JPH071576A

JPH071576A - ポリエステルフイルムおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH071576A
Application number: JP10326594A
Authority: JP
Inventors: Koichi Abe; 晃一阿部; Katsuya Okamoto; 克哉岡本; Shoji Nakajima; 彰二中島
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1993-04-20
Filing date: 1994-04-19
Publication date: 1995-01-06

Abstract

(57)【要約】【構成】ポリエステルＡを主成分とする二軸配向フイ
ルムであって、少なくとも一方の表面における突起の個
数が５×１０³個／ｍｍ²以上であり、該突起個数と該
表面を形成する表層に含有される粒子の個数との比であ
る突起個数／粒子個数（Ｎ_R）が５以上であり、かつ、
該表面における突起部分の面積比率が５％以上であるポ
リエステルフイルムおよびその製造方法。【効果】ボイド生成を抑制し、削られにくい表面突起
を密に形成することができ、耐削れ性の高い望ましい表
面形態を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ポリエステルフイルム
およびその製造方法に関し、とくに、表面に微細な突起
を形成したポリエステルフイルムおよびその製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリエステルフイルムは、種々の用途に
幅広く用いられている。ポリエステルフイルムの加工工
程、たとえば包装用途における印刷工程、磁気記録媒体
用途における磁性層塗布工程、あるいは感熱転写用途に
おける感熱転写層塗布などの工程における加工速度の増
大に伴い、あるいは、最終製品の要求品質の高度化に伴
い、ポリエステルフイルムには、一層良好な走行性、耐
摩耗性等の表面特性が要求されつつある。良好な走行性
を得るためには、フイルム表面に微細な突起を均一に形
成することが有効であることが知られている。

【０００３】フイルム表面に微細な突起を形成するため
に、コロイド状シリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子を含有せしめたポリエステルフイルムが知られてい
る（たとえば特開昭５９−１７１６２３号公報）。ま
た、表面突起形成のための粒子を含有する薄層を基層に
積層したポリエステルフイルムも知られている（たとえ
ば特開平２−７７４３１号公報）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の、粒子（たとえば不活性粒子）含有により
表面に突起を形成したポリエステルフイルムには、以下
のような問題がある。

【０００５】まず、ポリエステルにポリエステルとは異
質の不活性粒子等の粒子を添加して表面突起を形成する
ので、粒子周りにボイドが生じ易い。ボイドが生じる
と、形成された突起が破壊され易くなり、フイルム表面
が削り取られ易くなってフイルム表面の耐削れ性が低下
するという問題を生じる。

【０００６】また、突起形成のために含有される粒子
は、多かれ少なかれ粒度分布をもっているので、形成さ
れる突起、とくにその高さにも多かれ少なかれ分布が生
じ、ある程度の突起高さの不均一性は避けられない。上
述のようなボイドが生じると、この不均一性を助長する
傾向にある。突起高さが不均一であると、高い突起が破
壊されやすくなり、やはりフイルム表面の耐削れ性が低
下する。

【０００７】本発明の目的は、本質的に含有粒子に頼る
ことなくポリエステルの結晶化を利用して表面に所望の
微細突起を形成したポリエステルフイルムおよびその製
造方法を提供することにあり、削りとられにくい表面突
起が形成されたポリエステルフイルムおよびその製造方
法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
ポリエステルフイルムは、ポリエステルＡを主成分とす
る二軸配向フイルムであって、少なくとも一方の表面に
おける突起の個数が５×１０³個／ｍｍ²以上であり、
該突起個数と該表面を形成する表層に含有される粒子の
個数との比である突起個数／粒子個数（Ｎ_R）が５以上
であり、かつ、該表面における突起部分の面積比率が５
％以上であることを特徴とするものからなる。

【０００９】すなわち、本発明のポリエステルフイルム
においては、表面に形成された突起の個数とその表層の
含有粒子個数との比Ｎ_Rが５以上であり、表面突起は、
本質的に、粒子含有によって形成されるのではなく、ポ
リエステルＡ自身の結晶化を利用して形成される。した
がって、粒子を添加する場合のボイド発生の問題は実質
的に無くなり、破壊されにくい突起が形成される。Ｎ_R
が５未満であると、含有粒子によって形成される突起の
割合が多くなり、ボイド生成による削られ易い突起の割
合が増大するので、望ましい耐削れ性が得られない。

【００１０】このように大部分あるいは全部の表面突起
が、ポリエステルＡの結晶化を利用して形成され、表面
突起個数が５×１０³個／ｍｍ²以上とされることによ
り、微細な破壊されにくい突起がフイルム表面に均一に
形成される。その結果、表面の耐削れ性の高いポリエス
テルフイルムが得られる。

【００１１】そして、表面における突起部分の面積比率
を５％以上とすることにより、均一な高さを有する突起
が密に形成され、所望の表面形態が得られる。該面積比
率は、好ましくは７％以上、より好ましくは１０％以上
である。この表面形態により、耐削れ性の向上ととも
に、加工時や使用時における良好な走行性も達成でき
る。

【００１２】上記のようなポリエステルＡの結晶化を利
用した、削りとられにくい表面突起の形成は、次のよう
に行われる。ポリエステルＡを主成分とする二軸配向フ
イルムを作製するに際し、未延伸フイルムの少なくとも
片面に熱処理を施し、その後に該未延伸フイルムを二軸
延伸することによって、所望の表面突起が形成される。

【００１３】未延伸フイルムに先ず熱処理を施すことに
より、未延伸フイルムのとくに表面の結晶化が進めら
れ、多数の微細な結晶が生成する。この未延伸フイルム
が二軸に延伸され、フイルムが二軸に配向されて目標と
するフイルム自身の強度が達成されるとともに、結晶と
そうでない部分の硬さの差によって、上記微細結晶に起
因する均一な微細表面突起が形成される。ここで、表面
突起がポリエステルＡの微細結晶からなるものが否かに
ついては、対象となる突起の下を、フイルム厚さ方向に
適切な溶媒でエッチングしていき、その突起を形成する
起因物が不溶物として残存する場合は、外部から添加さ
れた粒子、あるいは、内部析出した粒子とする（Ｉ）。
不溶物として残存するものが実質的になかった場合は、
その突起を形成する起因物は微細結晶であると推定でき
る（ＩＩ）。上記の溶媒としては、例えば、フェノール
／四塩化炭素（重量比：６／４）の混合溶媒などが好ま
しく用いられる。この方法で視野を約１ｍｍ²とした時
のＩの頻度、ＩＩの頻度を求め、ＩＩ／（Ｉ＋ＩＩ）の
値が、７０％以上である場合が好ましい。ただし、表面
突起がポリエステルＡの微細結晶からなるものか否かの
判定法については、上記の方法に限定されるものではな
く、適切な方法を選択することができる。

【００１４】本発明においては、ポリエステルＡの種類
は特に限定されないが、結晶化パラメータΔＴｃｇが７
０℃以下、好ましくは６５℃以下、さらに好ましくは６
０℃以下であることが望ましい。結晶化パラメータΔＴ
ｃｇが７０℃よりも大きいと、本発明で目標としている
均一な表面突起が得られにくい。たとえ得られたとして
も、フイルム表面の耐削れ性が劣る。

【００１５】また、表面突起が形成されるフイルム表面
の表面粗さＲａ（中心線平均表面粗さ）とＲｔ（最大高
さ）との比Ｒｔ／Ｒａは、１５．０以下、より好ましく
は１０．０以下であることが望ましい。Ｒｔ／Ｒａが上
記範囲を越えると、突起高さが不均一となるため、フイ
ルム表面の耐削れ性が悪化する。

【００１６】ポリエステルＡとしては、上記のような条
件を満たす限り特に限定されないが、エチレンテレフタ
レート、エチレンα，β−ビス（２−クロルフェノキ
シ）エタン−４，４′−ジカルボキシレート、エチレン
２，６−ナフタレート単位から選ばれた少なくとも一種
の構造単位を主要構成成分とする場合に特に好ましい。
中でもエチレンテレフタレートを主要構成成分とするポ
リエステルの場合が特に好ましい。なお、本発明の目的
を阻害しない範囲内で、２種以上のポリエステルを混合
しても良いし、共重合ポリマを用いても良い。

【００１７】本発明のポリエステルフイルムは、ポリエ
ステルＡを主成分とする二軸配向フイルム単層で用いら
れてもよいし、ポリエステルＢを主成分とするフイルム
の少なくとも片面に積層された積層フイルムとして用い
られてもよい。

【００１８】ポリエステルＢの種類は特に限定されな
い。ポリエステルＢには、粒子が含有されていないこと
が好ましいが、含有されていてもよい。

【００１９】本発明のポリエステルフイルムは、単層で
ある場合においても、上記のような積層フイルムである
場合においても、フイルム全体としてのヘイズが４５％
未満であることが好ましい。ヘイズが４５％以上である
と、ヘイズを増大させている表面凹凸が大きすぎる場合
が多く、それだけ耐削れ性が悪く、磁気記録媒体用途に
あっては電磁変換特性を悪化させてしまう。好ましく
は、フイルム全体のヘイズが１０％未満である。

【００２０】次に、本発明のポリエステルフイルムの製
造方法について、より具体的に説明する。本発明におい
ては、未延伸フイルムの少なくとも片面に熱処理を施
し、その後に二軸延伸する。ここで未延伸フイルムと
は、口金から押し出された直後の冷却固化される前の状
態から、一軸方向にわずかに微延伸（２倍程度まで）さ
れたものまでを指す。この熱処理の目的は、延伸前のフ
イルム表面を好ましい結晶化度にまで結晶性を高めるこ
とである。

【００２１】本発明においては、ポリエステルを主成分
とする溶融押出フイルムを、冷却ロール表面で冷却する
過程において、ポリエステルＡのガラス転移温度Ｔｇ以
上、かつ融解温度Ｔｍより１００℃高い温度（Ｔｍ＋１
００℃）以下で、未延伸フイルムを該冷却ロールと接触
する面と反対の面から熱処理し、その後に該未延伸フイ
ルムを二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。より好ましくはＴｇより２０℃
高い温度（Ｔｇ＋２０℃）以上、かつＴｍより８０℃高
い温度（Ｔｍ＋８０℃）以下、さらに好ましくは、Ｔｇ
より４０℃高い温度（Ｔｇ＋４０℃）以上、かつＴｍ以
下である。未延伸フイルムを該冷却ロールと接触する面
と反対の面から熱処理する方法としては、熱風又は、赤
外線ヒータによる輻射熱を用いることができるが、この
方法に限定されるものではない。

【００２２】前記冷却ロール表面の表面粗さが０．２Ｓ
以上で、かつ、１０Ｓ以下であると、延伸前のフイルム
表面を所望の結晶化度にまで結晶性を高めることができ
好ましい。より好ましくは、該冷却ロール表面の表面粗
さが０．３Ｓ以上で、かつ、８Ｓ以下である。ロール表
面の表面粗さが０．２Ｓ未満であると、冷却ロールに未
延伸フイルムが粘着して好ましくない。また１０Ｓを超
える表面粗さでは所望の表面突起が形成されなくなった
り、冷却ロール上でフイルムが滑り好ましくない。

【００２３】本発明においては、冷却固化した未延伸フ
イルムを熱処理する場合、その少なくとも片面の表面
（または表層）温度が、ポリエステルＡの冷結晶化温度
Ｔｃｃより２０℃低い温度（Ｔｃｃ−２０℃）以上、か
つ降温結晶化温度Ｔｍｃより４０℃高い温度（Ｔｍｃ＋
４０℃）以下で、０．５〜１００秒保たれるように熱処
理し、その後にポリエステルＡのガラス転移温度Ｔｇ以
上、かつＴｃｃより２０℃高い温度（Ｔｃｃ＋２０℃）
以下で二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。より好ましくは、Ｔｃｃ以上、
かつＴｍｃ以下で０．５〜５０秒、さらに好ましくは、
Ｔｃｃ以上、かつＴｍｃ以下で０．５〜２０秒保たれる
ような熱処理である。

【００２４】また本発明においては、未延伸フイルムを
一軸方向に微延伸し、複屈折を０．５×１０^-3〜５０×
１０^-3とし、次に該微延伸フイルムの少なくとも片面の
表面（または表層）の温度が、ポリエステルＡの冷結晶
化温度Ｔｃｃより２０℃低い温度（Ｔｃｃ−２０℃）以
上、かつ降温結晶化温度Ｔｍｃより４０℃高い温度（Ｔ
ｍｃ＋４０℃）以下で、０．３〜５０秒保たれるように
熱処理し、その後にポリエステルＡのガラス転移温度Ｔ
ｇ以上、かつＴｃｃより２０℃高い温度（Ｔｃｃ＋２０
℃）以下で二軸延伸することによって、所望の表面突起
が形成されるので好ましい。より好ましくは、Ｔｃｃ以
上、かつＴｍｃ以下で、０．５〜２０秒、さらに好まし
くは、Ｔｃｃより１０℃高い温度（Ｔｃｃ＋１０℃）以
上、かつＴｍｃより２０℃低い温度（Ｔｍｃ−２０℃）
以下で、０．５〜１５秒保たれるような熱処理である。

【００２５】熱処理方法については、加熱ロールに巻き
付けて熱処理する方法、ロールに巻き付けた状態でロー
ルと接触する面と反対の面から熱風処理する方法、ある
いはロールに巻き付けた状態でロールと接触する面と反
対の面から赤外線ヒータで熱処理する方法、ロール／ロ
ール間で赤外線ヒータで熱処理する方法、ステンタを用
いて加熱する方法等があるが、特にこれらの方法に限定
されるものではない。

【００２６】さらに、本発明においては、ポリエステル
を主成分とする溶融押出フイルムの少なくとも片面の表
面（または表層）の温度を、ポリエステルＡの降温結晶
化温度Ｔｍｃより７０℃低い温度（Ｔｍｃ−７０℃）以
上、かつポリエステルＡの降温結晶化温度Ｔｍｃ以下
で、０．５〜２０秒保ち、次いで、ポリエステルＡのガ
ラス転移温度Ｔｇ以下に冷却し、その後に該未延伸フイ
ルムを二軸延伸することによって、所望の表面突起が形
成されるので好ましい。

【００２７】処理方法は、前記したように、押出し直後
の温度の高いフイルムを徐冷することにより結晶化させ
る方法、又、一旦冷却、固化したフイルムを再加熱して
結晶化させる方法、又、一軸方向に微延伸させた状態で
加熱処理する方法などあるが、これらの方法の一つをフ
イルムの製膜プロセスの中で実施し、目標とする表面形
態を得ることができるが、これらの方法を二つ以上併用
して、フイルムの製膜プロセスの中で実施してもよい。

【００２８】本発明に係るポリエステルＡとしては、好
ましくはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が用い
られる。このポリエステルＡには、実質的に粒子が含有
されないことが望ましい。ポリエステルＡの重合は、重
合触媒として三酸化アンチモン、また、ΔＴｃｇを低下
させ、結晶核剤効果を高めるために、エステル交換触媒
としての金属化合物は酢酸塩を用いることが好ましい。
酢酸塩としては、特に限定されないが、マグネシウム化
合物を用いることが、本発明の目的を達成するためには
特に好ましい。また、ＰＥＴの重合時に添加されるリン
化合物としては、ホスホン酸塩を用いることが好まし
い。但し、ポリエステルＡの製造方法としては上記に何
等限定されるものではない。核剤効果を高めるために、
触媒添加量を増大することは、内部粒子の析出の原因と
なり、しかもヘイズが大きくなるために好ましくない。

【００２９】［物性の測定方法ならびに効果の評価方
法］本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は
次の通りである。（１）フイルム表面の突起個数２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−3200、エリ
オニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、エリ
オニクス（株）製］においてフイルム表面の平坦面の高
さを０として走査したときの突起の高さ測定値を画像処
理装置［ＩＢＡＳ2000、カールツァイス（株）製］に送
り、画像処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築す
る。次に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得
られた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高
さとし、これを個々の突起について求める。この測定を
場所をかえて５００回繰返し、２０ｎｍ以上の高さのも
のを突起とし、突起個数を求めた。また走査型電子顕微
鏡の倍率は、1000〜8000倍の間を選択する。なお、場合
によっては、高精度光干渉式３次元表面解析装置（ＷＹ
ＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：４０〜２００
倍、高解像度カメラ使用が有効）によって得られるピー
クカウントなどの個数情報を上記ＳＥＭの値に読み替え
て用いてもよい。また、突起を立体的に捉えるため、フ
イルムを８２．５°傾けて、倍率１万〜５０万倍で電子
顕微鏡（ＳＥＭ）による写真を撮影し、１００視野測定
を行なった平均値から突起数を１ｍｍ²あたりに換算し
てもよい。

【００３０】（２）表層に含有される粒子個数本発明で表層とは、フイルム表面より、深さ３Ｄまでの
部分をいう。ここで、３Ｄとは、フイルム中に含有され
る粒子の平均粒径Ｄ×３を意味する。フイルム断面を透
過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察し、表面より深さ
３Ｄまでの部分に存在する粒子個数を倍率3000〜100000
倍で５００視野について観察し、１ｍｍ²あたりに換算
した平均粒子個数を求める。

【００３１】（３）フイルム中の粒子の平均粒径フイルムからポリマをプラズマ低温灰化処理法で除去
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子画像
をイメージアナライザーで処理する。ＳＥＭの倍率はお
よそ２０００〜１００００倍、また、１回の測定での視
野は１辺がおよそ１０〜５０μｍから適宜選択する。観
察箇所をかえて粒子数５０００個以上で、粒径とその体
積分率から、次式で体積平均径ｄを得る。ｄ＝Σｄ_i・Ｎｖ_i ここでｄ_iは粒径、Ｎｖ_iはその体積分率である。粒子
が有機粒子等で、プラズマ低温灰化処理法で大幅にダメ
ージを受ける場合には、以下の方法を用いてもよい。フ
イルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、３０
００〜１０００００倍で観察する。ＴＥＭの切片厚さは
約１０００Åとし、場所を変えて５００視野以上測定
し、上記の式から体積平均径ｄを求める。

【００３２】（４）結晶化パラメータΔＴｃｇパーキンエルマー社製のＤＳＣ（示差走査熱量計）ＩＩ
型を用いて測定した。ＤＳＣの測定条件は次の通りであ
る。すなわち、試料１０ｍｇをＤＳＣ装置にセットし、
３００℃の温度で５分間溶融した後、液体窒素中に急冷
する。この急冷試料を１０℃／分で昇温し、ガラス転移
点Ｔｇを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態から
の結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃ、
結晶融解に基づく吸熱ピーク温度を融解温度Ｔｍ、同じ
ように降温時の結晶化発熱ピーク温度を降温結晶化温度
Ｔｍｃとした。ＴｃｃとＴｇの差（Ｔｃｃ−Ｔｇ）を結
晶化パラメータΔＴｃｇと定義する。

【００３３】（５）複屈折アッベ屈折計を用いて、一軸配向フイルムの長手方向屈
折率ｎ_MD、幅方向屈折率ｎ_TDを測定し、この両方の値の
差、つまり｜ｎ_MD−ｎ_TD｜で定義した。なお、光源はナ
トリウムＤ線（波長５８９ｎｍ）で、マウント液は、ヨ
ウ化メチレンを用い、２５℃６５％ＲＨにて測定した。

【００３４】（６）フイルム温度放射温度計、接触式表面温度計、またはサーモラベルを
フイルムに貼付けて測定した。なお溶融状態のフイルム
温度は、放射温度計、または溶融状態のフイルムに熱電
対を差し込んで測定した。

【００３５】（７）突起部分の面積比率測定にはハイビジョン画像解析を適用し、測定装置とし
て、ハイビジョンパーソナル画像解析システムとして
“ＰＩＡＳ−ＩＶ”（（株）ピアス製）、光学顕微鏡と
してＬｅｉｔｚ社製“Ｍｅｔａｌｏｐｌａｎ”を使用し
た。（Ａ）プレパラート作製フイルム試料をアルミニウム蒸着（膜厚５００〜８００
Å）して、スライドグラス貼付けたものをプレパラート
とする。（Ｂ）調整法および測定条件光学顕微鏡の対物レンズは８０倍に設定して、反射法で
検鏡し、画像解析装置のハイビジョンモニターにその画
像を取り込む。この時、モニター上での観察倍率は３９
００倍となる。画像を入力する場合は白黒画像で、緑色
フィルターをかけた条件で行ない、入力した画像は二値
化を行なって輝度変換する。この時の濃度レベルを表す
輝度値は１７５に設定する。設定前は、予めブランク値
として鏡面を測定した時の輝度平均値が１５４になるよ
うに光学顕微鏡の絞り等の明るさを調節する。使用した
鏡面はニコン（株）製の対物マイクロメータ（反射型）
に使われている光沢面を用いた。（Ｃ）測定突起画像を二値化して得られた個々の突起の画素数の和
を測定して、測定視野の全画素数を除して突起部分の面
積比率を次式により求める。１視野あたりの全画素数は
約２００万で、この時の測定面積は０．００６４ｍｍ²
であり、場所を変えて、これを１０回繰り返す。なお、
突起は等価円にした時の直径が０．１１μｍ以上のもの
と定義した。突起部分面積比率＝［（突起部分の画素数の総和）／
（測定視野の全画素数）］×１００（％）

【００３６】（８）中心線平均表面粗さＲａ、最大高さ
Ｒｔ（株）小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０
を用いて測定した。条件は下記のとおりであり、２０回
の測定の平均値をもって値とした。・触針先端半径：０．５μｍ・触針荷重：５ｍｇ・測定長：１ｍｍ・カットオフ値：０．０８ｍｍなお、Ｒａ、Ｒｔの定義はたとえば、奈良治郎著「表面
粗さの測定・評価法」（総合技術センター、１９８３）
に示されているものである。

【００３７】（９）フイルムヘイズヘイズメーターを用い、ＪＩＳ−Ｋ−６７１４に準じて
測定を行なった。

【００３８】（１０）耐削れ性１／２インチにサンプリングしたフイルムを準備し、該
フイルムに垂直に片刃（フェザー剃刃Ｓ）を押し当て、
フイルムに接したところから１ｍｍ押し込み、入張力：
２００ｇ、走行速度：２ｍ／分で１０ｃｍ走行させ、片
刃に付着した削れ粉を顕微鏡で観察し、その高さを読み
取る。その高さが１０μｍ以下の場合は耐削れ性良好、
１０μｍを超える場合は不良とした。

【００３９】（１１）突起高さの均一性２検出器方式の走差型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、
エリオニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、
エリオニクス（株）］を用いてフイルム表面を電子線を
走差させた時の突起の高さ測定値を画像処理装置［ＩＢ
ＡＳ２０００、カールツァイス（株）製］に送り、画像
処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を２値化し、２値化さ
れた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さ
とし、これを個々の突起について求める。この測定を場
所をかえて５００回繰り返し、突起平均高さを求めた。
また個々の突起の高さデータをもとに、高さ分布の標準
偏差を求めた。この標準偏差を平均高さで割った値を相
対標準偏差とした。走差型電子顕微鏡の倍率は、１００
０〜８０００倍の間の値を選択する。また、高さ１５ｎ
ｍ以上のものを突起と定義した。なお、場合によって
は、高精度光干渉式３次元表面解析装置（ＷＹＫＯ社製
ＴＯＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：４０〜２００倍、高解像
度カメラ使用が有効）を用いて得られる高さ情報を上記
ＳＥＭの値に読み替えて用いてもよい。上記により求め
られた相対標準偏差により、突起高さの均一性を以下の
ように判定した。相対標準偏差が０．６以下：突起（高さ）の均一性良好相対標準偏差が０．６を超えるもの：突起（高さ）の均
一性不良

【００４０】

【実施例】次に本発明を実施例に基づいて説明する。実施例ポリエステルＡとして、常法により重合したポリエチレ
ンテレフタレート（重合触媒：酢酸マグネシウム０．１
０重量％、三酸化アンチモン０．０３重量％、リン化合
物としてジメチルフェニルホスホネート０．３５重量％
を用いた）を用いた（固有粘度：０．６０、融点：２５
８℃、ΔＴｃｇ：５１℃）。

【００４１】また、ポリエステルＢとして、酢酸マグネ
シウム０．０６重量％、三酸化アンチモン０．００８重
量％、トリメチルホスフェート０．０２重量％を用い
て、常法により重合したポリエチレンテレフタレートを
用いた（固有粘度：０．６２、融点：２５９℃、ΔＴｃ
ｇ：８４℃）。

【００４２】実施例１、２ポリエステルＡのペレットと、必要に応じて、同様にし
て製造したアルミナ粒子（実施例１）、コロイダルシリ
カに起因する球形粒子（実施例２）を含有するポリエス
テルのペレットを混合して、１８０℃で３時間乾燥後、
公知の押出機を用いて、２９０℃で溶融押出しを行な
い、静電印加キャスト法を用いて、表面温度３０℃のキ
ャスティングドラム上に巻き付けて、冷却、固化し、未
延伸フイルムを作った。この未延伸フイルムの、ドラム
と接しない方の面について、公知のラジエーションヒー
タを用いて、フイルム表面が以下の温度となるような条
件で熱処理を行なった。実施例１：１７０℃、７秒間熱処理実施例２：２１０℃、３秒間熱処理熱処理後フイルムを、温度９０℃にて、長手方向に３．
４倍延伸し、さらにステンタを用いて、延伸速度２００
０％／分で、９５℃で、幅方向に３．５倍延伸し、さら
に定長下で２１０℃にて５秒間熱処理を行ない、総厚さ
１５μｍの二軸配向フイルムを得た。

【００４３】実施例３、４Ａ／Ｂ／Ａ３層構成の積層フイルムとした。ポリエステ
ルＡ、Ｂのペレットをそれぞれ２台の押出機に供給し、
２９０℃で溶融し、３層用の矩形の合流ブロック（フィ
ードブロック）で、合流積層した。ここで、実施例３
は、ポリエステルＡ層に、直径０．８μｍの架橋ジビニ
ルベンゼン粒子を０．０１％添加した。実施例４は実質
的に粒子は添加しなかった。以下実施例１、２と同様の
プロセスで総厚さ１５μｍの二軸配向積層フイルムを得
た。ただし未延伸フイルムの熱処理条件はいずれも１９
０℃で５秒間とした。また、実施例４においては、延伸
倍率を長手方向に４．０倍、幅方向に４．５倍とした。

【００４４】実施例５Ａ／Ｂ２層構成の積層フイルムとした。ポリエステルＡ
層には、実施例１と同じものを用い、それぞれのペレッ
トを、１８０℃で３時間乾燥後、２台の押出機に供給
し、２９０℃で溶融し、２層用の矩形の合流ブロック
（フィードブロック）で、合流積層した後押出を行い、
静電印加キャスト法を用いて、表面温度３０℃の冷却ロ
ールに、ポリエステルＢ層の面が接するように巻き付け
て、その上方から３００℃の熱風を吹き付けた後、冷却
固化し未延伸フイルムを作った。この未延伸フイルムを
温度９０℃にて、長手方向に３．５倍延伸し、さらにス
テンタを用いて延伸速度２０００％／分で９５℃で、幅
方向に４．０倍延伸し、さらに定長下で２１０℃にて５
秒間熱処理を行い、総厚さ１５μｍの二軸配向フイルム
を得た。

【００４５】実施例６、７Ａ／Ｂ２層構成の積層フイルムとした。ポリエステルＡ
層には、実施例１と同じペレットを用い、ポリエステル
Ｂとしては実質的に粒子を添加していないペレットを用
い、１８０℃で３時間乾燥後、それぞれ２台の押出機に
供給し、２９０℃で溶融し、２層用の矩形の合流ブロッ
ク（フィードブロック）で、合流積層した後押出を行
い、静電印加キャスト法を用いて、表面温度３０℃のキ
ャスティングドラム上に巻き付けて冷却固化し、未延伸
フイルムを作った。この未延伸フイルムを、実施例６
は、温度９０℃にて、長手方向に１．５倍延伸し、２０
０℃の赤外線ヒータを用いてロール／ロール間で、６秒
間熱処理し、さらに長手方向に、温度９５℃にて、２．
４倍延伸し、一軸延伸フイルムとした。実施例７は、未
延伸フイルムを１３０℃に加熱したロールに巻き付け１
５秒間熱処理を行い、温度９０℃にて３．８倍延伸して
一軸延伸フイルムとした。この一軸延伸フイルムを、ス
テンタを用いて、延伸速度２０００％／分、９５℃で幅
方向に４．５倍延伸し、さらに定長下で２１０℃にて５
秒間熱処理を行い、総厚さ１５μｍの二軸配向フイルム
を得た。

【００４６】比較例１上記実施例１と同様のプロセスにて、総厚さ１５μｍの
二軸配向単層フイルムを得た。ただし未延伸フイルムの
熱処理条件は、９０℃、３００秒とした。ただしＡ層に
は、直径１．２μｍの架橋ジビニルベンゼン粒子を０．
００５％添加した。

【００４７】比較例２〜５実施例１と同様のプロセスにて、前記粒子の含有量の異
なる、総厚さ１５μｍの二軸配向フイルムを得た。ただ
し未延伸フイルムの熱処理条件は、比較例２、５は１２
０℃、６０秒、比較例３〜４は１４０℃、３０秒とし
た。さらに、比較例４においては、長手方向、幅方向の
延伸倍率を、それぞれ３．５、４．０倍、比較例５はそ
れぞれ４．０、４．０倍とした。

【００４８】比較例６ポリエステルＡとして、実施例１の粒子の含有量の異な
るペレットを用い、ポリエステルＢは実施例５〜７と同
じものを用いた。吹き付ける熱風の温度を７０℃とする
以外実施例５と同様のプロセスにて、長手方向に４．０
倍、幅方向に４．０倍延伸し、総厚さ１５μｍの、Ａ／
Ｂ２層構成の、二軸配向積層フイルムを得た。

【００４９】比較例７、８ポリエステルＡとして実施例１の粒子の含有量の異なる
ペレットを用い、ポリエステルＢは、比較例６と同じ物
を用い、実施例３、４と同じ方法にて、未熱処理、未延
伸フイルムを得た。比較例７は、この未延伸フイルム
を、温度９５℃にて、長手方向に２．４倍延伸（この一
軸延伸したフイルムの複屈折を測定したら、７５×１０
^-3であった）し、２３０℃の赤外線ヒータを用いてロー
ル／ロール間で８秒間熱処理し、さらに長手方向に、温
度９０℃にて１．６倍延伸し、一軸延伸フイルムとし
た。比較例８は、実施例７と同じプロセスにて熱処理条
件を８５℃、３０秒として一軸延伸フイルムとした。こ
の一軸延伸フイルムを、ステンタを用いて、延伸速度２
０００％／分で、９５℃で幅方向に４．５倍延伸し、さ
らに定長下で２１０℃にて５秒間熱処理を行い、総厚さ
１５μｍの二軸配向フイルムを得た。

【００５０】

【表１】

【００５１】

【発明の効果】本発明のポリエステルフイルムおよびそ
の製造方法によれば、含有粒子に頼ることなくポリエス
テルＡの結晶化を利用してフイルム表面に特定個数以上
の微細突起を特定比率以上の面積比率で形成するように
したので、ボイド生成を抑制し、削られにくい表面突起
を密に形成することができ、耐削れ性の高い望ましい表
面形態を得ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリエステルＡを主成分とする二軸配向
フイルムであって、少なくとも一方の表面における突起
の個数が５×１０³個／ｍｍ²以上であり、該突起個数
と該表面を形成する表層に含有される粒子の個数との比
である突起個数／粒子個数（Ｎ_R）が５以上であり、か
つ、該表面における突起部分の面積比率が５％以上であ
ることを特徴とするポリエステルフイルム。
【請求項２】前記ポリエステルＡの結晶化パラメータ
ΔＴｃｇが７０℃以下である請求項１のポリエステルフ
イルム。
【請求項３】前記少なくとも一方の表面における表面
粗さＲａとＲｔとの比Ｒｔ／Ｒａが１５．０以下である
請求項１又は２のポリエステルフイルム。
【請求項４】ポリエステルＢを主成分とするフイルム
の少なくとも片面に、請求項１ないし３のいずれかに記
載のポリエステルフイルムが積層されてなることを特徴
とするポリエステルフイルム。
【請求項５】フイルム全体のヘイズが４５％未満であ
る請求項１ないし４のいずれかに記載のポリエステルフ
イルム。
【請求項６】フイルム全体のヘイズが１０％未満であ
る請求項１ないし５のいずれかに記載のポリエステルフ
イルム。
【請求項７】未延伸フイルムの少なくとも片面に熱処
理を施し、その後に該未延伸フイルムを二軸延伸するこ
とを特徴とする、請求項１ないし６のいずれかに記載の
ポリエステルフイルムの製造方法。
【請求項８】ポリエステルを主成分とする溶融押出フ
イルムを、冷却ロール表面で冷却する過程において、ポ
リエステルＡのガラス転移温度Ｔｇ以上、かつ融解温度
Ｔｍより１００℃高い温度（Ｔｍ＋１００℃）以下で、
未延伸フイルムを該冷却ロールと接触する面と反対の面
から熱処理し、その後に該未延伸フイルムを二軸延伸す
ることを特徴とする、請求項１ないし６のいずれかに記
載のポリエステルフイルムの製造方法。
【請求項９】冷却固化した未延伸フイルムの少なくと
も片面の表面（または表層）の温度が、ポリエステルＡ
の冷結晶化温度Ｔｃｃより２０℃低い温度（Ｔｃｃ−２
０℃）以上、かつ降温結晶化温度Ｔｍｃより４０℃高い
温度（Ｔｍｃ＋４０℃）以下で、０．５〜１００秒保た
れるように熱処理し、その後にポリエステルＡのガラス
転移温度Ｔｇ以上、かつＴｃｃより２０℃高い温度（Ｔ
ｃｃ＋２０℃）以下で二軸延伸することを特徴とする、
請求項１ないし６のいずれかに記載のポリエステルフイ
ルムの製造方法。
【請求項１０】未延伸フイルムを一軸方向に微延伸
し、複屈折を０．５×１０^-3〜５０×１０^-3とし、次に
該微延伸フイルムの少なくとも片面の表面（または表
層）の温度が、ポリエステルＡの冷結晶化温度Ｔｃｃよ
り２０℃低い温度（Ｔｃｃ−２０℃）以上、かつ降温結
晶化温度Ｔｍｃより４０℃高い温度（Ｔｍｃ＋４０℃）
以下で、０．３〜５０秒保たれるように熱処理し、その
後にポリエステルＡのガラス転移温度Ｔｇ以上、かつＴ
ｃｃより２０℃高い温度（Ｔｃｃ＋２０℃）以下で二軸
延伸することを特徴とする、請求項１ないし６のいずれ
かに記載のポリエステルフイルムの製造方法。
【請求項１１】ポリエステルを主成分とする溶融押出
フイルムの少なくとも片面の表面（または表層）の温度
を、ポリエステルＡの降温結晶化温度Ｔｍｃより７０℃
低い温度（Ｔｍｃ−７０℃）以上、かつポリエステルＡ
の降温結晶化温度Ｔｍｃ以下で、０．５〜２０秒保ち、
次いで、ポリエステルＡのガラス転移温度Ｔｇ以下に冷
却し、その後に該未延伸フイルムを二軸延伸することを
特徴とする、請求項１ないし６のいずれかに記載のポリ
エステルフイルムの製造方法。
【請求項１２】請求項８記載の冷却ロール表面の表面
粗さが０．２Ｓ以上で、かつ、１０Ｓ以下であることを
特徴とする、請求項８に記載のポリエステルフイルムの
製造方法。