JPH03167525A - 電極基板の製造方法 - Google Patents

電極基板の製造方法

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JPH03167525A
JPH03167525A JP1306505A JP30650589A JPH03167525A JP H03167525 A JPH03167525 A JP H03167525A JP 1306505 A JP1306505 A JP 1306505A JP 30650589 A JP30650589 A JP 30650589A JP H03167525 A JPH03167525 A JP H03167525A
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JP
Japan
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light
electrode
substrate
conductive layer
resin layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP1306505A
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English (en)
Inventor
Shinichi Kamagami
信一 鎌上
Hitoshi Hado
羽藤 仁
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、液晶表示装置に使用して好適な電極基板の製
造方法に関する。
(従来の技術) 近年、液晶表示装置はワードプロセッサやテレビなどの
表示器として幅広く利用されている。
これらの液晶表示装置においては、大表示容量や高精細
化などの高品位表示が要求され、電極の細線化が益々進
んでいる。
電極の細線化は、電極の配線抵抗を増大させ、駆動波形
の歪み或いは時定数の増加を招き、表示に悪影響を及ぼ
す。この問題を解決するには、抵抗値の低い金属を透光
性電極に沿って設けるのが効果的である。しかし、抵抗
値の低い金属を透光性電極に沿って設けるには、スパッ
タリングによる金属層の形成、フォトレジスト層の形成
、フォトレジスト層の露光・現像、金属層のエッチング
、フォトレジスト層の剥離という各工程が必要となる。
一方、コントラスト比の向上を目的として、非画素部に
遮光部が設けられるようになってきている。この遮光部
は透光性電極を形成する前に、クロムなどの遮光材で、
上述の抵抗値の低い金属を設けるのと同様のプロセスを
経て作られる。
(発明が解決しようとする課8) 高品位表示を実現するには、電極の配線抵抗の低減化と
遮光部の形成が不可欠であるが、従来の方法では製造工
程数が多く、製造コストが高くなるという問題があった
そこで、本発明は、これらの問題を解決し、製造工程数
の大幅な増加をもたらすことなく、電極の配線抵抗を低
減でき、かつ遮光部の形成が容易に実現できる電極基板
の製造方法を提供することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 請求項一記載の発明は、基板の表面に遮光性導電層を形
成する工程と、前記遮光性導電層上に所定形状の樹脂層
を形成する工程と、前記樹脂層で覆われていない部分の
前記遮光性導電層を除去する工程と、前記基板表面の法
線方向に対し斜め方向から透光性導電材料を付着し透光
性導電層を形成する工程と、前記樹脂層及び樹脂層上の
透光性導電層を除去する工程とを備えた電極基板の製造
方法である。
請求項二記載の発明は、基板の表面に透光性導電層を形
成する工程と、前記透光性導電層上に所定形状の樹脂層
を形成する工程と、前記樹脂層で覆われていない部分の
前記透光性導電層を除去する工程と、前記基板表面の法
線方向に対し斜め方向から遮光性導電材料を付着し遮光
性導電層を形成する工程と、前記樹脂層及び樹脂層上の
遮光性導電層を除去する工程とを備えた電極基板の製造
方法である。
(作 用) 本発明の電極基板の製造方法によれば、所定形状の遮光
性電極(或いは透光性電極)を形成する際に用いたエッ
チングマスク(樹脂層)を除去することなくそのまま利
用し、基板に対して斜め方法から透光性導電材(或いは
遮光性導電材)を付着させる。
これにより、エッチングマスクの影になっている部分で
は透光性導電材(或いは遮光性導電材〉は付着せず、エ
ッチングマスクの影になった部分で電極分離がなされた
透光性電極(遮光性電極)が形成される。また影になら
ない部分では遮光性電極(或いは透光性電極)に沿って
、かつ遮光性電極(或いは透光性電極)と電気的に接続
した透光性電極(或いは遮光性電極材)が形成される。
この結果、隣接する透光性電極間を短絡させることなく
抵抗値の低い電極が得られる。なお、遮光性電極は透光
性電極の抵抗を下げ、かつ遮光部として機能する。
従って、本発明によれば、遮光性電極と透光性電極のい
ずれか一方を形成する際には、フォトレジスト膜の形成
、露光・現像、エッチングというプロセスを省略するこ
とができる。
(実施例1) まず、第1図aに示すように、基板1の上に遮光性導電
層2としてクロム(2x10−5Ω00+)をスパッタ
リング法により、 600オングストロームの厚さに形
威した。そして、その上にボジ形フォトレジストとして
OFPR−800(東京応化工業製)を塗布し、80℃
にて30分間焼成し、厚さ2μmの樹脂層3を形成した
次に、樹脂層3を帯状パターンに露光・現像した後、樹
脂層3をマスクとして、遮光性導電層2をエッチングし
た。エッチング剤として硝酸第2セリウム・アンモニウ
ム17gと過塩素酸5ccを水100ccl:溶解した
水溶液を用いた。この状態を第1図bに示す。ここで得
られる遮光性導電層2と樹脂層3の帯状パターンは、線
幅は約15μm1線間ピッチは350μmである。
次に、第1図Cに示すように、樹脂層3が遮光性導電層
2を覆っている状態で、電極基板法線に対し斜め45″
の方向6からI T O (Indium−Tin−O
xide : 5 X 1 0−’Ωcm)を2000
オングストロームの厚さに蒸着し、透光性導電層5を形
成した。
この時、蒸着方向は樹脂層3の影7ができるように設定
した。この結果、高さ2.6μmの遮光性導電層2と樹
脂層3との積層体に沿って、それらの影になる部分で幅
約2〜3μmにはITOは付着せず、また影とならない
部分ではITO膜からなる透光性導電層5が形成され、
透光性導電層5は遮光性導電層2と電気的に接続をとる
ことができた。
この後、樹脂層3を剥離して、第1図dに示すように、
透光性電極8とブラックマトリクス部を兼ねる遮光性電
極9とを有する電極基板を得た。
なお、透光性導電層のパリは、樹脂層3の剥離の際の洗
浄により除去された。
以上の製造方法により作製した電極基板2枚を用い、第
2図に示すように、表面にそれぞれポリイミド樹脂を印
刷し、ラビングして配向層14を形成した。これらの電
極基板を約8μmの間隔で対向させ、周辺部をシール材
19で封止し、液晶組成物11としてZLI−2293
 (メルク製〉を封入し、液晶の捩じれ角が240°の
スーバツイスト形の単純マトリクス形液晶セル12を作
製した。なお、液晶セルの大きさは210mIIIX 
1[fOmm、ドット数は840X  400とした。
この岐晶セル12の両側に偏光板13を配置した。なお
、図中参照番号15はバックライトである。液晶セル1
2をデューティ比1 /400 ,バイアス比1/21
の時分割駆動して表示させたところ、オン/オフ時のコ
ントラスト比は22:1であった。また、電極間の短絡
も見られず、表示むらのない良好な表示であった。
(比較例1) 実施例1において、電極基板を、透光性電極のみが形成
してあるものに変えて液晶セルを作製した。実施例1と
同様に駆動したところ、コントラスト比は8:1であっ
た。しかも一部にクロストーク等の表示むらが見られた
(実施例2) 実施例1において、基板1を、カラーフィルタ付き基板
に変えて所定の透光性電極及び遮光性電極を形成した電
極基板を得た。実施例1と同様にして液晶セルを作り、
実施例1と同様に駆動したところ、コントラスト比は4
0:1と高かった。
また電極の断線及び電極間の短絡も見られず、表示むら
のない良好な表示であった。
(比較例2) 実施例2において、電極として透光性電極のみが形成し
てあるものに変えて液晶セルを作製した。実施例1と同
様に駆動したところ、コントラスト比は12:1であっ
た。一部には色むら等の表示むらが見られ、また電極の
断線も見られた。
(実施例3) 第3図に示すように、基板1の上にITOを2000オ
ングストロームの厚さに蒸着し、透光性導電層5を形成
し、その上にレジストを約3μmの厚さに塗り、露光・
現像し、樹脂層3を形成した。
この後樹脂層3をエッチングマスクとして透光性導電層
5をエッチングして多数の平行な帯状パターンを形成し
た。なお、帯状パターンは線幅240μm1線間ピッチ
280μmとした。次に、基板法線に対し斜め45″の
方向からクロムを約500オングストロームの厚さに蒸
着し遮光性導電層2を形成した。
これにより、ITO5と樹脂層3の積層体に沿ってそれ
らの影となる部分で幅約3〜5μmにはクロムが付着せ
ず、また影とならない部分ではクロムが付着し、クロム
とITOとが電気的に接続された。この後樹脂層3を剥
離し、電極基板を得た。
この電極基板を用いて、実施例1と同様にして液晶表示
器を作製し、動作させたところ、コントラスト比は20
;1で、7Jf極間の短絡も見られず、表示むらもない
良好な表示が得られた。
[発明の効果] 以上のように、本発明によれば、従来技術に比べ製造工
程数を大幅に増加させることなく、電極の配線抵抗を低
威し、かつブラックマトリクス部を設けた電極基板を安
価に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図a乃至dは本発明による電極基板の製遣工程を説
明する断面図、第2図は本発明により得られた電極基板
を用いた液晶表示装置の断面図、第3図は他の実施例を
説明する図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板の表面に遮光性導電層を形成する工程と、前
    記遮光性導電層上に所定形状の樹脂層を形成する工程と
    、前記樹脂層で覆われていない部分の前記遮光性導電層
    を除去する工程と、前記基板表面の法線方向に対し斜め
    方向から透光性導電材料を付着し透光性導電層を形成す
    る工程と、前記樹脂層及び樹脂層上の前記透光性導電層
    を除去する工程とを備えた電極基板の製造方法。
  2. (2)基板の表面に透光性導電層を形成する工程と、前
    記透光性導電層上に所定形状の樹脂層を形成する工程と
    、前記樹脂層で覆われていない部分の前記透光性導電層
    を除去する工程と、前記基板表面の法線方向に対し斜め
    方向から遮光性導電材料を付着し遮光性導電層を形成す
    る工程と、前記樹脂層及び樹脂層上の前記遮光性導電層
    を除去する工程とを備えた電極基板の製造方法。
JP1306505A 1989-11-28 1989-11-28 電極基板の製造方法 Pending JPH03167525A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009063696A (ja) * 2007-09-05 2009-03-26 Sony Corp 液晶表示装置
JP2013190502A (ja) * 2012-03-13 2013-09-26 Dainippon Printing Co Ltd 横電界方式のlcd表示パネル用のカラーフィルタ形成基板および横電界方式のlcd表示パネル

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