JP3831481B2 - カルバシラトラン誘導体、その製造方法、接着促進剤、および硬化性シリコーン組成物 - Google Patents

カルバシラトラン誘導体、その製造方法、接着促進剤、および硬化性シリコーン組成物 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は新規なカルバシラトラン誘導体、その製造方法、このカルバシラトラン誘導体からなる接着促進剤、およびこの接着促進剤を含む硬化性シリコーン組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】
カルバシラトランについては、例えば、一般式:
【化13】
Figure 0003831481
(式中、Rはメチル基またはメトキシ基である。)
で表される化合物が知られており、このようなカルバシラトランを製造する方法としては、例えば、3−クロロプロピルトリメトキシシランとジエタノールアミンとをトリエチルアミンの存在下で反応させる方法が知られている(A.A.Kemme,J.J.Bleidelis,G.I.Zelchan,I.P.Urtane,and E.J.Lukevits,Zhurnal Strukturnoi Khimii,Vol.18,No.2,pp.343−347,April,1977)。
【0003】
一方、アミノ基含有アルコキシシランとエポキシ化合物とを反応させて接着促進剤を製造する方法は公知であり、例えば、特公昭52−8854号公報、特公昭55−41702号公報、特公平5−32397号公報、特公平7−113083号公報に記載されている。しかし、これらの公報にはカルバシラトラン誘導体についての記載がない。
【0004】
本発明者らは、アミノ基含有アルコキシシランとエポキシ化合物とを反応させて、より接着性の優れた接着促進剤を開発する過程において、より接着性の優れたものは新規なカルバシラトラン誘導体になっていることを見いだした。そこで、前記の公報に記載の接着促進剤の製造方法について検討したところ、特公昭52−8854号公報に記載された接着促進剤の製造方法では、例えば、3−アミノプロピルトリエトキシシランと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとの等モルを温度80〜100℃で反応させているので、この反応により生成するメタノールやエタノールが蒸発してしまい、本発明のようなカルバシラトラン誘導体を生成できないことを確認した。また、特公平5−32397号公報に記載された接着促進剤の製造方法においても、例えば、3−アミノプロピルトリメトキシシランとメチルグリシジルエーテルとの等モルを還流温度で反応させているので、この反応により生成するメタノールが蒸発してしまい、本発明のようなカルバシラトラン誘導体を生成できないことを確認した。また、特公平7−113083号公報に記載された接着促進剤の製造方法では、3−アミノプロピルトリエトキシシラン1モルと3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン2.2モルとを室温で7日間反応させているが、環化するにはいたらないため、本発明のようなカルバシラトラン誘導体を生成できていないことを確認した。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、アミノ基含有アルコキシシラン1モルに対して、エポキシ化合物1.5〜3.0モルを反応させて接着促進剤を製造する方法において、この反応をアルコール存在下で行うことにより、接着促進剤として有用で、新規なカルバシラトラン誘導体が選択的に生成することを見いだして本発明に到達した。
【0006】
すなわち、本発明の目的は、新規なカルバシラトラン誘導体、その製造方法、このカルバシラトラン誘導体からなる接着促進剤、この接着促進剤を含む硬化性シリコーン組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、一般式:
【化14】
Figure 0003831481
{式中、R1はアルキル基またはアルコキシ基であり、R2は同じかまたは異なる一般式:
【化15】
Figure 0003831481
(式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R6はアルキル基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、aは0、1、または2である。)
で表される基からなる群から選択される基であり、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基である。}
で表されるカルバシラトラン誘導体に関する。
【0008】
また、請求項2の発明は、一般式:
【化16】
Figure 0003831481
(式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R9はアルキル基またはアルコキシ基であり、R10は同じかまたは異なるアルキル基である。)
で表されるアミノ基含有アルコキシシランと一般式:
【化17】
Figure 0003831481
{式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R11は一般式:
【化18】
Figure 0003831481
(式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R12はアルキル基であり、aは0、1、または2である。)
で表される基からなる群から選択される基である。}
で表されるエポキシ化合物とを、このアミノ基含有アルコキシシラン1モルに対して、このエポキシ化合物を1.5〜3.0モルとなるよう反応させる際に、この反応をアルコールの存在下で行うことを特徴とする、一般式:
【化19】
Figure 0003831481
{式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R13はアルキル基またはアルコキシ基であり、R14は同じかまたは異なる一般式:
【化20】
Figure 0003831481
(式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R15はアルキル基であり、aは0、1、または2である。)
で表される基からなる群から選択される基である。}
で表されるカルバシラトラン誘導体の製造方法に関する。
【0009】
また、請求項3の発明は、請求項1記載のカルバシラトラン誘導体からなる接着促進剤に関する。
【0010】
さらに、請求項4の発明は、一般式:
【化21】
Figure 0003831481
(式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R9はアルキル基またはアルコキシ基であり、R10は同じかまたは異なるアルキル基である。)
で表されるアミノ基含有アルコキシシランと一般式:
【化22】
Figure 0003831481
{式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R11は一般式:
【化23】
Figure 0003831481
(式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R12はアルキル基であり、aは0、1、または2である。)
で表される基からなる群から選択される基である。}
で表されるエポキシ化合物とを、このアミノ基含有アルコキシシラン1モルに対して、このエポキシ化合物を1.5〜3.0モルとなるように反応させる際に、この反応をアルコールの存在下で行ってなる、一般式:
【化24】
Figure 0003831481
{式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R13はアルキル基またはアルコキシ基であり、R14は同じかまたは異なる一般式:
【化25】
Figure 0003831481
(式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R15はアルキル基であり、aは0、1、または2である。)
で表される基からなる群から選択される基である。}
で表されるカルバシラトラン誘導体を10重量%以上含有する反応混合物からなる接着促進剤に関する。
【0011】
また、請求項6の発明は、請求項3〜5のいずれか1項に記載の接着促進剤を含む硬化性シリコーン組成物に関する。
【0012】
【発明の実施の形態】
はじめに、請求項1の発明のカルバシラトラン誘導体を詳細に説明する。このカルバシラトラン誘導体は、一般式:
【化26】
Figure 0003831481
で表される。上式中のR1はアルキル基またはアルコキシ基であり、R1のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が例示され、R1のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が例示される。本発明のカルバシラトラン誘導体において、上式中のR1はアルコキシ基であることが好ましく、特に、メトキシ基、エトキシ基であることが好ましい。また、上式中のR2は同じかまたは異なる一般式:
【化27】
Figure 0003831481
で表される基からなる群から選択される基である。上式中のR4はアルキレン基またはアルキレオキシアルキレン基であり、R4のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基が例示され、好ましくは、ブチレン基、オクチレン基であり、R4のアルキレンオキシアルキレン基としては、メチレンオキシエチレン基、メチレンオキシプロピレン基、メチレンオキシブチレン基、エチレンオキシエチレン基、エチレンオキシプロピレン基が例示され、好ましくは、メチレンオキシプロピレン基である。また、上式中のR5は一価炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基;フェニル基、トリル基等のアリール基が例示され、好ましくは、メチル基である。また、上式中のR6はアルキルであり、メチル基、エチル基、プロピル基が例示され、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、上式中のR7はアルキレン基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基が例示され、好ましくは、メチレン基である。また、上式中のR8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が例示され、R8のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基が例示され、R8のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が例示され、好ましくは、アリル基、メタクリロイル基である。また、上式中のaは0、1、または2であり、好ましくは、0である。このようなR2としては、次のような基が例示される。
【化28】
Figure 0003831481
また、上式中のR3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が例示され、好ましくは、R3はすべて水素原子である。
【0013】
このような本発明のカルバシラトラン誘導体は新規な化合物であり、シランカップリング剤、接着促進剤、シリル化剤等に用いることができ、特に、接着促進剤として有用であり、さらには、硬化性シリコーン組成物の接着促進剤として有用である。
【0014】
次に、請求項2の発明のカルバシラトラン誘導体の製造方法を詳細に説明する。
本発明の製造方法は、一般式:
【化29】
Figure 0003831481
で表されるアミノ基含有アルコキシシランと一般式:
【化30】
Figure 0003831481
で表されるエポキシ化合物とを、このアミノ基含有アルコキシシラン1モルに対して、このエポキシ化合物を1.5〜3.0モルとなるように反応させる際に、この反応をアルコールの存在下で行うことを特徴とする。
【0015】
このアミノ基含有アルコキシシランは、エポキシ化合物のエポキシ環を開裂するための反応剤として作用し、さらに、この反応により生成した水酸基とこのアルコキシシラン中のアルコキシ基とのアルコール交換反応により環化するための原料である。このアルコキシシラン中のR3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、前記と同様の基が例示され、好ましくは、すべて水素原子である。また、R9はアルキル基またはアルコキシ基であり、R9のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が例示され、R9のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が例示され、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基である。また、R10は同じかまたは異なるアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基が例示され、好ましくは、メチル基、エチル基である。このようなアミノ基含有アルコキシシランとしては、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシランが例示される。
【0016】
また、このエポキシ化合物は、得られるカルバシラトラン誘導体に特徴的な官能性の基を導入するための原料である。このエポキシ化合物中のR3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、前記と同様の基が例示され、好ましくは、すべて水素原子である。また、R11は一般式:
【化31】
Figure 0003831481
で表される基からなる群から選択される基である。上式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR5は一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR7はアルキレン基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR12はアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基が例示される。また、上式中のaは0、1、または2であり、好ましくは、0である。このようなR11としては、前記のR2と同様の基が例示される。そして、このようなエポキシ化合物としては、4−オキシラニルブチルトリメトキシシラン、8−オキシラニルオクチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、アリルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートが例示される。
【0017】
本発明の製造方法において、このアミノ基含有アルコキシシランとエポキシ化合物とを反応させる際、特に、アルコール交換反応により環化させる際に、この反応をアルコールの存在下で行うことが必要である。これは、上記の反応をアルコールのない状態、すなわち、アルコールの沸点以上に加熱した状態で反応を行うと、アミノ基含有アルコキシシランによるエポキシ化合物のエポキシ環の開裂により生成した水酸基とこのアルコキシシラン中のアルコキシ基とのアルコール交換反応による環化よりも、二分子間でのアルコール交換反応が進行し、カルバシラトラン誘導体を得ることができないばかりか、生成物がゲル化しやすくなるからである。このアルコールとしては、アミノ基含有アルコキシシランによるエポキシ化合物のエポキシ環の開裂により生成した水酸基とこのアルコキシシラン中のアルコキシ基とのアルコール交換反応により生成したアルコール、さらにはこの反応の溶剤として用いられるアルコールが例示される。このようなアルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノールが例示される。
【0018】
本発明の製造方法において、これらの反応は室温でも進行するが、これらの反応を促進するために、アルコールの沸点以下の温度まで加熱したり、アルコールの還流温度で行ってもよい。この反応をアルコールの還流温度で行う場合には、エポキシ化合物のエポキシ環の開裂、およびこの反応により生成した水酸基とアミノ基含有アルコキシシラン中のアルコキシ基とのアルコール交換反応による環化が促進されるので好ましい。この本発明の製造方法において、アミノ基含有アルコキシシランとエポキシ化合物とのモル比は(1:1.5)〜(1:3.0)の範囲内であり、特に、(1:1.8)〜(1:2.5)の範囲内であることが好ましい。
【0019】
このようにして製造されるカルバシラトラン誘導体は、一般式:
【化32】
Figure 0003831481
で表される。上式中のR3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR13はアルキル基またはアルコキシ基であり、R13のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が例示され、R13のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が例示される。また、上式中のR14は同じかまたは異なる一般式:
【化33】
Figure 0003831481
で表される基からなる群から選択される基である。上式中のR4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR5は一価炭化水素基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR7はアルキレン基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、前記と同様の基が例示される。また、上式中のR15はアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基が例示される。また、上式中のaは0、1、または2であり、好ましくは、0である。この製造方法においては、アルコール存在下で反応を行うため、ケイ素原子に結合しているアルコキシ基はアルコール交換反応を起こしやすく、一部置換される場合がある。このため、原料のケイ素原子結合アルコキシ基と、反応により生成するカルバシラトラン誘導体中のケイ素原子結合アルコキシ基が同じでない場合もある。
【0020】
次に、請求項3の発明の接着促進剤を詳細に説明する。
この接着促進剤は請求項1のカルバシラトラン誘導体からなることを特徴とする。この接着促進剤は請求項1のカルバシラトラン誘導体のみからなってもよく、また、その他公知の接着促進剤との混合物や公知の有機溶剤との混合物であってもよい。このカルバシラトラン誘導体と混合することのできる公知の接着促進剤としては、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)プロパン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサンが例示される。また、このカルバシラトラン誘導体を製造する過程で未反応として残った、アミノ基含有アルコキシシランやエポキシ化合物、さらには、この反応により生成したカルバシラトラン誘導体以外の反応生成物を混合したまま用いても良い。この場合、このカルバシラトラン誘導体が10重量%以上含有されていることが好ましく、さらに、50重量%以上であることが好ましく、特に、70重量%以上であることが好ましい。これは、カルバシラトラン誘導体の含有量がこの範囲未満であると、接着促進の効果が低下する傾向があるからである。
【0021】
このような接着促進剤は、例えば、縮合反応硬化型シリコーン組成物、付加反応硬化型シリコーン組成物、紫外線硬化型シリコーン組成物等の硬化性シリコーン組成物;その他、アルコキシシラン変性ポリエーテル系硬化性組成物、硬化性ポリウレタン樹脂ないしゴム組成物、硬化性エポキシ樹脂組成物、硬化性ポリサルファイド樹脂組成物、硬化性不飽和ポリエステル樹脂組成物等の硬化性組成物の接着性付与剤や、また、これを金属、ガラス、プラスチック等の基材表面に塗布することにより、前記の硬化性組成物の接着性を向上させるためのプライマーとして使用することができ、特に、縮合反応硬化型シリコーン組成物、付加反応硬化型シリコーン組成物、紫外線硬化型シリコーン組成物等の硬化性シリコーン組成物の接着促進剤として有用である。
【0022】
最後に、請求項6の発明の硬化性シリコーン組成物を詳細に説明する。この硬化性シリコーン組成物は請求項3ないし5のいずれか1項に記載の接着促進剤を含むことを特徴とする。この接着促進剤は請求項1のカルバシラトラン誘導体のみからなってもよく、また、その他公知の接着促進剤との混合物や公知の有機溶剤との混合物であってもよい。このカルバシラトラン誘導体と混合することのできる公知の接着促進剤としては、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)プロパン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサンが例示される。また、このカルバシラトラン誘導体を製造する過程で未反応として残った、アミノ基含有アルコキシシランやエポキシ化合物、さらには、この反応により生成したカルバシラトラン誘導体以外の反応生成物を混合したまま用いても良い。この場合、このカルバシラトラン誘導体が10重量%以上含有されていることが好ましく、さらに、50重量%以上であることが好ましく、特に、70重量%以上であることが好ましい。これは、カルバシラトラン誘導体の含有量がこの範囲未満であると、接着促進の効果が低下する傾向があるからである。
【0023】
この接着促進剤を含む硬化性シリコーン組成物としては、脱アルコール縮合反応、脱水縮合反応、脱水素縮合反応、脱オキシム縮合反応、脱酢酸縮合反応、脱アセトン縮合反応等の縮合反応により硬化する縮合反応硬化型シリコーン組成物;ヒドロシリル化反応により硬化する付加反応硬化型シリコーン組成物;メルカプト−ビニル付加反応、アクリル官能基のラジカル反応等の高エネルギー線により硬化反応する紫外線硬化型シリコーン組成物が例示される。
【0024】
本発明の硬化性シリコーン組成物において、接着促進剤の配合量は限定されないが、カルバシラトラン誘導体として、硬化性シリコーン組成物中に0.01〜20重量%の範囲内含有していることが好ましく、さらに、0.05〜10重量%の範囲内含有していることが好ましく、特に、0.1〜5重量%含有していることが好ましい。
【0025】
【実施例】
本発明のカルバシラトラン誘導体、その製造方法、接着促進剤、および硬化性シリコーン組成物を実施例により詳細に説明する。
【0026】
[実施例1]
1リットルのフラスコに、3−アミノプロピルトリメトキシシラン179g(1.0モル)、および3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン472g(2.0モル)を投入し、攪拌下に徐々に昇温して、温度50℃で114時間加熱攪拌した。この間、反応混合物をガスクロマトグラフにより分析したところ、反応系中にメタノールが存在することが確認された。その後、これを室温まで冷却し、反応により副成したメタノールを除去して得られた生成物を29Si−核磁気共鳴スペクトル分析したところ、−62.5ppm、−63.8ppm、および−64.9ppmにそれぞれ立体異性体に起因するピークを有する下式で表されるカルバシラトラン誘導体が生成していることが確認された。このカルバシラトラン誘導体の含有量は86重量%であった。
【化34】
Figure 0003831481
【0027】
[実施例2]
還流冷却管を設けた1リットルのフラスコに、3−アミノプロピルトリメトキシシラン179g(1.0モル)、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン472g(2.0モル)、およびメタノール64g(2.0モル)を投入し、攪拌下に徐々に昇温して、メタノール還流温度において36時間反応させたところ、実施例1と同様のカルバシラトラン誘導体が生成していることが確認された。メタノールを除去して得られた生成物中のカルバシラトラン誘導体の含有量は95重量%であった。このことから、この反応系をアルコール(メタノール)の環流温度で行うと、カルバシラトラン誘導体の生成が促進されることが確認された。
【0028】
[実施例3]
1リットルのフラスコに、3−アミノプロピルトリエトキシシラン221g(1.0モル)、および3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン472g(2.0モル)を投入し、攪拌下に徐々に昇温して、温度50℃で114時間加熱攪拌した。この間、反応混合物をガスクロマトグラフにより分析したところ、反応系中にメタノール、エタノールが存在することが確認された。その後、これを室温まで冷却し、反応により副成したメタノールおよびエタノールを除去して得られた生成物を29Si−核磁気共鳴スペクトル分析したところ、−62.3ppm、−63.7ppm、および−64.7ppmにそれぞれ立体異性体に起因するピークを有する下式のR’がエチル基であるカルバシラトラン誘導体、および、−62.5ppm、−63.8ppm、および−64.9ppmにそれぞれ立体異性体に起因するピークを有する下式のR’がメチル基であるカルバシラトラン誘導体が生成していることが確認された。このカルバシラトラン誘導体の含有量は92重量%であった。
【化35】
Figure 0003831481
(式中、R’はメチル基またはエチル基であり、R”はメチル基またはエチル基である。)
【0029】
[実施例4]
2リットルのフラスコに、3−アミノプロピルトリエトキシシラン221g(1.0モル)、および3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン563g(2.0モル)を投入し、攪拌下に徐々に昇温して、温度50℃で114時間加熱攪拌した。この間、反応混合物をガスクロマトグラフにより分析したところ、反応系中にエタノールが存在することが確認された。その後、これを室温まで冷却し、反応により副成したエタノールを除去して得られた生成物を29Si−核磁気共鳴スペクトル分析したところ、下式で表されるカルバシラトラン誘導体が生成していることが確認された。このカルバシラトラン誘導体の含有量は92重量%であった。
【化36】
Figure 0003831481
【0030】
[実施例5]
1リットルのフラスコに、3−アミノプロピルトリメトキシシラン179g(1.0モル)、およびアリルグリシジルエーテル228g(2.0モル)を投入し、攪拌下に徐々に昇温して、温度50℃で114時間加熱攪拌した。この間、反応混合物をガスクロマトグラフにより分析したところ、反応系中にメタノールが存在することが確認された。その後、これを室温まで冷却し、反応により副成したメタノールを除去して得られた生成物を29Si−核磁気共鳴スペクトル分析したところ、−62.6ppm、−63.9ppm、および−64.9ppmにそれぞれ立体異性体に起因するピークを有する下式で表されるカルバシラトラン誘導体が生成していることが確認された。このカルバシラトラン誘導体の含有量は89重量%であった。
【化37】
Figure 0003831481
【0031】
[比較例1]
1リットルのフラスコに、3−アミノプロピルトリメトキシシラン179g(1.0モル)、および3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン472g(2.0モル)を投入し、攪拌下20℃で7日間攪拌した。その後、これを29Si−核磁気共鳴スペクトル分析したところ、カルバシラトラン誘導体の生成は確認されなかった。
【0032】
[比較例2]
1リットルのフラスコに、3−アミノプロピルトリエトキシシラン221g(1.0モル)、および3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン236g(1.0モル)を投入し、攪拌下に徐々に昇温して、温度80〜100℃で3時間加熱攪拌した。その後、これを室温まで冷却し、得られた生成物を29Si−核磁気共鳴スペクトル分析したところ、カルバシラトラン誘導体の生成は確認されなかった。
【0033】
[比較例3]
1リットルのフラスコに、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン222g(1.0モル)、および3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン472g(2.0モル)を投入し、攪拌下に徐々に昇温して、温度50℃で114時間加熱攪拌した。その後、これを室温まで冷却し、得られた生成物を29Si−核磁気共鳴スペクトル分析したところ、カルバシラトラン誘導体の生成は確認されなかった。
【0034】
[実施例6、比較例4〜6]
実施例1、比較例1、3で得られた反応生成物を脱アルコール縮合反応硬化型シリコーンゴム組成物(東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製のSE9156クリヤー)にそれぞれ0.5重量%配合して、3種のシリコーンゴム組成物を調製した。これらのシリコーンゴム組成物、および反応生成物を配合しないシリコーンゴム組成物を表1に示される基材の表面に塗布して、室温で7日間静置して硬化させた。得られたシリコーンゴムの接着性を評価した。また、シリコーンゴムが接着している基材を50℃の温水中に7日間浸漬した後、このシリコーンゴムの接着性を評価した。これらの結果を表1に示した。なお、接着性は、シリコーンゴムが基材に対して良好に接着している場合を○、一部剥離がある場合を△、全く接着していない場合を×として評価した。
【0035】
【表1】
Figure 0003831481
【0036】
[実施例7〜8、比較例7]
実施例1、5で得られた反応生成物を付加反応硬化型シリコーンゴム組成物(東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製のSE1701)にそれぞれ1.0重量%配合して、2種のシリコーンゴム組成物を調製した。これらのシリコーンゴム組成物、および反応生成物を配合しないシリコーンゴム組成物を表2に示される基材の表面に塗布して、120℃の熱風循環式オーブン中で30分間加熱して硬化させた。得られたシリコーンゴムの接着性を評価した。また、シリコーンゴムが接着している基材を50℃の温水中に7日間浸漬した後、このシリコーンゴムの接着性を評価した。これらの結果を表2に示した。なお、接着性は、シリコーンゴムが基材に対して良好に接着している場合を○、一部剥離がある場合を△、全く接着していない場合を×として評価した。
【0037】
【表2】
Figure 0003831481
【0038】
【発明の効果】
請求項1の発明のカルバシラトラン誘導体は新規な化合物であり、請求項2の発明の製造方法は、このような新規なカルバシラトラン誘導体を効率よく製造できるという特徴があり、請求項3ないし5の発明の接着促進剤は、硬化性組成物に優れた接着性を付与できるという特徴があり、請求項6ないし7の発明の硬化性シリコーン組成物は、基材に対して良好に接着することができるという特徴がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は実施例1で調製したカルバシラトラン誘導体の29Si−核磁気共鳴スペクトル分析によるチャートである。
【図2】 図2は実施例3で調製したカルバシラトラン誘導体の29Si−核磁気共鳴スペクトル分析によるチャートである。
【図3】 図3は実施例4で調製したカルバシラトラン誘導体の29Si−核磁気共鳴スペクトル分析によるチャートである。
【図4】 図4は実施例5で調製したカルバシラトラン誘導体の29Si−核磁気共鳴スペクトル分析によるチャートである。
【図5】 図5は比較例1で調製した反応混合物の29Si−核磁気共鳴スペクトル分析によるチャートである。
【図6】 図6は比較例2で調製した反応混合物の29Si−核磁気共鳴スペクトル分析によるチャートである。
【図7】 図7は比較例3で調製した反応生成物の29Si−核磁気共鳴スペクトル分析によるチャートである。

Claims (7)

  1. 一般式:
    Figure 0003831481
    {式中、R1はアルキル基またはアルコキシ基であり、R2は同じかまたは異なる一般式:
    Figure 0003831481
    (式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R6はアルキル基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、aは0、1、または2である。)
    で表される基からなる群から選択される基であり、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基である。}
    で表されるカルバシラトラン誘導体。
  2. 一般式:
    Figure 0003831481
    (式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R9はアルキル基またはアルコキシ基であり、R10は同じかまたは異なるアルキル基である。)
    で表されるアミノ基含有アルコキシシランと一般式:
    Figure 0003831481
    {式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R11は一般式:
    Figure 0003831481
    (式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R12はアルキル基であり、aは0、1、または2である。)
    で表される基からなる群から選択される基である。}
    で表されるエポキシ化合物とを、このアミノ基含有アルコキシシラン1モルに対して、このエポキシ化合物を1.5〜3.0モルとなるように反応させる際に、この反応をアルコールの存在下で行うことを特徴とする、一般式:
    Figure 0003831481
    {式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R13はアルキル基またはアルコキシ基であり、R14は同じかまたは異なる一般式:
    Figure 0003831481
    (式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R15はアルキル基であり、aは0、1、または2である。)
    で表される基からなる群から選択される基である。}
    で表されるカルバシラトラン誘導体の製造方法。
  3. 請求項1記載のカルバシラトラン誘導体からなる接着促進剤。
  4. 一般式:
    Figure 0003831481
    (式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R9はアルキル基またはアルコキシ基であり、R10は同じかまたは異なるアルキル基である。)
    で表されるアミノ基含有アルコキシシランと一般式:
    Figure 0003831481
    {式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R11は一般式:
    Figure 0003831481
    (式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R12はアルキル基であり、aは0、1、または2である。)
    で表される基からなる群から選択される基である。}
    で表されるエポキシ化合物とを、このアミノ基含有アルコキシシラン1モルに対して、このエポキシ化合物を1.5〜3.0モルとなるように反応させる際に、この反応をアルコールの存在下で行ってなる、一般式:
    Figure 0003831481
    {式中、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、R13はアルキル基またはアルコキシ基であり、R14は同じかまたは異なる一般式:
    Figure 0003831481
    (式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、R15はアルキル基であり、aは0、1、または2である。)
    で表される基からなる群から選択される基である。}
    で表されるカルバシラトラン誘導体を10重量%以上含有する反応混合物からなる接着促進剤。
  5. カルバシラトラン誘導体を50重量%以上含有する反応混合物からなる、請求項4記載の接着促進剤。
  6. 請求項3〜5のいずれか1項に記載の接着促進剤を含むことを特徴とする硬化性シリコーン組成物。
  7. 硬化性シリコーン組成物において、カルバシラトラン誘導体の含有量が0.01〜20重量%であることを特徴とする、請求項6記載の硬化性シリコーン組成物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10358542B2 (en) 2014-04-09 2019-07-23 Dow Toray Co., Ltd. Adhesion promoter and curable organopolysiloxane composition containing same
WO2021125059A1 (ja) 2019-12-19 2021-06-24 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性組成物
WO2021125060A1 (ja) 2019-12-19 2021-06-24 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性組成物
WO2021125061A1 (ja) 2019-12-19 2021-06-24 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性組成物
US11845869B2 (en) 2019-06-21 2023-12-19 Dow Silicones Corporation Method for producing thixotropic curable silicone composition

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001261963A (ja) * 2000-03-17 2001-09-26 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd シリコーンゴム組成物
KR100938989B1 (ko) 2001-12-18 2010-01-28 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 광경화성 유기 중합체 조성물
TW200716710A (en) 2005-09-30 2007-05-01 Dow Corning Toray Co Ltd Multi-component room-temperature curable silicone rubber composition
JP6161103B2 (ja) * 2010-10-27 2017-07-12 セメダイン株式会社 硬化性組成物の製造方法
JP5887786B2 (ja) * 2010-10-27 2016-03-16 セメダイン株式会社 硬化性組成物
JP5835116B2 (ja) * 2012-06-15 2015-12-24 信越化学工業株式会社 アミノ基と保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法
KR102385489B1 (ko) 2014-04-09 2022-04-14 듀폰 도레이 스페셜티 머티리얼즈 가부시키가이샤 경화성 오르가노폴리실록산 조성물 및 전기·전자 부품의 보호제 또는 접착제 조성물
JP2016040233A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 信越化学工業株式会社 ビシクロアミノオルガノキシシラン化合物及びその製造方法
JP6666625B2 (ja) 2014-12-26 2020-03-18 ダウ・東レ株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、それからなる半導体用封止剤および半導体装置
JP6265160B2 (ja) * 2015-03-30 2018-01-24 セメダイン株式会社 1液型水性接着剤組成物
EP3508533B1 (en) 2016-09-01 2024-07-17 Dow Toray Co., Ltd. Curable organopolysiloxane composition, and protection agent or adhesive composition for electrical/electronic components
KR102599148B1 (ko) 2017-09-15 2023-11-08 듀폰 도레이 스페셜티 머티리얼즈 가부시키가이샤 전자부품 또는 그 전구체 및 그 제조방법
KR20200053517A (ko) 2017-09-15 2020-05-18 다우 도레이 캄파니 리미티드 경화성 올가노폴리실록산 조성물 및 패턴 형성 방법
JPWO2019124417A1 (ja) 2017-12-20 2021-01-14 ダウ・東レ株式会社 シリコーン系接着シート、それを含む積層体、半導体装置の製造方法
KR20210080433A (ko) 2018-10-18 2021-06-30 다우 도레이 캄파니 리미티드 내한성이 우수한 경화성 오가노폴리실록산 조성물, 패턴 형성 방법 및 전자 부품 등
WO2020203299A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 ダウ・東レ株式会社 多成分型熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
KR20210149082A (ko) 2019-03-29 2021-12-08 다우 도레이 캄파니 리미티드 경화성 실리콘 조성물, 그의 경화물 및 그의 제조 방법
WO2020203306A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 ダウ・東レ株式会社 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、およびその製造方法
CN113508460A (zh) 2019-03-29 2021-10-15 陶氏东丽株式会社 多成分型固化性聚有机硅氧烷组合物、导热性构件以及散热结构体
EP3950845A4 (en) 2019-03-29 2023-01-25 Dow Toray Co., Ltd. CURING SILICONE COMPOSITION, CURED PRODUCT BASED THEREOF AND METHOD FOR PRODUCTION
US20220153999A1 (en) * 2019-03-29 2022-05-19 Dow Toray Co., Ltd. Room-temperature-curable organopolysiloxane composition and protective agent or adhesive composition for electric/electronic components
EP3950846A4 (en) 2019-03-29 2022-12-28 Dow Toray Co., Ltd. CURING SILICONE COMPOSITION, CURED PRODUCT BASED THEREOF AND METHOD FOR PRODUCTION
US20230040967A1 (en) 2019-12-26 2023-02-09 Dow Toray Co., Ltd. Curable organopolysiloxane composition and cured product thereof, protective agent or adhesive, and electric/electronic device
EP4083127A4 (en) 2019-12-26 2024-01-17 Dow Toray Co., Ltd. CURABLE ORGANOPOLYSILOXANE COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, PROTECTIVE AGENT OR ADHESIVE AND ELECTRONIC DEVICE
JPWO2022004464A1 (ja) 2020-06-30 2022-01-06
WO2022038888A1 (ja) 2020-08-21 2022-02-24 ダウ・東レ株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
TW202225278A (zh) * 2020-09-25 2022-07-01 美商陶氏有機矽公司 可固化聚矽氧組成物及其固化產物
CN116490354A (zh) 2020-12-25 2023-07-25 陶氏东丽株式会社 固化性有机硅组合物、其固化物以及层叠体
CN116635159B (zh) 2020-12-25 2024-09-10 陶氏东丽株式会社 层叠体的制造方法
KR20240005840A (ko) 2021-05-07 2024-01-12 다우 도레이 캄파니 리미티드 자외선 경화성 실리콘 조성물 및 그의 경화물, 적층체 및 광학 장치 또는 광학 디스플레이
EP4397721A1 (en) 2021-08-31 2024-07-10 Dow Toray Co., Ltd. Curable silicone composition, cured product thereof, and method for producing same
KR20240046792A (ko) 2021-08-31 2024-04-09 다우 도레이 캄파니 리미티드 경화성 실리콘 조성물, 그의 경화물 및 그의 제조방법
TW202323394A (zh) 2021-08-31 2023-06-16 日商陶氏東麗股份有限公司 顆粒狀硬化性聚矽氧組成物、其硬化物及其製造方法
KR20240128883A (ko) 2021-12-21 2024-08-27 다우 도레이 캄파니 리미티드 핫멜트성을 갖는 경화성 실리콘 조성물, 그의 경화 생성물, 및 상기 조성물을 포함하는 적층체
TW202405091A (zh) 2022-07-21 2024-02-01 美商陶氏有機矽公司 可固化的基於聚矽氧之凝膠組成物、其固化凝膠、封裝劑、電子物品、及用於半導體晶片之保護方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10358542B2 (en) 2014-04-09 2019-07-23 Dow Toray Co., Ltd. Adhesion promoter and curable organopolysiloxane composition containing same
US11845869B2 (en) 2019-06-21 2023-12-19 Dow Silicones Corporation Method for producing thixotropic curable silicone composition
WO2021125059A1 (ja) 2019-12-19 2021-06-24 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性組成物
WO2021125060A1 (ja) 2019-12-19 2021-06-24 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性組成物
WO2021125061A1 (ja) 2019-12-19 2021-06-24 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性組成物

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