JPH01198350A - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は二軸配向ポリエステルフィルムに関するもので
おる。

［従来の技術］ 二軸配向ポリエステルフィルムとしては、ポリエステル
にコロイド状シリカに起因する実質的に球形のシリカ粒
子を含有せしめたフィルムか知られている（たとえば特
開昭５９−１’７１６２３号公報）。

［発明か解決しようとする課題］ しかし、上記従来の二軸配向ポリエステルフィルムは、
フィルムの加工工程、たとえば包装用途にお（プる印刷
工程、磁気媒体用途における磁性層塗布・カレンダー工
程などの工程速度が大幅に増速されだことによりいくつ
かの問題点が発生してきている。すなわち、それらの工
程のロールとフィルム表面およびフィルム位置規制ガイ
ドピンとフィルム端面（側面）が高速で接触することに
よりフィルムの表面や端面が削られて発生した粉が加工
工程上、製品性能上の１ヘラプルとなるという問題点、
さらにフィルムの表面が削られて発生した粉が高速走行
の摩擦熱でロール表面に付着して取れにくくなりロール
の清掃が行ないにくいため生産性が阻害されるという問
題点である。

本発明はかかる問題点を改善し、表面からの粉落ちの起
こりにくさ（以下、表面強度という）や端面からの粉落
ちの起こりにくさ（以下、端面強度という）に優れ、さ
らに、表面が削られた粉がロールに付着した時でも、ロ
ールから取りゃすい（以下、清掃性という〉に優れたフ
ィルムを提供することを目的とする。

「課題を解決するための手段］ 本発明は、実質的に無機粒子を含有しないポリエステル
（Ａ＞からなる層（Ａ層）の少なくとも片面に、ポリエ
ステルにコロイダルシリカに起因する球形シリカを含有
せしめた組成物（Ｂ）からなる層（Ｂ層）を積層してな
るフィルムであって、該Ａ層とＢ層どの厚さ比率（Ｂ／
Ａ＞が０，０４〜１．４、ポリエステル（Ａ＞と組成物
（Ｂ）の結晶化パラメータΔＴＣｇの差（Ｂ−Ａ’）が
１〜４５℃、組成物（Ｂ）の表面の平均突起高さが２０
〜１５０ｎｍ、かつ、該表面の削れ物中のシリカ重量比
率が０．１１以上であることを特徴とする二軸配向ポリ
エステルフィルムに関するものでおる。

本発明を構成するポリエステル（Ａ）および組成物（Ｂ
）におけるポリエステルは、エチレンテレフタレート、
エチレンα、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン
−４，４°−ジカルボキシレート、エチレン２，６−ナ
フタレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位
を主要構成成分とする。ただし、本発明を阻害しない範
囲内、好ましくは１０モル％以内であれば他成分が共重
合されていてもよい。また、エヂレンテレフタレ−１〜
を主要構成成分とするポリエステルの場合に端面強度と
表面強度、清掃性かより一層良好となるので特に望まし
い。

本発明を構成するポリエステル（Ａ＞は、実質的に無機
粒子を含有していないことが必要である。

ここでいう実質的とは、０．０５重量％以下のことであ
り、これより多くの無機粒子が含有されていると端面強
度が不良となるので好ましくない。

本発明の組成物（Ｂ）におけるコロイダルシリカに起因
する球形シリカは、特に限定されないが、通常イオン交
換法あるいはアルコキシド法で製造されたものであり、
特にアルコキシド法で製造された実質的に球形のシリカ
の場合に表面強度、清掃性がより一層良好となるので特
に望ましい。

本発明のポリエステル（Ａ）、組成物（８）は上記組成
物を主要成分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲
内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また酸化防
止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤
が通常添加される程度添加されていてもよい。

本発明フィルムは上記ポリエステル（Ａ＞層の少なくと
も片面に、上記組成物（Ｂ）層を積層したフィルムでお
り、ポリエステル（Ａ）層は二軸配向、組成物（Ｂ）層
は二軸、あるいは、−軸配　・向であることが必要であ
る。この配向の程度は特に限定されないが、高分子の分
子配向の程度の目安であるヤング率が、積層フィルムと
して、長手方向が３５０〜１３００ｋｃ＋／ｍｍ２　、
幅方向が４００〜１５００ｋＯ／ｍｍ２の範囲である場
合に端面強度、表面強度、清掃性がより一層良好となる
ので特に望ましい。

本発明フィルムは上記ポリエステル（Ａ＞層と組成物（
Ｂ）層の厚さ比率（Ｂ／Ａ）が０．０４〜１．４、好ま
しくは０．０６〜Ｏ−６、ざらに好ましくは０．１〜０
．５の範囲であることが必要である。厚さ比率が上記の
範囲より小さいと表面強度か不良となり、逆に大きいと
端面強度が不良となるので好ましくない。なお、組成物
（Ｂ）層が２層以上の場合はその総厚さが上記範囲内で
あることか必要である。

本発明フィルムは上記ポリエステル（Ａ＞層と組成物（
Ｂ）層の結晶化パラメータΔ丁ｃｇの差（Ｂ−Ａ＞が１
〜４５℃、好ましくは２〜４０’Ｃ１さらに好ましくは
２〜３０’Ｃの範囲て必ることが必要である。結晶化パ
ラメータΔ丁ｃｇの差が上記の範囲より小さいと端面強
度が不良となるので好ましくない。また、結晶化パラメ
ータΔＴＣＣＩか上記の範囲より大きいと清掃性が不良
となるので好ましくない。

本発明フィルムは、組成物（Ｂ）の表面の平均突起高さ
が２０〜１５０ｎｍ、好ましくは３０〜１３０ｎｍ、ざ
らに好ましくは３５〜１２０ｎｍの範囲であることが必
要である。組成物（Ｂ）の表面の平均突起高さが上記の
範囲より小さいと清掃性が不良となり、逆に大きいと表
面強度が不良となるので好ましくない。

本発明フィルムは、組成物（Ｂ）の表面の表面削れ物中
のポリエステルに対するシリカ重量比率が０．１１以上
、好ましくは０．１６以上、さらに好ましくは０．２以
上の範囲であることが必要で必る。組成物（Ｂ）の表面
の表面削れ物中のシリカ重量比率が上記の範囲より小さ
いと清掃性が不良となるので好ましくない。シリカ重量
比率の上限は特に限定されないが、０．８程度が製造上
の限界である。

本発明フィルムの組成物（Ｂ）の表面の平均突起間隔は
特に限定されないか２０μｍ以下、特に１５μｍ以下の
場合に表面強度、清掃性がより一層良好となるので特に
望ましい。

本発明フィルムの組成物（Ｂ）に含有するコロイダルシ
リカに起因する球形シリカの平均粒径をＣとした時、組
成物（Ｂ）層の厚さを２Ｃ〜２０Ｃ１特に、４Ｃ〜１０
Ｃの範囲である場合に表面強度、清掃性、端面強度がよ
り一層良好となるので特に望ましい。

本発明フィルムの組成物（Ｂ）層の厚さ（総厚さ〉は特
に限定されないが、１〜５μｍ１特に１゜５〜４μｍの
範囲である場合に表面強度、清掃性、端面強度がより一
層良好となるので特に望ましい。

本発明フィルムは、上記組成物（Ｂ）層の表面突起によ
って作られる有効空間体積が、１×１０３〜５Ｘ１０５
、特に、５Ｘ１０３〜３Ｘ１０Ｓの範囲である場合に表
面強度、清掃性がより一層良好となるので特に望ましい
。

本発明フィルムは、上記組成物（Ｂ）層の表面突起の尖
頭度（突起高さ／突起直径の比）が０゜０５〜０．１２
の範囲である場合に表面強度、清掃性がより一層良好と
なるので特に望ましい。

本発明フィルムは、組成物（Ｂ）層の表面のＲｐ／Ｒａ
比（単位はともにｎｍ）が４〜２５、好ましくは６〜２
０、ざらに好ましくは９〜１５である場合に表面強度、
清掃性がより一層良好となるので特に望ましい。

本発明フィルムは、組成物（Ｂ）層の表面のＲｐおよび
Ｒｚがともに６０〜１９０ｎｍ、好ましくは７０〜１６
０ｎｍ、さらに好ましくは８０〜１５０ｎｍである場合
に表面強度、清掃性がより一層良好となるので特に望ま
しい。

本発明フィルムは、組成物（Ｂ）層の表面の突起の高さ
が５０〜３００ｎｍの突起の尖頭度が０゜０８以上、好
ましくは０．１０以上、ざらに好ましくは０．１１以上
である場合に表面強度、清掃性がより一層良好となるの
で特に望ましい。

本発明フィルムは、組成物（Ｂ）層の表面の幅方向の表
面平均粗ざＲａ　（ｎｍ）と組成物（Ｂ）層の厚さｄ（
μｍ〉の比、Ｒａ／ｄ、が１〜２０の範囲である場合に
表面強度、清掃性、端面強度がより一層良好となるので
特に望ましい。

本発明フィルムは、少なくとも片面の幅方向四折率が１
．６７５〜１．７００の範囲である場合に、表面強度、
清掃性、端面強度がより一層良好となるので特に望まし
い。

次に本発明フィルムの製造方法について説明する。

まず、組成物（Ｂ）のポリエステルにコロイダルシリカ
に起因するシリカ粒子を含有せしめる方法としては、ポ
リエステルのジオール成分であるエチレングリコールの
ゾルの形で分散せしめ、絶対濾過精度が１．５〜４μｍ
のフィルターで濾過した後、このエチレングリコールを
所定のジカルボン酸成分と重合せしめるのが本発明範囲
の平均突起高さ、削れ物中のシリカ重量比率および好ま
しい範囲のＲｐ、ＲＺ、Ｒｐ／Ｒａ比、Ｒａ／ｄ比を得
るのに有効である。この時、ゾル中のナトリウム含有量
を粒子に対して０．２〜２．０重量％、好ましくは０．
３〜２．０重量％の範囲としておくことが、本発明範囲
の平均突起高さ、削れ物中のシリカ重量比率および好ま
しい範囲のＲｐｌＲＺ、Ｒｐ／Ｒａ比、Ｒａ／ｄ比、有
効空間体積、突起の尖頭度を得るのに有効である。また
、粒子の含有量を調節する方法としては、高濃度、好ま
しくは、濃度が１〜５重量％のマスターペレットを実質
的に粒子を含有しないポリエステルで製膜時に稀釈する
方法が本発明の結晶化パラメータ、平均突起高さ、削れ
物中のシリカ重量比率および好ましい範囲のＲ１）、Ｒ
ｐ／Ｒａ比、Ｒａ／ｄ比を得るのに有効である。この時
、このコロイダルシリカに起因する球形シリカのマスタ
ペレットの固有粘度、共重合成分量を調節して、結晶化
パラメータを７５〜１１０°Ｃとしておき、かつ、希釈
に用いる実質的に粒子を含有しないポリエステルの結晶
化パラメータよりその値を大きくしてあくことが本発明
の結晶化パラメータ、平均突起高さ、削れ物中のシリカ
重量比率を得るのに極めて有効である。この場合の共重
合成分としてはイソフタル酸成分、１，４シクロヘキシ
レンジメタツ一ル成分、特に１，４シクロヘキシレンジ
メタツ一ル成分、共重合量としては、１〜８モル％が好
適でおる。また、コロイダルシリカに起因する球形シリ
カの平均粒径を０．２０〜０．５０μｍ、含有量（組成
物（Ｂ）に対する）を０．４〜１．５重量％とすること
が本発明範囲の平均突起高さ、削れ物中のシリカ重量比
率および好ましい範囲のＲ１）、Ｒ１）／Ｒａ比、Ｒａ
／ｄ比、有効空間体積、平均突起間隔を得るのに有効で
おる。

また、ポリエステル（△）の固有粘度を０．５０・〜０
．６５、組成物（Ｂ）のポリエステルの固有粘度を０．
６０〜０．８５とし、かつ、固有粘度をポリエステル（
Ａ）く組成物（Ｂ）のポリエステルとしておくことが、
ポリエステル（Ａ＞と組成物（Ｂ）の結晶化パラメータ
を本発明範囲とするのに有効て必る。また、組成物（Ｂ
）に用いるポリエステルを共重合ポリエステルとするこ
とも、本発明範囲の結晶化パラメータΔＴｃｇの差を得
るのに極めて有効である。この場合の共重合成分として
はイソフタル酸成分、１，４シクロヘキシレンジメタツ
一ル成分、特に１，４シクロヘキシレンジメタツ一ル成
分、共重合量としては、１〜８モル％か好適である。

次に、ポリエステル（Ａ＞の少なくとも片面に組成物（
Ｂ）を積層する方法としては、次の方法が有効である。

〈積層方法１〉 ポリエステル（Ａ＞と組成物（Ｂ＞を公知の溶融積層用
押出機に供給し、スリット状のダイがらシート状に押出
し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸
フィルムを作る。すなわち、２または３台の押出し機、
２または３＠のマニホールド、口金を用いて、ポリエス
テル（Ａ＞と組成物（’Ｂ）を積層する。この場合、口
金スリット間隙／未延伸フィルム厚さの比を５〜３ｏ、
好ましくは８〜２０の範囲にすることか、本発明範囲の
平均突起高さ、好ましい範囲の平均突起間隔を得るのに
有効である。また、組成物（’Ｂ）側の押し出し機の溶
融温度を、ポリエステル（Ａ）側より、２０〜４０’Ｃ
低くすることが、本発明範囲の結晶化パラメータ、削れ
物中のシリカ比率を得るのに極めて有効である。

次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸前向せしめ
る。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二軸
延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方向
、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、長
手方向の延伸を、（ポリマのガラス転移点−１０°Ｃ）
〜（ポリマのガラス転移点＋１０°Ｃ）の狭い範囲で、
かつ、１０００〜１００００％／分という比較的小さな
延伸速度で行なう方法は本発明範囲の平均突起高さ、好
ましい範囲の突起間隔を得るのに有効である。

幅方向の延伸温度、速度は、８０〜１６０’Ｃ３１００
０〜２００００％／分の範囲が好適である。

延伸倍率は長手、幅方向ともに３〜５倍が好適である。

また、長手方向の延伸時に組成物（Ｂ）面に８０〜１２
０’Ｃの熱風を吹き付けることが本発明範囲の削れ物中
のシリカ比率を得るのに極めて有効である。次にこの延
伸フィルムを熱処理する。

この場合の熱処理条件としては、定長下で１５０〜２２
０’Ｃ１好ましくは１７０〜２００°Ｃの範囲で０．５
〜６０秒間が好適である。さらに、熱処理後の冷却を徐
々に行なうことが本発明範囲の削れ物中のシリカ比率を
得るのに有効でおる。

〈積層方法２〉 上記積層方法１における押出し時の積層を行なう代わり
に、ポリエステル（Ａ）の未延伸フィルムを長手方向に
延伸した後、幅方向の延伸前に、その片面に、組成物（
Ｂ）を積層してから幅方向に延伸することによって積層
する。本発明フィルムを得るための基本条件は積層方法
１と同じでおる。

［作用］ 本発明は］ロイダルシリカを含有するポリエステル組成
物と実質的に無機粒子を含有しないポリエステルを特定
範囲の厚さ比率、結晶化特性にして積層し、かつ、コロ
イダルシリカを含有するポリエステル組成物の表面の突
起の高さ、削れ物中のシリカ重量比率を特定範囲とした
ので、表面に存在する突起の強さ、削れ物および端面の
粘弾性的特性が向上した結果、本発明の効果が得られた
ものと推定される。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りて必る
。

（１）粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ灰化処理法あるい
は０−クロルフェノール溶解法などで除去し、これをエ
タノールに分散させ、遠心沈降法（堀場製作所、ＣＡＰ
Ａ５００使用）で測定した体積平均径である。

（２）粒子の含有量 ポリエステル１００ΩにＯ−クロルフェノール１゜０リ
ツ１〜ルを加え１２０°Ｃて３時間加熱した後、日立工
機■製超遠心機５５Ｐ−７２を用い、３０゜０００１０
ｍで４０分間遠心分離を行ない、得られた粒子を１００
’Ｃで真空乾燥する。微粒子を走査型差動熱量計にて測
定した時、ポリマに相当する溶解ピークか認められる場
合には微粒子にＯ−クロルフェノールを加え、加熱冷却
後再び遠心分離操作を行なう。溶解ピークが認められな
くなった時、微粒子を析出粒子とする。通常遠心分離操
作は２回で足りる。かくして分離された粒子の全体重量
に対する比率（重量％〉をもって粒子含有量とする。

（３）結晶化パラメータ△ＴＣＣＩ パーキンエルマー社製のＤＳＣ（示差走査熱量計）■型
を用いて測定した。ＤＳＣの測定条件は次の通りである
。すなわち、試料１０ｍ０をＤＳＣ装置にセットし、３
００’Ｃの温度で５分間溶融した後、液体窒素中に急冷
する。この急冷試料を１０’Ｃ／分て昇温し、カラス転
移点丁ｑを検知する。

ざらに昇温を続け、カラス状態からの結晶化発熱ピーク
温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃとした。

ここて丁ＣＣと丁ｑの差（丁ＣＣ−丁ｑ）を結晶化パラ
メータ△Ｔｃｇと定義する。

（４）突起の有効空間体積の 小板研究所高精度薄膜段差測定機ＥＴ−１０を用い、触
針先端半径０．５μｍ、カッＩ−オフ○。

Ｑ８ｍｍ、測定長１　、０ｍｍ、　Ｍ１倍率２０万倍、
横倍率２０００倍で、フィルムの表面粗さ曲線を測定す
る。この粗さ曲線の平均線（中心線〉の上側で平行に０
．００５μｍごとにピークカラン］へレベルを設け、平
均線を曲線が交叉する２点間において、上記のピークカ
ウントレベルを１回以上交又覆−る点が存在するとき、
これを１ピークとし、このピーク数を測定長さ間におい
て求める。各ピークカウントレベルについて、このピー
ク数を求め平均線からｎ番目のピークカウントレベルに
ついて求めたピーク数をＰＣ（ｎ）と定義する。測定長
さ間でピーク数が始めてゼロになるピークカウントレベ
ルか平均線からｍ番目としたとき、有効空間体積のは、 Φ−Σ［ｎ３　（ＰＣ（ｎ）−ＰＣ（ｎ＋１））］て表
わされ、場所を変えて５０回測定した平均値を用いる。

（５）屈折率 す１〜リウ八〇線（５，８９ｎ　Ｉｎ　＞を光源として
、アツベ屈折率計を用いて測定した。マウント液にはヨ
ウ化メチレンを用い、２５℃、６５％ＲＨにて測定した
。

（６）厚さ比率 −１８＝ フィルムの断面を透過型電子顕微鏡で観察し、コロイダ
ルシリカに起因する球形粒子を含有する層（組成物Ｂ）
と実質的に無機粒子を含有しない層（ポリエステルＡ）
の厚さを測定しそれらの値から厚さ比率を計算した。

（７）表面突起の平均高さ、突起尖頭度２検出器方式の
走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、エリオニクス（
株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、エリオニクス（
株）製］においてフィルム表面の平坦面の高さをＯとし
て走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装置［Ｉ　
ＢＡＳ２０００、カールツァイス（株）製］に送り、画
像処理装置上にフィルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得られた
個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突起の
突起径とする。また、この２値化された個々の突起部分
の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて５００回
繰返し、測定された全ての突起についての平均値を平均
突起径および高さとして用い、この平均突起高ざ／突起
径の比を突起尖頭度とした。また走査型電子顕微鏡の倍
率は、１０００〜８０００倍の間の値を選択する。

（８）中心線平均表面粗さＲａ、１０点平均粗さＲｚ、
中心線深さＲｐ、平均突起間隔３ｍ小坂研究所製の高精
度薄膜段差測定器ＥＴ−１０を用いて測定した。条件は
下記のとおりであり、２０回の測定の平均値をもって値
とした。

・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重　　：５ｍΩ ・測定長　　　：１ｍｍ ・カッミルオフ（直：０．０３ｍｍ なお、中心線平均表面粗ざＲａ、１０点平均粗さＲ７、
中心線深ざＲ［）、平均突起間隔３ｍの定義は、たとえ
ば、奈良治部著「表面粗さの測定・評価法」　（総合技
術センター、１９８３）に示されているものである。

（９）ヤング率 Ｊ　ｌ５−７−１７０２に貌定された方法にしたかって
、インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、２５
℃、６５％ＲＨにて測定した。

（１０）固有粘度［η］　（単位はｄｌ／ｇ＞オルソク
ロルフェノール中、２５°Ｃで測定した溶液粘度から下
記式から計算される値を用いる。

すなわち、 η３．／Ｃ−［η］＋Ｋ［η］２・に こで　ηｓｐ−＜溶液粘度／溶媒粘度〉−１、Ｃは溶媒
１００ｍ１必たりの溶解ポリマ重量（ＣＩ／１００ｍ　
ｌ　、通常１．２）、Ｋはハギンス定数（０，３４３と
する）。また、溶液粘度、溶媒粘度はオストワルト粘度
計を用いて測定した。

（１１）削れ物中のシリカ重量比率（ポリエステルに対
する重量比率） フィルムを幅１／２インチにテープ状にスリットしたも
のに片刃を垂直に押しあて、さらに０．５１ＩｌｌＴｌ
押し込んだ状態で２０ｃｍ走行させる（走行張カニ５０
ＯＣ＋、走行速度：６．７ｃｍ／秒）。この時片刃の先
に付着したフィルム表面の削れ物の組成分析を顕微ＦＴ
−Ｉ　Ｒ法（フーリエ変換顕微赤外分先決）で行ない、
ポリエステルのカルボニル基に起因するピークおよびシ
リカに起因するピークの比率を用いて求めた。なお、ピ
ーク高さ比を重量比に換算するために、あらかじめ重量
比既知のサンプル（ポリエステルとシリカの）捏合サン
プル）で検量線を作成して測定した。

（１２）表面強度 フィルムを幅１７２インチにテープ状にスリットしたも
のに片刃を垂直に押しあて、さらに０．５ｍｍ押し込ん
だ状態で２０ｃｍ走行させる（走行張カニ５００ＣＩ、
走行速度：６．７ｃｍ／秒）。この時片刃の先に付着し
たフィルム表面の削れ物の高さを顕微鏡で読みとり、削
れ量とした（単位はμｍ）。

少なくとも片面について、この削れ量が１５μｍ以下の
場合は表面強度：良好、両面とも１５μｍを越える場合
は表面強度：不良と判定した。この削れ量：１５μｍと
いう値は、印刷工程やカレンダー工程などの加工工程で
、フィルム表面か削れることによって、工程上、製品性
能上のトラブルがおこるか否かを判定するための臨界点
である。

−２２−′ （１３）清掃性 テープ走行性試験機の金属カイトをナイロンロールに代
えて、走行速度を１００ｍ／分として、延べ走行長さが
７０ｏ００ｍとなるよう走行させた。この時ナイロンロ
ールに付着した汚れ物の取りやすさを調べた。布による
からぶきで簡単に取れた場合は清掃性：良好、アセトン
などの溶媒を用いても取れにくかった場合は清掃性：不
良と判定した。

（１４）端面強度 フィルムを幅１７２インチのテープ状にスリットしたも
のをフィルムの端面が位置規制ガイドの「つば（鍔）」
に当たるようにセットし、走行速度１０００ｍ／分で延
へ長さ５０００００ｍ走行させた後、「つば（鍔）」で
発生付着した粉の量を調べ、次のランク分けを行なった
。すなわち、ランクＣ：白粉がほとんど発生しない ランクＢ：わずかに白粉が発生するが、加工工程上、製
品性能上のトラブルには至 らない ランクＣ：白粉の発生が多く、加工工程上、製品性能上
のトラブルとなり使用不可 と区分する。ランクＡ、Ｂは合格、ランクＣは不合格で
ある。

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１ 平均粒径０．３μｍのコロイダルシリカを含有するエチ
レングリコールゾル（スラリー）を調整し、ナトリウム
含有量を粒子に対し０．５重量％とした。このエチレン
グリコールスラリーをテレフタル酸ジメチルとエステル
交換反応後、重縮合し、コロイダルシリカに起因するシ
リカ粒子を１重量％含有するポリエチレンテレフタレー
トの粒子マスターペレットを作った。この時、重縮合時
間を調節し固有粘度を０．７５とした。この粒子マスタ
ーペレットの結晶化パラメータΔＴｃΩは８３°Ｃであ
った。また、常法によって、固有粘度０．６６の実質的
に無機粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート（
結晶化パラメータ△丁ＣＱは８０℃）を製造し、上記の
コロイダルシリカに起因するシリカ粒子を１重量％含有
するポリエチレンテレフタレートの粒子マスターペレッ
トと混合しシリカ粒子の含有量が０．５重量％となるよ
うにしたく組成物Ｂ）。次に常法によって、固有粘度０
．６１の実質的に無機粒子を含有しないＰＥＴを製造し
く結晶化パラメータへ丁ＣΩは７２℃、組成物Ａ〉、こ
れらの組成物ＡおよびＢのペレット（第１表）をそれぞ
れ１８０’Ｃで３時間減圧乾燥（３ＴＯｒｒ）　した。

組成物Ａを押出機１に供給し、さらに、組成物Ｂを押出
機２に供給し、３００’Ｃで溶融しマニホールド内で合
流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０’
Ｃのキャスティング・ドラムに巻きつけて冷却固化し、
２層構造の未延伸フィルムを作った。この時、押出機１
の溶融温度を３１０’Ｃ１押出機２の溶融温度を２８０
’Ｃとし、口金スリット間隙／未延伸フィルム厚さの比
を１０として未延伸フィルムを作った。また、それぞれ
の押出機の吐出量を調節し組成物ＡとＢの積層厚さを調
節した。この未延伸フィルムを温度８０℃にて、組成物
（Ｂ）面に１１０’Ｃの熱風を吹き付けながら、長手方
向に４゜５倍延伸した。この−軸延伸フィルムをステン
タを用いて延伸速度２０００％／分で１００°Ｃで幅方
向に４．０倍延伸し、定長下で、１９０’Ｃにて５秒間
熱処理し、厚さ１５μｍの二軸配向積層フィルムを得た
。これらのフィルムの本発明のパラメータは第２表に示
したとおり本発明範囲内であり、表面強度、清掃性、端
面強度は第２表に示したとおり、全て良好であった。

実施例２〜５、比較例１〜８ 平均粒径の異なるコロイダルシリカを含有するエチレン
グリコールゾル（スラリー）を調整し、ナトリウム含＊
ｆａを粒子に対し０．０２〜３．５重量％とした。この
エチレングリコールスラリーをテレフタル酸ジメチルと
エステル交換反応後、重縮合し、コロイダルシリカに起
因するシリカ粒子を１重量％含有するポリエチレンテレ
フタレートの粒子マスターペレットを作った。この時、
重縮合時間、共重合成分（１，４−シクロへキシμンジ
メタノール）の含有量を調節して結晶化パラメータΔＴ
Ｃｇが４５〜１００′Ｃの範囲のものを作った。また、
常法によって、実質的に無機粒子を含有しないポリエチ
レンテレフタレートを製造した。この時、固有粘度、共
重合成分（１，４−シクロヘキシレンジメタツール）の
含有量を調節して結晶化パラメータΔ丁ｃｇの異なるも
のを作った。これと、上記の］ロイダルシリカに起因す
るシリカ粒子を１重量％含有するポリエチレンテレフタ
レートの粒子マスターペレットと混合しシリカ粒子の含
有量が異なる組成物を作った（組成物Ｂ）、。次に常法
によって、ただし重縮合時間を調節して、結晶化パラメ
ータΔＴＣＣ＋か６２〜７８°Ｃの平均粒径の異なる無
機粒子をＯ〜０．０４重量％含有するポリエチレンテレ
フタレートを製造しく組成物Ａ）、これらの組成物Ａお
よびＢのペレット（第１表）をそれぞれ１８０’Ｃで３
時間減圧乾、燥（３Ｔｏｒｒ＞　シた。組成物Ａを押出
機１に供給し、さらに、組成物Ｂを押出機２に供給しマ
ニホールド内で合流積層し、静電印加キャスト法を用い
て表面温度３０°Ｃのキャスティング・ドラムに巻ぎっ
しりで冷却固化し、３層構造の未延伸フィルムを作った
。この時、押出は１の溶融温度を２８０〜３１０℃、押
出機２の溶融温度を２７０〜３２０°Ｃの範囲で変更し
、また、口金スリット間隙／未延伸フィルム厚さの１ヒ
も種々変更して未延伸フィルムを作った。また、それぞ
れの押出機の吐出量を調節し、組成物ＡとＢの厚さ比率
の異なるものを作った。この未延伸フィルムを温度８０
′Ｃにて長手方向に４．５倍延伸した。この延伸は２組
ずつのロールの周速差で、組成物（Ｂ）面に吹き付【プ
る風の温度を種々変更して行なった。

この−軸延伸フィルムをステンタを用いて延伸速度２０
００％／分で１００’Ｃで幅方向に４．０倍延伸し、定
長下で、１９０’Ｃにて５秒間熱処理し、急冷または徐
冷して、厚さ１５μｍの二軸配向積層フィルムを得た。

これらのフィルムの本発明のパラメータおよび表面強度
、清掃性、端面強度は第２表に示したとありており、本
発明のパラメータが本発明範囲内である場合は表面強度
、清掃性、端面強度ともに良好であるが、パラメータが
本発明範囲外である場合には表面強度、清掃性と端面強
度が全て良好であるフィルムは得られないことがわかる
。

＝　２９　＝ ［発明の効果］ 本発明は］ロイダルシリカを含有するポリエステル組成
物と実質的に無機粒子を含有しないポリエステルを特定
範囲の厚さ比率、結晶化特性にして積層し、かつ、コロ
イダルシリカを含有するポリエステル組成物の表面の突
起の高さと削れ物中のシリカ重量比率を特定範囲とした
ので、表面強度、清掃性、端面強度がともに良好である
フィルムが得られたものであり、各用途でのフィルム加
工速度の増大に対応できるものである。本発明フィルム
の用途は特に限定されないが、加工工程でのフィルム表
面や端面からの粉が加工工程上、製品性能上特に問題と
なり、また、最近その工程の生産性を高めることによる
コストダウンが求められている磁気記録媒体用ベースフ
ィルムとして特に有用である。また、本発明フィルムの
うち２層構造のものは組成物Ｂの面が走行面（磁気記録
媒体用では磁性層を塗布しない面、その他の用途では印
刷やラミネートなどの塗布などの処理がほどこされない
面）として用いることが必要である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 実質的に無機粒子を含有しないポリエステル（Ａ）から
   なる層（Ａ層）の少なくとも片面に、ポリエステルにコ
   ロイダルシリカに起因する球形シリカを含有せしめた組
   成物（Ｂ）からなる層（Ｂ層）を積層してなるフィルム
   であつて、該Ａ層とＢ層との厚さ比率（Ｂ／Ａ）が０．
   ０４〜１．４、ポリエステル（Ａ）と組成物（Ｂ）の結
   晶化パラメータΔＴｃｇの差（Ｂ−Ａ）が１〜４５℃、
   組成物（Ｂ）の表面の平均突起高さが２０〜１５０ｎｍ
   、かつ、該表面の削れ物中のシリカ重量比率が０．１１
   以上であることを特徴とする二軸配向ポリエステルフィ
   ルム。