JP2530680B2 - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は二軸配向ポリエステルフィルムに関するもの
である。

［従来の技術］ 二軸配向ポリエステルフィルムとしては、ポリエステ
ルにコロイド状シリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子を含有せしめたフィルムが知られている（たとえば
特開昭59−171623号公報）。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、上記従来の二軸配向ポリエステルフィルム
は、フィルムの加工工程、たとえば包装用途における印
刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダー
工程などの工程速度が大幅に増速されたことによりいく
つかの問題点が発生してきている。すなわち、それらの
工程のロールとフイルム表面およびフイルム位置規制ガ
イドピンとフイルム端面（側面）が高速で接触すること
によりフイルムの表面や端面が削られて発生した粉が加
工工程上、製品性能上のトラブルとなるという問題点、
さらにフイルムの表面が削られて発生した粉が高速走行
の摩擦熱でロール表面に付着して取れにくくなりロール
の清掃が行ないにくいため生産性が阻害されるという問
題点である。

本発明はかかる問題点を改善し、表面からの粉落ちの
起こりにくさ（以下、表面強度という）や端面からの粉
落ちの起こりにくさ（以下、端面強度という）に優れ、
さらに、表面が削られた粉がロールに付着した時でも、
ロールから取りやすい（以下、清掃性という）に優れた
フイルムを提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、実質的に無機粒子を含有しないポリエステ
ル（Ａ）からなる層（Ａ層）少なくとも片面に、ポリエ
ステルにコロイダルシリカに起因する球形シリカを含有
せしめた組成物（Ｂ）からなる層（Ｂ層）を積層してな
るフイルムであって、該Ａ層とＢ層との厚さ比率（B/
A）が0.04〜1.4、ポリエステル（Ａ）と組成物（Ｂ）の
結晶化パラメータΔTcgの差（Ｂ−Ａ）が１〜45℃、組
成物（Ｂ）の表面の平均突起高さが20〜150nm、かつ、
該表面の削れ物中のシリカ重量比率が0.11以上であるこ
とを特徴とする二軸配向ポリエステルフィルムに関する
ものである。

本発明を構成するポリエステル（Ａ）および組成物
（Ｂ）におけるポリエステルは、エチレンテレフタレー
ト、エチレンα，β−ビス（２−クロルフェノキシ）エ
タン−4,4′−ジカルボキシレート、エチレン2,6−ナフ
タレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を
主要構成成分とする。ただし、本発明を阻害しない範囲
内、好ましくは10モル％以内であれば他成分が共重合さ
れていてもよい。また、エチレンテレフタレートを主要
構成成分とするポリエステルの場合に端面強度と表面強
度、清掃性がより一層良好となるので特に望ましい。

本発明を構成するポリエステル（Ａ）は、実質的に無
機粒子を含有していないことが必要である。ここでいう
実質的とは、0.05重量％以下のことであり、これより多
くの無機粒子が含有されていると端面強度が不良となる
ので好ましくない。

本発明の組成物（Ｂ）におけるコロイダルシリカに起
因する球形シリカは、特に限定されないが、通常イオン
交換法あるいはアルコキシド法で製造されたものであ
り、特にアルコキシド法で製造された実質的に球形のシ
リカの場合に表面強度、清掃性がより一層良好となるの
で特に望ましい。

本発明のポリエステル（Ａ）、組成物（Ｂ）は上記組
成物を主要成分とするが、本発明の目的を阻害しない範
囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また酸化
防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加
剤が通常添加される程度添加されていてもよい。

本発明フイルムは上記ポリエステル（Ａ）層の少なく
とも片面に、上記組成物（Ｂ）層を積層したフィルムで
あり、ポリエステル（Ａ）層は二軸配向、組成物（Ｂ）
層は二軸、あるいは、一軸配向であることが必要であ
る。この配向の程度は特に限定されないが、高分子の分
子配向の程度の目安であるヤング率が、積層フイルムと
して、長手方向が350〜1300kg/mm²、幅方向が400〜1500
kg/mm²の範囲である場合に端面強度、表面強度、清掃性
がより一層良好となるので特に望ましい。

本発明フイルムは上記ポリエステル（Ａ）層と組成物
（Ｂ）層の厚さ比率（B/A）が0.04〜1.4、好ましくは0.
06〜0.6、さらに好ましくは0.1〜0.5の範囲であること
が必要である。厚さ比率が上記の範囲より小さいと表面
強度が不良となり、逆に大きいと端面強度が不良となる
ので好ましくない。なお、組成物（Ｂ）層の２層以上の
場合はその総厚さが上記範囲内であることが必要であ
る。

本発明フイルムは上記ポリエステル（Ａ）層と組成物
（Ｂ）層の結晶化パラメータΔTcgの差（Ｂ−Ａ）が１
〜45℃、好ましくは２〜40℃、さらに好ましくは２〜30
℃の範囲であることが必要である。結晶化パラメータΔ
Tcgの差が上記の範囲より小さいと端面強度が不良とな
るので好ましくない。また、結晶化パラメータΔTcgが
上記の範囲より大きいと清掃性が不良となるので好まし
くない。

本発明フイルムは、組成物（Ｂ）の表面の平均突起高
さが20〜150nm、好ましくは30〜130nm、さらに好ましく
は35〜120nmの範囲であることが必要である。組成物
（Ｂ）の表面の平均突起高さが上記の範囲より小さいと
清掃性が不良となり、逆に大きいと表面強度が不良とな
るので好ましくない。

本発明フイルムは、組成物（Ｂ）の表面の表面削れ物
中のポリエステルに対するシリカ重量比率が0.11以上、
好ましくは0.16以上、さらに好ましくは0.2以上の範囲
であることが必要である。組成物（Ｂ）の表面の表面削
れ物中のシリカ重量比率が上記の範囲より小さいと清掃
性が不良となるので好ましくない。シリカ重量比率の上
限は特に限定されないが、0.8程度が製造上の限界であ
る。

本発明フイルムの組成物（Ｂ）の表面の平均突起間隔
は特に限定されないが20μｍ以下、特に15μｍ以下の場
合に表面強度、清掃性がより一層良好となるので特に望
ましい。

本発明フイルムの組成物（Ｂ）に含有するコロイダル
シリカに起因する球形シリカの平均粒径をｃとした時、
組成物（Ｂ）層の厚さを2c〜20c、特に、4c〜10cの範囲
である場合に表面強度、清掃性、端面強度がより一層良
好となるので特に望ましい。

本発明フイルムの組成物（Ｂ）層の厚さ（総厚さ）は
特に限定されないが、１〜５μｍ、特に1.5〜４μｍの
範囲である場合に表面強度、清掃性、端面強度がより一
層良好となるので特に好ましい。

本発明フイルムは、上記組成物（Ｂ）層の表面突起に
よって作られる有効空間体積が、１×10³〜５×10⁵、特
に、５×10³〜３×10⁵の範囲である場合に表面強度、清
掃性がより一層良好となるので特に望ましい。

本発明フイルムは、上記組成物（Ｂ）層の表面突起の
尖頭度（突起高さ／突起直径の比）が0.05〜0.12の範囲
である場合に表面強度、清掃性がより一層良好となるの
で特に望ましい。

本発明フイルムは、組成物（Ｂ）層の表面のRp/Ra比
（単位はともにnm）が４〜25、好ましくは６〜20、さら
に好ましくは９〜15である場合に表面強度、清掃性がよ
り一層良好となるので特に望ましい。

本発明フイルムは、組成物（Ｂ）層の表面のRpおよび
Rzがともに60〜190nm、好ましくは70〜160nm、さらに好
ましくは80〜150nmである場合に表面強度、清掃性がよ
り一層良好となるので特に望ましい。

本発明フイルムは、組成物（Ｂ）層の表面の突起の高
さが50〜300nmの突起の尖頭度が0.08以上、好ましくは.
10以上、さらに好ましくは0.11以上である場合に表面強
度、清掃性がより一層良好となるので特に望ましい。

本発明フイルムは、組成物（Ｂ）層の表面の幅方向の
表面平均粗さRa（nm）と組成物（Ｂ）層の厚さｄ（μ
ｍ）の比、Ra/d、が１〜20の範囲である場合に表面強
度、清掃性、端面強度がより一層良好となるので特に望
ましい。

本発明フイルムは、少なくとも片面の幅方向屈折率が
1.675〜1.700の範囲である場合に、表面強度、清掃性、
端面強度がより一層良好となるので特に望ましい。

次に本発明フイルムの製造方法について説明する。

まず、組成物（Ｂ）のポリエステルにコロイダルシリ
カに起因するシリカ粒子を含有せしめる方法としては、
ポリエステルのジオール成分であるエチレングリコール
のゾルの形で分散せしめ、絶対濾過精度が1.5〜４μｍ
のフイルターで濾過した後、このエチレングリコールを
所定のジカルボン酸成分と重合せしめるのが本発明範囲
の平均突起高さ、削れ物中のシリカ重量比率および好ま
しい範囲のPp、Rz、Rp/Ra比、Ra/d比を得るのに有効で
ある。この時、ゾル中のナトリウム含有量を粒子に対し
て0.2〜2.0重量％、好ましくは0.3〜2.0重量％の範囲と
しておくことが、本発明範囲の平均突起高さ、削れ物中
のシリカ重量比率および好ましい範囲のRp、Rz、Rp/Ra
比、Ra/d比、有効空間体積、突起の尖頭度を得るのに有
効である。また、粒子の含有量を調節する方法として
は、高濃度、好ましくは、濃度が１〜５重量％のマスタ
ーペレットを実質的に粒子を含有しないポリエステルで
製膜時に稀釈する方法が本発明の結晶化パラメータ、平
均突起高さ、削れ物中のシリカ重量比率および好ましい
範囲のRp、Rp/Ra比、Ra/d比を得るのに有効である。こ
の時、このコロイダルシリカに起因する球形シリカのマ
スタペレットの固有粘度、共重合成分量を調節して、結
晶化パラメータを75〜110℃としておき、かつ、希釈に
用いる実質的に粒子を含有しないポリエステル結晶化パ
ラメータよりその値を大きくしておくことが本発明の結
晶化パラメータ、平均突起高さ、削れ物中のシリカ重量
比率を得るのに極めて有効である。この場合の共重合成
分としてはイソフタル酸成分、1,4シクロヘキシレンジ
メタノール成分、特に1,4シクロヘキシレンジメタノー
ル成分、共重合量としては、１〜８モル％が好適であ
る。また、コロイダルシリカに起因する球形シリカの平
均粒径を0.20〜0.50μｍ、含有量（組成物（Ｂ）に対す
る）を0.4〜1.5重量％とすることが本発明範囲の平均突
起高さ、削れ物中のシリカ重量比率および好ましい範囲
のRp、Rp/Ra比、Ra/d比、有効空間体積、平均突起間隔
を得るのに有効である。

また、ポリエステル（Ａ）の固有粘度を0.50〜0.65、
組成物（Ｂ）のポリエステルの固有粘度を0.60〜0.85と
し、かつ、固有粘度をポリエステル（Ａ）＜組成物
（Ｂ）のポリエステルとしておくことが、ポリエステル
（Ａ）と組成物（Ｂ）の結晶化パラメータを本発明範囲
とするのに有効である。また、組成物（Ｂ）に用いるポ
リエステルを共重合ポリエステルとすることも、本発明
範囲の結晶化パラメータΔTcgの差を得るのに極めて有
効である。この場合の共重合成分としてはイソフタル酸
成分、1,4シクロヘキシレンジメタノール成分、特に1,4
シクロヘキシレンジメタノール成分、共重合量として
は、１〜８モル％が好適である。

次に、ポリエステル（Ａ）の少なくとも片面に組成物
（Ｂ）を積層する方法としては、次の方法が有効であ
る。

＜積層方法１＞ ポリエステル（Ａ）と組成物（Ｂ）を公知の溶融積層用
押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押出
し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸
フィルムを作る。すなわち、２または３台の押出し機、
２または３層のマニホールド、口金を用いて、ポリエス
テル（Ａ）と組成物（Ｂ）を積層する。この場合、口金
スリット間隙／未延伸フイルム厚さの比を５〜30、好ま
しくは８〜20の範囲にすることが、本発明範囲の平均突
起高さ、好ましい範囲の平均突起間隔を得るのに有効で
ある。また、組成物（Ｂ）側の押し出し機の溶融温度
を、ポリエステル（Ａ）側より、20〜40℃低くすること
が、本発明範囲の結晶化パラメータ、削れ物中のシリカ
比率を得るのに極めて有効である。

次にこの二延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せし
める。延伸方法としては、遂次二軸延伸法または同時二
軸延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方
向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、
長手方向の延伸を、（ポリマのガラス転移点−10℃）〜
（ポリマのガラス転移点＋10℃）の狭い範囲で、かつ、
1000〜10000％／分という比較的小さな延伸速度で行な
う方法は本発明範囲の平均突起高さ、好ましい範囲の突
起間隔を得るのに有効である。幅方向の延伸温度、速度
は、80〜160℃、1000〜20000％／分の範囲が好適であ
る。延伸倍率は長手、幅方向ともに３〜５倍が好適であ
る。また、長手方向の延伸時に組成物（Ｂ）面に80〜12
0℃の熱風を吹き付けることが本発明範囲の削れ物中の
シリカ比率を得るのに極めて有効である。次にこの延伸
フィルムを熱処理する。この場合の熱処理条件として
は、定長下で150〜220℃、好ましくは170〜200℃の範囲
で0.5〜60秒間が好適である。さらに、熱処理後の冷却
を徐々に行なうことが本発明範囲の削れ物中のシリカ比
率を得るのに有効である。

＜積層方法２＞ 上記積層方法１における押出し時の積層を行なう代わ
りに、ポリエステル（Ａ）の未延伸フイルムを長手方向
に延伸した後、幅方向の延伸前に、その片面に、組成物
（Ｂ）を積層してから幅方向に延伸することによって積
層する。本発明フイルムを得るための基本条件は積層方
法１と同じである。

［作用］ 本発明はコロイダルシリカを含有するポリエステル組
成物と実質的に無機粒子を含有しないポリエステルを特
定範囲の厚さ比率、結晶化特性にして積層し、かつ、コ
ロイダルシリカを含有するポリエステル組成物の表面の
突起の高さ、削れ物中のシリカ重量比率を特定範囲とし
たので、表面に存在する突起の強さ、削れ物および端面
の粘弾性的特性が向上した結果、本発明の効果が得られ
たものと推定される。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］ 本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次
の通りである。

（１）粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ灰化処理法ある
いはＯ−クロルフェノール溶解法などで除去し、これを
エタノールに分散させ、遠心沈降法（堀場製作所、CAPA
500使用）で測定した体積平均径である。

（２）粒子の含有量 ポリエステル100gにＯ−クロルフェノール1.0リット
ルを加え120℃で３時間加熱した後、日立工機（株）製
超遠心機55P−72を用い、30,000rpmで40分間遠心分離を
行ない、得られた粒子を100℃で真空乾燥する。微粒子
を走査型差動熱量計にて測定した時、ポリマに相当する
溶解ピークが認められる場合には微粒子にＯ−クロルフ
ェノールを加え、加熱冷却後再び遠心分離操作を行な
う。溶解ピークが認められなくなった時、微粒子を析出
粒子とする。通常遠心分離操作は２回で足りる。かくし
て分離された粒子の全体重量に対する比率（重量％）を
もって粒子含有量とする。

（３）結晶化パラメータΔTcg パーキンエルマー社製のDSC（示差走査熱量計）II型
を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りである。
すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、300℃の温度
で５分間溶融した後、液体窒素中に急冷する。この急冷
試料を10℃／分で昇温し、ガラス転移点Tgを検知する。
さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度Tccとした。ここでTccとTgの
差（Tcc−Tg）を結晶化パラメータΔTcgと定義する。

（４）突起の有効空間体積Φ 小坂研究所高精度薄膜段差測定機ET−10を用い、触針
先端半径0.5μｍ、カットオフ0.08mm、測定長1.0mm、縦
倍率20万倍、横倍率2000倍で、フィルムの表面粗さ曲線
を測定する。この粗さ曲線の平均線（中心線）の上側で
平行に0.005μｍごとにピークカウントレベルを設け、
平均線を曲線が交又する２点間において、上記ピークカ
ウントレベルを１回以上交又する点が存在するとき、こ
れを１ピークとし、このピーク数を測定長さ間において
求める。各ピークカウントレベルについて、このピーク
数を求め平均線からｎ番目のピークカウントレベルにつ
いて求めたピーク数をPC（ｎ）と定義する。測定長さ間
でピーク数が始めてゼロになるピークカウントレベルが
平均線からｍ番目としたとき、有効空間体積Φは、 で表わされ、場所を変えて50回測定した平均値を用い
る。

（５）屈折率 ナトリウムＤ線（589nm）を光源として、アッベ屈折
率計を用いて測定した。マウント液にはヨウ化メチレン
を用い、25℃、65％RHにて測定した。

（６）厚さ比率 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡で観察し、コロイ
ダルシリカに起因する球形粒子を含有する層（組成物
Ｂ）と実質的に無機粒子を含有しない層（ポリエステル
Ａ）の厚さを測定しそれらの値から厚さ比率を計算し
た。

（７）表面突起の平均高さ、突起尖頭度 ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ESM−3200、エリ
オニクス（株）製］と断面測定装置［PMS−１、エリオ
ニクス（株）製］においてフィルム表面の平坦面の高さ
を０として走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装
置［IBAS2000、カールツァイス（株）製］に送り、画像
処理装置上にフィルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得られた
個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突起の
突起径とする。また、この２値化された個々の突起部分
の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて500回繰
返し、測定された全ての突起についての平均値を平均突
起径および高さとして用い、この平均突起高さ／突起径
の比を突起尖頭度とした。また走査型電子顕微鏡の倍率
は、1000〜8000倍の間の値を選択する。

（８）中心線平均表面粗さRa、10点平均粗さ Rz、中心線深さRp、平均突起間隔Sm小坂研究所製の高
精度薄膜段差測定器ET−10を用いて測定した。条件は下
記のとおりであり、20回の測定の平均値をもって値とし
た。

・触針先端半径:0.5μｍ ・触針荷重:5mg ・測定長:1mm ・カットオフ値:0.08mm なお、中心線平均表面粗さRa、10点平均粗さRz、中心線
深さRp、平均突起間隔Smの定義は、たとえば、奈良治郎
著「表面粗さの測定・評価法」（総合技術センター、19
83）に示されているものである。

（９）ヤング率 JIS−Ｚ−1702に規定された方法にしたがって、イン
ストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25℃、65％
RHにて測定した。

（10）固有粘度［η］（単位はdl/g） オルソクロルフェノール中、25℃で測定した溶液粘度
から下記式から計算される値を用いる。

すなわち、 η_SP/C＝［η］＋Ｋ［η］^２・Ｃ ここでη_SP＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃは溶媒10
0mlあたりの溶解ポリマ重量（g/100ml、通常1.2）、Ｋ
はハギンス定数（0.343とする）。また、溶液粘度、溶
媒粘度はオストワルド粘度計を用いて測定した。

（11）削れ物中のシリカ重量比率（ポリエステルに対す
る重量比率） フィルムを幅1/2インチにテープ状にスリットしたも
のに片刃を垂直に押しあて、さらに0.5mm押し込んだ状
態で20cm走行させる（走行張力:500g、走行速度:6.7cm/
秒）。この時片刃の先に付着したフィルム表面の削れ物
の組成分析を顕微FT−IR法（フーリエ変換顕微赤外分光
法）で行ない、ポリエステルのカルボニル基に起因する
ピークおよびシリカに起因するピークの比率を用いて求
めた。なお、ピーク高さ比を重量比に換算するために、
あらかじめ重量比既知のサンプル（ポリエステルとシリ
カの混合サンプル）で検量線を作成して測定した。

（12）表面強度 フィルムを幅1/2インチにテープ状にスリットしたも
のに片刃を垂直に押しあて、さらに0.5mm押し込んだ状
態で20cm走行させる（走行張力:500g、走行速度:6.7cm/
秒）。この時片刃の先に付着したフィルム表面の削れ物
の高さを顕微鏡で読みとり、削れ量とした（単位はμ
ｍ）。少なくとも片面について、この削れ量が15μｍ以
下の場合は表面強度：良好、両面とも15μｍを越える場
合は表面強度：不良と判定した。この削れ量:15μｍと
いう値は、印刷工程やカレンダー工程などの加工工程
で、フィルム表面が削れることによって、工程上、製品
性能上のトラブルがおこるか否かを判定するための臨界
点である。

（13）清掃性 テープ走行性試験機の金属ガイドをナイロンロールに
代えて、走行速度を100m/分として、延べ走行長さが700
00mとなるよう走行させた。この時ナイロンロールに付
着した汚れ物の取りやすさを調べた、布によるからぶき
で簡単に取れた場合は清掃性：良好、アセトンなどの溶
媒を用いても取れにくかった場合は清掃性：不良と判定
した。

（14）端面強度 フィルムを幅1/2インチのテープ状にスリットしたも
のをフイルムの端面が位置規制ガイドの「つば（鍔）」
に当たるようにセットし、走行速度1000m/分で延べ長さ
500000m走行させた後、「つば（鍔）」で発生付着した
粉の量を調べ、次のランク分けを行なった。すなわち、 ランクA:白粉がほとんど発生しない ランクB:わずかに白粉が発生するが、加工工程上、製品
性能上のトラブルには至らない ランクC:白粉の発生が多く、加工工程上、製品性能上の
トラブルとなり使用不可と区分する。ランクＡ、Ｂは合
格、ランクＣは不合格である。

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１ 平均粒径0.3μｍのコロイダルシリカを含有するエチ
レングリコールゾル（スラリー）を調整し、ナトリウム
含有量を粒子に対し0.5重量％とした。このエチレング
リコールスラリーをテレフタル酸ジメチルとエステル交
換反応後、重縮合し、コロイダルシリカに起因するシリ
カ粒子を１重量％含有するポリエチレンテレフタレート
の粒子マスターペレットを作った。この時、重縮合時間
を調節し固有粘度を0.75とした。この粒子マスターペレ
ットの結晶化パラメータΔTcgは83℃であった。また、
常法によって、固有粘度0.66の実質的に無機粒子を含有
しないポリエチレンテレフタレート（結晶化パラメータ
ΔTcgは80℃）を製造し、上記のコロイダルシリカに起
因するシリカ粒子を１重量％含有するポリエチレンテレ
フタレートの粒子マスターペレットと混合しシリカ粒子
の含有量が0.5重量％となるようにした（組成物Ｂ）。
次に常法によって、固有粘度0.61の実質的に無機粒子を
含有しないPETを製造し（結晶化パラメータΔTcgは72
℃、組成物Ａ）、これらの組成物ＡおよびＢのペレット
（第１表）をそれぞれ180℃で３時間減圧乾燥（3Torr）
した。組成物Ａを押出機１に供給し、さらに、組成物Ｂ
を押出機２に供給し、300℃で溶融しマニホールド内で
合流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃
のキャスティング・ドラムに巻きつけて冷却固化し、２
層構造の未延伸フィルムを作った。この時、押出機１の
溶融温度を310℃、押出機２の溶融温度を280℃とし、口
金スリット間隙／未延伸フイルム厚さの比を10として未
延伸フイルムを作った。また、それぞれの押出機の吐出
量を調節し組成物ＡとＢの積層厚さを調節した。この未
延伸フイルムを温度80℃にて、組成物（Ｂ）面に110℃
の熱風を吹き付けながら、長手方向に4.5倍延伸した。
この一軸延伸フイルムをステンタを用いて延伸速度2000
％／分で100℃で幅方向に4.0倍延伸し、定長下で、190
℃にて５秒間熱処理し、厚さ15μｍの二軸配向積層フィ
ルムを得た。これらのフィルムの本発明のパラメータは
第２表に示したとおり本発明範囲内であり、表面強度、
清掃性、端面強度は第２表に示したとおり、全て良好で
あった。

実施例２〜５、比較例１〜８ 平均粒径の異なるコロイダルシリカを含有するエチレ
ングリコールゾル（スラリー）を調整し、ナトリウム含
有量を粒子に対し0.02〜3.5重量％とした。このエチレ
ングリコールスラリーをテレフタル酸ジメチルとエステ
ル交換反応後、重縮合し、コロイダルシリカに起因する
シリカ粒子を１重量％含有するポリエチレンテレフタレ
ートの粒子マスターペレットを作った。この時、重縮合
時間、共重合成分（1,4−シクロヘキシレンジメタノー
ル）の含有量を調節して結晶化パラメータΔTcgが45〜1
00℃の範囲のものを作った。また、常法によって、実質
的に無機粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート
を製造した。この時、固有粘度、共重合成分（1,4−シ
クロヘキシレンジメタノール）の含有量を調節して結晶
化パラメータΔTcgの異なるものを作った。これと、上
記のコロイダルシリカに起因するシリカ粒子を１重量％
含有するポリエチレンテレフタレートの粒子マスターペ
レットと混合しシリカ粒子の含有量が異なる組成物を作
った（組成物Ｂ）。次に常法によって、ただし重縮合時
間を調節して、結晶化パラメータΔTcgが62〜78℃の平
均粒径の異なる無機粒子を０〜0.04重量％含有するポリ
エチレンテレフタレートを製造し（組成物Ａ）、これら
の組成物ＡおよびＢのペレット（第１表）をそれぞれ18
0℃で３時間減圧乾燥（3Torr）した。組成物Ａを押出機
１に供給し、さらに、組成物Ｂを押出機２に供給しマニ
ホールド内で合流積層し、静電印加キャスト法を用いて
表面温度30℃のキャスティング・ドラムに巻きつけて冷
却固化し、３層構造の未延伸フィルムを作った。この
時、押出機１の溶融温度を280〜310℃、押出機２の溶融
温度を270〜320℃の範囲で変更し、また、口金スリット
間隙／未延伸フイルム厚さの比も種々変更して未延伸フ
イルムを作った。また、それぞれの押出機の吐出量を調
節し、組成物ＡとＢの厚さ比率の異なるものを作った。
この未延伸フイルムを温度80℃にて長手方向に4.5倍延
伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差で、組成
物（Ｂ）面に吹き付ける風の温度を種々変更して行なっ
た。この一軸延伸フイルムをステンタを用いて延伸速度
2000％／分で100℃で幅方向に4.0倍延伸し、定長下で、
190℃にて５秒間熱処理し、急冷または徐冷して、厚さ1
5μｍの二軸配向積層フィルムを得た。これらのフィル
ムの本発明のパラメータおよび表面強度、清掃性、端面
強度は第２表に示したとおりであり、本発明のパラメー
タが本発明範囲内である場合は表面強度、清掃性、端面
強度ともに良好であるが、パラメータが本発明範囲外で
ある場合には表面強度、清掃性と端面強度が全て良好で
あるフイルムは得られないことがわかる。

［発明の効果］ 本発明はコロイダルシリカを含有するポリエステル組
成物と実質的に無機粒子を含有しないポリエステルを特
定範囲の厚さ比率、結晶化特性にして積層し、かつ、コ
ロイダルシリカを含有するポリエステル組成物の表面の
突起の高さと削れ物中のシリカ重量比率を特定範囲とし
たので、表面強度、清掃性、端面強度がともに良好であ
るフイルムが得られたものであり、各用途でのフイルム
加工速度の増大に対応できるものである。本発明フイル
ムの用途は特に限定されないが、加工工程でのフィルム
表面や端面からの粉が加工工程上、製品性能上特に問題
となり、また、最近その工程の生産性を高めることによ
るコストダウンが求められている磁気記録媒体用ベース
フィルムとして特に有用である。また、本発明フイルム
のうち２層構造のものは組成物Ｂの面が走行面（磁気記
録媒体用では磁性層を塗布しない面、その他の用途では
印刷やラミネートなどの塗布などの処理がほどこされな
い面）として用いることが必要である。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】実質的に無機粒子を含有しないポリエステ
   ル（Ａ）からなる層（Ａ層）の少なくとも片面に、ポリ
   エステルにコロイダルシリカに起因する球形シリカを含
   有せしめた組成物（Ｂ）からなる層（Ｂ層）を積層して
   なるフイルムであって、該Ａ層とＢ層との厚さ比率（B/
   A）が0.04〜1.4、ポリエステル（Ａ）と組成物（Ｂ）の
   結晶化パラメータΔTcgの差（Ｂ−Ａ）が１〜45℃、組
   成物（Ｂ）の表面の平均突起高さが20〜150nm、かつ、
   該表面の削れ物中のシリカ重量比率が0.11以上であるこ
   とを特徴とする二軸配向ポリエステルフィルム。