JPH07173178A - 有機けい素化合物 - Google Patents
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
を提供すること。 【構成】 下記化1で表されることを特徴とする有機け
い素化合物; 【化1】 式中、R1は水素原子又はメチル基、R2、R3、R4
は炭素原子数1〜8の1価の有機基又は−OSiR8R
9R10で表されるシロキシ基、QはR6 b(OR7)
3−b又はR11 2(CH2)m−SiR6 b(O
R7)3−bの何れかで表される基であって、R5、R
6、R8、R9、R10、R11は炭素原子数1〜8の
1価の有機基、R7は炭素原子数1〜4のアルキル基、
n及びmは1〜12の整数、aは0又は1、bは0、1
又は2を表す。
Description
し、特に、有機材料と無機材料を接着させるカップリン
グ剤として優れた有機けい素化合物に関する。
カップリング剤を介して結合させ、接着性を改善するこ
とが広く行われている。例えば、ガラス繊維強化プラス
チック(FRP)に用いられるガラス繊維やガラス不織
布をこのようなカップリング剤で処理することにより、
ガラス繊維間への樹脂含浸性を改善し、FRPの曲げ強
度などの機械的特性を向上させている。また、レジンコ
ンクリートの分野では、骨材やフィラーなどの無機材料
の表面を処理したり、有機材料である合成樹脂に添加す
ることが行われている。
ては、通常不飽和ポリエステルなどの合成樹脂が使用さ
れるので、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、γ
−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどの(メ
タ)アクリロイル基含有アルコキシシラン等がカップリ
ング剤として適している。しかしながら、これらのカッ
プリング剤は、有機材料と結合する(メタ)アクリロイ
ル基がエステル結合であるため、水分(湿気)により加
水分解する恐れがあり、耐候性、特に耐湿性において十
分でないという欠点があった。
従来のものよりも耐湿性に優れたシランカップリング剤
を開発すべく鋭意研究した結果、(メタ)アクリロイル
基の近傍に撥水性のオルガノポリシロキシ基を持たせる
ことにより、エステル結合が水分から保護されることを
見出し、本発明に到達した。従って本発明の目的は、特
に耐湿性に優れたシラン系カップリング剤を提供するこ
とにある。
下記化2で表されることを特徴とする有機けい素化合物
により達成された。
は炭素原子数1〜8の1価の有機基又は−OSiR8 R
9 R10で表されるシロキシ基、QはR6 b (OR7 )
3-b 又はR11 2 −(CH2 )m −SiR6 b (OR7 )
3-b の何れかで表される基であって、R5 、R6 、
R8 、R9 、R10、R11は炭素原子数1〜8の1価の有
機基、R7 は炭素原子数1〜4のアルキル基、n及びm
は1〜12の整数、aは0又は1、bは0、1又は2を
表す。
ロイル基となり、R1 がメチル基の場合にはメタクリロ
イル基となるが、いずれの場合にも、一般の(メタ)ア
クリル酸エステルと同様にラジカル重合が可能であり、
使用目的に応じて使い分けることができる。また、
R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 、R9 、R10、R
11の炭素原子数1〜8の1価の有機基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基及びブチル基などのアルキル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロ
アルキル基、フェニル基などのアリール基、ベンジル基
などのアラルキル基、ビニル基及びアリル基などのアル
ケニル基、クロロメチル基、3,3,3−トリフロロプ
ロピル基などの置換炭化水素基などが例示される。
で表されるシロキシ基としては、トリメチルシロキシ
基、エチルジメチルシロキシ基、フェニルジメチルシロ
キシ基、ビニルジメチルシロキシ基、クロロメチルジメ
チルシロキシ基、3,3,3−トリフロロプロピルジメ
チルシロキシ基などが例示される。R7 の炭素原子数1
〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、is
o−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基
等が例示される。
R7 、R8 、R9 、R10及びR11は、それぞれ同一であ
っても、異なってもよいが、原料の入手や合成の容易さ
等の観点から、いずれもメチル基であることが好まし
い。同様な理由及びカップリング剤としての効果を考慮
すると、nが3、mが2、aが0、bが0のものが最も
好ましい。本発明の、前記化2で表される有機けい素化
合物は、公知の方法の中から適宜選択して合成すること
ができるが、特に化3、化4及び化5で表される一連
の反応、又は化3、化4及び化6、並びに化7で表さ
れる一連の反応によって容易に合成することができる。
る反応に際しては、まずアリルメタクリレート(A)と
トリクロロシラン(B)とをヒドロシリル化反応させ
て、γ−メタクリロキシプロピルトリクロロシランを得
る。次いで、得られたγ−メタクリロキシプロピルトリ
クロロシランとシラノール化合物(C)との脱塩酸反応
(化4)によりシロキシ基を導入して、シラノール基を
1個生成させる。更に、この生成したシラノール基とア
ルコキシシラン(D)とを脱アルコール反応させ(化
5)て、目的物である有機けい素化合物を得る。
と同様に化3及び化4の反応を行い、シラノール基1個
を生成させる。更に、この生成したシラノール基とジオ
ルガノクロロシラン(E)とを脱塩酸反応させ(化6)
て、オルガノハイドロジェンシロキシ基を導入し、これ
に末端アルケニルアルコキシシラン(F)をヒドロシリ
ル化反応させ(化7)て、目的物である有機けい素化合
物を得る。上記化3、化4、化5及び化6並びに化7で
表される反応は、いずれも公知であり、それらの反応温
度、反応時間、溶媒、触媒、精製法などは特に限定され
ない。
しては、上記アリルメタクリレートの他に、アリルアク
リレート、3−ブテニル(メタ)アクリレート、5−ヘ
キセニル(メタ)アクリレート、10−ウンデセニル
(メタ)アクリレート等が、(B)の化合物としては、
上記トリクロロシランの他に、メチルジクロロシラン、
エチルジクロロシラン等が、(C)の化合物としては、
トリメチルシラノールの他に、ジメチルトリメチルシロ
キシシラノール、メチルビストリメチルシロキシシラノ
ール、トリストリメチルシロキシシラノール等が挙げら
れる。
シランの他に、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェ
ニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェ
ニルジエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルメチルジエトキシシラン、テトラプロポキシシラ
ン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。
シランの他に、メチルフェニルクロロシラン、ジフェニ
ルクロロシラン等が、(F)の化合物としては、ビニル
トリメトキシシランの他に、ビニルメチルジメトキシシ
ラン、ビニルジメチルメトキシシラン、アリルトリメト
キシシラン、3−ブテニルトリメトキシシラン、5−ヘ
キセニルトリメトキシシラン、9−デセニルトリメトキ
シシラン、11−ドデセニルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、
ビニルトリブトキシシラン等が挙げられる。本発明の前
記化2で表される有機けい素化合物は、次のような化
8、化9、化10で表される一連の反応によっても合成
することができる。
(G)を出発原料として用い、これにシロキシ基やアル
コキシシリル基を導入した後、メタクリル酸カリウム
(H)との脱塩反応を経て、目的とする有機けい素化合
物を得るものである。
ロロプロピルトリクロロシランの他に、γ−クロロプロ
ピルメチルジクロロシラン、クロロメチルトリクロロシ
ラン、γ−ブロモプロピルトリクロロシラン、6−ブロ
モヘキシルトリクロロシラン、10−ブロモデシルトリ
クロロシラン等が、(H)の化合物としては、メタクリ
ル酸カリウムの他に、アクリル酸カリウム、(メタ)ア
クリル酸ナトリウム等が例示される。
い素化合物は、次のような化11、化12で表される一
連の反応によっても合成することができる。
入する代わりに、不飽和二重結合を有するクロロシラン
(I)を用いて末端アルケニルシロキシ基を導入し、こ
れにアルコキシシラン(J)をヒドロシリル化反応させ
て、目的物である有機けい素化合物を得るものである。
ずれも公知であり、それらの反応温度、反応時間、溶
媒、触媒、精製法などは、特に、限定されない。ここで
(I)の化合物としては、ビニルジメチルクロロシラン
の他に、ビニルメチルフェニルクロロシラン、ビニルジ
フェニルクロロシラン、アリルジメチルクロロシラン、
3−ブテニルジメチルクロロシラン、5−ヘキセニルジ
メチルクロロシラン、9−デセニルジメチルクロロシラ
ン、11−ドデセニルジメチルクロロシラン等が挙げら
れる。
シシランの他に、メチルジメトキシシラン、ジメチルメ
トキシシラン、フェニルジメトキシシラン、ジフェニル
メトキシシラン、メチルフェニルメトキシシラン、トリ
エトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルエ
トキシシラン、フェニルジエトキシシラン、ジフェニル
エトキシシラン、メチルフェニルエトキシシラン等が挙
げられる。
は、トリクロロシリル基の3個の塩素原子のうち、1個
の塩素原子のみを残すようなモル比でシラノール化合物
を脱塩酸反応させ、次いで、残った塩素原子を加水分解
することによって、シラノール基を1個生成させる。こ
の際、トリクロロシリル基のすべての塩素原子がシラノ
ール化合物と反応してしまったり、トリクロロシリル基
の複数の塩素原子が残ることも考えられるが、残すべき
最後の塩素原子は、立体障害のために反応性が低下して
いるので、1個だけ残る確率が高い。
ルも立体障害の影響で脱水縮合しにくい。従って化4及
び化8で表される反応においては、シラノール基を1個
だけ含有するオルガノポリシロキサンを高収率で得るこ
とができる。シラノール基にアルコキシシリル基を導入
する方法については、化5の(D)、化7の(F)、化
9の(D)、化12の(J)で示したアルコキシシラン
の代わりに、それぞれ相当するクロロシランを反応させ
た後、アルコールを用いてアルコキシシリル基に誘導し
ても良い。
キシシランとの脱塩酸反応、ヒドロアルコキシシランと
の脱水素反応、2−トリメトキシシリルプロピオン酸エ
チル等の、α−シリルエステル類との脱エステル反応
(特開平3−47898号公報)等を適用することがで
きる。本発明の有機けい素化合物は、常法に従ってFR
Pやレジンコンクリート等に対するカップリング剤とし
て使用することができる。
アクリロイル基の近傍にオルガノポリシロキシ基を有す
るので、特に耐湿性に優れたシラン系カップリング剤と
して機能する。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。 実施例1.アリルメタクリレート26.5g(0.21
モル)、塩化白金酸の六水和物5mg(1×10-5モ
ル)及び2,6−ジ−tert−ブチル−4−クレゾー
ル25mgをトルエン50mlに溶解し、滴下ロート、
冷却管、温度計及び攪拌装置を備えたフラスコに投入
し、攪拌下で70℃に昇温した。
2モル)を滴下したところ発熱反応が進行した。更に7
0℃で2時間熟成した後、反応原液を採取し、アルカリ
溶液による水素ガス発生量を調べたところ、反応率が9
8.7%だったので熟成を終了した。次いで、トルエン
を減圧下で留去し、蒸留によって43.6g(収率8
3.4%)のγ−メタクリロキシプロピルトリクロロシ
ランを得た。
クロロシラン39.2g(0.15モル)、及びトリエ
チルアミン47.5g(0.47モル)をトルエン25
0mlに溶解し、滴下ロート、冷却管、温度計及び攪拌
装置を備えたフラスコに投入し、攪拌下で10℃以下に
冷却した。次いで、トリメチルシラノール27.0g
(0.3モル)をゆっくりと滴下し、10℃以下で1時
間攪拌した。更に0.5規定の塩酸100mlを添加し
て室温で1時間攪拌し、多量に生成したアミン塩酸塩を
溶解するとともに加水分解した。
るまで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水した後、2、
2’−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチ
ルフェノール)50mgを添加し、減圧下で溶媒を留去
した。この蒸留原液を精留塔を通して精製したところ、
36.9g(収率70.3%)のγ−メタクリロキシプ
ロピルビストリメチルシロキシシラノールが得られた。
トリメチルシロキシシラノール35.0g(0.1モ
ル)、テトラメトキシシラン60.8g(0.4モル)
及び2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−ter
t−ブチルフェノール)0.1gを反応蒸留装置に投入
し、ジブチルスズジラウレート0.5gを添加して70
℃で熟成した。
ながら除々に昇温したところ、100℃でメタノールの
留出が停止した。この反応溶液を、精留塔を通して蒸留
したところ、過剰のテトラメトキシシランに続いて、沸
点115〜117℃/3×10-2Torrで無色透明な
液体が得られた。得られた液体についてIR、 1H−N
MR、質量分析及び元素分析によって同定したところ、
下記化13で表される化合物であることが確認できた。
お、分析結果を次に示すと共に、IR、 1H−NMRに
ついてはそれぞれ図1及び図2に示した。
CC14 0.13(s,18H,Si−CH3 ) 0.4〜0.8(m,2H,C−CH2 −Si) 1.4〜1.9(m,2H,C−CH2 −C) 1.9(m,3H,C=C−CH3 ) 3.5(S,9H,SiO−CH3 ) 4.0(t,2H,COO−CH2 −C) 5.1(m,1H,H−C=C) 6.0(m,1H,H−C=C)
36.8g(0.2モル)とトリエチルアミン62.6
g(0.62モル)とをトルエン250mlに溶解し、
滴下ロート、冷却管、温度計及び攪拌装置を備えたフラ
スコに投入し、攪拌下で10℃以下に冷却した。次い
で、トリメチルシラノール36.0g(0.4モル)を
ゆっくりと滴下し、10℃以下で1時間攪拌した。更に
0.5規定の塩酸100mlを添加して室温で1時間攪
拌し、多量に生成したアミン塩酸塩を溶解するとともに
加水分解した。
まで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水した後、減圧下
で溶媒を留去した。この蒸留原液を精留塔を通して精製
したところ、35.6g(収率65.3%)のクロロメ
チルビストリメチルシロキシシラノールが得られた。得
られたクロロメチルビストリメチルシロキシシラノール
27.3g(0.1モル)とテトラエトキシシラン6
5.2g(0.4モル)とを反応蒸留装置に投入し、次
いでジブチルスズジラウレート0.5gを添加して80
℃で熟成した。
ながら除々に昇温したところ120℃でエタノールの留
出が停止した。この反応溶液を、精留塔を通して蒸留し
たところ、過剰のテトラエトキシシランに続いて、3
0.5g(収率78.9%)の下記化14で表される化
合物が留出した。
ル)と2,6−ジ−tert−ブチル−4−クレゾール
25mgとをジメチルホルムアミド50mlに分散溶解
し、滴下ロート、冷却管、温度計及び攪拌装置を備えた
フラスコに投入し、攪拌下で150℃に昇温した。これ
に上記化10で表される化合物23.2g(0.06モ
ル)を滴下し、更に150℃で5時間熟成してGC測定
したところ、上記化10で表される化合物のピークが消
失していたので、室温まで冷却した。
ルムアミドを減圧下で留去した後蒸留したところ、沸点
102〜105℃/2×10-2Torrで無色透明な液
体が得られた。得られた液体を、IR、 1H−NMR、
質量分析及び元素分析によって同定したところ、下記化
15で表される化合物であることが確認できた。
分析結果は次に示した通りである。
CC14 0.13(s,18H,Si−CH3 ) 1.0(t,9H,C−CH3 ) 2.5(s,2H,COO−CH2 −Si) 3.4(q,6H,SiO−CH2 −C) 5.5〜6.3(m,3H,CH2 =CH)
レート50.0g(0.21モル)とメチルジクロロシ
ラン23.0g(0.2モル)とを、実施例1と同様の
方法で反応させ蒸留精製して、45.9g(65.0
%)の11−メタクリロキシウンデセニルメチルジクロ
ロシランを得た。
ルメチルジクロロシラン35.3g(0.1モル)とト
リエチルアミン21.2g(0.21モル)とをトルエ
ン250mlに溶解し、トリメチルシロキシジメチルシ
ラノール16.4g(0.1モル)を実施例1と同様に
反応させた後、蒸留精製し、26.9g(収率58.3%)
の下記化16で表される化合物を得た。
ル)とメチルトリメトキシシラン27.2g(0.2モ
ル)とを実施例1と同様に反応させ、沸点159〜16
3℃/1×10-3Torrで無色透明な液体が得られ
た。得られた液体についてIR、1H−NMR、質量分
析及び元素分析によって同定したところ、下記化17で
表される化合物であることが確認できた。
分析結果は次に示した通りである。
C14 0.13(s,21H,Si−CH3 ) 0.4〜0.8(m,2H,C−CH2 −Si) 1.4〜1.9(m,18H,C−CH2 −C) 1.9(m,3H,C=C−CH3 ) 3.5(s,6H,SiO−CH3 ) 4.0(t,2H,COO−CH2 −C) 5.1(m,1H,H−C=C) 6.0(m,1H,H−C=C)
リロキシプロピルビストリメチルシロキシシラノール3
5.0g(0.1モル)、トリエチルアミン11.1g
(0.11モル)、2,6−ジ−tert−ブチル−4
−クレゾール25mg及びトルエン50mlを、滴下ロ
ート、冷却管、温度計及び攪拌装置を備えたフラスコに
投入し、室温攪拌下でジメチルクロロシラン9.5g
(0.1モル)を滴下した後、更に2時間攪拌した。
して室温で15分間攪拌し、生成したアミン塩酸塩を溶
解するとともに過剰のトリエチルアミンを中和した。分
液後、有機層を飽和食塩水で中性になるまで洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで脱水した後、2,2’−メチレンビ
ス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)5
0mgを添加し、減圧下でトルエンを溜去した。この蒸
留原液を精留塔を通して蒸留したところ、沸点121〜
123℃/3×10-2Torrで、下記化18の化合物
が33.4g(収率81.9%)得られた。
g(0.08モル)、塩化白金酸6水和物1.8mg
(3.5×10-6モル)、2,6−ジ−tert−ブチ
ル−4−クレゾール25mg及びトルエン50mlを、
滴下ロート、冷却管、温度計及び攪拌装置を備えたフラ
スコに投入し、攪拌下70℃に昇温した。更に、得られ
た前記化18の化合物28.6g(0.07モル)を滴
下したところ、発熱反応が進行した。
成した後、反応原液を採取し、アルカリ溶液による水素
ガス発生量を調べたところ、反応率が95.6%だった
ので熟成を終了させ、揮発分が5%以下になるまで減圧
下でトルエン及び過剰のビニルトリメトキシシランを溜
去した。得られた液体は淡褐色だったが、活性炭0.2
gを添加して、室温にて2時間攪拌した後に濾過したと
ころ、脱色されて無色透明な液体が得られた。
NMR、質量分析及び元素分析によって同定したとこ
ろ、下記化19で表される化合物であることが確認され
た。
分析結果を次に示すとともに、IR、 1H−NMRにつ
いてはそれぞれ図3及び図4に示した。
CC14 0.12(s,6H,Si−CH3 ) 0.13(s,18H,Si−CH3 ) 0.4〜0.8(m,2H,C−CH2 −Si) 0.6(s,4H,Si−CH2 CH2 −Si) 1.5〜2.0(m,2H,C−CH2 −C) 2.0(m,3H,C=C−CH3 ) 3.6(s,9H,SiO−CH3 ) 4.2(t,2H,COO−CH2 −C) 5.6(m,1H,H−C=C) 6.2(m,1H,H−C=C)
リロキシプロピルビストリメチルシロキシシラノール3
5.0g(0.1モル)、トリエチルアミン11.1g
(0.11モル)、2,6−ジ−tert−ブチル−4
−クレーゾール25mg及びトルエン50mlを滴下ロ
ート、冷却管、温度計及び攪拌装置を備えたフラスコに
投入し、室温攪拌下でビニルジメチルクロロシラン1
2.1g(0.1モル)を滴下した後、2時間攪拌し
た。
和、洗浄、脱水、トルエン溜去、蒸留を行い、沸点11
5〜118℃/1×10-3Torrの下記化20で表さ
れる化合物が31.8g(収率73.3%)得られた。
塩化白金酸6水和物1.5mg(3×10-6モル)、
2,6−ジ−tert−ブチル−4−クレーゾール25
mg及びトルエン50mlを滴下ロート、冷却管、温度
計、及び攪拌装置を備えたフラスコに投入し、攪拌下7
0℃に昇温した。
07モル)を滴下したところ、発熱反応が進行した。実
施例4と全く同様に熟成し、反応率を調べたところ、9
6.8%であった。更に、トルエン及び過剰のトリメト
キシシランを減圧溜去した後、活性炭処理を経て無色透
明な液体が得られた。得られた無色透明な液体を、I
R、 1H−NMR、質量分析及び元素分析によって同定
したところ、下記化21で表される、実施例4と全く同
一の化合物であることが確認できた。
リクロロシランに代えてγ−アクリロキシプロピルメチ
ルジクロロシラン34.1g(0.15モル)を用い、
トリメチルシラノールの使用量を13.5g(0.15
モル)に変更した他は、実施例4と全く同様に操作し
て、24.8g(収率63.2%)の、下記化22で表
されるγ−アクリロキシプロピルメチルトリメチルシロ
キシシラノールが得られた。
トリメチルシロキシシラノール20.1g(0.08モ
ル)、トリエチルアミン9.1g(0.09モル)及び
ジメチルクロロシラン7.6g(0.08モル)を用
い、実施例4と同様にして下記化23で表される化合物
を得た。
(収率85.0%)であった。
(0.06モル)とビニルメトキシシランの反応も、実
施例4と全く同様に行ったところ、得られたものは下記
化24で表される化合物であることが確認された。
R、 1H−NMR、質量分析及び元素分析の結果を次に
示した。
C14 0.12(m,9H,Si−CH3 ) 0.13(s,9H,Si−CH3 ) 0.4〜0.8(m,2H,C−CH2 −Si) 0.6(s,4H,Si−CH2 CH2 −Si) 1.5〜2.0(m,2H,C−CH2 −C) 3.6(s,9H,SiO−CH3 ) 4.2(t,2H,COO−CH3 −C) 5.7〜6.5(m,3H,CH2 =CH)
えて5−ヘキセニルトリメトキシシラン16.3g
(0.08モル)を用いた他は、実施例4と全く同様に
して、下記化25で表される化合物が得られた。
チルジエトキシシラン9.4g(0.07モル)を用い
た他は、実施例5と全く同様にして、下記化26で表さ
れる化合物が得られた。
5、化19、化26で表される本発明の化合物と、比較
のために下式で表されるシランカップリング剤を用い
て、ポリエステルレジンコンクリートへ応用して試験を
行った。
22、三井東圧株式会社製の商品名)10部、炭酸カル
シウム12部、砂利(24メッシュ)78部、メチルエ
チルケトンパーオキサイド0.1部、ナフテン酸コバル
ト0.05部、上記試験化合物0.5部をミキサーで混
合した。得られた7種類の混合物及び試験化合物を添加
しなかったブランクの混合物を、それぞれ6cm×6c
m×25cmの型に流し込み、120℃で3時間硬化さ
せて8種類のサンプルを作製した。各サンプルについ
て、、硬化直後と200時間煮沸後の曲げ強度を、JI
S A−1106に準じて測定した。結果は下記表1に
示した通りである。
を接着させるカップリング剤として有効であることが実
証された。
合物の分析結果を示すIRのチャートである。
合物の分析結果を示す1 H−NMRのチャートである。
合物の分析結果を示すIRのチャートである。
合物の分析結果を示す1 H−NMRのチャートである。
は炭素原子数1〜8の1価の有機基又は−OSiR8R
9R10で表されるシロキシ基、Qは−R6 b(O
R7)3−b又は−R 11 2(CH2)m−SiR6 b
(OR7)3−bの何れかで表される基であって、
R5、R6、R8、R9、R10、R11は炭素原子数
1〜8の1価の有機基、R7は炭素原子数1〜4のアル
キル基、n及びmは1〜12の整数、aは0又は1、b
は0、1又は2を表す。
下記化2で表されることを特徴とする有機けい素化合物
により達成された。
は炭素原子数1〜8の1価の有機基又は−OSiR8R
9R10で表されるシロキシ基、QはR6 b(OR7)
3−b又はR 11 2(CH2)m−SiR6 b(O
R7)3−bの何れかで表される基であって、R5、R
6、R8、R9、R10、R11は炭素原子数1〜8の
1価の有機基、R7は炭素原子数1〜4のアルキル基、
n及びmは1〜12の整数、aは0又は1、bは0、1
又は2を表す。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記化1で表されることを特徴とする有
機けい素化合物; 【化1】 式中、R1 は水素原子又はメチル基、R2 、R3 、R4
は炭素原子数1〜8の1価の有機基又は−OSiR8 R
9 R10で表されるシロキシ基、Qは−R6 b (OR7 )
3-b 又は−R11 2 −(CH2 )m −SiR6 b (O
R7 )3-b の何れかで表される基であって、R5 、
R6 、R8 、R9 、R10、R11は炭素原子数1〜8の1
価の有機基、R7 は炭素原子数1〜4のアルキル基、n
及びmは1〜12の整数、aは0又は1、bは0、1又
は2を表す。
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000035925A1 (fr) * | 1997-06-12 | 2000-06-22 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Copolymere ramifie de siloxane/silalkylene, polymere organique a base de silicone, et procede de production correspondant |
WO2001007444A1 (de) * | 1999-07-22 | 2001-02-01 | 3M Espe Ag | Hydrolysierbare und polymerisierbare silane mit geringer viskosität und deren verwendung |
US6420504B1 (en) | 1997-06-12 | 2002-07-16 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Branched siloxane/silalkylene copolymer, silicone-containing organic polymer, and process for producing the same |
WO2004037763A1 (ja) * | 2002-10-28 | 2004-05-06 | Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. | ウンデセン基を有する化合物、重合物、および組成物 |
JP2008255062A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機ケイ素化合物及びその製造方法並びに光重合性組成物及び無機材料 |
WO2009090870A1 (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-23 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | メタアクリロキシ基もしくはアクリロキシ基含有ポリオルガノシロキサンおよびその製造方法 |
JP2015063484A (ja) * | 2013-09-25 | 2015-04-09 | 信越化学工業株式会社 | ラジカル重合性基含有シリコーン化合物及びその製造方法 |
WO2020142474A1 (en) * | 2018-12-31 | 2020-07-09 | Dow Silicones Corporation | Acrylate-functional branched organosilicon compound, method of preparing same, and copolymer formed therewith |
WO2022006207A1 (en) * | 2020-06-30 | 2022-01-06 | Dow Silicones Corporation | Preparation of multifunctional organosilicon compounds |
WO2023100991A1 (ja) * | 2021-12-01 | 2023-06-08 | 東亞合成株式会社 | シルセスキオキサン誘導体、硬化性組成物、ハードコート剤、硬化物、ハードコート及び基材 |
US11820846B2 (en) | 2018-12-31 | 2023-11-21 | Dow Silicones Corporation | Composition, method of preparing copolymer, and methods and end uses thereof |
-
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- 1994-08-03 JP JP20147794A patent/JP3690689B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000035925A1 (fr) * | 1997-06-12 | 2000-06-22 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Copolymere ramifie de siloxane/silalkylene, polymere organique a base de silicone, et procede de production correspondant |
US6420504B1 (en) | 1997-06-12 | 2002-07-16 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Branched siloxane/silalkylene copolymer, silicone-containing organic polymer, and process for producing the same |
WO2001007444A1 (de) * | 1999-07-22 | 2001-02-01 | 3M Espe Ag | Hydrolysierbare und polymerisierbare silane mit geringer viskosität und deren verwendung |
WO2004037763A1 (ja) * | 2002-10-28 | 2004-05-06 | Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. | ウンデセン基を有する化合物、重合物、および組成物 |
JP2008255062A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機ケイ素化合物及びその製造方法並びに光重合性組成物及び無機材料 |
JP5455652B2 (ja) * | 2008-01-15 | 2014-03-26 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | メタアクリロキシ基もしくはアクリロキシ基含有ポリオルガノシロキサンおよびその製造方法 |
WO2009090870A1 (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-23 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | メタアクリロキシ基もしくはアクリロキシ基含有ポリオルガノシロキサンおよびその製造方法 |
US9018332B2 (en) | 2008-01-15 | 2015-04-28 | Dow Corning Toray Company, Ltd. | Polyorganosiloxane containing methacryloxy group or acryloxy group and method for producing the same |
JP2015063484A (ja) * | 2013-09-25 | 2015-04-09 | 信越化学工業株式会社 | ラジカル重合性基含有シリコーン化合物及びその製造方法 |
WO2020142474A1 (en) * | 2018-12-31 | 2020-07-09 | Dow Silicones Corporation | Acrylate-functional branched organosilicon compound, method of preparing same, and copolymer formed therewith |
CN113330055A (zh) * | 2018-12-31 | 2021-08-31 | 美国陶氏有机硅公司 | 丙烯酸酯官能支链有机硅化合物、其制备方法以及用其形成的共聚物 |
US11820846B2 (en) | 2018-12-31 | 2023-11-21 | Dow Silicones Corporation | Composition, method of preparing copolymer, and methods and end uses thereof |
WO2022006207A1 (en) * | 2020-06-30 | 2022-01-06 | Dow Silicones Corporation | Preparation of multifunctional organosilicon compounds |
WO2023100991A1 (ja) * | 2021-12-01 | 2023-06-08 | 東亞合成株式会社 | シルセスキオキサン誘導体、硬化性組成物、ハードコート剤、硬化物、ハードコート及び基材 |
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