２、カラーフィルタ２８、オーバ
ーコート膜２９、透明電極３０，３３、配向膜３１，３
４、シール剤３５、液晶層３６およびＴＡＢ（Tape Aut
omated Bonding）基板３７を含んで構成される。

【０００３】たとえば、ガラスで実現される透光性基板
２１の一方表面２１ａにカラーフィルタ２８が形成され
る。カラーフィルタ２８は、先ず基板２８の表面２１ａ
に透明導電膜としてＩＴＯ膜２２を形成し、さらに前記
ＩＴＯ膜２２の表面２２ａに電着法によって黒色膜２
４、第１〜第３着色膜２５〜２７を形成して構成され
る。該カラーフィルタ２８は、液晶表示装置４０の表示
画面Ａ２に対応した領域にのみ形成される。前記カラー
フィルタ２８の表面と該カラーフィルタ２８が形成され
ていないＩＴＯ膜２や透光性基板２１の表面２１ａとに
は、オーバーコート膜２９が形成される。オーバーコー
ト膜２９は、基板２１の表面２１ａを平坦化することお
よび前記ＩＴＯ膜２２と表示用の電極との短絡を防止す
ることを目的として形成され、たとえば、熱硬化性樹脂
で実現される。前記熱硬化性樹脂としては、たとえば、
エポキシ／アクリレート系樹脂が選ばれる。

【０００４】前記透光性基板２１のオーバーコート膜２
９の表面には、たとえばＩＴＯやＳｎＯ₂で実現される
透明電極３０が形成される。該透明電極３０は、互いに
平行な複数の帯状に形成され、たとえばコモン電極とさ
れる。前記カラーフィルタ２８上のオーバーコート膜２
９の表面に形成された透明電極３０は、表示用の電極で
あり、カラーフィルタ２８の形成されていないオーバー
コート膜２９の表面に形成された透明電極３０は、電極
端子３０ａである。また、前記透光性基板２１と同様
に、たとえばガラスで実現される透光性基板３２の一方
表面３２ａにも同様の透明電極３３が形成され、たとえ
ばセグメント電極とされる。前記カラーフィルタ２８上
の透明電極３０およびオーバーコート膜２９の表面に配
向膜３１が形成され、前記透明電極３３および透光性基
板３２の表面に配向膜３４が形成される。前記配向膜３
１，３４は、たとえばポリイミド樹脂で実現され、その
表面には配向処理として、たとえばラビング処理が施さ
れる。

【０００５】前記透光性基板２１，３２は、液晶層３６
を介在して貼り合わせられる。このとき、基板２１に形
成された配向膜３１と、基板３２に形成された配向膜３
４とが対向するようにして、かつそれぞれの基板２１，
３２に形成された帯状の透明電極３０，３３が互いに直
交するようにして基板２１，３２が配置され、シール剤
３５で接着される。なお、基板２１，３２は、一定の間
隔を保持して接着され、該基板間に液晶が注入される。
前記液晶としては、たとえばネマティック液晶が選ば
れ、液晶を注入することによって液晶層３６が形成され
る。

【０００６】さらに、前記電極端子３０ａにＴＡＢ基板
３７が接着される。ＴＡＢ基板３７は、絶縁性を有する
合成樹脂などで実現されるフィルム３８を有し、該フィ
ルム３８に形成された配線上にワイヤボンディング技術
によってＩＣチップなどを接続したものであり、ＴＡＢ
基板３７の接続端子３９と前記電極端子３０ａとが、た
とえば異方性導電膜を用いた熱圧着によって接着され
る。すなわち、基板２１が固定されて、電極端子３０ａ
上に異方性導電膜が配置され、さらにＴＡＢ基板３７
が、該ＴＡＢ基板３７の接続端子３９が前記異方性導電
膜に接するようにして配置される。前記ＴＡＢ基板３７
側から圧力が加えられ、さらに熱が加えられることによ
って、異方性導電膜が溶融し、該異方性導電膜に含まれ
る導電粒子によって前記接続端子３９と電極端子３０ａ
とが接続される。以上のようにして、液晶表示装置４０
が構成される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従来技術によれば、カ
ラーフィルタ２８は選択的に表示画面Ａ２に対応した領
域にのみ形成されるけれども、ＩＴＯ膜２２は表示画面
Ａ２に対応した領域に限らず、たとえば透光性基板２１
の表面２１ａのほぼ全面に形成される。すなわち、電極
端子３０ａの直下にもＩＴＯ膜２２が形成されている。
このため、以下のような問題が生じる。

【０００８】図１０は、第１の問題点を説明するための
液晶表示装置４０を示す断面図である。第１の問題点と
は、ＩＴＯ膜２２とオーバーコート膜２９との密着性が
悪いことによって起こる前記膜間での剥離である。ＩＴ
Ｏ膜２２とオーバーコート膜２９として用いられるエポ
キシ／アクリレート系樹脂などの熱硬化性樹脂との密着
性は、その他の互いに重なり合う膜同士の密着性と比較
して低いことから、たとえば基板２１を固定して基板２
１上に積層された膜に矢符４１で示される上向きの力が
かかった場合、前述したようなＩＴＯ膜２２とオーバー
コート膜２９との間での剥離が生じる。たとえば、この
ような剥離は、前記ＴＡＢ基板３７を熱圧着する際に生
じる。圧力を加える際にＴＡＢ基板３７上には、重りな
どが載置され、熱圧着処理が終了すると前記部材が取除
かれるけれども、このときに前述した力４１が加わる
と、剥離が生じることとなる。このような剥離は、液晶
表示装置４０としての表示品位の低下や、信頼性の低下
という問題を引起こすので、好ましくない。

【０００９】図１１は、第２の問題点を説明するための
液晶表示装置４０を示す断面図である。第２の問題点と
は、オーバーコート膜２９にピンホール４２と称される
欠陥が生じた際の電極端子３０ａとＩＴＯ膜２２との間
における短絡である。ピンホール４２によって短絡が生
じると、透明電極３０に供給すべき電流が、ＩＴＯ膜２
２に流れてしまい、透明電極３０，３３の間に所定の電
圧がかからなくなる。このため、液晶層４６の液晶分子
が駆動されず、表示させるべきところに表示が行われな
いという表示不良が発生する。

【００１０】本発明の目的は、信頼性が高く、表示品位
の優れた液晶表示装置を実現することができるカラーフ
ィルタの形成方法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に形成
された透明導電膜表面に電着法でカラーフィルタを形成
し、前記カラーフィルタが形成されていない残余の透明
導電膜を除去することを特徴とするカラーフィルタの形
成方法である。

【００１２】

【作用】本発明に従えば、基板上に形成された透明導電
膜表面に電着法によってカラーフィルタを形成し、さら
に前記カラーフィルタの形成されていない残余の透明導
電膜が除去される。前記カラーフィルタの形成方法によ
れば、残余の透明導電膜が除去されるので、該カラーフ
ィルタを用いて液晶表示装置を形成した際の、前記透明
導電膜による不都合は生じない。すなわち、前記液晶表
示装置を構成する基板上には本発明に基づいてカラーフ
ィルタが形成され、さらに表面の平坦化および短絡を防
止することを目的としてオーバーコート膜が形成され、
さらに透明電極、配向膜がこの順に形成される。

【００１３】従来技術によってカラーフィルタを形成す
ると、残余の透明導電膜が除去されておらず、前記透明
導電膜とオーバーコート膜との密着性が比較的低いの
で、基板上に積層された膜に前記基板から剥がれる方向
に力が加わると、前記透明導電膜とオーバーコート膜と
の間で剥離が生じる。しかしながら、本発明によってカ
ラーフィルタを形成すると、残余の透明導電膜が除去さ
れて、密着性が向上する。このため、前述したような剥
離の発生頻度を低減することが可能となる。

【００１４】また、従来技術によってカラーフィルタを
形成すると、オーバーコート膜にピンホールなどの欠陥
が生じた際には、透明電極と透明導電膜とが短絡してし
まう。しかしながら、本発明によってカラーフィルタを
形成すると、オーバーコート膜にピンホールなどの欠陥
が生じたとしても透明導電膜が除去されるので、前記短
絡は生じない。このため、表示用の透明電極間に所定の
電圧が印加され、液晶分子を確実に駆動することが可能
となる。

【００１５】したがって、本発明のカラーフィルタの形
成方法によると、信頼性が高く、表示品位の優れた液晶
表示装置を実現することができる。

【００１６】

【実施例】図１は、本発明の一実施例であるカラーフィ
ルタ８の形成方法を段階的に示す断面図であり、図２は
その平面図である。なお、図２は平面図であるけれど
も、図２（２）において黒色膜４にハッチングを付して
いる。カラーフィルタ８は、黒色膜４および第１〜第３
着色膜５〜７から成る。図１（１）および図２（１）に
示されるように、たとえば透光性を有するガラスなどで
実現される基板１の一方表面１ａに、透明導電膜として
ＩＴＯ膜２がスパッタリング法で２０００Å程度の膜厚
に形成され、さらにその表面２ａの全面にレジスト膜３
が形成される。該レジスト膜３は、たとえば露光する
と、可溶化するポジ型の感光性樹脂で実現される。

【００１７】形成されたレジスト膜３上には、ブラック
マトリクスである黒色膜４の形成パターンを有するマス
クが配置されて紫外光で露光され、現像される。露光さ
れたレジスト膜３は、現像によって除去される。レジス
ト膜３が除去されて露出したＩＴＯ膜２の表面２ａに
は、後述する電着法によって図１（２）に示されるよう
に、黒色膜４が形成される。該黒色膜４は図２（２）の
斜線で示される領域に形成される。

【００１８】図３は、電着法を説明するための断面図で
ある。たとえば、平均粒子径が０．１５μｍのカーボン
粒子４６とアクリル系樹脂またはポリエステル系樹脂で
実現される高分子樹脂４７との比率を１対３として、前
記カーボン粒子４６と高分子樹脂４７とを溶媒に分散ま
たは溶解させ、さらに溶液中の水素イオン濃度ｐＨを９
以下に調整した電着液４８中に、前記ＩＴＯ膜２が露出
した基板１と対向電極４９とを浸漬する。次に、ＩＴＯ
膜２と対向電極４９との間に、ＩＴＯ膜２を陽極とし、
対向電極４９を陰極として、たとえば５０Ｖの電圧を印
加すると、ＩＴＯ膜２の表面２ａにカーボン粒子４６を
取込んだ高分子樹脂４７が析出する。析出したカーボン
粒子４６を取込んだ高分子樹脂４７は、水洗され、ベー
ク処理されて硬化される。本実施例では、このようにし
て約１．８μｍの膜厚の黒色膜４を得た。

【００１９】続いて、残余のレジスト膜３のうち、第１
着色膜５が形成される領域のレジスト膜３が露光され、
現像されて除去される。露光時に用いられるマスクに
は、第１着色膜５のパターンが形成されており、該マス
クのパターンと前記黒色膜４の形成パターンとが位置合
わせされてマスクが配置される。露出したＩＴＯ膜２の
表面２ａには、前述したのと同様の電着法によって図１
（３）および図２（３）に示されるように、たとえば赤
（Ｒ）の第１着色膜５が約１．８μｍの膜厚に形成され
る。このとき、電着液４８としては、たとえばアントラ
キノンで実現される赤顔料と、イソインドリンで実現さ
れる黄顔料とを７対３の割合で混合した平均粒子径が
０．１７μｍの顔料と、アクリル系樹脂との比率を１対
４とし、さらにｐＨを９以下に調整した溶液を使用し
た。また、印加電圧は５０Ｖとした。

【００２０】次に、残余のレジスト膜３のうち、第２着
色膜６が形成される領域のレジスト膜３が露光され、現
像されて除去される。露光時には、第１着色膜５と同様
に、マスクのパターンと黒色膜４の形成パターンとが位
置合わせされてマスクが配置される。露出したＩＴＯ膜
２の表面２ａには、前述したのと同様の電着法によって
図１（４）および図２（４）に示されるように、たとえ
ば緑（Ｇ）の第２着色膜６が約１．８μｍの膜厚に形成
される。このとき、電着液４８としては、たとえばハロ
カッパフタロシアニンで実現される緑顔料と、イソイン
ドリンで実現される黄顔料とを６対４の割合で混合した
平均粒子径が０．１２μｍの顔料と、アクリル系樹脂と
の比率を１対４とし、さらにｐＨを９以下に調整した溶
液を使用した。また、印加電圧は５５Ｖとした。

【００２１】さらに、残余のレジスト膜３のうち第３着
色膜７が形成される領域のレジスト膜３が露光され、現
像されて除去される。露光時には、第１および第２着色
膜５，６と同様に、マスクのパターンと黒色膜４の形成
パターンとが位置合わせされてマスクが配置される。露
出したＩＴＯ膜２の表面２ａには、前述したのと同様の
電着法によって図１（５）および図２（５）に示される
ように、たとえば青（Ｂ）の第３着色膜７が約１．８μ
ｍの膜厚に形成される。このとき、電着液４８として
は、たとえばカッパフタロシアニンで実現される青顔料
とジオキサジンで実現される黄顔料とを７対３の割合で
混合した平均粒子径が０．１μｍの顔料と、アクリル系
樹脂との比率を１対４とし、さらにｐＨを９以下に調整
した溶液を使用した。また、印加電圧は５０Ｖとした。
このようにして、黒色膜４および第１〜第３着色膜５〜
７から成るカラーフィルタ８が形成される。

【００２２】さらに、カラーフィルタ８が形成された基
板１の表面１ａの全面が露光される。すなわち、残余の
レジスト膜３が全て露光される。該レジスト膜３は、露
光後、現像されて図１（６）および図２（６）に示され
るように除去される。レジスト膜３が除去されることに
よって、ＩＴＯ膜２の表面２ａが露出する。残余のレジ
スト膜３が全て除去された基板１は、洗浄され、さらに
たとえば２３０℃で１時間熱処理が施される。

【００２３】続いて、前記レジスト膜３を除去すること
によって露出したＩＴＯ膜２、すなわちその表面にカラ
ーフィルタ８が形成されていない残余のＩＴＯ膜２が、
図１（７）および図２（７）に示されるように除去され
る。ＩＴＯ膜２の除去は、たとえば４７ｗｔ％、４５℃
のＨＢｒ水溶液に基板を４００秒間浸漬し、ＩＴＯ膜２
を化学的に溶解することによって実現される。ＩＴＯ膜
２が除去されることによって基板１の表面１ａが露出す
る。ＩＴＯ膜２が除去された基板１は、水洗後、たとえ
ば２３０℃で熱処理される。

【００２４】残余のＩＴＯ膜２の除去工程において、形
成されたカラーフィルタ８はレジストの役目を果たすこ
とになるので、該処理においてレジストを形成するなど
新たな工程を増すことはない。したがって、手間をかけ
ずにＩＴＯ膜２を除去することができる。しかしなが
ら、ＩＴＯ膜２を除去する条件によっては、形成したカ
ラーフィルタ８に悪影響を及ぼすこととなり、カラーフ
ィルタ８としての充分な性能が得られないという不都合
が生じる。このため、残余のＩＴＯ膜２を充分に除去す
るとともに、カラーフィルタ８への悪影響を最小限に抑
えるように処理条件が選択される。この条件としては、
たとえば用いる酸性水溶液の種類、濃度、温度および浸
漬時間などであり、用いるカラーフィルタ８の材料やＩ
ＴＯ膜２の膜厚などに応じて適宜選択される。したがっ
て、本発明は前述した処理条件に限定するものではな
い。

【００２５】また、カラーフィルタ８の悪影響を最小限
に抑えるための他の対策として、カラーフィルタ８とし
ての黒色膜４および第１〜第３着色膜５〜７の緻密性を
向上することが挙げられる。具体的には、電着時におい
て電着液中に含まれる硬化剤の量を最適化することや、
ベーク処理時の温度や時間などの条件を最適化すること
によって黒色膜４および第１〜第３着色膜５〜７の緻密
性の向上が図られる。

【００２６】さらに、カラーフィルタ８の表面に保護膜
を形成することも挙げられる。この場合、残余のＩＴＯ
膜２を除去した後、前記保護膜を除去する必要があり、
製造工程数が増加するという不都合が生じるけれども、
カラーフィルタ８への悪影響を最小限に抑えるという点
においては、大きな効果が得られる。

【００２７】図４は、本発明に基づいて形成されたカラ
ーフィルタ８を用いた液晶表示装置２０の構成を示す斜
視図であり、図５はその断面図である。液晶表示装置２
０は、透光性基板１，１２、ＩＴＯ膜２、カラーフィル
タ８、オーバーコート膜９、透明電極１０，１３、配向
膜１１，１４、シール剤１５、液晶層１６およびＴＡＢ
基板１７を含んで構成される。

【００２８】図６は、前記液晶表示装置２０の形成方法
を示す工程図である。工程ａ１では、たとえばガラスで
実現される透光性基板１の一方表面１ａにカラーフィル
タ８が形成される。前述したように、基板１の表面１ａ
にＩＴＯ膜２が形成され、さらにＩＴＯ膜２の表面２ａ
に電着法によって黒色膜４および第１〜第３着色膜５〜
７が形成されて、カラーフィルタ８が構成される。該カ
ラーフィルタ８は、液晶表示装置２０の表示画面Ａ１に
対応した領域にのみ形成される。したがって、表示画面
Ａ１に対応した領域以外の領域に形成されたＩＴＯ膜２
が前述した方法で除去される。

【００２９】工程ａ２では、カラーフィルタ８の表面と
透光性基板１の表面１ａとにオーバーコート膜９が形成
される。オーバーコート膜９は、基板１の表面１ａを平
坦化することおよび前記ＩＴＯ膜２と表示用の電極との
短絡を防止することを目的として形成され、たとえば熱
硬化性樹脂で実現される。前記熱硬化性樹脂としては、
たとえばエポキシ／アクリレート系樹脂が選ばれる。

【００３０】工程ａ３では、表示用の透明電極１０，１
３が形成される。前記透光性基板１のオーバーコート膜
９の表面には、たとえばＩＴＯやＳｎＯ₂で実現される
透明電極１０が形成される。該透明電極１０は、互いに
平行な複数の帯状に形成され、たとえばコモン電極とさ
れる。前記カラーフィルタ８上のオーバーコート膜９の
表面に形成された透明電極１０は、表示用の電極であ
り、カラーフィルタ８の形成されていないオーバーコー
ト膜９の表面に形成された透明電極１０は、電極端子１
０ａである。また、前記透光性基板１と同様に、たとえ
ばガラスで実現される透光性基板１２の一方表面１２ａ
にも、同様の透明電極１３が形成され、たとえばセグメ
ント電極とされる。

【００３１】工程ａ４では、配向膜１１，１４が形成さ
れる。前記カラーフィルタ８上の透明電極１０およびオ
ーバーコート膜９の表面に配向膜１１が形成され、前記
透明電極１３の表面および透光性基板１２の表面１２ａ
に配向膜１４が形成される。前記配向膜１１，１４は、
たとえばポリイミド樹脂で実現され、その表面には配向
処理として、たとえばラビング処理が施される。

【００３２】工程ａ５では、前記透光性基板１，１２が
貼り合わせられる。このとき、基板１に形成された配向
膜１１と、基板１２に形成された配向膜１４とが対向す
るようにして、かつそれぞれの基板１，１２に形成され
た帯状の透明電極１０，１３が互いに直交するようにし
て基板１，１２が配置され、シール剤１５で接着され
る。なお、基板１，１２は、一定の間隔を保持して接着
される。

【００３３】工程ａ６では、前記基板１，１２の間に液
晶が注入される。前記液晶は、たとえばネマティック液
晶で実現され、液晶を注入することによって液晶層１６
が形成される。

【００３４】工程ａ７では、前記電極端子１０ａにＴＡ
Ｂ基板１７が接着される。ＴＡＢ基板１７は、絶縁性を
有する合成樹脂などで実現されるフィルム１８の、該フ
ィルム１８に形成された配線上にワイヤボンディング技
術によってＩＣチップなどを接続したものであり、ＴＡ
Ｂ基板１７の接続端子１９と前記電極端子１０ａとが、
たとえば異方性導電膜を用いた熱圧着によって接着され
る。すなわち、基板１が固定されて、電極端子１０ａ上
に異方性導電膜が配置され、さらにＴＡＢ基板１７が、
該ＴＡＢ基板１７の接続端子１９が前記異方性導電膜に
接するようにして配置される。前記ＴＡＢ基板１７側か
ら圧力が加えられ、さらに熱が加えられることによっ
て、異方性導電膜が溶融し、該異方性導電膜に含まれる
導電粒子によって前記接続端子１９と電極端子１０ａと
が接続される。以上のようにして、液晶表示装置２０が
形成される。

【００３５】図８および図９に示されるように、従来技
術によってカラーフィルタ２８を形成すると残余のＩＴ
Ｏ膜２２が除去されないので、液晶表示装置４０では、
ＩＴＯ膜２２とオーバーコート膜２９との密着性が比較
的低く、たとえばＴＡＢ基板３７を熱圧着する際などに
おいて、基板２１上に積層された膜に前記基板２１から
剥がれる方向に力が加わると、ＩＴＯ膜２２とオーバー
コート膜２９との間で剥離が生じるという不都合があっ
た。しかしながら、本発明によってカラーフィルタ８を
形成した液晶表示装置２０では、残余のＩＴＯ膜２が除
去されるので密着性が向上する。たとえば、基板間密着
力を評価したところ、従来の液晶表示装置４０では１．
５ｋｇ（サンプル数を５８枚とし、その平均値で示す）
であったのに対し、本発明の液晶表示装置２０では２．
７ｋｇ（サンプル数を５４枚とし、その平均値で示す）
と著しく向上していることが判った。なお、前記基板間
密着力は、次のようにして評価した。

【００３６】図７は、前記基板間密着力の評価方法を説
明するための斜視図である。図示されるように、液晶表
示装置２０の全体の厚さから基板１２の厚さを差引いた
厚さよりも大きい高さｄを有する保持台４３上に、液晶
表示装置２０の基板１２を上向きにして該基板１２を固
定し、対向する基板１にシール強度測定機を用いて矢符
４４で示される下向きに力を加えてゆく。この際、符号
４５で示される部分が剥離したときの力を基板間密着力
と称し、一般的に必要な強度は２．０ｋｇである。本発
明の液晶表示装置２０では、前記必要な強度２．０ｋｇ
を超える値が得られ、密着性が向上していることが確認
された。

【００３７】また前記液晶表示装置２０では、オーバー
コート膜９にピンホールなどの欠陥が生じた場合であっ
ても、残余のＩＴＯ膜２が除去されるので、電極端子１
０ａとＩＴＯ膜２との短絡は生じない。したがって、表
示用の透明電極１０，１３間の液晶層１６に所定の電圧
が印加され、液晶分子が確実に駆動される。このよう
に、本発明に基づいて形成されたカラーフィルタ８を用
いた液晶表示装置２０では、信頼性が高く、優れた表示
品位が得られる。

【００３８】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、カラーフ
ィルタの形成されていない残余の透明導電膜が除去され
るので、該カラーフィルタを用いた液晶表示装置は、信
頼性が高く、表示品位の優れたものとなる。すなわち、
残余の透明導電膜が除去されて密着性が向上するので、
剥離の発生頻度が低減する。また、オーバーコート膜に
欠陥が生じたとしても、前記オーバーコート膜上に形成
される透明電極との短絡は生じず、所定の電圧が液晶層
に印加されて液晶分子が確実に駆動される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例であるカラーフィルタ８の形
成方法を段階的に示す断面図である。

【図２】前記カラーフィルタ８の形成方法を段階的に示
す平面図である。

【図３】電着法を説明するための断面図である。

【図４】本発明に基づいて形成されたカラーフィルタ８
を用いた液晶表示装置２０の構成を示す斜視図である。

【図５】前記液晶表示装置２０を示す断面図である。

【図６】前記液晶表示装置２０の形成方法を示す工程図
である。

【図７】基板間密着力の評価方法を説明するための斜視
図である。

【図８】従来技術に基づいて形成されたカラーフィルタ
２８を用いた液晶表示装置４０の構成を示す斜視図であ
る。

【図９】前記液晶表示装置４０を示す断面図である。

【図１０】第１の問題点を説明するための液晶表示装置
４０を示す断面図である。

【図１１】第２の問題点を説明するための液晶表示装置
４０を示す断面図である。

【符号の説明】

１透光性基板２ＩＴＯ膜３レジスト膜４黒色膜５第１着色膜６第２着色膜７第３着色膜８カラーフィルタ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小川伸一大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に形成された透明導電膜表面に電
着法でカラーフィルタを形成し、前記カラーフィルタが形成されていない残余の透明導電
膜を除去することを特徴とするカラーフィルタの形成方
法。