JPH11343347A - カルボシロキサンデンドリマー - Google Patents
カルボシロキサンデンドリマーInfo
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- JPH11343347A JPH11343347A JP10166423A JP16642398A JPH11343347A JP H11343347 A JPH11343347 A JP H11343347A JP 10166423 A JP10166423 A JP 10166423A JP 16642398 A JP16642398 A JP 16642398A JP H11343347 A JPH11343347 A JP H11343347A
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- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分子中に複数のケイ素原子結合水素原子また
はケイ素原子結合アルコキシ基を含有する、新規な分岐
状シロキサン・シルアルキレン共重合体を提供する。 【解決手段】 一般式： Ｘ1Ｒ1 aＳｉＯ(3-a)/2 ［式中、Ｒ1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしく
はアリール基であり、ａは０〜２の整数であり、Ｘ1は
ｉ＝１とした場合の次式で示されるシリルアルキル基で
ある。 【化１】 （式中、R1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしくは
アリール基であり、R2は炭素原子数２〜１０のアルキレ
ン基であり、R3は炭素原子数１〜１０のアルキル基であ
り、Xi+1はｉ＝ｉ＋１とした場合の上記シリルアルキル
基または水素原子である。iは該シリルアルキル基の階
層を示している１〜１０の整数であり、biは０〜３の整
数であるが、一分子中に存在する少なくとも１個のX1中
のb1は０〜２の整数である。）]で示される同じかまた
は異なるシロキサン単位を1個以上含有し、そのシロキ
サン単位を含有するケイ素原子数２以上のポリシロキサ
ン構造を核に有するカルボシロキサンデンドリマー。
はケイ素原子結合アルコキシ基を含有する、新規な分岐
状シロキサン・シルアルキレン共重合体を提供する。 【解決手段】 一般式： Ｘ1Ｒ1 aＳｉＯ(3-a)/2 ［式中、Ｒ1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしく
はアリール基であり、ａは０〜２の整数であり、Ｘ1は
ｉ＝１とした場合の次式で示されるシリルアルキル基で
ある。 【化１】 （式中、R1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしくは
アリール基であり、R2は炭素原子数２〜１０のアルキレ
ン基であり、R3は炭素原子数１〜１０のアルキル基であ
り、Xi+1はｉ＝ｉ＋１とした場合の上記シリルアルキル
基または水素原子である。iは該シリルアルキル基の階
層を示している１〜１０の整数であり、biは０〜３の整
数であるが、一分子中に存在する少なくとも１個のX1中
のb1は０〜２の整数である。）]で示される同じかまた
は異なるシロキサン単位を1個以上含有し、そのシロキ
サン単位を含有するケイ素原子数２以上のポリシロキサ
ン構造を核に有するカルボシロキサンデンドリマー。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シロキサン結合と
シルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有
し、ケイ素原子結合水素原子および／またはケイ素原子
結合アルコキシ基を含有する、高分子量体としても得ら
れ、かつ分子量分布が狭い新規なカルボシロキサンデン
ドリマーに関する。
シルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構造を有
し、ケイ素原子結合水素原子および／またはケイ素原子
結合アルコキシ基を含有する、高分子量体としても得ら
れ、かつ分子量分布が狭い新規なカルボシロキサンデン
ドリマーに関する。
【０００２】
【従来の技術】一つの核から放射状に高度な枝分かれ構
造を有し、分子量分布が狭い高分子は、デンドリマーと
呼ばれ、低粘度性、高反応性、高溶解性、低ガラス転移
温度といった特徴的な性質を持っており、その応用が注
目されている。有機ケイ素デンドリマーとしては、例え
ば、シロキサンデンドリマー｛レブロフら、Dokl. Aka
d. Nauk. SSSR 309, 367 (1989)； 正宗ら、J. Am. Che
m. Soc. 112, 7077 (1990)参照）、カルボシロキサンデ
ンドリマー｛柿本ら、Macromolecules 24, 3469 (199
1)； 特公平７−１７９８１号公報、シェイコら、Macro
mol. Rapid Commun.17, 283 (1996)参照｝、カルボシラ
ンデンドリマー｛ルーバースら、Macromolecules 26, 9
63 (1993)； 特公平８−３１１２０５号公報参照｝など
が知られている。その中に、シロキサン結合とシルアル
キレン結合が交互に配列したカルボシロキサンデンドリ
マーも開示されているが、｛特開平７−１７９８１号公
報；シェイコら、Macromol. Rapid Commun. 17, 283 (1
996)参照｝これらは一個のケイ素原子に複数のビニル基
またはアリル基が結合したシラン化合物をデンドリマー
の核構成原料とするものに限定されており、これらの方
法にしたがえば、階層数が小さい低分子量のデンドリマ
ーしか得られないという欠点があった。また、一段階重
合法によるシロキサン結合とシルアルキレン結合が交互
に配列した高分岐状ポリマーの合成も開示されている
が、｛マシウスら、J. Am. Chem. Soc. 113, 4043 (199
1)参照｝この方法では、分子量分布が狭いデンドリマー
は得られないという欠点があった。すなわち、シロキサ
ン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構
造を有し、高分子量体としても得られ、かつ分子量分布
が狭いカルボシロキサンデンドリマーはこれまで知られ
ていなかった。分子中に複数のケイ素原子結合水素原子
を含有する有機ケイ素重合体は、ヒドロシリル化反応に
よる架橋反応の架橋剤や官能性有機ケイ素重合体合成の
前駆体として利用されている。近年、架橋効率が高く、
しかも機械的強度、接着性、耐久性等の諸特性に優れた
硬化体を形成し得る新規な架橋剤や、特異な反応性を有
する官能性有機ケイ素重合体を合成するための新規な前
駆体の開発が望まれている。一方、分子中に複数のケイ
素原子結合アルコキシ基を含有する有機ケイ素重合体
は、コーティング剤や塗料ビヒクルの原料もしくは湿気
硬化型組成物の架橋剤として有用であることが知られて
いる。さらに近年、反応性が高く、最終製品の機械的強
度、接着性、耐久性等の諸特性の向上に有効な有機ケイ
素重合体の開発が切望されている。デンドリマーの分岐
末端に結合した官能基は、一般に反応性が高く、また分
子量分布が狭いことから均質な反応性が期待できる。従
って、上記反応性反応性基を分岐末端に有するデンドリ
マーは上記の要求解決に好適である。
造を有し、分子量分布が狭い高分子は、デンドリマーと
呼ばれ、低粘度性、高反応性、高溶解性、低ガラス転移
温度といった特徴的な性質を持っており、その応用が注
目されている。有機ケイ素デンドリマーとしては、例え
ば、シロキサンデンドリマー｛レブロフら、Dokl. Aka
d. Nauk. SSSR 309, 367 (1989)； 正宗ら、J. Am. Che
m. Soc. 112, 7077 (1990)参照）、カルボシロキサンデ
ンドリマー｛柿本ら、Macromolecules 24, 3469 (199
1)； 特公平７−１７９８１号公報、シェイコら、Macro
mol. Rapid Commun.17, 283 (1996)参照｝、カルボシラ
ンデンドリマー｛ルーバースら、Macromolecules 26, 9
63 (1993)； 特公平８−３１１２０５号公報参照｝など
が知られている。その中に、シロキサン結合とシルアル
キレン結合が交互に配列したカルボシロキサンデンドリ
マーも開示されているが、｛特開平７−１７９８１号公
報；シェイコら、Macromol. Rapid Commun. 17, 283 (1
996)参照｝これらは一個のケイ素原子に複数のビニル基
またはアリル基が結合したシラン化合物をデンドリマー
の核構成原料とするものに限定されており、これらの方
法にしたがえば、階層数が小さい低分子量のデンドリマ
ーしか得られないという欠点があった。また、一段階重
合法によるシロキサン結合とシルアルキレン結合が交互
に配列した高分岐状ポリマーの合成も開示されている
が、｛マシウスら、J. Am. Chem. Soc. 113, 4043 (199
1)参照｝この方法では、分子量分布が狭いデンドリマー
は得られないという欠点があった。すなわち、シロキサ
ン結合とシルアルキレン結合が交互に配列した高分岐構
造を有し、高分子量体としても得られ、かつ分子量分布
が狭いカルボシロキサンデンドリマーはこれまで知られ
ていなかった。分子中に複数のケイ素原子結合水素原子
を含有する有機ケイ素重合体は、ヒドロシリル化反応に
よる架橋反応の架橋剤や官能性有機ケイ素重合体合成の
前駆体として利用されている。近年、架橋効率が高く、
しかも機械的強度、接着性、耐久性等の諸特性に優れた
硬化体を形成し得る新規な架橋剤や、特異な反応性を有
する官能性有機ケイ素重合体を合成するための新規な前
駆体の開発が望まれている。一方、分子中に複数のケイ
素原子結合アルコキシ基を含有する有機ケイ素重合体
は、コーティング剤や塗料ビヒクルの原料もしくは湿気
硬化型組成物の架橋剤として有用であることが知られて
いる。さらに近年、反応性が高く、最終製品の機械的強
度、接着性、耐久性等の諸特性の向上に有効な有機ケイ
素重合体の開発が切望されている。デンドリマーの分岐
末端に結合した官能基は、一般に反応性が高く、また分
子量分布が狭いことから均質な反応性が期待できる。従
って、上記反応性反応性基を分岐末端に有するデンドリ
マーは上記の要求解決に好適である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は上記問題点
を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。即
ち、本発明の目的は、シロキサン結合とシルアルキレン
結合が交互に配列した高分岐構造を有し、ケイ素原子結
合水素原子および／またはケイ素原子結合アルコキシ基
を含有する新規なカルボシロキサンデンドリマーを提供
することにある。
を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。即
ち、本発明の目的は、シロキサン結合とシルアルキレン
結合が交互に配列した高分岐構造を有し、ケイ素原子結
合水素原子および／またはケイ素原子結合アルコキシ基
を含有する新規なカルボシロキサンデンドリマーを提供
することにある。
【０００４】
【問題を解決するための手段】本発明は、一般式： X1R1 aSiO(3-a)/2 ｛式中、R1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしくは
アリール基であり、aは０〜２の整数、X1はｉ＝１とし
た場合の次式で示されるシリルアルキル基である。
アリール基であり、aは０〜２の整数、X1はｉ＝１とし
た場合の次式で示されるシリルアルキル基である。
【化３】 （式中、R1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしくは
アリール基であり、R2は炭素原子数２〜１０のアルキレ
ン基であり、R3は炭素原子数１〜１０のアルキル基であ
り、Xi+1はｉ＝ｉ＋１とした場合の上記シリルアルキル
基または水素原子である。iは該シリルアルキル基の階
層を示している１〜１０の整数であり、biは０〜３の整
数であるが、一分子中に存在する少なくとも１個のX1中
のb1は０〜２の整数である。）｝で示される同じかまた
は異なるシロキサン単位を1個以上含有し、そのシロキ
サン単位を含有するケイ素原子数２以上のポリシロキサ
ン構造を核に有するカルボシロキサンデンドリマーに関
する。
アリール基であり、R2は炭素原子数２〜１０のアルキレ
ン基であり、R3は炭素原子数１〜１０のアルキル基であ
り、Xi+1はｉ＝ｉ＋１とした場合の上記シリルアルキル
基または水素原子である。iは該シリルアルキル基の階
層を示している１〜１０の整数であり、biは０〜３の整
数であるが、一分子中に存在する少なくとも１個のX1中
のb1は０〜２の整数である。）｝で示される同じかまた
は異なるシロキサン単位を1個以上含有し、そのシロキ
サン単位を含有するケイ素原子数２以上のポリシロキサ
ン構造を核に有するカルボシロキサンデンドリマーに関
する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のカルボシロキサンデンド
リマーは、一般式： X1R1 aSiO(3-a)/2 で示される同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以
上含有するケイ素原子数２以上のポリシロキサン構造を
有することを特徴とする。上式中、R1は炭素原子数１〜
１０のアルキル基もしくはアリール基であり、アルキル
基としては、メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル
基，ペンチル基，イソプロピル基，イソブチル基，シク
ロペンチル基，シクロヘキシル基が例示され、アリール
基としては、フェニル基，ナフチル基が例示される。こ
れらの中でもメチル基が好ましい。aは０〜２の整数で
ある。X1はｉ＝１とした場合の次式で示されるシリルア
ルキル基である。
リマーは、一般式： X1R1 aSiO(3-a)/2 で示される同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以
上含有するケイ素原子数２以上のポリシロキサン構造を
有することを特徴とする。上式中、R1は炭素原子数１〜
１０のアルキル基もしくはアリール基であり、アルキル
基としては、メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル
基，ペンチル基，イソプロピル基，イソブチル基，シク
ロペンチル基，シクロヘキシル基が例示され、アリール
基としては、フェニル基，ナフチル基が例示される。こ
れらの中でもメチル基が好ましい。aは０〜２の整数で
ある。X1はｉ＝１とした場合の次式で示されるシリルア
ルキル基である。
【化４】 上式中、R2は炭素原子数２〜１０のアルキレン基であ
り、エチレン基，プロピレン基，ブチレン基，ヘキシレ
ン基などの直鎖状アルキレン基；メチルメチレン基，メ
チルエチレン基，１−メチルペンチレン基，１,４−ジ
メチルブチレン基などの分岐状アルキレン基が例示され
る。これらの中でも、エチレン基，メチルメチレン基，
ヘキシレン基，１−メチルペンチレン基，１,４−ジメ
チルブチレン基が好ましい。R3は炭素原子数１〜１０の
アルキル基であり、メチル基，エチル基，プロピル基，
ブチル基，ペンチル基，イソプロピル基が例示される。
これらの中でもメチル基またはエチル基が好ましい。R1
は前記と同じである。Xi+1は上記シリルアルキル基また
は水素原子である。iは１〜１０の整数であり、これは
該シリルアルキル基の階層数、即ち、該シリルアルキル
基の繰り返し数を示している。従って、階層数が１であ
る場合に、該シリルアルキル基は一般式：
り、エチレン基，プロピレン基，ブチレン基，ヘキシレ
ン基などの直鎖状アルキレン基；メチルメチレン基，メ
チルエチレン基，１−メチルペンチレン基，１,４−ジ
メチルブチレン基などの分岐状アルキレン基が例示され
る。これらの中でも、エチレン基，メチルメチレン基，
ヘキシレン基，１−メチルペンチレン基，１,４−ジメ
チルブチレン基が好ましい。R3は炭素原子数１〜１０の
アルキル基であり、メチル基，エチル基，プロピル基，
ブチル基，ペンチル基，イソプロピル基が例示される。
これらの中でもメチル基またはエチル基が好ましい。R1
は前記と同じである。Xi+1は上記シリルアルキル基また
は水素原子である。iは１〜１０の整数であり、これは
該シリルアルキル基の階層数、即ち、該シリルアルキル
基の繰り返し数を示している。従って、階層数が１であ
る場合に、該シリルアルキル基は一般式：
【化５】 で示され、階層数が２である場合に、該シリルアルキル
基は一般式：
基は一般式：
【化６】 で示され、階層数が３である場合に、該シリルアルキル
基は一般式：
基は一般式：
【化７】 で示される。
【０００６】本発明のカルボシロキサンデンドリマーの
中のケイ素原子数２以上のポリシロキサン構造は、一般
式： X1R1 aSiO(3-a)/2 で示される同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以
上含有する必要がある。このようなオルガノシロキサン
の構成単位としては、一般式：X1R1 2SiO1/2またはR1 3Si
O1/2で示される１官能シロキサン単位（Ｍ単位）、一般
式：X1R1SiO2/2またはR1 2SiO2/2で示される２官能シロ
キサン単位（Ｄ単位）、一般式：X1SiO3/ 2またはR1SiO
3/2で示される３官能シロキサン単位（Ｔ単位）、SiO
4/2で示される４官能シロキサン単位（Ｑ単位）があ
る。このようなオルガノポリシロキサンとしては、一般
式：R1 2SiO2/2またはX1R1SiO2/2 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）で示される
２官能性シロキサン単位を少なくとも１個含有するも
の、一般式：
中のケイ素原子数２以上のポリシロキサン構造は、一般
式： X1R1 aSiO(3-a)/2 で示される同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以
上含有する必要がある。このようなオルガノシロキサン
の構成単位としては、一般式：X1R1 2SiO1/2またはR1 3Si
O1/2で示される１官能シロキサン単位（Ｍ単位）、一般
式：X1R1SiO2/2またはR1 2SiO2/2で示される２官能シロ
キサン単位（Ｄ単位）、一般式：X1SiO3/ 2またはR1SiO
3/2で示される３官能シロキサン単位（Ｔ単位）、SiO
4/2で示される４官能シロキサン単位（Ｑ単位）があ
る。このようなオルガノポリシロキサンとしては、一般
式：R1 2SiO2/2またはX1R1SiO2/2 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）で示される
２官能性シロキサン単位を少なくとも１個含有するも
の、一般式：
【化８】 （式中、R1およびX1は前記に同じである。） で示されるもの、一般式： R1SiO3/2, X1SiO3/2, R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）から選ばれ
るシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が５以上
であるもの、もしくは一般式： SiO4/2,R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）から選ばれ
るシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が６以上
であるものが好ましく、具体的には次の一般式で示され
るものが挙げられる。なお、式中、X1,R1は前記に同
じ、m, n, x, y, z, p, q, r, s, tは一分子中に存在す
るシロキサン単位の数を示し、１以上であるが、p+qは
５以上、s+tは６以上である。
るシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が５以上
であるもの、もしくは一般式： SiO4/2,R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）から選ばれ
るシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が６以上
であるものが好ましく、具体的には次の一般式で示され
るものが挙げられる。なお、式中、X1,R1は前記に同
じ、m, n, x, y, z, p, q, r, s, tは一分子中に存在す
るシロキサン単位の数を示し、１以上であるが、p+qは
５以上、s+tは６以上である。
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】 (X1R1 2SiO1/2)p(R1SiO3/2)q (X1SiO3/2)r (X1R1 2SiO1/2)s(SiO4/2)t
【０００７】本発明のカルボシロキサンデンドリマーは
単一化合物もしくはそれらの混合物として得られるが、
ポリスチレン換算の分子量における分散度指数、即ち重
量平均分子量と数平均分子量の商（Ｍｗ／Ｍｎ）が２以
下であることが好ましい。具体的には下記平均分子式で
示される重合体が挙げられる。
単一化合物もしくはそれらの混合物として得られるが、
ポリスチレン換算の分子量における分散度指数、即ち重
量平均分子量と数平均分子量の商（Ｍｗ／Ｍｎ）が２以
下であることが好ましい。具体的には下記平均分子式で
示される重合体が挙げられる。
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【０００８】本発明のカルボシロキサンデンドリマー
は、一般式： HR1 aSiO(3-a)/2 （式中、R1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしくは
アリール基であり、aは０〜２の整数である。）で示さ
れる同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以上含有
し、そのシロキサン単位を含有するケイ素原子数２以上
のケイ素原子結合水素原子含有ポリシロキサンを出発物
質として、下記の（ｘ）工程と（ｙ）工程を１回以上交
互に行うことにより製造することができる。 （ｘ）上記出発物質または下記（ｙ）工程で生成するケ
イ素原子結合水素原子含有カルボシロキサンデンドリマ
ーと、一般式：R4Si(OR3)3（式中、R3は前記と同じであ
り、R4は炭素原子数２〜１０のアルケニル基である。）
で示されるアルケニル基含有アルコキシシランとを、白
金系遷移金属触媒の存在下に付加反応させる工程、 （ｙ）上記（ｘ）工程で得られたアルコキシ基含有カル
ボシロキサンデンドリマーと、一般式：
は、一般式： HR1 aSiO(3-a)/2 （式中、R1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしくは
アリール基であり、aは０〜２の整数である。）で示さ
れる同じかまたは異なるシロキサン単位を1個以上含有
し、そのシロキサン単位を含有するケイ素原子数２以上
のケイ素原子結合水素原子含有ポリシロキサンを出発物
質として、下記の（ｘ）工程と（ｙ）工程を１回以上交
互に行うことにより製造することができる。 （ｘ）上記出発物質または下記（ｙ）工程で生成するケ
イ素原子結合水素原子含有カルボシロキサンデンドリマ
ーと、一般式：R4Si(OR3)3（式中、R3は前記と同じであ
り、R4は炭素原子数２〜１０のアルケニル基である。）
で示されるアルケニル基含有アルコキシシランとを、白
金系遷移金属触媒の存在下に付加反応させる工程、 （ｙ）上記（ｘ）工程で得られたアルコキシ基含有カル
ボシロキサンデンドリマーと、一般式：
【化２５】 （式中、R1は前記と同じである。）で示されるジシロキ
サンを酸性条件下に反応させる工程。この製法では最後
に（ｘ）工程を行うことにより、分岐末端がアルコキシ
基で封鎖されたカルボシロキサンデンドリマーを得るこ
とができ、最後に（ｙ）工程を行うことにより、分岐末
端がケイ素原子結合水素原子で封鎖されたカルボシロキ
サンデンドリマーを得ることができる。
サンを酸性条件下に反応させる工程。この製法では最後
に（ｘ）工程を行うことにより、分岐末端がアルコキシ
基で封鎖されたカルボシロキサンデンドリマーを得るこ
とができ、最後に（ｙ）工程を行うことにより、分岐末
端がケイ素原子結合水素原子で封鎖されたカルボシロキ
サンデンドリマーを得ることができる。
【０００９】上記（ｘ）工程で使用される白金系遷移金
属触媒としては、塩化白金酸，アルコール変性塩化白金
酸，白金のオレフィン錯体，白金のジケトナート錯体が
例示される。この白金系遷移金属触媒を用いて付加反応
を行う際には、原料中のケイ素原子結合水素原子を完全
に反応させるために、やや過剰のアルケニル基含有アル
コキシシランを反応させるのが好ましい。過剰量のアル
ケニル基含有アルコキシシランは反応後、減圧蒸留等に
よって分別回収することができる。またこの付加反応は
常温もしくは加熱条件下に行うことができ、反応を妨害
しない溶媒を用いて行うこともできる。
属触媒としては、塩化白金酸，アルコール変性塩化白金
酸，白金のオレフィン錯体，白金のジケトナート錯体が
例示される。この白金系遷移金属触媒を用いて付加反応
を行う際には、原料中のケイ素原子結合水素原子を完全
に反応させるために、やや過剰のアルケニル基含有アル
コキシシランを反応させるのが好ましい。過剰量のアル
ケニル基含有アルコキシシランは反応後、減圧蒸留等に
よって分別回収することができる。またこの付加反応は
常温もしくは加熱条件下に行うことができ、反応を妨害
しない溶媒を用いて行うこともできる。
【００１０】上記（ｙ）工程での酸性条件を作るのに使
われる酸性物質としては、塩酸、硫酸、カルボン酸類、
スルホン酸類またはその混合物が好ましい。尚、（ｙ）
工程では、ケイ素原子結合水素原子がアルコール分解し
て、下記モノアルコキシシロキシ基が少量含まれること
もある。
われる酸性物質としては、塩酸、硫酸、カルボン酸類、
スルホン酸類またはその混合物が好ましい。尚、（ｙ）
工程では、ケイ素原子結合水素原子がアルコール分解し
て、下記モノアルコキシシロキシ基が少量含まれること
もある。
【化２６】 （式中、R1およびR3は前記と同じである。）
【００１１】以上のような本発明のカルボシロキサンデ
ンドリマーは、シロキサン結合とシルアルキレン結合が
交互に配列した高分岐構造を有し、ケイ素原子結合水素
原子および／またはケイ素原子結合アルコキシ基を含有
する、高分子量体としても得られ、かつ分子量分布が狭
いという特徴を有する。特に、ケイ素原子結合水素原子
を含有する場合には、ヒドロシリル化反応硬化性組成物
の架橋剤や官能性有機ケイ素重合体のための前駆体とし
て有用であり、また、ケイ素原子結合アルコキシ基を含
有する場合には、コーティング剤や塗料ビヒクルの原料
もしくは湿気硬化型組成物の架橋剤として有用であると
いう利点を有する。
ンドリマーは、シロキサン結合とシルアルキレン結合が
交互に配列した高分岐構造を有し、ケイ素原子結合水素
原子および／またはケイ素原子結合アルコキシ基を含有
する、高分子量体としても得られ、かつ分子量分布が狭
いという特徴を有する。特に、ケイ素原子結合水素原子
を含有する場合には、ヒドロシリル化反応硬化性組成物
の架橋剤や官能性有機ケイ素重合体のための前駆体とし
て有用であり、また、ケイ素原子結合アルコキシ基を含
有する場合には、コーティング剤や塗料ビヒクルの原料
もしくは湿気硬化型組成物の架橋剤として有用であると
いう利点を有する。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。実施
例中、本発明のカルボシロキサンデンドリマーの同定
は、29Ｓｉ−核磁気共鳴分析およびゲル透過クロマトグ
ラフィー分析（溶媒：トルエン）により行った。
例中、本発明のカルボシロキサンデンドリマーの同定
は、29Ｓｉ−核磁気共鳴分析およびゲル透過クロマトグ
ラフィー分析（溶媒：トルエン）により行った。
【００１３】
【実施例１】撹拌装置，温度計，還流冷却管，滴下ロー
トを取り付けた２００ｍｌの４つ口フラスコに、ビニル
トリメトキシシラン１２１ｇと塩化白金酸３％イソプロ
パノール溶液０.０４ｇを投入し、これらを撹拌しなが
ら１０５℃に加熱した。次いでこれに、１,１,３,３−
テトラメチルジシロキサン５０ｇを、滴下ロートを用い
て反応温度が１００〜１１０℃を保つようにゆっくり滴
下した。滴下終了後、反応溶液を１１５℃で１時間加熱
した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮したところ、１５８
ｇの微褐色液体が得られた。続いて、撹拌装置、温度
計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた１リットル４
つ口フラスコに、１,１,３,３−テトラメチルジシロキ
サン１８０ｇ、濃塩酸５０ｍｌ、水１００ｍｌおよびイ
ソプロパノール１００ｍｌを投入してこれらを撹拌し
た。次いでこれに、上記で得た微褐色液体１５８ｇを滴
下ロートを用いて１時間かけてゆっくり滴下した。滴下
終了後、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次いで反応
溶液を分液ロートに移して下層を分取した後、残った上
層液を水１００ｍｌで３回、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液１００ｍｌで１回洗浄して、無水塩化カルシウムで
乾燥した。固形分を濾別し、得られた溶液を減圧濃縮し
たところ、２３３ｇの無色透明液体が得られた。この反
応生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析により分析したとこ
ろ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均４．
６個のケイ素原子結合水素原子と平均１．４個のケイ素
原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデンドリ
マーであることが判明した。またこのカルボシロキサン
デンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポ
リスチレン換算数平均分子量が１,０３９であり、分散
度指数が１．０８であることが確認された。
トを取り付けた２００ｍｌの４つ口フラスコに、ビニル
トリメトキシシラン１２１ｇと塩化白金酸３％イソプロ
パノール溶液０.０４ｇを投入し、これらを撹拌しなが
ら１０５℃に加熱した。次いでこれに、１,１,３,３−
テトラメチルジシロキサン５０ｇを、滴下ロートを用い
て反応温度が１００〜１１０℃を保つようにゆっくり滴
下した。滴下終了後、反応溶液を１１５℃で１時間加熱
した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮したところ、１５８
ｇの微褐色液体が得られた。続いて、撹拌装置、温度
計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた１リットル４
つ口フラスコに、１,１,３,３−テトラメチルジシロキ
サン１８０ｇ、濃塩酸５０ｍｌ、水１００ｍｌおよびイ
ソプロパノール１００ｍｌを投入してこれらを撹拌し
た。次いでこれに、上記で得た微褐色液体１５８ｇを滴
下ロートを用いて１時間かけてゆっくり滴下した。滴下
終了後、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次いで反応
溶液を分液ロートに移して下層を分取した後、残った上
層液を水１００ｍｌで３回、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液１００ｍｌで１回洗浄して、無水塩化カルシウムで
乾燥した。固形分を濾別し、得られた溶液を減圧濃縮し
たところ、２３３ｇの無色透明液体が得られた。この反
応生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析により分析したとこ
ろ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均４．
６個のケイ素原子結合水素原子と平均１．４個のケイ素
原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデンドリ
マーであることが判明した。またこのカルボシロキサン
デンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポ
リスチレン換算数平均分子量が１,０３９であり、分散
度指数が１．０８であることが確認された。
【化２７】
【００１４】
【実施例２】撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トを取り付けた２００ｍｌの４つ口フラスコに、ビニル
トリメトキシシラン８８．９ｇと塩化白金酸３％イソプ
ロパノール溶液０.０４ｇを投入し、これらを撹拌しな
がら１００℃に加熱した。次いでこれに、１,３,５,７
−テトラメチルシクロテトラシロキサン３０．０ｇを、
滴下ロートを用いて反応温度が１００〜１１０℃を保つ
ようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を１２
０℃で１時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮し
たところ、１００．４ｇの微褐色液体が得られた。続い
て、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り
付けた１リットル４つ口フラスコに、１,１,３,３−テ
トラメチルジシロキサン９３.０ｇ、濃塩酸３０ｍｌ、
水６０ｍｌおよびイソプロパノール６０ｍｌを投入して
これらを撹拌した。次いでこれに、上記で得た微褐色液
体８０.０ｇを滴下ロートを用いて１時間かけてゆっく
り滴下した。滴下終了後、反応溶液を室温で１時間撹拌
した。次いで反応溶液を分液ロートに移して下層を分取
した後、残った上層液を水１００ｍｌで２回、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１００ｍｌで１回洗浄して、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。固形分を濾別し、得られた
溶液を減圧濃縮したところ、９８．５ｇの無色透明液体
が得られた。この反応生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析
により分析したところ、下記の平均分子式で示される、
一分子中に平均９．６個のケイ素原子結合水素原子と平
均２．４個のケイ素原子結合メトキシ基を有するカルボ
シロキサンデンドリマーであることが判明した。またこ
のカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透過クロマト
グラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量が１,
８１９であり、分散度指数が１．１５であることが確認
された。
トを取り付けた２００ｍｌの４つ口フラスコに、ビニル
トリメトキシシラン８８．９ｇと塩化白金酸３％イソプ
ロパノール溶液０.０４ｇを投入し、これらを撹拌しな
がら１００℃に加熱した。次いでこれに、１,３,５,７
−テトラメチルシクロテトラシロキサン３０．０ｇを、
滴下ロートを用いて反応温度が１００〜１１０℃を保つ
ようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を１２
０℃で１時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮し
たところ、１００．４ｇの微褐色液体が得られた。続い
て、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り
付けた１リットル４つ口フラスコに、１,１,３,３−テ
トラメチルジシロキサン９３.０ｇ、濃塩酸３０ｍｌ、
水６０ｍｌおよびイソプロパノール６０ｍｌを投入して
これらを撹拌した。次いでこれに、上記で得た微褐色液
体８０.０ｇを滴下ロートを用いて１時間かけてゆっく
り滴下した。滴下終了後、反応溶液を室温で１時間撹拌
した。次いで反応溶液を分液ロートに移して下層を分取
した後、残った上層液を水１００ｍｌで２回、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１００ｍｌで１回洗浄して、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。固形分を濾別し、得られた
溶液を減圧濃縮したところ、９８．５ｇの無色透明液体
が得られた。この反応生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析
により分析したところ、下記の平均分子式で示される、
一分子中に平均９．６個のケイ素原子結合水素原子と平
均２．４個のケイ素原子結合メトキシ基を有するカルボ
シロキサンデンドリマーであることが判明した。またこ
のカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透過クロマト
グラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量が１,
８１９であり、分散度指数が１．１５であることが確認
された。
【化２８】
【００１５】
【実施例３】撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トを取り付けた１００ｍｌの３つ口フラスコに、ビニル
トリエトキシシラン５４．３ｇと塩化白金酸３％イソプ
ロパノール溶液０.０４ｇを投入し、これらを撹拌しな
がら１００℃に加熱した。次いでこれに、実施例２で得
られたカルボシロキサンデンドリマー２７．０ｇを、滴
下ロートを用いて反応温度が１００〜１１０℃を保つよ
うにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を１２０
℃で１時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮した
ところ、６１．９ｇの微褐色液体が得られた。この反応
生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析により分析したとこ
ろ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均２９
個のケイ素原子結合エトキシ基と平均２．４個のケイ素
原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデンドリ
マーであることが判明した。またこのカルボシロキサン
デンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポ
リスチレン換算数平均分子量が３,６９０であり、分散
度指数が１．１７であることが確認された。
トを取り付けた１００ｍｌの３つ口フラスコに、ビニル
トリエトキシシラン５４．３ｇと塩化白金酸３％イソプ
ロパノール溶液０.０４ｇを投入し、これらを撹拌しな
がら１００℃に加熱した。次いでこれに、実施例２で得
られたカルボシロキサンデンドリマー２７．０ｇを、滴
下ロートを用いて反応温度が１００〜１１０℃を保つよ
うにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を１２０
℃で１時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮した
ところ、６１．９ｇの微褐色液体が得られた。この反応
生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析により分析したとこ
ろ、下記の平均分子式で示される、一分子中に平均２９
個のケイ素原子結合エトキシ基と平均２．４個のケイ素
原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデンドリ
マーであることが判明した。またこのカルボシロキサン
デンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーによるポ
リスチレン換算数平均分子量が３,６９０であり、分散
度指数が１．１７であることが確認された。
【化２９】
【００１６】
【実施例４】撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トを取り付けた１００ｍｌの３つ口フラスコに、ビニル
トリメトキシシラン４９．４ｇと塩化白金酸３％イソプ
ロパノール溶液０.０４ｇを投入し、これらを撹拌しな
がら１００℃に加熱した。次いでこれに、平均式：
トを取り付けた１００ｍｌの３つ口フラスコに、ビニル
トリメトキシシラン４９．４ｇと塩化白金酸３％イソプ
ロパノール溶液０.０４ｇを投入し、これらを撹拌しな
がら１００℃に加熱した。次いでこれに、平均式：
【化３０】 で示されるポリシロキサン３０．０ｇを、滴下ロートを
用いて反応温度が１００〜１１０℃を保つようにゆっく
り滴下した。滴下終了後、反応溶液を１２０℃で１時間
加熱した。冷却後、反応溶液をなす型フラスコに移して
ロータリーエバポレーターにより減圧濃縮したところ、
６１．０ｇの微褐色液体が得られた。続いて、撹拌装
置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた３０
０ｍｌ４つ口フラスコに、１,１,３,３−テトラメチル
ジシロキサン０．３．３ｇ、濃塩酸４０ｍｌ、水２０ｍ
ｌおよびイソプロパノール２０ｍｌを投入してこれらを
撹拌した。次いでこれに、上記で得た微褐色液体６１．
０ｇを滴下ロートを用いて１時間かけてゆっくり滴下し
た。滴下終了後、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次
いで反応溶液を分液ロートに移して下層を分取した後、
残った上層液を水１００ｍｌで２回、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液１００ｍｌで１回洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。固形分を濾別し、得られた溶液
を減圧濃縮したところ、７３．３ｇの無色透明液体が得
られた。この反応生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析によ
り分析したところ、下記の平均分子式で示される、一分
子中に平均7個のケイ素原子結合水素原子と平均７個の
ケイ素原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデ
ンドリマーであることが判明した。またこのカルボシロ
キサンデンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーに
よるポリスチレン換算数平均分子量が２,５４７であ
り、分散度指数が１．７１であることが確認された。
用いて反応温度が１００〜１１０℃を保つようにゆっく
り滴下した。滴下終了後、反応溶液を１２０℃で１時間
加熱した。冷却後、反応溶液をなす型フラスコに移して
ロータリーエバポレーターにより減圧濃縮したところ、
６１．０ｇの微褐色液体が得られた。続いて、撹拌装
置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた３０
０ｍｌ４つ口フラスコに、１,１,３,３−テトラメチル
ジシロキサン０．３．３ｇ、濃塩酸４０ｍｌ、水２０ｍ
ｌおよびイソプロパノール２０ｍｌを投入してこれらを
撹拌した。次いでこれに、上記で得た微褐色液体６１．
０ｇを滴下ロートを用いて１時間かけてゆっくり滴下し
た。滴下終了後、反応溶液を室温で１時間撹拌した。次
いで反応溶液を分液ロートに移して下層を分取した後、
残った上層液を水１００ｍｌで２回、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液１００ｍｌで１回洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。固形分を濾別し、得られた溶液
を減圧濃縮したところ、７３．３ｇの無色透明液体が得
られた。この反応生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析によ
り分析したところ、下記の平均分子式で示される、一分
子中に平均7個のケイ素原子結合水素原子と平均７個の
ケイ素原子結合メトキシ基を有するカルボシロキサンデ
ンドリマーであることが判明した。またこのカルボシロ
キサンデンドリマーは、ゲル透過クロマトグラフィーに
よるポリスチレン換算数平均分子量が２,５４７であ
り、分散度指数が１．７１であることが確認された。
【化３１】
【００１７】
【実施例５】撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トを取り付けた５００ｍｌの４つ口フラスコに、ビニル
トリメトキシシラン１６０ｇと塩化白金酸３％イソプロ
パノール溶液０.１０ｇを投入し、これらを撹拌しなが
ら１００℃に加熱した。次いでこれに、平均組成式：{H
(CH3)2SiO1/2}10(SiO4/2)5 で示されるポリシロキサン
１００ｇを、滴下ロートを用いて反応温度が１００〜１
１０℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反
応溶液を１２０℃で１時間加熱した。冷却後、反応溶液
を減圧濃縮したところ、２３１ｇの微褐色液体が得られ
た。続いて、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トを取り付けた２リットル４つ口フラスコに、１,１,
３,３−テトラメチルジシロキサン１９３ｇ、酢酸８６
ｇおよびトリフルオロメタンスルホン酸 ０．２４ｇを
投入してこれらを撹拌しながら、５０℃に昇温した。次
いでこれに、上記で得た微褐色液体２０７ｇを滴下ロー
トを用いて１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了
後、反応溶液を５０℃で１時間撹拌した。次いで反応溶
液を分液ロートに移し、水２００ｍｌで２回、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１００ｍｌで１回洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。生成した固形分を濾別
し、得られた溶液を減圧濃縮したところ、３０８ｇの無
色透明液体が得られた。さらに続いて、撹拌装置、温度
計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた３００ｍｌの
４つ口フラスコに、ビニルトリメトキシシラン５９．３
ｇと塩化白金酸３％イソプロパノール溶液０.０５ｇを
投入し、これらを撹拌しながら１００℃に加熱した。次
いでこれに、上記で得た無色透明液体５７．６ｇを、滴
下ロートを用いて反応温度が１００〜１１０℃を保つよ
うにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を１２０
℃で１時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮した
ところ、１０９ｇの微褐色液体が得られた。最後に、撹
拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた
２リットル４つ口フラスコに、１,１,３,３−テトラメ
チルジシロキサン８０．４ｇ、酢酸３６．０ｇおよびト
リフルオロメタンスルホン酸 ０．１１ｇを投入してこ
れらを撹拌しながら、５０℃に昇温した。次いでこれ
に、上記で得た微褐色液体１０３ｇを滴下ロートを用い
て１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶
液を５０℃で１時間撹拌した。次いで反応溶液を分液ロ
ートに移し、水２００ｍｌで２回、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液１００ｍｌで１回洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。生成した固形分を濾別し、得られ
た溶液を減圧濃縮したところ、１４３ｇの無色透明液体
が得られた。この反応生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析
により分析したところ、下記の平均分子式で示される、
一分子中に平均５１個のケイ素原子結合水素原子を有す
るカルボシロキサンデンドリマーであることが判明し
た。またこのカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透
過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分
子量が３３８１であり、分散度指数が１．１９であるこ
とが確認された。
トを取り付けた５００ｍｌの４つ口フラスコに、ビニル
トリメトキシシラン１６０ｇと塩化白金酸３％イソプロ
パノール溶液０.１０ｇを投入し、これらを撹拌しなが
ら１００℃に加熱した。次いでこれに、平均組成式：{H
(CH3)2SiO1/2}10(SiO4/2)5 で示されるポリシロキサン
１００ｇを、滴下ロートを用いて反応温度が１００〜１
１０℃を保つようにゆっくり滴下した。滴下終了後、反
応溶液を１２０℃で１時間加熱した。冷却後、反応溶液
を減圧濃縮したところ、２３１ｇの微褐色液体が得られ
た。続いて、撹拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロー
トを取り付けた２リットル４つ口フラスコに、１,１,
３,３−テトラメチルジシロキサン１９３ｇ、酢酸８６
ｇおよびトリフルオロメタンスルホン酸 ０．２４ｇを
投入してこれらを撹拌しながら、５０℃に昇温した。次
いでこれに、上記で得た微褐色液体２０７ｇを滴下ロー
トを用いて１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了
後、反応溶液を５０℃で１時間撹拌した。次いで反応溶
液を分液ロートに移し、水２００ｍｌで２回、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１００ｍｌで１回洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。生成した固形分を濾別
し、得られた溶液を減圧濃縮したところ、３０８ｇの無
色透明液体が得られた。さらに続いて、撹拌装置、温度
計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた３００ｍｌの
４つ口フラスコに、ビニルトリメトキシシラン５９．３
ｇと塩化白金酸３％イソプロパノール溶液０.０５ｇを
投入し、これらを撹拌しながら１００℃に加熱した。次
いでこれに、上記で得た無色透明液体５７．６ｇを、滴
下ロートを用いて反応温度が１００〜１１０℃を保つよ
うにゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶液を１２０
℃で１時間加熱した。冷却後、反応溶液を減圧濃縮した
ところ、１０９ｇの微褐色液体が得られた。最後に、撹
拌装置、温度計、還流冷却管、滴下ロートを取り付けた
２リットル４つ口フラスコに、１,１,３,３−テトラメ
チルジシロキサン８０．４ｇ、酢酸３６．０ｇおよびト
リフルオロメタンスルホン酸 ０．１１ｇを投入してこ
れらを撹拌しながら、５０℃に昇温した。次いでこれ
に、上記で得た微褐色液体１０３ｇを滴下ロートを用い
て１時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応溶
液を５０℃で１時間撹拌した。次いで反応溶液を分液ロ
ートに移し、水２００ｍｌで２回、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液１００ｍｌで１回洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。生成した固形分を濾別し、得られ
た溶液を減圧濃縮したところ、１４３ｇの無色透明液体
が得られた。この反応生成物を29Ｓｉ−核磁気共鳴分析
により分析したところ、下記の平均分子式で示される、
一分子中に平均５１個のケイ素原子結合水素原子を有す
るカルボシロキサンデンドリマーであることが判明し
た。またこのカルボシロキサンデンドリマーは、ゲル透
過クロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分
子量が３３８１であり、分散度指数が１．１９であるこ
とが確認された。
【化３２】
【００１８】
【応用例１】式：
【化３３】 で表される粘度２,１００センチストークスのオルガノ
ポリシロキサン１００部、実施例２で得られた式：
ポリシロキサン１００部、実施例２で得られた式：
【化３４】 で表されるケイ素原子結合水素原子を有するカルボシロ
キサンデンドリマー 部、白金濃度０．５％の白金ジビ
ニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．
１部および反応抑制剤として3-フェニル-1-ブチン-3-オ
ール０．１部を均一に混合して、硬化性オルガノポリシ
ロキサン組成物を調製した（組成物中のビニル基とケイ
素原子結合水素原子とのモル比は１：１．３であっ
た）。得られたオルガノポリシロキサン組成物を、９０
℃の条件下で加熱して硬化時間を測定した。また、この
オルガノポリシロキサン組成物を、９０℃、２０分間の
条件下で硬化させて得られたシート（厚さ２ｍｍ）の引
張り強度と硬さを測定した。これらの測定値を表１に示
した。
キサンデンドリマー 部、白金濃度０．５％の白金ジビ
ニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液０．
１部および反応抑制剤として3-フェニル-1-ブチン-3-オ
ール０．１部を均一に混合して、硬化性オルガノポリシ
ロキサン組成物を調製した（組成物中のビニル基とケイ
素原子結合水素原子とのモル比は１：１．３であっ
た）。得られたオルガノポリシロキサン組成物を、９０
℃の条件下で加熱して硬化時間を測定した。また、この
オルガノポリシロキサン組成物を、９０℃、２０分間の
条件下で硬化させて得られたシート（厚さ２ｍｍ）の引
張り強度と硬さを測定した。これらの測定値を表１に示
した。
【００１９】
【応用比較例１】式：
【化３５】 で表される粘度２,１００センチストークスのオルガノ
ポリシロキサン１００部、実施例２で得られたカルボン
酸デンドリマーの代わりに式：
ポリシロキサン１００部、実施例２で得られたカルボン
酸デンドリマーの代わりに式：
【化３６】 で表されるケイ素原子結合水素原子を有するメチルハイ
ドロジェンポリシロキサン０．８４部、白金濃度０．５
％の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトル
エン溶液０．１部および反応抑制剤として3-フェニル-1
-ブチン-3-オール０．１部を均一に混合して、硬化性オ
ルガノポリシロキサン組成物を調製した（組成物中のビ
ニル基とケイ素原子結合水素原子とのモル比は１：１．
３であった）。得られたオルガノポリシロキサン組成物
の硬化時間を応用例１と同様に測定した。また、このオ
ルガノポリシロキサン組成物を、１３０℃、２０分間の
条件下で硬化させて得られたシート（厚さ２ｍｍ）の引
張り強度と硬さを測定した。これらの測定値を表１に示
した。
ドロジェンポリシロキサン０．８４部、白金濃度０．５
％の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトル
エン溶液０．１部および反応抑制剤として3-フェニル-1
-ブチン-3-オール０．１部を均一に混合して、硬化性オ
ルガノポリシロキサン組成物を調製した（組成物中のビ
ニル基とケイ素原子結合水素原子とのモル比は１：１．
３であった）。得られたオルガノポリシロキサン組成物
の硬化時間を応用例１と同様に測定した。また、このオ
ルガノポリシロキサン組成物を、１３０℃、２０分間の
条件下で硬化させて得られたシート（厚さ２ｍｍ）の引
張り強度と硬さを測定した。これらの測定値を表１に示
した。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【発明の効果】本発明のカルボシロキサンデンドリマー
は、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列
した高分岐構造を有し、一分子中にケイ素原子結合水素
原子および／またはケイ素原子結合アルコキシ基を含有
し、反応性に優れているという特徴を有する。
は、シロキサン結合とシルアルキレン結合が交互に配列
した高分岐構造を有し、一分子中にケイ素原子結合水素
原子および／またはケイ素原子結合アルコキシ基を含有
し、反応性に優れているという特徴を有する。
【図１】 図１は、実施例１で得られたカルボシロキサ
ンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルであ
る。
ンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルであ
る。
【図２】 図２は、実施例２で得られた分岐状カルボシ
ロキサンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトル
である。
ロキサンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトル
である。
【図３】 図３は、実施例３で得られたカルボシロキサ
ンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルであ
る。
ンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルであ
る。
【図４】 図４は、実施例４で得られたカルボシロキサ
ンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルであ
る。
ンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルであ
る。
【図５】 図５は、実施例５で得られたカルボシロキサ
ンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルであ
る。
ンデンドリマーの29Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルであ
る。
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式： X1R1 aSiO(3-a)/2 ｛式中、R1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしくは
アリール基であり、aは０〜２の整数であり、X1はi=1と
した場合の次式で示されるシリルアルキル基である。 【化１】 （式中、R1は炭素原子数１〜１０のアルキル基もしくは
アリール基であり、R2は炭素原子数２〜１０のアルキレ
ン基であり、R3は炭素原子数１〜１０のアルキル基であ
り、Xi+1はｉ＝ｉ＋１とした場合の上記シリルアルキル
基または水素原子である。ｉは該シリルアルキル基の階
層を示している１〜１０の整数であり、biは０〜３の整
数であるが、一分子中に存在する少なくとも１個のX1中
のb1は０〜２の整数である。）｝で示される同じかまた
は異なるシロキサン単位を1個以上含有し、そのシロキ
サン単位を含有するケイ素原子数２以上のポリシロキサ
ン構造を核に有するカルボシロキサンデンドリマー。 - 【請求項２】 核となるポリシロキサン構造に、一般
式： R1 2SiO2/2またはX1R1SiO2/2 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）で示される
２官能性シロキサン単位を少なくとも１個含有する請求
項１記載のカルボシロキサンデンドリマー。 - 【請求項３】 一般式： 【化２】 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）で示される
請求項１記載のカルボシロキサンデンドリマー。 - 【請求項４】 核となるポリシロキサン構造が、一般
式： R1SiO3/2, X1SiO3/2, R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）から選ばれ
るシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が５以上
である請求項１記載のカルボシロキサンデンドリマー。 - 【請求項５】 核となるポリシロキサン構造が、一般
式： SiO4/2, R1 3SiO1/2, X1R1 2SiO1/2 （式中、R1およびX1は前記に同じである。）から選ばれ
るシロキサン単位から構成され、ケイ素原子数が６以上
である請求項１記載のカルボシロキサンデンドリマー。 - 【請求項６】 ポリスチレン換算分子量の分散度指数が
２以下である請求項１記載のカルボシロキサンデンドリ
マー。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP16642398A JP4383555B2 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | カルボシロキサンデンドリマー |
| US09/317,529 US6184407B1 (en) | 1998-05-29 | 1999-05-24 | Carbosiloxane dendrimers |
| CA002273131A CA2273131A1 (en) | 1998-05-29 | 1999-05-27 | Carbosiloxane dendrimers |
| KR1019990019587A KR100574573B1 (ko) | 1998-05-29 | 1999-05-29 | 카보실록산 덴드리머 |
| DE69903218T DE69903218T2 (de) | 1998-05-29 | 1999-05-31 | Carbosiloxan-Dendrimere |
| EP99110484A EP0962482B1 (en) | 1998-05-29 | 1999-05-31 | Carbosiloxane dendrimers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16642398A JP4383555B2 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | カルボシロキサンデンドリマー |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11343347A true JPH11343347A (ja) | 1999-12-14 |
| JP4383555B2 JP4383555B2 (ja) | 2009-12-16 |
Family
ID=15831156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16642398A Expired - Lifetime JP4383555B2 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | カルボシロキサンデンドリマー |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0962482B1 (ja) |
| JP (1) | JP4383555B2 (ja) |
| DE (1) | DE69903218T2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6180704B1 (en) * | 1998-06-25 | 2001-01-30 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Heat-curable silicone rubber composition |
| JP2007112977A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Fujifilm Corp | 絶縁膜形成用組成物、絶縁膜およびその製造方法 |
| JP2009019140A (ja) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
| US7649087B2 (en) | 2001-11-13 | 2010-01-19 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Saccharide residue-functional organopolycarbosiloxanes and method for the preparation thereof |
| JP2013010934A (ja) * | 2011-05-30 | 2013-01-17 | Dow Corning Toray Co Ltd | 新規オルガノポリシロキサンエラストマー及びその利用 |
| US8853372B2 (en) | 2010-08-23 | 2014-10-07 | Dow Corning Corporation | Saccharide siloxanes stable in aqueous environments and methods for the preparation and use of such saccharide siloxanes |
| US8877216B2 (en) | 2005-05-23 | 2014-11-04 | Dow Corning Corporation | Cosmetic and skin-care compositions comprising saccharide-siloxane copolymers |
| US8907026B2 (en) | 2004-12-23 | 2014-12-09 | Dow Corning Corporation | Crosslinkable saccharide-siloxane compositions, and networks, coatings and articles formed therefrom |
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| WO2023181864A1 (ja) * | 2022-03-24 | 2023-09-28 | Ａｇｃ株式会社 | 化合物、組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0976775B1 (en) * | 1998-07-31 | 2005-10-12 | Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. | Carbosiloxane dendrimers |
| JP2000239390A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-05 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | カルボシロキサンデンドリマー |
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| DE102004014645A1 (de) | 2004-03-25 | 2005-10-13 | Mitsubishi Polyester Film Gmbh | Transparente, elektrisch leitfähige, beschichtete Polyesterfolie, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5677410A (en) * | 1995-05-16 | 1997-10-14 | Bayer Ag | Carbosilane-dendrimers, carbosilane-hybrid materials, methods for manufacturing them and a method for manufacturing coatings from the carbosilane-dendrimers |
| DE19711650C1 (de) * | 1997-03-20 | 1998-06-10 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung SiOH-funktioneller Carbosilan-Dendrimere |
-
1998
- 1998-05-29 JP JP16642398A patent/JP4383555B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-05-31 EP EP99110484A patent/EP0962482B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-31 DE DE69903218T patent/DE69903218T2/de not_active Expired - Lifetime
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| JP4383555B2 (ja) | 2009-12-16 |
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