JPH071696A - ポリエステルフイルムおよびその製造方法 - Google Patents
ポリエステルフイルムおよびその製造方法Info
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- JPH071696A JPH071696A JP10327094A JP10327094A JPH071696A JP H071696 A JPH071696 A JP H071696A JP 10327094 A JP10327094 A JP 10327094A JP 10327094 A JP10327094 A JP 10327094A JP H071696 A JPH071696 A JP H071696A
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- polyester
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- film
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- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ポリエステルBを主成分とするB層の少なく
とも片面に、ポリエステルAを主成分とするA層が積層
されたフイルムであって、該A層の表面に、その微細結
晶に起因する突起が形成され、かつ、A層の積層厚さが
3μm以下であるポリエステルフイルム、およびその製
造方法。 【効果】 ボイド生成に伴うトラブルの発生を抑えるこ
とができるとともに、フイルム表面に極めて微細な突起
を均一に形成することができる。
とも片面に、ポリエステルAを主成分とするA層が積層
されたフイルムであって、該A層の表面に、その微細結
晶に起因する突起が形成され、かつ、A層の積層厚さが
3μm以下であるポリエステルフイルム、およびその製
造方法。 【効果】 ボイド生成に伴うトラブルの発生を抑えるこ
とができるとともに、フイルム表面に極めて微細な突起
を均一に形成することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリエステルフイルム
およびその製造方法に関し、とくに、表面に微細な突起
を形成したポリエステルフイルムおよびその製造方法に
関する。
およびその製造方法に関し、とくに、表面に微細な突起
を形成したポリエステルフイルムおよびその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】ポリエステルフイルムは、種々の用途に
幅広く用いられている。ポリエステルフイルムの加工工
程、たとえば包装用途における印刷工程、磁気記録媒体
用途における磁性層塗布工程、あるいは感熱転写用途に
おける感熱転写層塗布などの工程における加工速度の増
大に伴い、あるいは、最終製品の要求品質の高度化に伴
い、ポリエステルフイルムには、一層良好な走行性、耐
摩耗性等の表面特性が要求されつつある。良好な走行性
を得るためには、フイルム表面に微細な突起を均一に形
成することが有効であることが知られている。
幅広く用いられている。ポリエステルフイルムの加工工
程、たとえば包装用途における印刷工程、磁気記録媒体
用途における磁性層塗布工程、あるいは感熱転写用途に
おける感熱転写層塗布などの工程における加工速度の増
大に伴い、あるいは、最終製品の要求品質の高度化に伴
い、ポリエステルフイルムには、一層良好な走行性、耐
摩耗性等の表面特性が要求されつつある。良好な走行性
を得るためには、フイルム表面に微細な突起を均一に形
成することが有効であることが知られている。
【0003】フイルム表面に微細な突起を形成するため
に、コロイド状シリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子を含有せしめたポリエステルフイルムが知られてい
る(たとえば特開昭59−171623号公報)。ま
た、表面突起形成のための粒子を含有する薄層を基層に
積層したポリエステルフイルムも知られている(たとえ
ば特開平2−77431号公報)。すなわち、従来のポ
リエステルフイルムの表面突起形成法の基本は、粒子を
添加して表面に微細な突起を形成することである。
に、コロイド状シリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子を含有せしめたポリエステルフイルムが知られてい
る(たとえば特開昭59−171623号公報)。ま
た、表面突起形成のための粒子を含有する薄層を基層に
積層したポリエステルフイルムも知られている(たとえ
ば特開平2−77431号公報)。すなわち、従来のポ
リエステルフイルムの表面突起形成法の基本は、粒子を
添加して表面に微細な突起を形成することである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の、粒子(たとえば不活性粒子)含有により
表面に突起を形成したポリエステルフイルムには、基本
的に、以下のような二つの大きな問題がある。
ような従来の、粒子(たとえば不活性粒子)含有により
表面に突起を形成したポリエステルフイルムには、基本
的に、以下のような二つの大きな問題がある。
【0005】まず、ポリエステルにポリエステルとは異
質の不活性粒子等の粒子を添加して表面突起を形成する
ので、種々の副作用が生じる。その最大の問題点は、含
有粒子は、ポリエステルにとっては異物であるので、延
伸によって粒子周りにボイド(亀裂、空隙)が生じ易
い。このボイドが、各種トラブル、たとえば、透明性悪
化、電気絶縁破壊電圧の低下、表面突起が脆弱になるこ
とによる表面削れ等、を引き起こす。
質の不活性粒子等の粒子を添加して表面突起を形成する
ので、種々の副作用が生じる。その最大の問題点は、含
有粒子は、ポリエステルにとっては異物であるので、延
伸によって粒子周りにボイド(亀裂、空隙)が生じ易
い。このボイドが、各種トラブル、たとえば、透明性悪
化、電気絶縁破壊電圧の低下、表面突起が脆弱になるこ
とによる表面削れ等、を引き起こす。
【0006】また、突起形成のための含有粒子は、多か
れ少なかれ粒度分布をもっているので、形成される突起
の高さがこの粒度分布に影響され、一般に、突起高さに
高い均一性をもたせることが難しい。また、従来よく知
られている、ポリエステルの触媒を核とする、いわゆる
内部析出粒子は、凝集粒子であり、この均一性の点で、
無機粒子、有機粒子等よりもさらに劣る。
れ少なかれ粒度分布をもっているので、形成される突起
の高さがこの粒度分布に影響され、一般に、突起高さに
高い均一性をもたせることが難しい。また、従来よく知
られている、ポリエステルの触媒を核とする、いわゆる
内部析出粒子は、凝集粒子であり、この均一性の点で、
無機粒子、有機粒子等よりもさらに劣る。
【0007】本発明の目的は、本質的に含有粒子に頼る
ことなくポリエステルの結晶化を利用して表面に所望の
微細突起を形成したポリエステルフイルムおよびその製
造方法を提供することにあり、ボイドがなく、かつ、均
一な表面突起が形成されたポリエステルフイルムおよび
その製造方法を提供することにある。
ことなくポリエステルの結晶化を利用して表面に所望の
微細突起を形成したポリエステルフイルムおよびその製
造方法を提供することにあり、ボイドがなく、かつ、均
一な表面突起が形成されたポリエステルフイルムおよび
その製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
ポリエステルフイルムは、ポリエステルBを主成分とす
るB層の少なくとも片面に、ポリエステルAを主成分と
するA層が積層されたフイルムであって、該A層の表面
に、その微細結晶に起因する突起が形成され、かつ、A
層の積層厚さが3μm以下であること特徴とするものか
らなる。
ポリエステルフイルムは、ポリエステルBを主成分とす
るB層の少なくとも片面に、ポリエステルAを主成分と
するA層が積層されたフイルムであって、該A層の表面
に、その微細結晶に起因する突起が形成され、かつ、A
層の積層厚さが3μm以下であること特徴とするものか
らなる。
【0009】すなわち、本発明のポリエステルフイルム
においては、表面突起は、本質的に、粒子含有によって
形成されるのではなく、ポリエステルA自身の結晶化を
利用して形成される。したがって、粒子を添加する場合
のボイド発生の問題は実質的に無くなり、ボイド生成に
伴う各種トラブル発生の問題は基本的に解消される。
においては、表面突起は、本質的に、粒子含有によって
形成されるのではなく、ポリエステルA自身の結晶化を
利用して形成される。したがって、粒子を添加する場合
のボイド発生の問題は実質的に無くなり、ボイド生成に
伴う各種トラブル発生の問題は基本的に解消される。
【0010】このポリエステルA層は、微細結晶に起因
する表面突起を形成するための層である。したがって、
A層をそれ程厚くする必要はなく、A層は3μm以下で
十分である。A層をあまり厚くすると、結晶の配列が乱
れ、突起の高さの均一性が不良となるので好ましくな
い。また、高結晶化のA層の積層フイルム全体に対する
影響が大きくなりすぎ、積層フイルム全体としての強靱
性などが十分でなくなるおそれもある。同様の理由か
ら、A層の積層フイルム全体厚さに対する積層比率も、
高くなりすぎないように配慮することが好ましく、0.
5以下であることが好ましい。
する表面突起を形成するための層である。したがって、
A層をそれ程厚くする必要はなく、A層は3μm以下で
十分である。A層をあまり厚くすると、結晶の配列が乱
れ、突起の高さの均一性が不良となるので好ましくな
い。また、高結晶化のA層の積層フイルム全体に対する
影響が大きくなりすぎ、積層フイルム全体としての強靱
性などが十分でなくなるおそれもある。同様の理由か
ら、A層の積層フイルム全体厚さに対する積層比率も、
高くなりすぎないように配慮することが好ましく、0.
5以下であることが好ましい。
【0011】ポリエステルA層には、粒子が含有されて
いないことが好ましいが、含有されていてもよい。ただ
し粒子が含有される場合、前述の如きボイド生成に伴う
問題の発生を防止するために、A層表面突起の、ポリエ
ステルAの微細結晶に起因する突起の割合を高めておく
必要がある。つまり、A層の表面突起の70%以上が、
ポリエステルAの微細結晶に起因する突起であることが
好ましい。ここで、表面突起がポリエステルAの微細結
晶からなるものが否かについては、対象となる突起の下
を、フイルム厚さ方向に適切な溶媒でエッチングしてい
き、その突起を形成する起因物が不溶物として残存する
場合は、外部から添加された粒子、あるいは、内部析出
した粒子とする(I)。不溶物として残存するものが実
質的になかった場合は、その突起を形成する起因物は微
細結晶であると推定できる(II)。上記の溶媒として
は、例えば、フェノール/四塩化炭素(重量比:6/
4)の混合溶媒などが好ましく用いられる。この方法で
視野を約1mm2 とした時のIの頻度、IIの頻度を求
め、II/(I+II)の値が、70%以上である場合
が好ましいことになる。ただし、表面突起がポリエステ
ルAの微細結晶からなるものか否かの判定法について
は、上記の方法に限定されるものではなく、適切な方法
を選択することができる。
いないことが好ましいが、含有されていてもよい。ただ
し粒子が含有される場合、前述の如きボイド生成に伴う
問題の発生を防止するために、A層表面突起の、ポリエ
ステルAの微細結晶に起因する突起の割合を高めておく
必要がある。つまり、A層の表面突起の70%以上が、
ポリエステルAの微細結晶に起因する突起であることが
好ましい。ここで、表面突起がポリエステルAの微細結
晶からなるものが否かについては、対象となる突起の下
を、フイルム厚さ方向に適切な溶媒でエッチングしてい
き、その突起を形成する起因物が不溶物として残存する
場合は、外部から添加された粒子、あるいは、内部析出
した粒子とする(I)。不溶物として残存するものが実
質的になかった場合は、その突起を形成する起因物は微
細結晶であると推定できる(II)。上記の溶媒として
は、例えば、フェノール/四塩化炭素(重量比:6/
4)の混合溶媒などが好ましく用いられる。この方法で
視野を約1mm2 とした時のIの頻度、IIの頻度を求
め、II/(I+II)の値が、70%以上である場合
が好ましいことになる。ただし、表面突起がポリエステ
ルAの微細結晶からなるものか否かの判定法について
は、上記の方法に限定されるものではなく、適切な方法
を選択することができる。
【0012】また本発明のポリエステルフイルムにおい
ては、ポリエステルAの結晶化パラメータΔTcgが7
0℃以下であり、かつ、ポリエステルBの結晶化パラメ
ータΔTcgよりも小さいことが好ましい。ポリエステ
ルAの結晶化パラメータΔTcgを70℃以下とするこ
とにより、熱処理により容易に微細結晶を生成すること
ができるようになり、該微細結晶に起因する、目標とす
る表面突起を形成することができる。結晶化パラメータ
ΔTcgが70℃よりも大きいと、本発明で目標として
いる表面突起が得られにくい。また、ポリエステルBの
結晶化パラメータをポリエステルAのそれよりも大きく
しておくことが好ましい。ポリエステルB層は、基本的
に表面突起を形成するための層ではなく基層を構成する
ものであるから、格別に微細結晶を生成する必要はな
く、積層フイルム全体としての所定の強度をもたせるよ
う、ポリエステルB層が設定されればよい。A層とB層
に上記の結晶化パラメータの大小関係をもたせることに
より、A層には所望の表面突起形成機能を、B層には積
層フイルム全体に所望の強度等を発揮させる機能を、そ
れぞれ明確に分離してもたせることができる。
ては、ポリエステルAの結晶化パラメータΔTcgが7
0℃以下であり、かつ、ポリエステルBの結晶化パラメ
ータΔTcgよりも小さいことが好ましい。ポリエステ
ルAの結晶化パラメータΔTcgを70℃以下とするこ
とにより、熱処理により容易に微細結晶を生成すること
ができるようになり、該微細結晶に起因する、目標とす
る表面突起を形成することができる。結晶化パラメータ
ΔTcgが70℃よりも大きいと、本発明で目標として
いる表面突起が得られにくい。また、ポリエステルBの
結晶化パラメータをポリエステルAのそれよりも大きく
しておくことが好ましい。ポリエステルB層は、基本的
に表面突起を形成するための層ではなく基層を構成する
ものであるから、格別に微細結晶を生成する必要はな
く、積層フイルム全体としての所定の強度をもたせるよ
う、ポリエステルB層が設定されればよい。A層とB層
に上記の結晶化パラメータの大小関係をもたせることに
より、A層には所望の表面突起形成機能を、B層には積
層フイルム全体に所望の強度等を発揮させる機能を、そ
れぞれ明確に分離してもたせることができる。
【0013】本発明におけるポリエステルAとしては、
上記のような条件を満たす限り特に限定されないが、エ
チレンテレフタレート、エチレンα,β−ビス(2−ク
ロルフェノキシ)エタン−4,4′−ジカルボキシレー
ト、エチレン2,6−ナフタレート単位から選ばれた少
なくとも一種の構造単位を主要構成成分とする場合に特
に好ましい。中でも主たる繰り返し単位がエチレンテレ
フタレートであるポリエステルの場合が特に好ましい。
なお、本発明の目的を阻害しない範囲内で、2種以上の
ポリエステルを混合しても良いし、共重合ポリマを用い
ても良い。
上記のような条件を満たす限り特に限定されないが、エ
チレンテレフタレート、エチレンα,β−ビス(2−ク
ロルフェノキシ)エタン−4,4′−ジカルボキシレー
ト、エチレン2,6−ナフタレート単位から選ばれた少
なくとも一種の構造単位を主要構成成分とする場合に特
に好ましい。中でも主たる繰り返し単位がエチレンテレ
フタレートであるポリエステルの場合が特に好ましい。
なお、本発明の目的を阻害しない範囲内で、2種以上の
ポリエステルを混合しても良いし、共重合ポリマを用い
ても良い。
【0014】本発明のポリエステルフイルムは、ポリエ
ステルAを主成分とするA層をポリエステルBを主成分
とするB層の少なくとも片面に積層した積層フイルムで
ある。積層構成としては、A/B2層構成、A/B/A
3層構成の他、4層以上の構成であってもよい。このポ
リエステルBの種類は特に限定されない。ポリエステル
Bには、粒子が含有されていないことが好ましいが、含
有されていてもよい。
ステルAを主成分とするA層をポリエステルBを主成分
とするB層の少なくとも片面に積層した積層フイルムで
ある。積層構成としては、A/B2層構成、A/B/A
3層構成の他、4層以上の構成であってもよい。このポ
リエステルBの種類は特に限定されない。ポリエステル
Bには、粒子が含有されていないことが好ましいが、含
有されていてもよい。
【0015】次に、本発明のポリエステルフイルムの製
造方法について説明する。本発明においては、ポリエス
テルAとポリエステルBからなる層はポリマー管あるい
は口金の段階で積層され、それがシート状に吐出されて
未延伸フイルムが形成される。そして、未延伸フイルム
の少なくとも片面に(つまり表面突起を形成しようとす
るA層表面に)熱処理を施し、その後に延伸する。未延
伸フイルムに熱処理を施すことにより、未延伸フイルム
のとくに表面の結晶化が進められ、多数の結晶が生成す
る。この未延伸フイルムが延伸されると、上記微細結晶
とそうでない部分の硬さの差によって、微細結晶に起因
する均一な微細表面突起が形成される。延伸に際して
は、配向度を0.03以下、ポリエステルA層の密度を
1.35〜1.408/cm3 とした未延伸フイルム
を、少なくとも一方向に、好ましくは二軸方向に2.5
倍以上延伸する。ここで未延伸フイルムとは、口金から
押し出された直後の冷却固化される前の状態から、一軸
方向にわずかに微延伸(2倍程度まで)されたものまで
を指す。この熱処理の目的は、延伸前のフイルム表面を
好ましい結晶化度にまで結晶性を高めることである。
造方法について説明する。本発明においては、ポリエス
テルAとポリエステルBからなる層はポリマー管あるい
は口金の段階で積層され、それがシート状に吐出されて
未延伸フイルムが形成される。そして、未延伸フイルム
の少なくとも片面に(つまり表面突起を形成しようとす
るA層表面に)熱処理を施し、その後に延伸する。未延
伸フイルムに熱処理を施すことにより、未延伸フイルム
のとくに表面の結晶化が進められ、多数の結晶が生成す
る。この未延伸フイルムが延伸されると、上記微細結晶
とそうでない部分の硬さの差によって、微細結晶に起因
する均一な微細表面突起が形成される。延伸に際して
は、配向度を0.03以下、ポリエステルA層の密度を
1.35〜1.408/cm3 とした未延伸フイルム
を、少なくとも一方向に、好ましくは二軸方向に2.5
倍以上延伸する。ここで未延伸フイルムとは、口金から
押し出された直後の冷却固化される前の状態から、一軸
方向にわずかに微延伸(2倍程度まで)されたものまで
を指す。この熱処理の目的は、延伸前のフイルム表面を
好ましい結晶化度にまで結晶性を高めることである。
【0016】本発明においては、ポリエステルを主成分
とする溶融押出フイルムを、冷却ロール表面で冷却する
過程において、ポリエステルAのガラス転移温度Tg以
上、かつ融解温度Tmより100℃高い温度(Tm+1
00℃)以下で、未延伸フイルムを該冷却ロールと接触
する面と反対の面から熱処理し、その後に該未延伸フイ
ルムを二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。より好ましくはTgより20℃
高い温度(Tg+20℃)以上、かつTmより80℃高
い温度(Tm+80℃)以下、さらに好ましくは、Tg
より40℃高い温度(Tg+40℃)以上、かつTm以
下である。未延伸フイルムを該冷却ロールと接触する面
と反対の面から熱処理する方法としては、熱風又は、赤
外線ヒータによる輻射熱を用いることができるが、この
方法に限定されるものではない。
とする溶融押出フイルムを、冷却ロール表面で冷却する
過程において、ポリエステルAのガラス転移温度Tg以
上、かつ融解温度Tmより100℃高い温度(Tm+1
00℃)以下で、未延伸フイルムを該冷却ロールと接触
する面と反対の面から熱処理し、その後に該未延伸フイ
ルムを二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。より好ましくはTgより20℃
高い温度(Tg+20℃)以上、かつTmより80℃高
い温度(Tm+80℃)以下、さらに好ましくは、Tg
より40℃高い温度(Tg+40℃)以上、かつTm以
下である。未延伸フイルムを該冷却ロールと接触する面
と反対の面から熱処理する方法としては、熱風又は、赤
外線ヒータによる輻射熱を用いることができるが、この
方法に限定されるものではない。
【0017】前記冷却ロール表面の表面粗さが0.2S
以上で、かつ、10S以下であると、延伸前のフイルム
表面を所望の結晶化度にまで結晶性を高めることができ
好ましい。より好ましくは、該冷却ロール表面の表面粗
さが0.3S以上で、かつ、8S以下である。ロール表
面の表面粗さが0.2S未満であると、冷却ロールに未
延伸フイルムが粘着して好ましくない。また10Sを超
える表面粗さでは所望の表面突起が形成されなくなった
り、冷却ロール上でフイルムが滑り好ましくない。
以上で、かつ、10S以下であると、延伸前のフイルム
表面を所望の結晶化度にまで結晶性を高めることができ
好ましい。より好ましくは、該冷却ロール表面の表面粗
さが0.3S以上で、かつ、8S以下である。ロール表
面の表面粗さが0.2S未満であると、冷却ロールに未
延伸フイルムが粘着して好ましくない。また10Sを超
える表面粗さでは所望の表面突起が形成されなくなった
り、冷却ロール上でフイルムが滑り好ましくない。
【0018】本発明においては、冷却固化した未延伸フ
イルムを熱処理する場合、その少なくとも片面の表面
(または表層)温度が、ポリエステルAの冷結晶化温度
Tccより20℃低い温度(Tcc−20℃)以上、か
つ降温結晶化温度Tmcより40℃高い温度(Tmc+
40℃)以下で、0.5〜100秒保たれるように熱処
理し、その後にポリエステルAのガラス転移温度Tg以
上、かつTccより20℃高い温度(Tcc+20℃)
以下で二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。より好ましくは、Tcc以上、
かつTmc以下で0.5〜50秒、さらに好ましくは、
Tcc以上、かつTmc以下で0.5〜20秒保たれる
ような熱処理である。
イルムを熱処理する場合、その少なくとも片面の表面
(または表層)温度が、ポリエステルAの冷結晶化温度
Tccより20℃低い温度(Tcc−20℃)以上、か
つ降温結晶化温度Tmcより40℃高い温度(Tmc+
40℃)以下で、0.5〜100秒保たれるように熱処
理し、その後にポリエステルAのガラス転移温度Tg以
上、かつTccより20℃高い温度(Tcc+20℃)
以下で二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。より好ましくは、Tcc以上、
かつTmc以下で0.5〜50秒、さらに好ましくは、
Tcc以上、かつTmc以下で0.5〜20秒保たれる
ような熱処理である。
【0019】また本発明においては、未延伸フイルムを
一軸方向に微延伸し、複屈折を0.5×10-3〜50×
10-3とし、次に該微延伸フイルムの少なくとも片面の
表面(または表層)の温度が、ポリエステルAの冷結晶
化温度Tccより20℃低い温度(Tcc−20℃)以
上、かつ降温結晶化温度Tmcより40℃高い温度(T
mc+40℃)以下で、0.3〜50秒保たれるように
熱処理し、その後にポリエステルAのガラス転移温度T
g以上、かつTccより20℃高い温度(Tcc+20
℃)以下で二軸延伸することによって、所望の表面突起
が形成されるので好ましい。より好ましくは、Tcc以
上、かつTmc以下で、0.5〜20秒、さらに好まし
くは、Tccより10℃高い温度(Tcc+10℃)以
上、かつTmcより20℃低い温度(Tmc−20℃)
以下で、0.5〜15秒保たれるような熱処理である。
一軸方向に微延伸し、複屈折を0.5×10-3〜50×
10-3とし、次に該微延伸フイルムの少なくとも片面の
表面(または表層)の温度が、ポリエステルAの冷結晶
化温度Tccより20℃低い温度(Tcc−20℃)以
上、かつ降温結晶化温度Tmcより40℃高い温度(T
mc+40℃)以下で、0.3〜50秒保たれるように
熱処理し、その後にポリエステルAのガラス転移温度T
g以上、かつTccより20℃高い温度(Tcc+20
℃)以下で二軸延伸することによって、所望の表面突起
が形成されるので好ましい。より好ましくは、Tcc以
上、かつTmc以下で、0.5〜20秒、さらに好まし
くは、Tccより10℃高い温度(Tcc+10℃)以
上、かつTmcより20℃低い温度(Tmc−20℃)
以下で、0.5〜15秒保たれるような熱処理である。
【0020】熱処理方法については、加熱ロールに巻き
付けて熱処理する方法、ロールに巻き付けた状態でロー
ルと接触する面と反対の面から熱風処理する方法、ある
いはロールに巻き付けた状態でロールと接触する面と反
対の面から赤外線ヒータで熱処理する方法、ロール/ロ
ール間で赤外線ヒータで熱処理する方法、ステンタを用
いて加熱する方法等があるが、特にこれらの方法に限定
されるものではない。
付けて熱処理する方法、ロールに巻き付けた状態でロー
ルと接触する面と反対の面から熱風処理する方法、ある
いはロールに巻き付けた状態でロールと接触する面と反
対の面から赤外線ヒータで熱処理する方法、ロール/ロ
ール間で赤外線ヒータで熱処理する方法、ステンタを用
いて加熱する方法等があるが、特にこれらの方法に限定
されるものではない。
【0021】さらに、本発明においては、ポリエステル
を主成分とする溶融押出フイルムの少なくとも片面の表
面(または表層)の温度を、ポリエステルAの降温結晶
化温度Tmcより70℃低い温度(Tmc−70℃)以
上、かつポリエステルAの降温結晶化温度Tmc以下
で、0.5〜20秒保ち、次いで、ポリエステルAのガ
ラス転移温度Tg以下に冷却し、その後に該未延伸フイ
ルムを二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。
を主成分とする溶融押出フイルムの少なくとも片面の表
面(または表層)の温度を、ポリエステルAの降温結晶
化温度Tmcより70℃低い温度(Tmc−70℃)以
上、かつポリエステルAの降温結晶化温度Tmc以下
で、0.5〜20秒保ち、次いで、ポリエステルAのガ
ラス転移温度Tg以下に冷却し、その後に該未延伸フイ
ルムを二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。
【0022】処理方法は、前記したように、押出し直後
の温度の高いフイルムを徐冷することにより結晶化させ
る方法、又、一旦冷却、固化したフイルムを再加熱して
結晶化させる方法、又、一軸方向に微延伸させた状態で
加熱処理する方法などあるが、これらの方法の一つをフ
イルムの製膜プロセスの中で実施し、目標とする表面形
態を得ることができるが、これらの方法を二つ以上併用
して、フイルムの製膜プロセスの中で実施してもよい。
の温度の高いフイルムを徐冷することにより結晶化させ
る方法、又、一旦冷却、固化したフイルムを再加熱して
結晶化させる方法、又、一軸方向に微延伸させた状態で
加熱処理する方法などあるが、これらの方法の一つをフ
イルムの製膜プロセスの中で実施し、目標とする表面形
態を得ることができるが、これらの方法を二つ以上併用
して、フイルムの製膜プロセスの中で実施してもよい。
【0023】本発明に係るポリエステルAとしては、好
ましくはポリエチレンテレフタレート(PET)が用い
られる。このポリエステルAには、実質的に粒子が含有
されないことが望ましい。ポリエステルAの重合は、重
合触媒として三酸化アンチモン、また、ΔTcgを低下
させ、結晶核剤効果を高めるために、エステル交換触媒
としての金属化合物は酢酸塩を用いることが好ましい。
酢酸塩としては、特に限定されないが、マグネシウム化
合物を用いることが、本発明の目的を達成するためには
特に好ましい。また、PETの重合時に添加されるリン
化合物としては、ホスホン酸塩を用いることが好まし
い。但し、ポリエステルAの製造方法としては上記に何
等限定されるものではない。核剤効果を高めるために、
触媒添加量を増大することは、内部粒子の析出の原因と
なり、ヘイズが大きくなるために好ましくない。
ましくはポリエチレンテレフタレート(PET)が用い
られる。このポリエステルAには、実質的に粒子が含有
されないことが望ましい。ポリエステルAの重合は、重
合触媒として三酸化アンチモン、また、ΔTcgを低下
させ、結晶核剤効果を高めるために、エステル交換触媒
としての金属化合物は酢酸塩を用いることが好ましい。
酢酸塩としては、特に限定されないが、マグネシウム化
合物を用いることが、本発明の目的を達成するためには
特に好ましい。また、PETの重合時に添加されるリン
化合物としては、ホスホン酸塩を用いることが好まし
い。但し、ポリエステルAの製造方法としては上記に何
等限定されるものではない。核剤効果を高めるために、
触媒添加量を増大することは、内部粒子の析出の原因と
なり、ヘイズが大きくなるために好ましくない。
【0024】[物性の測定方法ならびに効果の評価方
法] 本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の
通りである。 (1)A層の積層厚さ 透過型電子顕微鏡(日立製H−600型)を用いて、加
速電圧100kVで、フイルム断面を、超薄切片法(R
uO4 染色)で観察し、その界面を捉え、その積層厚さ
を求める。倍率は、判定したい積層厚さによって選ぶこ
とが通常であり、特に限定されないが、1万〜10万倍
が適当である。
法] 本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の
通りである。 (1)A層の積層厚さ 透過型電子顕微鏡(日立製H−600型)を用いて、加
速電圧100kVで、フイルム断面を、超薄切片法(R
uO4 染色)で観察し、その界面を捉え、その積層厚さ
を求める。倍率は、判定したい積層厚さによって選ぶこ
とが通常であり、特に限定されないが、1万〜10万倍
が適当である。
【0025】(2)結晶化パラメータΔTcg パーキンエルマー社製のDSC(示差走査熱量計)II
型を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りであ
る。すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、
300℃の温度で5分間溶融した後、液体窒素中に急冷
する。この急冷試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移
点Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態から
の結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Tcc、
結晶融解に基づく吸熱ピーク温度を融解温度Tm、同じ
ように降温時の結晶化発熱ピーク温度を降温結晶化温度
Tmcとした。TccとTgの差(Tcc−Tg)を結
晶化パラメータΔTcgと定義する。
型を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りであ
る。すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、
300℃の温度で5分間溶融した後、液体窒素中に急冷
する。この急冷試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移
点Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態から
の結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Tcc、
結晶融解に基づく吸熱ピーク温度を融解温度Tm、同じ
ように降温時の結晶化発熱ピーク温度を降温結晶化温度
Tmcとした。TccとTgの差(Tcc−Tg)を結
晶化パラメータΔTcgと定義する。
【0026】(3)フイルムの配向度 アッベ屈折率計で測定したフイルム長手方向と幅方向の
屈折率の差の絶対値とした。屈折率は、ナトリウムD線
(波長589nm)を光源としてアッベ屈折率計を用い
て25℃、65%RHにて測定した。なお、マウント液
にはイオウ−ヨウ化メチレン溶液を用いた。
屈折率の差の絶対値とした。屈折率は、ナトリウムD線
(波長589nm)を光源としてアッベ屈折率計を用い
て25℃、65%RHにて測定した。なお、マウント液
にはイオウ−ヨウ化メチレン溶液を用いた。
【0027】(4)A層の密度 同条件で製造されたA層のみのフイルム、または、積層
フイルムからA層を削りとった試料で密度を測定する。
密度は、四塩化炭素とn−ヘプタンからなる密度勾配管
を用いて、25℃で測定した。
フイルムからA層を削りとった試料で密度を測定する。
密度は、四塩化炭素とn−ヘプタンからなる密度勾配管
を用いて、25℃で測定した。
【0028】(5)ボイド 測定にはハイビジョン画像解析を適用し、測定装置とし
て、ハイビジョンパーソナル画像解析システムとして
“PIAS−IV”((株)ピアス製)、光学顕微鏡と
してLeitz社製“Metaloplan”を使用し
た。 (A)プレパラート作製 スライドグラスの上に流動パラフィンを一滴落とし、そ
の上に約10mm角のフイルム試料を置き、再度流動パ
ラフィンを一滴付ける。さらにフイルムを挟込むように
カバーグラスをその上に置く。試料は両面に流動パラフ
ィンがマウントされた状態になりこれをプレパラートと
する。 (B)調整法および測定条件 光学顕微鏡の対物レンズは32倍に設定して、透過法で
検鏡し、画像解析装置のハイビジョンモニターにその画
像を取り込む。この時、モニター上での観察倍率は15
60倍となる。画像を入力する場合は白黒画像で、緑色
フィルターをかけた条件で行ない、入力した画像は二値
化を行なって輝度変換する。この時の濃度レベルを表す
輝度値は160に設定する。設定前は、予めブランク値
として試料をセットしない条件で測定した時の輝度平均
値が183になるように、光学顕微鏡の絞り等の明るさ
を調節する。 (C)測定 ボイド像を二値化して得られた個々のボイドの画素数の
和を測定して、測定視野の全画素数を除してボイド部分
の面積比率を求めたものを次式のようにボイド指数とし
た。1視野あたりの全画素数は約200万で、この時の
測定面積は0.041mm2 であり、場所を変えて、こ
れを10回繰り返す。なお、ボイドは等価円にした時の
直径が0.28μm以上のものと定義した。 ボイド指数=(ボイド部分の画素数の総和)/ (測定視野の全画素数)×100(%) ボイド生成状態の判定基準として、上記ボイド指数が1
%以下の場合をボイド良好、1%を越える場合は不良と
判定した。
て、ハイビジョンパーソナル画像解析システムとして
“PIAS−IV”((株)ピアス製)、光学顕微鏡と
してLeitz社製“Metaloplan”を使用し
た。 (A)プレパラート作製 スライドグラスの上に流動パラフィンを一滴落とし、そ
の上に約10mm角のフイルム試料を置き、再度流動パ
ラフィンを一滴付ける。さらにフイルムを挟込むように
カバーグラスをその上に置く。試料は両面に流動パラフ
ィンがマウントされた状態になりこれをプレパラートと
する。 (B)調整法および測定条件 光学顕微鏡の対物レンズは32倍に設定して、透過法で
検鏡し、画像解析装置のハイビジョンモニターにその画
像を取り込む。この時、モニター上での観察倍率は15
60倍となる。画像を入力する場合は白黒画像で、緑色
フィルターをかけた条件で行ない、入力した画像は二値
化を行なって輝度変換する。この時の濃度レベルを表す
輝度値は160に設定する。設定前は、予めブランク値
として試料をセットしない条件で測定した時の輝度平均
値が183になるように、光学顕微鏡の絞り等の明るさ
を調節する。 (C)測定 ボイド像を二値化して得られた個々のボイドの画素数の
和を測定して、測定視野の全画素数を除してボイド部分
の面積比率を求めたものを次式のようにボイド指数とし
た。1視野あたりの全画素数は約200万で、この時の
測定面積は0.041mm2 であり、場所を変えて、こ
れを10回繰り返す。なお、ボイドは等価円にした時の
直径が0.28μm以上のものと定義した。 ボイド指数=(ボイド部分の画素数の総和)/ (測定視野の全画素数)×100(%) ボイド生成状態の判定基準として、上記ボイド指数が1
%以下の場合をボイド良好、1%を越える場合は不良と
判定した。
【0029】(6)突起高さの均一性 2検出器方式の走差型電子顕微鏡[ESM−3200、
エリオニクス(株)製]と断面測定装置[PMS−1、
エリオニクス(株)]を用いてフイルム表面を電子線を
走差させた時の突起の高さ測定値を画像処理装置[IB
AS2000、カールツァイス(株)製]に送り、画像
処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を2値化し、2値化さ
れた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さ
とし、これを個々の突起について求める。この測定を場
所をかえて500回繰り返し、突起平均高さを求めた。
また個々の突起の高さデータをもとに、高さ分布の標準
偏差を求めた。この標準偏差を平均高さで割った値を相
対標準偏差とした。走差型電子顕微鏡の倍率は、100
0〜8000倍の間の値を選択する。また、高さ15n
m以上のものを突起と定義した。なお、場合によって
は、高精度光干渉式3次元表面解析装置(WYKO社製
TOPO−3D、対物レンズ:40〜200倍、高解像
度カメラ使用が有効)を用いて得られる高さ情報を上記
SEMの値に読み替えて用いてもよい。上記により求め
られた相対標準偏差により、突起高さの均一性を以下の
ように判定した。 相対標準偏差が0.6以下:突起(高さ)の均一性良好 相対標準偏差が0.6を超えるもの:突起(高さ)の均
一性不良
エリオニクス(株)製]と断面測定装置[PMS−1、
エリオニクス(株)]を用いてフイルム表面を電子線を
走差させた時の突起の高さ測定値を画像処理装置[IB
AS2000、カールツァイス(株)製]に送り、画像
処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を2値化し、2値化さ
れた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さ
とし、これを個々の突起について求める。この測定を場
所をかえて500回繰り返し、突起平均高さを求めた。
また個々の突起の高さデータをもとに、高さ分布の標準
偏差を求めた。この標準偏差を平均高さで割った値を相
対標準偏差とした。走差型電子顕微鏡の倍率は、100
0〜8000倍の間の値を選択する。また、高さ15n
m以上のものを突起と定義した。なお、場合によって
は、高精度光干渉式3次元表面解析装置(WYKO社製
TOPO−3D、対物レンズ:40〜200倍、高解像
度カメラ使用が有効)を用いて得られる高さ情報を上記
SEMの値に読み替えて用いてもよい。上記により求め
られた相対標準偏差により、突起高さの均一性を以下の
ように判定した。 相対標準偏差が0.6以下:突起(高さ)の均一性良好 相対標準偏差が0.6を超えるもの:突起(高さ)の均
一性不良
【0030】(7)複屈折 アッベ屈折計を用いて、一軸配向フイルムの長手方向屈
折率nMD、幅方向屈折率nTDを測定し、この両方の値の
差、つまり|nMD−nTD|で定義した。なお、光源はナ
トリウムD線(波長589nm)で、マウント液は、ヨ
ウ化メチレンを用い、25℃65%RHにて測定した。
折率nMD、幅方向屈折率nTDを測定し、この両方の値の
差、つまり|nMD−nTD|で定義した。なお、光源はナ
トリウムD線(波長589nm)で、マウント液は、ヨ
ウ化メチレンを用い、25℃65%RHにて測定した。
【0031】(8)フイルム温度 放射温度計、接触式表面温度計、またはサーモラベルを
フイルムに貼付けて測定した。なお溶融状態のフイルム
温度は、放射温度計、または溶融状態のフイルムに熱電
対を差し込んで測定した。
フイルムに貼付けて測定した。なお溶融状態のフイルム
温度は、放射温度計、または溶融状態のフイルムに熱電
対を差し込んで測定した。
【0032】
【実施例】次に本発明を実施例に基づいて説明する。 実施例 ポリエステルAとして、常法により重合したポリエチレ
ンテレフタレートを用いた(固有粘度:0.60、融
点:258℃)。用いたポリエステルAは、表1に示す
A1、A2の2種である。
ンテレフタレートを用いた(固有粘度:0.60、融
点:258℃)。用いたポリエステルAは、表1に示す
A1、A2の2種である。
【0033】
【表1】
【0034】また、ポリエステルBとして、酢酸マグネ
シウム0.06重量%、三酸化アンチモン0.008重
量%、トリメチルホスフェート0.02重量%を用い
て、常法により重合したポリエチレンテレフタレートを
用いた(固有粘度:0.62、融点:259℃)。
シウム0.06重量%、三酸化アンチモン0.008重
量%、トリメチルホスフェート0.02重量%を用い
て、常法により重合したポリエチレンテレフタレートを
用いた(固有粘度:0.62、融点:259℃)。
【0035】実施例1〜6 実施例1〜4はポリエステルA/ポリエステルBの2層
構成の積層フイルムとし、実施例5、6はA/B/Aの
3層構成の積層フイルムとした。実施例1、2は表1に
示したポリエステルA1を用い、実施例3、4は表1に
示したポリエステルA2を用い、実施例5、6はポリエ
ステルA1を用い、ポリエステルA、Bのペレットを1
80℃で3時間乾燥後、それぞれ2台の押出機に供給
し、290℃で溶融し、2層又は3層用の矩形の合流ブ
ロック(フィードブロック)で合流積層した。静電印加
キャスト法を用いて、表面温度30℃のキャスティング
ドラム上に巻き付けて、冷却、固化し、未延伸フイルム
を作った。この未延伸フイルムの、A層側の表面につい
て、公知のラジエーションヒータを用いて、フイルム表
面が以下の温度となるような条件で熱処理を行なった。
熱処理条件は、210℃、3秒間とした。熱処理後フイ
ルムを、温度90℃にて、長手方向に3.4倍延伸し、
さらにステンタを用いて、延伸速度2000%/分で、
95℃で、幅方向に3.5倍延伸し、さらに定長下で2
10℃にて5秒間熱処理を行ない、総厚さ15μmの二
軸配向積層フイルムを得た。得られたフイルムの評価結
果を表2に示す。
構成の積層フイルムとし、実施例5、6はA/B/Aの
3層構成の積層フイルムとした。実施例1、2は表1に
示したポリエステルA1を用い、実施例3、4は表1に
示したポリエステルA2を用い、実施例5、6はポリエ
ステルA1を用い、ポリエステルA、Bのペレットを1
80℃で3時間乾燥後、それぞれ2台の押出機に供給
し、290℃で溶融し、2層又は3層用の矩形の合流ブ
ロック(フィードブロック)で合流積層した。静電印加
キャスト法を用いて、表面温度30℃のキャスティング
ドラム上に巻き付けて、冷却、固化し、未延伸フイルム
を作った。この未延伸フイルムの、A層側の表面につい
て、公知のラジエーションヒータを用いて、フイルム表
面が以下の温度となるような条件で熱処理を行なった。
熱処理条件は、210℃、3秒間とした。熱処理後フイ
ルムを、温度90℃にて、長手方向に3.4倍延伸し、
さらにステンタを用いて、延伸速度2000%/分で、
95℃で、幅方向に3.5倍延伸し、さらに定長下で2
10℃にて5秒間熱処理を行ない、総厚さ15μmの二
軸配向積層フイルムを得た。得られたフイルムの評価結
果を表2に示す。
【0036】実施例7 A/B2層構成の積層フイルムとした。ポリエステルA
としては表1のポリエステルA1を用いた。ポリエステ
ルA、ポリエステルBのペレットを、180℃で3時間
乾燥後、それぞれ2台の押出機に供給し、290℃で溶
融し、2層用の矩形の合流ブロック(フィードブロッ
ク)で、合流積層した後押出を行い、静電印加キャスト
法を用いて、表面温度30℃の冷却ロールに、ポリエス
テルB層の面が接するように巻き付けて、その上方から
320℃の熱風を吹き付けた後、冷却固化し未延伸フイ
ルムを作った。この未延伸フイルムを温度90℃にて長
手方向に3.5倍延伸し、さらにステンタを用いて延伸
速度2000%/分で95℃で、幅方向に4.0倍延伸
し、さらに定長下で210℃にて5秒間熱処理を行い、
総厚さ15μmの二軸配向フイルムを得た。
としては表1のポリエステルA1を用いた。ポリエステ
ルA、ポリエステルBのペレットを、180℃で3時間
乾燥後、それぞれ2台の押出機に供給し、290℃で溶
融し、2層用の矩形の合流ブロック(フィードブロッ
ク)で、合流積層した後押出を行い、静電印加キャスト
法を用いて、表面温度30℃の冷却ロールに、ポリエス
テルB層の面が接するように巻き付けて、その上方から
320℃の熱風を吹き付けた後、冷却固化し未延伸フイ
ルムを作った。この未延伸フイルムを温度90℃にて長
手方向に3.5倍延伸し、さらにステンタを用いて延伸
速度2000%/分で95℃で、幅方向に4.0倍延伸
し、さらに定長下で210℃にて5秒間熱処理を行い、
総厚さ15μmの二軸配向フイルムを得た。
【0037】実施例8 A/B2層構成の積層フイルムとした。ポリエステルA
としては表1のポリエステルA1を用いた。ポリエステ
ルA、ポリエステルBのペレットを、180℃で3時間
乾燥後、それぞれ2台の押出機に供給し、290℃で溶
融し、2層用の矩形の合流ブロック(フィードブロッ
ク)で、合流積層した後押出を行い、静電印加キャスト
法を用いて、表面温度30℃のキャスティングドラム上
に巻き付けて冷却固化し、未延伸フイルムを作った。こ
の未延伸フイルムを、温度98℃にて長手方向に1.8
倍延伸し、230℃の赤外線ヒータを用いてロール/ロ
ール間で、4秒間熱処理し、さらに長手方向に、温度9
0℃にて2.0倍延伸した後、ステンタを用いて、延伸
速度2000%/分で、95℃で幅方向に4.5倍延伸
し、さらに定長下で210℃にて5秒間熱処理を行い、
総厚さ15μmの二軸配向フイルムを得た。
としては表1のポリエステルA1を用いた。ポリエステ
ルA、ポリエステルBのペレットを、180℃で3時間
乾燥後、それぞれ2台の押出機に供給し、290℃で溶
融し、2層用の矩形の合流ブロック(フィードブロッ
ク)で、合流積層した後押出を行い、静電印加キャスト
法を用いて、表面温度30℃のキャスティングドラム上
に巻き付けて冷却固化し、未延伸フイルムを作った。こ
の未延伸フイルムを、温度98℃にて長手方向に1.8
倍延伸し、230℃の赤外線ヒータを用いてロール/ロ
ール間で、4秒間熱処理し、さらに長手方向に、温度9
0℃にて2.0倍延伸した後、ステンタを用いて、延伸
速度2000%/分で、95℃で幅方向に4.5倍延伸
し、さらに定長下で210℃にて5秒間熱処理を行い、
総厚さ15μmの二軸配向フイルムを得た。
【0038】比較例1〜5 比較例1は、実施例5と同構成のフイルムで、かつ、ポ
リエステルA1を用い、実施例と同条件で製膜した。た
だし、A層厚さは4μmとした。比較例2〜5は実施例
5と同構成で、同じ製膜条件で、ただし、ラジエーショ
ンヒータによる延伸前の熱処理はせずにフイルムを作っ
た。比較例2においてはA層に平均粒径0.3μmの球
形シリカ粒子を2重量%含有させ、A層の積層厚さを4
μmとした。比較例3においては、比較例2に比べ、A
層の積層厚さを0.2μmとした。比較例4において
は、平均粒径0.3μmの架橋ポリスチレン粒子を2重
量%含有させ、A層の積層厚さを1μmとした。また、
比較例5は、上記比較例と同じ製法で、A層に公知の方
法で作られた内部析出粒子を含有するポリエステルを用
いた。結果を表2に示す。
リエステルA1を用い、実施例と同条件で製膜した。た
だし、A層厚さは4μmとした。比較例2〜5は実施例
5と同構成で、同じ製膜条件で、ただし、ラジエーショ
ンヒータによる延伸前の熱処理はせずにフイルムを作っ
た。比較例2においてはA層に平均粒径0.3μmの球
形シリカ粒子を2重量%含有させ、A層の積層厚さを4
μmとした。比較例3においては、比較例2に比べ、A
層の積層厚さを0.2μmとした。比較例4において
は、平均粒径0.3μmの架橋ポリスチレン粒子を2重
量%含有させ、A層の積層厚さを1μmとした。また、
比較例5は、上記比較例と同じ製法で、A層に公知の方
法で作られた内部析出粒子を含有するポリエステルを用
いた。結果を表2に示す。
【0039】
【表2】
【0040】
【発明の効果】本発明のポリエステルフイルムおよびそ
の製造方法によれば、含有粒子に頼ることなくポリエス
テルAの結晶化を利用してフイルム表面に微細突起を形
成するとともにA層の積層厚さを特定値以下に抑えるよ
うにしたので、ボイド生成を抑制してボイド生成に伴う
トラブルの発生を抑えることができるとともに、フイル
ム表面に極めて微細な突起を均一に形成することができ
る。
の製造方法によれば、含有粒子に頼ることなくポリエス
テルAの結晶化を利用してフイルム表面に微細突起を形
成するとともにA層の積層厚さを特定値以下に抑えるよ
うにしたので、ボイド生成を抑制してボイド生成に伴う
トラブルの発生を抑えることができるとともに、フイル
ム表面に極めて微細な突起を均一に形成することができ
る。
フロントページの続き (72)発明者 中島 彰二 滋賀県大津市園山1丁目1番1号 東レ株 式会社滋賀事業場内
Claims (11)
- 【請求項1】 ポリエステルBを主成分とするB層の少
なくとも片面に、ポリエステルAを主成分とするA層が
積層されたフイルムであって、該A層の表面に、その微
細結晶に起因する突起が形成され、かつ、A層の積層厚
さが3μm以下であることを特徴とするポリエステルフ
イルム。 - 【請求項2】 前記A層の表面突起の70%以上が、ポ
リエステルAの微細結晶に起因する突起である請求項1
のポリエステルフイルム。 - 【請求項3】 前記ポリエステルAの結晶化パラメータ
ΔTcgが70℃以下であり、かつ、ポリエステルBの
結晶化パラメータΔTcgよりも小さい請求項1又は2
のポリエステルフイルム。 - 【請求項4】 前記A層のフイルム全体厚さに対する積
層比率が0.5以下である請求項1ないし3のいずれか
に記載のポリエステルフイルム。 - 【請求項5】 前記ポリエステルAの主たる繰り返し単
位がエチレンテレフタレートである請求項1ないし4の
いずれかに記載のポリエステルフイルム。 - 【請求項6】 未延伸フイルムの少なくとも片面に熱処
理を施し、その後に該未延伸フイルムを二軸延伸するこ
とを特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに記載の
ポリエステルフイルムの製造方法。 - 【請求項7】 ポリエステルを主成分とする溶融押出フ
イルムを、冷却ロール表面で冷却する過程において、ポ
リエステルAのガラス転移温度Tg以上、かつ融解温度
Tmより100℃高い温度(Tm+100℃)以下で、
未延伸フイルムを該冷却ロールと接触する面と反対の面
から熱処理し、その後に該未延伸フイルムを二軸延伸す
ることを特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに記
載のポリエステルフイルムの製造方法。 - 【請求項8】 冷却固化した未延伸フイルムの少なくと
も片面の表面(または表層)の温度が、ポリエステルA
の冷結晶化温度Tccより20℃低い温度(Tcc−2
0℃)以上、かつ降温結晶化温度Tmcより40℃高い
温度(Tmc+40℃)以下で、0.5〜100秒保た
れるように熱処理し、その後にポリエステルAのガラス
転移温度Tg以上、かつTccより20℃高い温度(T
cc+20℃)以下で二軸延伸することを特徴とする、
請求項1ないし5のいずれかに記載のポリエステルフイ
ルムの製造方法。 - 【請求項9】 未延伸フイルムを一軸方向に微延伸し、
複屈折を0.5×10-3〜50×10-3とし、次に該微
延伸フイルムの少なくとも片面の表面(または表層)の
温度が、ポリエステルAの冷結晶化温度Tccより20
℃低い温度(Tcc−20℃)以上、かつ降温結晶化温
度Tmcより40℃高い温度(Tmc+40℃)以下
で、0.3〜50秒保たれるように熱処理し、その後に
ポリエステルAのガラス転移温度Tg以上、かつTcc
より20℃高い温度(Tcc+20℃)以下で二軸延伸
することを特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに
記載のポリエステルフイルムの製造方法。 - 【請求項10】ポリエステルを主成分とする溶融押出フ
イルムの少なくとも片面の表面(または表層)の温度
を、ポリエステルAの降温結晶化温度Tmcより70℃
低い温度(Tmc−70℃)以上、かつポリエステルA
の降温結晶化温度Tmc以下で、0.5〜20秒保ち、
次いで、ポリエステルAのガラス転移温度Tg以下に冷
却し、その後に該未延伸フイルムを二軸延伸することを
特徴とする、請求項1ないし5のいずれかに記載のポリ
エステルフイルムの製造方法。 - 【請求項11】 請求項7の冷却ロール表面の表面粗さ
が0.2S以上で、かつ、10S以下であることを特徴
とする、請求項7に記載のポリエステルフイルムの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10327094A JPH071696A (ja) | 1993-04-19 | 1994-04-19 | ポリエステルフイルムおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5-114185 | 1993-04-19 | ||
JP11418593 | 1993-04-19 | ||
JP10327094A JPH071696A (ja) | 1993-04-19 | 1994-04-19 | ポリエステルフイルムおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH071696A true JPH071696A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=26443916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10327094A Pending JPH071696A (ja) | 1993-04-19 | 1994-04-19 | ポリエステルフイルムおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH071696A (ja) |
-
1994
- 1994-04-19 JP JP10327094A patent/JPH071696A/ja active Pending
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