JPH034594B2 - - Google Patents

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JPH034594B2
JPH034594B2 JP59193678A JP19367884A JPH034594B2 JP H034594 B2 JPH034594 B2 JP H034594B2 JP 59193678 A JP59193678 A JP 59193678A JP 19367884 A JP19367884 A JP 19367884A JP H034594 B2 JPH034594 B2 JP H034594B2
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Hiroshi Inomata
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/14Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/544Silicon-containing compounds containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明は接着促進剤、特には保存中における経
時劣化性を改良した各種シーリング材、液状シリ
コーンゴムなどの基材に対する接着性を促進する
接着促進剤に関するものである。 (従来の技術) 各種電気、電子部品の接着、建築業界における
基材間のシーリングなどにはポリウレタン系、シ
リコーン系などの高分子系のシーリング剤が多用
されているが、これらは金属、プラスチツクに対
する接着性が劣るために、これには通常接着対象
とされる基材面表面をプライマーと称されている
接着促進剤で処理しておくという方法、ゴム組成
物に接着促進剤を添加する方法が行なわれてい
る。 そして、この接着促進剤については特にアミノ
シランとエポキシシランとの反応生成物が有用と
されている(特公昭52−8854号、特公昭55−
41702号公報参照)が、このものは製造後の保存
中に経時劣化してその接着促進効果が室温下数日
で失なわれるかゲル化して使用に適さなくなると
いう欠点がある。この原因はアミノ基とエポキシ
基との反応によつて生成したアルコール基(−
COH基)が経時的にアルコキシシランのアルコ
キシ基と置換反応して不活性な環状構造体となつ
たり、分子量の増大を起すためと推定されている
が、この対策は未だに解決されていない。 (発明の構成) 本発明はこのような不利を解決した経時変化の
少ない接着促進剤に関するもので、これは1)活
性水素含有アミン化合物またはアミノアルキルア
ルコキシシラン1モル、2)エポキシ基含有有機
化合物またはエポキシアルキルアルコキシシラン
0.5〜4モル、3)一般式R1 aSi(OR24-a(こゝに
R1は水素原子または炭素数1〜4の同種または
異種の非置換または置換1価炭化水素基、R2
R1と同じ1価炭化水素基、aは0または1〜3
の整数)で示されるアルコキシシランまたはその
部分加水分解物0.5〜12モル、の3成分(1、2
成分のうち少なくとも1種はアルコキシシランで
ある)を実質的に無水の条件下で加熱反応させて
得ることを特徴とするものである。 すなわち、本発明者らはアミノシランとエポキ
シシランとの反応生成物としての接着促進剤の経
時変化を改質する方法について種々検討した結
果、アミン化合物とエポキシ化合物との反応系
(このアミン化合物またはエポキシ化合物の少な
くとも一方はアルコキシシランである)に上記し
た一般式で示されるアルコキシシランを共存させ
ると、アミノ化合物とエポキシ化合物の反応によ
り生成したアルコール基−COHがアルコキシシ
ランにブロツクされてフリーのOH基が残らなく
なるので、の反応生成物が経時劣化の少ないもの
になるということを見出し、これら各成分の種
類、配合比などについての研究を進めて本発明を
完成させた。 本発明の接着促進剤を作るための始発第1成分
とされるアミン化合物は、活性水素を含むアミン
化合物とされるがこれはアミノアルキルアルコキ
シシランであつてもよく、これにはエチルアミ
ン、ジエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピ
ルアミン、アリルアミン、ジアリルアミン、ブチ
ルアミン、ジブチルアミン、オクチルアミン、エ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリ
エチレンテトラミン、フエニレンジアミンなどの
アミン化合物、一般式
【式】 (こゝにR3は2価炭化水素基、R4は同種また
は異種の非置換または置換1価炭化水素基または
水素原子、Xは水酸基または加水分解可能な基、
Zは水素原子または−R3−NH2で示される基、
mは0、1または2)で示されるアミノアルキル
アルコキシシラン例えば、 (C2H5O)3Si−(CH23−NH2、 (C2H5O)2CH3Si−(CH2)−3NH2、 (CH3O)3Si−(CH2)−3NH2、 (C2H5O)3Si−(CH2)−3NH−(CH2)−2NH2、 (CH3O)3Si−(CH2)−3NH−(CH2)−2NH2、 (CH3O)2CH3Si−(CH2)−3NH−(CH2)−3NH2、 (CH3OCH2CH2O)3Si−(CH2)−NH2、 (CH3O)3Si−(CH2)−3OCH2−CH(CH3)−
CH2NH2、 (C2H5O)3Si−CH2−CH(CH3)−CH2NH2、 (CH3O)3Si−CH=CH−C(CH3)−2O−(CH23
−NH2、 (CH3O)3Si−(CH2)−3NH−(CH2)−2NH−
C2H5、 (CH3O)3Si−CH=CH−C(CH3)−2O−(CH2)−
−NH−(CH2)−3NH2、 (CH3O)3Si−(CH2)−3NH−C6H5、 (CH3O)3Si−(CH2)−3NH(CH22−NH− −CH2CH=CH2、 (CH3O)3Si−(CH2)−3NH−CH2CH=CH2 などが挙げられる。 つぎにこのアミン化合物と反応させられる第2
成分としてのエポキシ化合物は分子中に少なくと
も1個のエポキシ結合を有する化合物、例えばエ
チレンオキシド、プロピレンオキシド、シクロヘ
キセンオキシド、4−ビニル−シクロヘキセンエ
ポキシドなど、式
【式】 〔こゝにR5は1価炭化水素基または式
【式】 (R6は1価炭化水素基)〕で示される基、例え
ばメチルグリシジルエーテル、アリルグリシジル
エーテル、ブチルグリシジルエーテル、フエニル
グリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテ
ル、グリシジルメタクリレートなど、さらには一
般式 (こゝにQはグリシドキシ基またはエポキシシ
クロヘキシル基、R7は炭素数1〜4の2価炭化
水素基、R8,R9は炭素数1〜4の1価炭化水素
基、nは0または1〜3の整数)で示されるエポ
キシアルキルアルコキシシラン、例えば などが挙げられる。 また、この反応系に添加されるアルコキシシラ
ンは一般式R1 aSi(OR24-aで示され、このR1は水
素原子またはメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基のようなアルキル基、ビニル基、アリル
基などのアルケニル基、あるいはこれらの基の炭
素原子に結合した水素原子の一部または全部をハ
ロゲン原子、シアノ基などで置換した炭素数1〜
4の同種または異種の非置換または置換1価炭化
水素基、R2はR1と同じ1価炭化水素基、aは0
または1〜3の整数とされるものであり、これに
はテトラメトキシシラン、正けい酸エチル、テト
ラプロピルシリケート、テトラ(メトキシエトキ
シ)シラン、メチルポリシリケート、エチルポリ
シリケート、トリメトキシシラン、メチルジエト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニル
トリメトキシシランなどが例示される。 本発明の接着促進剤は上記した1〜3成分を所
定配合比で混合し加熱反応させることによつて得
ることができるが、この配合比については1成分
1モルに対し2成分を0.5モル以下また4.0モル以
上とすると反応生成物に強力な接着力が与えられ
ず、3成分を0.5モル以下とするとアミン−エポ
キシ付加反応によつて生じたフリーのOH基を完
全にブロツクすることが難しくなるし、これがゲ
ル化することがあり、またこれを12モル以上とす
るとアミン−エポキシ付加反応が進みにくくなる
ので、2成分は0.5〜4.0モルの範囲、3成分は0.5
〜12モルの範囲とする必要がある。また、この反
応は50〜180℃、好ましくは90〜150℃で数時間行
なわせればよいが、しかし上記した1、2成分に
ついてはこのいずれか、または両方をアルコキシ
シランとしないと得られる反応生成物に期待した
ほどの接着力が与えられないので、これは少なく
とも1種をアルコキシシランとする必要がある。
なお、この反応は通常3成分としてのアルコキシ
シランの過剰量の存在下で行なわれるので、反応
終了後の組成物中に未反応の3成分が残留するこ
とになるが、これは常圧または減圧下に留去すれ
ばよい。 この反応生成物はすぐれた接着効果を示し、こ
の効果は40℃での1ケ月貯蔵後も全く変化しない
という従来品にくらべてすぐれた経時変化に対す
る抵抗性を示すので、本発明の接着促進剤は常温
下で長期間安定した接着促進性能を示す。 つぎに本発明の参考例、実施例を示すが、例中
の粘度は25℃での測定値を示したものである。 合成例 1 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
94.5g(0.4モル)とジアリルアミン38.8g(0.4
モル)を、冷却管、温度計および撹拌装置付きの
300mlのフラスコに仕込み、撹拌下に昇温して90
〜100℃で1時間反応させた後、室温に冷却し、
これにトリメトキシシラン48.8g(0.4モル)を
撹拌下に滴下したところ水素ガスを発生しながら
発熱した。 つぎにこの反応生成物を145〜150℃/1mmHg
で蒸留したところ57.1g(収率32%)の生成物
(以下生成物という)が得られ、これについて
IR、NMR、MASスペクトルにより分析したと
ころ、これは下記の構造式 を有するものであることが確認され、このものは
25℃で1ケ月保存しても何の変化もなかつた。 合成例 2 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
94.5g(0.4モル)とジアリルアミン38.8g(0.4
モル)およびテトラメトキシシラン121.7g(0.8
モル)を実施例1と同じフラスコ中に仕込み、撹
拌下に昇温して90〜100℃で2時間反応させたの
ち蒸留したところ、145〜150℃/1mmHgで73.1
g(収率41%)の生成物が得られ、これはIR、
NMR、MASスペクトルで生成物と同じもの
であることが確認された。 合成例 3 アリルグリシジルエーテル68.4g(0.6モル)
とγ−アミノプロピルトリエトキシシラン66.5g
(0.3モル)およびテトラメトキシシラン136.9g
(0.9モル)とを実施例1と同じフラスコに仕込
み、撹拌下に昇温して90〜110℃で2時間反応さ
せたのち、155〜185℃/1mmHgで蒸留したこ
ろ、61.0g(収率38%)の生成物(以下生成物
という)が得られ、これはIR、NMR、MASス
ペクトルで分析したところ、つぎの構造式 であることが確認され、このものは25℃で1ケ月
保存しても何の変化もなかつた。 合成例 4 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
259.9g(1.1モル)、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン110.7g(0.5モル)、テトラメトキ
シシラン304.4g(2モル)とを実施例1と同じ
フラスコに仕込み、撹拌下に昇温して100〜110℃
で4時間反応させたのち、110〜120℃/5mmHg
で未反応のテトラメトキシシランを留去したとこ
ろ、粘度37.5cS、屈折率1.4409の反応物(以下反
応物という)471.5g(収率90%)が得られた。 比較例 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
259.9g(1.1モル)とγ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン110.7g(0.5モル)とを実施例1と
同じフラスコに仕込み、撹拌下に昇温して100〜
110℃で3時間反応させたところ、粘度238cS、
屈折率1.4534の反応生成物(以下反応物とい
う)が得られたが、このものは25℃で1ケ月保存
したところゲル化した。 実施例 1 合成例1、3、4で得た反応物〜をトルエ
ンに溶解してその10重量%液を作り、これらをプ
ライマー〜とした。 つぎにガラス板およびアルミニウム板の表面に
このプライマー〜を塗布し、ついでこのうえ
にポリウレタン系シーラント・タケネートL−
1025(武田薬品工業社製商品名)を施工して7日
間放置したもの、7日間放置後に25℃の水に96時
間浸漬したもの、7日間放置後に70℃で96時間加
熱したものについて、それぞれのガラス面、アル
ミニウム面に対する硬化シーラントの接着強度を
JIS A−5754の方法で測定したところ、第1表、
第2表に示したとおりの結果が得られた。
【表】
【表】 実施例 2 ガラス板、アルミニウム板、ニツケル板、軟鋼
板、鉄板の各表面に前記実施例1で使用したプラ
イマー〜を塗布したのち、これに信越シリコ
ーンシーラント・KE−42(信越化学工業社製商品
名)を施工して硬化させ、これについてせん断応
力試験を行なつたところ、いずれのものも接着面
ははがれずに、シーラント自体が破断した。 実施例 3 末端がビニルシラノール基で封鎖された、粘度
5,000cSのジメチルポリシロキサン100重量部、
(CH33SiO0.5単位とSiO2単位とからなるシリコ
ーンレジン2.5重量部、平均粒径4μmの石英粉末
10重量部、平均粒径0.1μmの炭酸カルシウム粉38
重量部およびエチルポリシリケート1重量部を混
合して液状シリコーンゴム組成物を作り、この組
成物100重量部に合成例4で得た生成物3.2重量
部とジブチルすずジラウレート3部とからなる硬
化剤組成物2重量部を添加し、これをアルミニウ
ム板、ガラス板、ポリエステル樹脂板、エポキシ
樹脂板、アクリル樹脂板の表面に塗布して室温で
3日間放置して硬化させ、その接着性をしらべた
ところ、アクリル樹脂板については剥離したが他
のものはいずれも完全に接着していた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 1 活性水素基含有アミン化合物またはアミ
    ノアルキルアルコキシシラン 1モル 2 エポキシ基含有有機化合物またはエポキシア
    ルキルアルコキシシラン0.5〜4モル 3 一般式R1 aSi(OR24-a(ここにR1は水素原子
    または炭素数1〜4の同種または異種の非置換
    または置換1価炭化水素基、R2はR1と同じ1
    価炭化水素基、aは0.1〜3の整数)で示され
    るアルコキシシランまたはその部分加水分解物 0.5〜12モル の3成分(1、2のうち少なくとも1種はアルコ
    キシシランである)を実質的に無水の条件下で加
    熱反応させて得ることを特徴とする接着促進剤。
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