JPH07290664A - ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ポリエステル組成物の少なくとも片面に、粒
子を含有するポリエステル組成物を、厚さ０．０１〜３
μｍで積層してなるフィルムであって、高さ０．１μｍ
以上の突起の９０％以上が粒子以外に起因する突起であ
ることを特徴とするポリエステルフィルムとしたもので
ある。 【効果】 高速で接触走行しても、表面が削れて粉が発
生したり、表面が傷ついたりすることがきわめて起こり
にくいポリエステルフィルムが完成したものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はポリエステルフィルムに
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ポリエステルフィルムとしては、結晶化
によって表面突起を形成したフィルムが知られている
（たとえば特開平５−１３１６００号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、フィルムの各用
途、例えば、磁気媒体用途での磁性層塗布、包装用途で
の印刷工程などで、フィルムの加工速度がますます速く
なり、その加工ロールでフィルムの表面が削られて、粉
が発生し加工ロールを汚染されるという問題、および、
接触したフィルム面に傷がつくという問題が顕在化して
きている。

【０００４】本発明はかかる問題点を改善し、高速で加
工ロールと接触走行しても粉が発生せず（以下粉発生良
好という）、かつ、傷もつきにくい（以下傷良好とい
う）フィルムを提供することを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】ポリエステルからなる基
層部の少なくとも片面に、粒子を含有するポリエステル
組成物を、厚さ０．０１〜３μｍで積層してなるフィル
ムであって、高さ０．１μｍ以上の突起の９０％以上が
粒子以外に起因する突起であることを特徴とするポリエ
ステルフィルムとしたものである。

【０００６】本発明の基層部を構成するポリエステルは
特に限定されないが、エチレンテレフタレ−ト、エチレ
ン2,6-ナフタレ−ト単位から選ばれた少なくとも一種の
構造単位を主要構成成分とする場合に粉発生、傷がより
一層良好となるので望ましい。基層部には、必ずしも粒
子が含有されている必要はないが、基層部全体に対し
０．０１〜１重量％含有されている場合に、粉発生、傷
が一層良好となるので特に望ましい。

【０００７】本発明は上記ポリエステルからなる基層部
の少なくとも片面に、結晶化速度の速い高速結晶化ポリ
エステルに粒子を含有せしめた層を積層してなるフィル
ムの場合に、特に、その積層部のポリエステル組成物の
結晶化指数が１０〜６０℃、好ましくは１５〜５５℃、
さらに好ましくは２０〜５０℃の範囲である場合に、粉
発生、傷が一層良好となるので特に望ましい。

【０００８】粒子が含有されていない場合は粉、傷とも
に不良となるので好ましくない。積層部の粒子の含有量
は０．０５〜１重量％，特に、０．１〜０．８重量％の
場合に傷、粉発生ともに一層良好となるので望ましい。

【０００９】また、積層部のポリエステル組成物の結晶
化温度Ｔｃｃが９０〜１５０℃である場合に、粉発生、
傷が一層良好となるので望ましい。積層部のポリエステ
ルの種類も、特に限定されることはなく、上記基層部の
ポリエステルと同種または異種であってもかまわない。
ただし、エチレンテレフタレ−ト、エチレンα，β−ビ
ス（2-クロルフェノキシ）エタン-4,4'-ジカルボキシレ
−ト、エチレン2,6-ナフタレ−ト単位から選ばれた少な
くとも一種の構造単位を主要構成成分とする場合に、特
に、エチレンテレフタレ−トを繰り返し単位として８５
モル％以上含有するポリエステルの場合に粉発生、傷が
より一層良好となるので望ましい。

【００１０】なお、積層部のポリエステルの結晶化速度
を高める核として、少なくともマグネシウムとリンを構
成元素成分とする微細な核を含有する高速結晶化ポリエ
ステルである場合に、粉発生、傷が一層良好となるので
望ましい。また、上記核と１５モル％未満の共重合成
分、たとえば、ポリエチレングリコール、ジエチレング
リコール、シクロヘキサンジメタノール、イソフタル
酸、ダイマー酸など、特に０．００１モル％以上のポリ
エチレングリコールを共存させることは、粉発生、傷に
一層の効果があるので望ましい。

【００１１】本発明は上記組成物からなる積層フィルム
を二軸配向せしめたフィルムであるが、その積層部の厚
さｔは０．０１〜３μｍ、好ましくは０．０５〜２．５
μｍ、さらに好ましくは０．０５〜２μｍの範囲である
ことが必要である。ｔが上記の範囲より大きいと傷が不
良となり、小さいと粉発生が不良となるので好ましくな
い。

【００１２】本発明フィルムは、その積層部の表面突起
について、高さ０．１μｍ以上の突起のうち、９０％以
上、好ましくは、９２％以上、さらに好ましくは９５％
以上の突起が粒子ではなく、それ以外の、好ましくは、
ポリエステル自体の突起であることが必要である。この
比率が上記の範囲より小さいと、粉発生、傷ともに不良
となるので好ましくない。

【００１３】また、突起間隔が３０μｍ以下、特に２０
μｍ以下、さらに１０μｍ以下の場合に傷がより一層良
好となるので望ましい。

【００１４】本発明フィルムは、粒子で形成された表面
突起の平均高さが、それ以外の突起の平均高さより低い
場合、特に、１０〜１０００ｎｍ、さらに、２０〜５０
０ｎｍ低い場合に傷が一層良好となるので望ましい。

【００１５】本発明の積層部に含有する粒子は特に限定
されず、無機、有機いずれの粒子でも良いが、特に無機
粒子である場合に、傷、粉発生が良好となるので望まし
い。また、その粒子が１次粒子の集合体からなる凝集粒
子である場合に、傷、粉発生が一層良好となるので望ま
しい。また、その平均粒径ｄ２（２次粒子径）が０．０
１〜１μｍの範囲である場合に、傷が一層良好となるの
で望ましい。また、粒子の２次粒子径ｄ２と１次粒子径
ｄ１の比、ｄ２／ｄ１が２〜６０、特に３〜５０、さら
に４〜４０の範囲である場合に、傷、粉発生が一層良好
となるので望ましい。

【００１６】本発明フイルムの積層部は、上記組成物を
主要成分とするが、本発明の目的を阻害しない範囲内
で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また酸化防止
剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤などの
有機添加剤が通常添加される程度添加されていてもよ
い。

【００１７】本発明フィルムは、上述のとおり、二軸配
向フイルムであるが、一軸あるいは無配向フイルムでは
粉発生、傷が不良となるので好ましくない。この配向の
程度は特に限定されないが、高分子の分子配向の程度の
目安であるヤング率が長手方向、幅方向ともに４００ｋ
ｇ／ｍｍ² 以上である場合に粉発生、傷がより一層良好
となるのできわめて望ましい。分子配向の程度の目安で
あるヤング率の上限は特に限定されないが、通常、１５
００ｋｇ／ｍｍ² 程度が製造上の限界である。さらに本
発明フィルムは、フィルム横方向のヤング率を縦方向よ
り大きく、望ましくは５０ｋｇ／ｍｍ² 以上大きくする
ことによって、粉発生、傷をより一層良好とすることが
できるので望ましい。また、横方向ヤング率と縦方向の
ヤング率の差は１０００ｋｇ／ｍｍ² 以下の場合に粉発
生がより一層良好となるので望ましい。

【００１８】次に、本発明フィルムの製造方法について
説明する。まず、ポリエステルに粒子を含有せしめる方
法としては、上記高速結晶化ポリエステルの重合工程で
粒子を含有せしめる方法、粒子を実質的に含有しない高
速結晶化ポリエステルをあらかじめ重合しておきそこに
粒子をベント式二軸混練機等を用いて練り込む方法等特
に限定されないが、粒子を重合前にジオール成分にスラ
リーの状態で分散せしめてポリマとし、このポリエステ
ルと実質的に粒子を含有しないポリエステルを適宜混合
して、濃度、結晶化速度の調整をするのが有効である。
ここで本発明に望ましい高速結晶化ポリエステルを得る
方法は、特に限定されるものではなく、無機、または、
有機の結晶核剤による方法、あるいは、ポリエステルポ
リマ製造時のエステル交換触媒、重合触媒の種類、量を
工夫して結晶化速度を高める方法が、表面が均一なり、
本発明の目的のために望ましい。特にエステル交換触媒
として、酢酸マグネシウムなどのマグネシウム塩、ジメ
チルフェニルホスフォネートなどのリン化合物を用い、
それらを主体とする結晶核によって、結晶化速度を高め
る方法が、表面が均一なり、本発明の目的のために望ま
しい。

【００１９】次に、粒子を含有するポリエステルＡのペ
レットを、乾燥したのち、公知の溶融押出機１に供給
し、ポリエステルＢ（Ｂには粒子を含有されていなくて
も良いが、基層部に対し０．０１〜１重量％含有されて
いる場合が望ましい）を押出機２に供給し、２または３
層以上のマニホ−ルドまたは合流ブロックを用いて、ポ
リエステルＡをポリエステルＢの少なくとも片面に積層
し、スリット状の口金から２または３層以上のシートを
押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フイ
ルムを作る。この場合、合流断面が矩形の合流ブロック
を用いて積層する方法が、本発明の高速結晶化ポリエス
テルをむらなく積層し、平均粒径と厚さの関係を安定し
て得るのに有効である。

【００２０】本発明においては、ポリエステルを主成分
とする溶融押出フイルムを、冷却ロール表面で冷却する
過程において、ポリエステルＡのガラス転移温度Ｔｇ以
上、かつ融解温度Ｔｍより１００℃高い温度（Ｔｍ＋１
００℃）以下で、未延伸フイルムを該冷却ロールと接触
する反対の面から熱処理し、その後に該未延伸フイルム
を二軸延伸することによって、所望の表面突起が形成さ
れるので好ましい。より好ましくはＴｇより２０℃高い
温度（Ｔｇ＋２０℃）以上、かつＴｍより８０℃高い温
度（Ｔｍ＋８０℃）以下、さらに好ましくは、Ｔｇより
４０℃高い温度（Ｔｇ＋４０℃）以上、かつＴｍ以下で
ある。未延伸フイルムを該冷却ロールと接触する反対の
面から熱処理する方法としては、熱風又は、赤外線ヒー
タによる輻射熱を用いることができるが、この方法に限
定されるものではない。

【００２１】前記、冷却ロール表面の表面粗さが０．２
Ｓ以上で、かつ、１０Ｓ以下であると、延伸前のフイル
ム表面を所望の結晶化度にまで結晶性を高めることがで
き好ましい。より好ましくは、該冷却ロール表面の表面
粗さが０．３Ｓ以上で、かつ、８Ｓ以下である。ロール
表面の表面粗さが０．２Ｓ未満であると、冷却ロールに
未延伸フイルムが粘着して好ましくない。また１０Ｓを
超える表面粗さでは所望の表面突起が形成されなくなっ
たり、冷却ロール上でフイルムが滑り好ましくない。

【００２２】本発明においては、冷却固化した未延伸フ
イルムを熱処理する場合、その少なくとも片面の表面
（または表層）温度が、ポリエステルＡの冷結晶化温度
Ｔｃｃより２０℃低い温度（Ｔｃｃ−２０℃）以上、か
つ降温結晶化温度Ｔｍｃより４０℃高い温度（Ｔｍｃ＋
４０℃）以下で、０．５〜１００秒保たれるように熱処
理し、その後にＴｇ以上、かつＴｃｃより２０℃高い温
度（Ｔｃｃ＋２０℃）以下で二軸延伸することによっ
て、所望の表面突起が形成されるので好ましい。より好
ましくは、Ｔｃｃ以上、かつＴｍｃ以下で０．５〜５０
秒、さらに好ましくは、Ｔｃｃ以上、かつＴｍｃ以下で
０．５〜２０秒保たれるような熱処理である。

【００２３】本発明においては、未延伸フイルムを一軸
方向に微延伸し、複屈折０．５×１０^-3〜５０×１０^-3
とし、次に該微延伸フイルムの少なくとも片面の表面
（または表層）温度が、ポリエステルＡの冷結晶化温度
Ｔｃｃより２０℃低い温度（Ｔｃｃ−２０℃）以上、か
つ降温結晶化温度Ｔｍｃより４０℃高い温度（Ｔｍｃ＋
４０℃）以下で０．３〜５０秒保たれるように熱処理
し、その後にＴｇ以上、かつＴｃｃより２０℃高い温度
（Ｔｃｃ＋２０℃）以下で二軸延伸することによって、
所望の表面突起が形成されるので好ましい。より好まし
くは、Ｔｃｃ以上、かつＴｍｃ以下で、０．５〜２０
秒、さらに好ましくは、Ｔｃｃより１０℃高い温度（Ｔ
ｃｃ＋１０℃）以上、かつＴｍｃより２０℃低い温度
（Ｔｍｃ−２０℃）以下で、０．５〜１５秒保たれるよ
うな熱処理である。

【００２４】熱処理方法については、加熱ロールに巻き
付けて熱処理する方法、ロールに巻き付けた状態でロー
ルと接触する反対の面から熱風処理する方法、あるいは
ロールに巻き付けた状態でロールと接触する反対の面か
ら赤外線ヒータで熱処理する方法、ロール／ロール間で
赤外線ヒータで熱処理する方法、ステンタを用いて加熱
する方法等があるが、特にこれらの方法に限定されるも
のではない。

【００２５】本発明においては、ポリエステルを主成分
とする溶融押出フイルムの少なくとも片面の表面（また
は表層）温度を、ポリエステルＡの降温結晶化温度Ｔｍ
ｃより７０℃低い温度（Ｔｍｃ−７０℃）以上、かつポ
リエステルＡの降温結晶化温度Ｔｍｃ以下で、０．５〜
２０秒保ち、次いで、ガラス転移温度Ｔｇ以下に冷却
し、その後に該未延伸フイルムを二軸延伸することによ
って、所望の表面突起が形成されるので好ましい。

【００２６】処理方法は、前記したように、押出し直後
の温度の高いフイルムを徐冷することにより結晶化させ
る方法、又、一旦冷却、固化したフイルムを再加熱して
結晶化させる方法、又、一軸方向に微延伸させた状態で
加熱処理する方法などあるが、これらの方法の一つをフ
イルムの製膜プロセスのなかで実施し、目標とする表面
形態を得ることができるが、これらの方法を二つ以上併
用して、フイルムの製膜プロセスのなかで実施してもよ
い。

【００２７】本発明フィルムの用途は特に限定されない
が、粉発生や傷が製品性能に大きく影響する磁気材料
用、グラフィック用、ラベル用、感熱転写材用等に特に
有用である。

【００２８】

【物性の測定方法ならびに効果の評価方法】本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りであ
る。

【００２９】（１）平均粒子径ｄ１（１次径）、ｄ２
（２次径） フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１
０万倍以上の倍率で観察する。ＴＥＭの切片厚さは約１
００ｎｍとし、場所を変えて１００視野以上測定する。
凝集粒子の一次径は、凝集粒子の分割できない粒子最小
単位についての数平均径、二次径は凝集体についての数
平均径である（それぞれ等価円相当径）。なお、断面観
察ではなく、表面からポリエステルをプラズマエッチン
グで除去し、粒子を露出させたものを観察して求めるの
方法でも良い。

【００３０】（２）積層部の厚さｔ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内もっ
とも高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素
元素の濃度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から
深さ３０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行なう。表層で
は表面という界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざ
かるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの場
合はいったん極大値となった粒子濃度がまた減少し始め
る。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度がの極大値
の１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さより
も深い）を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通
り。

【００３１】(1) 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ATOMIKA 社製 A-DIDA3000 (2) 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ₂ ⁺ １次イオン加速電圧：１２KV １次イオン電流：２００nA ラスター領域：４００μｍ□ 分析領域：ゲ−ト３０％ 測定真空度：５．０×１０^-9Torr Ｅ−ＧＵＮ：０．５KV−３．０Ａ なお、架橋高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難し
いので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電
子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様のデプ
スプロファイルを測定し積層厚さを求めても良い。

【００３２】また、この積層厚さを求めるもっとも一般
的な方法は、透過型電子顕微鏡等の電子顕微鏡観察で、
フィルムの（透過）による断面観察で粒子濃度の変化状
態やコントラストの差から界面を認識し積層厚さを求め
る方法である。あるいは表面からエッチングしながらの
ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）、赤外分光法などで界面を
認識し積層厚さを求めても良いし、積層部分を剥離後、
薄膜段差測定機を用いて積層厚さを求めることもでき
る。

【００３３】（３）表面突起の高さ ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、
エリオニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、
エリオニクス（株）製］においてフィルム表面の平坦面
の高さを０として走査した時の突起の高さ測定値を画像
処理装置［ＩＢＡＳ２０００、カ―ルツァイス（株）
製］に送り、画像処理装置上にフイルム表面突起画像を
再構築する。次に、この表面突起画像で突起部分を２値
化して得られた個々の突起の面積から円相当径を求めこ
れをその突起の平均径とする。また、この２値化された
個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さと
し、これを個々の突起について求める。この測定を場所
をかえて５００回繰返し、突起個数を求め、測定された
全突起についてその高さの平均値を平均高さとした。ま
た個々の突起の高さデータをもとに、高さ分布の標準偏
差を求めた。また走査型電子顕微鏡の倍率は、突起高さ
のレベル１０００〜５００００倍の間の値を選択する。
なお、場合によっては、高精度光干渉式３次元表面解析
装置（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：４０
〜２００倍、高解像度カメラ使用が有効）を用いて得ら
れる高さ情報を上記ＳＥＭの値に読み替えて用いてもよ
い。

【００３４】また、倍率１〜５０万倍の走査電子顕微鏡
を用いて、突起を立体的に捉えるため、フィルムを８
２．５度傾けて写真撮影し、倍率に応じて適宜視野数を
増減し、突起１０００個についてその高さを平均して、
突起の平均高さを求めることも有効である。また、以上
の測定において、高さを測定した突起の起因物が無機粒
子か、あるいは、それ以外かの判定は、突起の下に、無
機粒子が存在するか否かで判定できる。

【００３５】（４）突起間隔 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定
の平均値をもって値とした。

【００３６】・触針先端半径：０．５μｍ ・触針荷重 ：５ｍｇ ・測定長 ：１ｍｍ ・カットオフ値：０．０８ｍｍ なお、突起間隔の定義は、たとえば、奈良治郎著「表面
粗さの測定・評価法」（総合技術センター、１９８３）
に示されているものである。

【００３７】（５）ヤング率 ＪＩＳ−Ｚ−１７０２に規定された方法にしたがって、
インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、２５
℃、６５％ＲＨにて測定した。

【００３８】（６）結晶化温度、融解温度、降温結晶化
温度、結晶化指数、 パ−キンエルマ−社製のＤＳＣ（示差走査熱量計）II型
を用いて測定した。ＤＳＣの測定条件は次の通りであ
る。すなわち、試料１０mgをＤＳＣ装置にセットし、３
００℃の温度で５分間溶融した後、液体窒素中に急冷す
る。この急冷試料を１０℃／分で昇温し、ガラス転移点
Ｔｇを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態からの
結晶化発熱ピ−ク温度をもって結晶化温度Ｔｃｃ、結晶
融解に基づく吸熱ピーク温度を融解温度Ｔｍ、同じよう
に降温時の結晶化発熱ピーク温度を降温結晶化温度Ｔｍ
ｃとした。ＴｃｃとＴｇの差（Ｔｃｃ−Ｔｇ）を結晶化
指数と定義する。

【００３９】（７）粉発生 フィルムを１０ｍｍにスリットし、金属製のガイドポス
ト（ＳＵＳ３０４、表面仕上げ２Ｓ、直径６ｍｍ）上
を、巻き付け角１８０度、速度１０００ｍ／分で、延べ
長さ１００００ｍ接触走行させた後、ガイドポスト上に
付着した粉を観察する。なお、ガイドポストへ入る走行
張力を９０グラム、雰囲気は２５℃、６０％ＲＨとし
た。付着した粉の状態を下記のように５段階にランクづ
けし、４〜５点を良好、３点を不満足、１〜２点を不良
とした。これは、実際のフィルム加工工程での粉発生、
傷状況の良否と対応するものである。

【００４０】５：粉が全く付着していない ４：粉がわずかに付着（テープ接触部の面積の１／１０
未満） ３：粉が付着（同１／４〜１／１０） ２：粉がかなり付着（同１／２〜１／４） １：粉が大量に付着（同１／２以上） （８）傷 上記の評価を行なったあとのフィルム表面に、厚さ約３
００オングストロームでアルミを蒸着し肉眼で見える傷
を観察し、下記のように４段階にランクづけし、３〜４
点を良好、２点を不満足、１点を不良と判定した。

【００４１】４：１０ｍｍ幅あたり傷が０〜１本 ３：同２〜４本 ２：同５〜１０本 １：同１１本以上 （９）高速走行時の摩擦係数 上記（７）の評価で走行時のガイドポスト出の張力を測
定し摩擦係数をオイラーの式によって求めた。

【００４２】（10）複屈折 アッベ屈折計を用いて、一軸配向フイルムの長手方向屈
折率ｎMD、幅方向屈折率ｎTDを測定し、この両方の値の
差、つまり｜ｎMD−ｎTD｜で定義した。なお、光源はナ
トリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）で、マウント液は、ヨ
ウ化メチレンを用い、２５℃６５％ＲＨにて測定した。

【００４３】（11）フイルム温度 放射温度計、接触式表面温度計、またはサーモラベルを
フイルムに貼付けて測定した。なお溶融状態のフイルム
温度は、放射温度計、または溶融状態のフイルムに熱電
対を差し込んで測定した。

【００４４】

【実施例】本発明を実施例に基づいて説明する。

【００４５】実施例１〜５、比較例１〜４ 公知の方法で、エチレングリコールにδ型アルミナ、θ
型アルミナ、ジルコニア、連鎖状シリカなどの無機粒子
をスラリーの状態で分散させ、これと、テレフタル酸ジ
メチル、２，６ージカルボン酸ジメチルとをエステル交
換、重合して無機粒子をポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリエチレンー２，６ーナフタレート（Ｐ
ＥＮ）に２重量％添加したポリマを製造した。また、エ
ステル交換触媒を酢酸マグネシウム０．１重量％、ジメ
チルフェニルホスホネート０．３５重量％、重合触媒を
三酸化アンチモン０．０３重量％として実質的に粒子を
含有しないＰＥＴ、ＰＥＮを製造した。これらのチップ
を適宜混合し、粒子量、結晶化速度を調整し、積層部用
のポリマ（ポリエステルＡ）を準備した。また上記の粒
子含有ポリエステルと実質的に粒子を含有しないポリエ
ステルとを適宜混合し、基層部（ポリエステルＢ）を準
備した。これらのポリマをそれぞれ１８０℃で３時間減
圧乾燥（３Torr）し、それぞれを２台の押出機に供給し
２９０℃で溶融し、これらのポリマを、２または３層用
の矩形の合流ブロック（フィードブロック）で合流積層
し、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャ
スティング・ドラムに巻きつけて冷却固化し、２〜３層
構造の未延伸フィルムを作った。この時、それぞれの押
出機の吐出量を調節し総厚さ、ポリエステルＡ層の厚さ
を調節した。この未延伸フイルムを、１００〜１８０℃
の温度で２秒間熱処理した。このフィルムを、温度８０
℃にて長手方向に３．５〜５倍延伸した。この延伸は２
組のロ−ルの周速差で行なった。この一軸延伸フイルム
をステンタを用いて延伸速度５０００％／分で１００℃
で幅方向に３〜６倍延伸し、定長下で、２００℃にて５
秒間熱処理し、ポリエステルフィルムを得た。

【００４６】これらのフィルムの本発明のパラメ−タ、
性能は第１〜第２表に示したとおりであり、本発明のパ
ラメータが範囲内の場合は、粉発生、傷に優れたフイル
ムであるが、そうでない場合は目的を達し得ないことが
わかる。

【００４７】

【表１】

【表２】

【００４８】

【発明の効果】本発明は、ポリエステル基層部の少なく
とも片面に、粒子を含有するポリエステル組成物を特定
の厚さだけ積層し、その表面突起のほとんどを粒子以外
で形成するという特殊な方法を採ったので、粉発生、傷
がきわめて良好なポリエステルフィルムが完成したもの
である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/704 // Ｂ２９Ｋ 67:00 105:16 Ｂ２９Ｌ 9:00

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリエステルからなる基層部の少なくと
   も片面に、粒子を含有するポリエステル組成物を、厚さ
   ０．０１〜３μｍで積層してなるフィルムであって、該
   積層部表面の高さ０．１μｍ以上の突起の９０％以上が
   粒子以外に起因する突起であることを特徴とするポリエ
   ステルフィルム。
2. 【請求項２】 粒子が無機粒子であることを特徴とする
   請求項１記載のポリエステルフィルム。
3. 【請求項３】 積層された表面の突起間隔が３０μｍ以
   下の範囲であることを特徴とする請求項１又は２記載の
   ポリエステルフィルム。
4. 【請求項４】 粒子で形成された表面突起の平均高さが
   それ以外の突起の平均高さより低いことを特徴とする請
   求項１〜３記載のポリエステルフィルム。
5. 【請求項５】 粒子で形成された表面突起の平均高さが
   それ以外の突起の平均高さより１０〜１０００ｎｍ低い
   ことを特徴とする請求項１〜４記載のポリエステルフィ
   ルム。
6. 【請求項６】 粒子が１次粒子の集合体からなる凝集粒
   子である請求項１〜５記載のポリエステルフィルム。
7. 【請求項７】 粒子の平均粒径ｄ２（２次粒子径）が
   ０．０１〜１μｍの範囲である請求項１〜６記載のポリ
   エステルフィルム。
8. 【請求項８】 粒子の２次粒子径ｄ２と１次粒子径ｄ１
   の比、ｄ２／ｄ１が２〜６０の範囲である請求項１〜７
   記載のポリエステルフィルム。
9. 【請求項９】 積層部のポリエステルが、エチレンテレ
   フタレートを繰り返し単位に８５モル％以上含有する請
   求項１〜８記載のポリエステルフィルム。
10. 【請求項１０】 基層部のポリエステルが、エチレンテ
    レフタレートを繰り返し単位に８５モル％以上含有する
    請求項１〜９記載のポリエステルフイルム。
11. 【請求項１１】 積層部のポリエステルの結晶化指数が
    １０〜６０℃の範囲である請求項１〜１０記載のポリエ
    ステルフイルム。
12. 【請求項１２】 積層部のポリエステルの結晶化温度Ｔ
    ｃｃが９０〜１５０℃である請求項１〜１１記載のポリ
    エステルフイルム。
13. 【請求項１３】 積層部のポリエステル中に微細な凝集
    核が存在し、該部分から、マグネシウム、リンが検出さ
    れることを特徴とする請求項１〜１２記載のポリエステ
    ルフイルム。
14. 【請求項１４】 積層部のポリエステルが、エチレンテ
    レフタレートを繰り返し単位に８５モル％以上含有し、
    かつ、０．００１〜１５モル％未満のポリアルキレング
    リコール成分を含有する請求項１〜１３記載のポリエス
    テルフイルム。
15. 【請求項１５】 フィルム横方向のヤング率が、縦方向
    ヤング率より５０〜１０００ｋｇ／ｍｍ² 大きいことを
    特徴とする請求項１〜１４記載のポリエステルフイル
    ム。