JPH07126115A - 除草剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 式（Ｉ）のカーバメート系誘導体および／ま
たは式（II）のアミド系誘導体とメチル−２−［３−
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル−９−ウレ
イドスルホニルメチル］ベンゾエートを含む１２種類の
特定化合物群から選ばれた少なくとも１種の化合物とを
有効成分として含有する除草剤組成物。 〔例えば、Ｘ：Ｃｌ，Ｒ′^１＝Ｒ^２：Ｈ，Ｒ^３：Ｍｅ〕 〔例えば、Ｙ：Ｃｌ，Ｒ^４＝Ｒ^５＝Ｒ^６：Ｈ〕 【効果】 有効成分の相乗効果により、特に水田の強害
雑草であるノビエに対し、かなり生育が進んだものまで
高い効果を示し、その結果、水田の強害雑草であるノビ
エに対し、処理適期幅が拡大され、有効薬量の低減を測
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は除草剤組成物に関する。

【０００２】

【背景技術】これまでに種々の除草剤が開発されてお
り、農業生産性および省力化に寄与してきた。しかしな
がら、ある種の除草剤は長年に亘り使用されてきたた
め、これら除草剤の効かない難防除雑草が増えて来てお
り、殺草スペクトラムが広く、かつ、これら難防除雑草
に対しても有効な除草剤の出現が望まれている。

【０００３】また、従来の除草剤による環境汚染問題を
解消するため、高活性除草剤の開発も望まれている。さ
らには、雑草の長期間に亘る不均一な発生に対処するた
め、残効性に優れ、かつ、雑草の発生前から生育期まで
の広範囲の時期にわたって処理しても有効な処理適期幅
の広い除草剤の出現も待たれている。

【０００４】このような状況のもとで、本発明者らは、
特定の新規なカーバメート系誘導体またはアミド系誘導
体が湛水土壌処理効果が優れた化合物であることを見い
出した（特願平４−２０００３６号明細書および同４−
３４６９３７号明細書）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のカーバメート系
誘導体またはアミド系誘導体は単独でも十分な除草効果
を有するが、これら除草剤はアゼナ等の広葉雑草やミズ
ガヤツリなどの多年性雑草に対する効果は必ずしも十分
でなく、この点の改良が求められていた。

【０００６】従って本発明の目的は、上記のカーバメー
ト系誘導体またはアミド系誘導体をベースにし、他の除
草剤を併用することにより、幅広い雑草スペクトラムを
有するとともに、より低薬量で高い除草活性を示す除草
剤組成物を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明者は鋭意検討を加えた結果、特願平４−２０００３
６号明細書に記載のカーバメート系誘導体および特願平
４−３４６９３７号明細書に記載のアミド系誘導体から
選ばれる少なくとも１種の化合物に下記式（Ａ）〜
（Ｌ）で示される特定の化合物を組み合せた組成物が、
上記カーバメート系誘導体および上記アミド系誘導体の
それぞれ単独の性質からは予測できない優れた除草活性
を発揮し、幅広い殺草スペクトラムを有するとともに、
より低薬量で高い除草効果を示すことを見出し、本発明
を完成するに到った。

【０００８】従って本発明は、一般式（I）

【化７】 （式中、Ａは

【化８】 を示し、Ｂは

【化９】 を示す。また、式Ａ中のＸはハロゲン原子または炭素数
１〜４のハロアルキル基を示す。式Ｂ中のＲ¹は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロア
ルキル基を示し、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基、炭
素数１〜４のハロアルキル基、フェニル基を示す。）で
表されるカーバメート系誘導体および一般式（II）

【化１０】 （式中、Ｃは

【化１１】 を示し、Ｄは

【化１２】 を示し、そして、式Ｃ中のＹはハロゲン原子または炭素
数１〜４のハロアルキル基を示し、式Ｄ中のＲ⁴は水素
原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁵は水
素原子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４
のアシル基を示し、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基または炭素数１〜４のハロアルキル基を示
す。）で表されるアミド系誘導体からなる群から選ばれ
る少なくとも１種の化合物と、下記化合物（Ａ）〜
（Ｌ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組
成物である。

【０００９】（Ａ）メチル−２−［３−（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル−９−ウレイドスルホニル
メチル］ベンゾエート （Ｂ）エチル−５−［３−（４，６−ジメトキシピリミ
ジン−２−イル−９−ウレイドスルホニル］−１−メト
キシ−ピラゾール−４−カルボキシレート （Ｃ）Ｎ−［２−クロロイミダゾール−（１、２−α）
−ピリジン−３−イル−スルホニル］−Ｎ’−（４，６
−ジメトキシ−２−ピリミジル）ウレア （Ｄ）Ｎ−［２−（２−メトキシエトキシ）−フェニル
スルホニル］−Ｎ’−（４，６−ジメトキシ−１，３，
５−トリアジン−２−イル）−ウレア （Ｅ）４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−
ジメチル−５−ピラゾリル−ｐ−トルエンスルホネート （Ｆ）２−［４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−
１，３−ジメチルピラゾール−５−イルオキシ］アセト
フェン （Ｇ）２−（２，４−ジクロロ−３−メチルベンゾイ
ル）−１，３−ジメチル−５−（４−メチルフェナシル
オキシ）−１Ｈ−ピラゾール （Ｈ）α−（２−ナフトキシ）プロピオンアニリド （Ｉ）２−（２，４−ジクロロ−３−メチルフェノキ
シ）プロピオンアニリド （Ｊ）４−（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酪酸
エチル （Ｋ）（２，４−ジクロロフェノキシ）酢酸エチル （Ｌ）（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酢酸エチ
ル 以下本発明を詳説する。

【００１０】本発明の除草剤組成物の有効成分について
順次説明する。

【００１１】有効成分の一つであるカーバメート系誘導
体は、一般式（I）

【化１３】 （式中、Ａは

【化１４】 を示し、Ｂは

【化１５】 を示す。また、式Ａ中のＸはハロゲン原子または炭素数
１〜４のハロアルキル基を示す。式Ｂ中のＲ¹は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロア
ルキル基を示し、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基、炭
素数１〜４のハロアルキル基、フェニル基を示す。）で
示されるものである。

【００１２】前記一般式（I）で表されるカーバメイト
誘導体は新規な化合物であり、式中のＡ、Ｂ、Ｘ、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³について具体的に説明すると以下の通り
である。

【００１３】Ａは

【化１６】 である。

【００１４】式Ａ中のＸはハロゲン原子または炭素数１
〜４のハロアルキル基である。ここにハロゲン原子とし
ては弗素、塩素、臭素、沃素が挙げられる。炭素数１〜
４のハロアルキル基としては、炭素数１〜４のアルキル
基が１個又は２個以上の上記ハロゲン原子で置換された
基、例えばハロメチル基、ハロエチル基、ハロプロピル
基、ハロブチル基が挙げられる。

【００１５】Ｂは

【化１７】 である。

【００１６】Ｒ¹は水素原子または炭素数１〜４アルキ
ル基である。ここに炭素数１〜４のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げ
られる。 Ｒ²は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基
またはメトキシエチル基である。 ここに炭素数１〜４
のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基が挙げられる。

【００１７】Ｒ³は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数
１〜４のハロアルキル基またはフェニル基である。ここ
に炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
が挙げられる。炭素数１〜４のハロアルキル基として
は、炭素数１〜４のアルキル基が１個又は２個以上のハ
ロゲン原子で置換された基、例えばハロメチル基、ハロ
エチル基、ハロプロピル基、ハロブチル基が挙げられ
る。

【００１８】なお、上記Ｘ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³におけるア
ルキル基、ハロアルキル基中のアルキルは、直鎖状およ
び分岐状のいずれでもよい。

【００１９】なお、以下メチル基をＭｅ，エチル基をＥ
ｔ，ｎ−プロピル基をｎ−Ｐｒ，ｉ−プロピル基をｉ−
Ｐｒ，ｎ−ブチル基をｎ−Ｂｕ、ｔ−ブチル基をｔ−Ｂ
ｕと略記することがある。

【００２０】一般式（I）で示される本発明のカーバメ
ート誘導体の代表例としては、表１〜表４に掲げるもの
が挙げられる。

【００２１】

【００２２】

【表１】

【００２３】

【表２】

【００２４】

【表３】

【００２５】

【表４】

【００２６】また、一般式（I）のカーバメート誘導体
にはベンジル部分、オキシラン部分の４級炭素に基づい
て鏡像体が存在し、通常ラセミ体として得られるが、不
斉合成などの既知の方法で各対掌体を得ることも可能で
ある。カーバメート誘導体（I）はラセミ体であって
も、あるいは各鏡像体単独であってもよく、それぞれが
除草剤として使用できる。

【００２７】また、一般式（I）のカーバメート誘導体
において不斉炭素が２個ある場合にはジアステレオマー
が存在し、カラムクロマトグラフィーなどの既知の方法
で各ジアステレオマーを得ることも可能である。カーバ
メート誘導体（I）はジアステレオマー混合物であって
も、あるいは各ジアステレオマー単独であってもよくそ
れぞれが除草剤成分として使用できる。

【００２８】カーバメート誘導体（I）のうちポリハロ
アルケン誘導体（Ia）（表１および表２の化合物）は、
図１で示されるように、プロペン誘導体（III）を原料
として製造することができる。

【００２９】すなわち、塩化第一銅などの触媒及びピペ
リジンやシクロヘキシルアミンなどのアミン類の存在
下、プロペン誘導体（III）とポリハロアルカン（ＣＣ
ｌ₂ ＸＸ′）とを、通常０℃ないしポリハロアルカンの
沸点の範囲の温度において１〜２０時間程度反応させる
ことにより、所望のポリハロアルケン誘導体（Ia）又は
ポリハロアルカン誘導体（IV）が得られる。この場合、
反応条件を適当に選ぶことによりポリハロアルケン誘導
体（Ia）に直接導いてもよいし、ポリハロアルカン誘導
体（IV）に導いてもよい。ポリハロアルカン誘導体（I
V）を得た場合には、このものを、例えばｏ−ジクロロ
ベンゼン、１，２−ジクロロエタンなどの溶媒中におい
て塩化第一銅、塩化第二鉄などの触媒の存在下に適当な
温度に加熱することにより、所望のポリハロアルケン誘
導体（Ia）に導くことができる。

【００３０】また、本発明のカーバメート誘導体（I）
のうちオキシラン誘導体（Ib）（表３および表４の化合
物）は、図２で示されるように、ポリハロアルケン誘導
体（Ia）を過酸化物を用いてエポキシ化することにより
製造することができる。 この反応において用いられる
過酸化物については特に制限はなく、通常エチレン性二
重結合のエポキシ化に用いられるもの、例えばクメンハ
イドロパーオキシド、ｔ−ブチル−ハイドロパーオキシ
ド、シクロヘキシルハイドロパーオキシドや過酢酸、α
−ハイドロパーオキシイソ酪酸、過安息香酸、ｍ−クロ
ロ過安息香酸などの過有機カルボン酸および過酸化水
素、オキソンなどを使用することができるが、これらの
中で過有機カルボン酸、特に過酢酸及びｍ−クロロ過安
息香酸が好適である。この反応は通常、不活性溶媒中に
おいて、好ましくは０〜８０℃の範囲の温度において実
施される。不活性溶媒としては、例えば塩化メチレン
、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，
１，１−トリクロロエタン、ｏ−ジクロロベンゼンなど
のハロゲン化炭化水素類が好ましく用いられる。また、
所望により、この反応系に酢酸ナトリウム、安息香酸ナ
トリウム、りん酸水素二ナトリウム、炭酸リチウムなど
の緩衝剤を添加して反応を行ってもよい。前記アルケン
誘導体（Ia）と過酸化物との使用割合については、過酸
化物をアルケン誘導体（Ia）に対して１〜４倍当量の割
合で用いることが望ましい。反応時間は、反応温度や使
用する過酸化物の種類などによって異なり、一義的に決
めることができないが、通常１〜５０時間程度である。

【００３１】なお、カーバメート誘導体（I）の製造に
おいて原料とて用いられる前記プロペン誘導体（III）
は容易に入手しうる原料を用いて通常の方法により製造
することができる。図３にその代表例を示す。

【００３２】次に一般式（II）のアミド誘導体について
説明する。

【００３３】前記一般式（II）で表されるアミド誘導体
は、新規な化合物であり、式中のＣ、Ｄ、Ｙ、Ｒ⁴、Ｒ⁵
およびＲ⁶について具体的に説明すると以下の通りであ
る。Ｃは

【化１８】 である。

【００３４】そして式Ｃ中のＹはハロゲン原子または炭
素数１〜４のハロアルキル基である。ここにハロゲン原
子としては弗素、塩素、臭素、沃素が挙げられる。炭素
数１〜４のハロアルキル基としては、１個又は２個以上
の上記ハロゲン原子を有するメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基が挙げられる。

【００３５】Ｄは

【化１９】 である。

【００３６】そして式中ＤのＲ⁴は水素原子または炭素
数１〜４のアルキル基である。ここに炭素数１〜４のア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基が挙げられる。

【００３７】式中ＤのＲ⁵は水素原子、炭素数１〜４の
アルキル基または炭素数１〜４のアシル基である。ここ
に炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。炭素数は１
〜４のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プ
ロピオニル基、ブチリル基が挙げられる。

【００３８】式中ＤのＲ⁶は水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基または炭素数１〜４のハロアルキル基であ
る。ここに炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基が挙げられ、炭素数３以上のアルキル基はシク
ロアルキル基であっても良い。炭素数１〜４のハロアル
キル基としては、１個又は２個以上の上記ハロゲン原子
を有するメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が
挙げられる。

【００３９】なお、上記Ｙ、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶中のアルキ
ル基、ハロアルキル基におけるアルキルは、直鎖状およ
び分岐状のいずれでもよい。

【００４０】一般式（II）のアミド誘導体の代表例とし
ては、表５〜表８に掲げるものが挙げられる。

【００４１】

【００４２】

【表５】

【００４３】

【表６】

【００４４】

【表７】

【００４５】

【表８】

【００４６】また、アミド誘導体（II）にはベンジル部
分、オキシラン部分の４級炭素に基づいて鏡象体が存在
し、通常ラセミ体として得られるが、不斉合成などの既
知の方法で各対掌体を得ることも可能である。アミド誘
導体（II）はラセミ体であっても、あるいは各鏡像体単
独にあってもよく、それぞれが除草剤として使用でき
る。

【００４７】また、アミド誘導体（II）において不斉炭
素が２個以上ある場合にはジアステレオマーが存在し、
カラムクロマトグラフィーなどの既知の方法で各ジアス
テレオマーを得ることも可能である。アミド誘導体（I
I）はジアステレオマー混合物であっても、あるいは各
ジアステレオマー単独であってもよく、それぞれが除草
剤成分として使用できる。

【００４８】アミド誘導体（II）のうちポリハロアルケ
ン誘導体（IIa）（表５および表６の化合物）は、図４
で示されるように、プロペン誘導体（VI）を原料として
製造することができる。

【００４９】すなわち、塩化第一銅などの触媒及びピペ
リジンやシクロヘキシルアミンなどのアミン類の存在
下、プロペン誘導体（VI）とポリハロアルカン（ＣＣｌ
₂ ＹＸ′）とを、通常０℃ないしポリハロアルカンの沸
点の範囲の温度において１〜２０時間程度反応させるこ
とにより、所望のポリハロアルケン誘導体（IIa）又は
ポリハロアルカン誘導体（V）が得られる。この場合、
反応条件を適当に選ぶことによりポリハロアルケン誘導
体（IIa）に直接導いてもよいし、ポリハロアルカン誘
導体（V）に導いてもよい。ポリハロアルカン誘導体
（V）を得た場合には、このものを、例えばｏ−ジクロ
ロベンゼン、１，２−ジクロロエタンなどの溶媒中にお
いて塩化第一銅、塩化第二鉄などの触媒の存在下に適当
な温度に加熱することにより、所望のポリハロアルケン
誘導体（IIa）に導くことができる。

【００５０】また、アミド誘導体（II）のうちオキシラ
ン誘導体（IIb）（表７および表８の化合物）は、図５
で示されるように、ポリハロアルケン誘導体（IIa）を
過酸化物を用いてエポキシ化することにより製造するこ
とができる。

【００５１】この反応において用いられる過酸化物につ
いては特に制限はなく、通常エチレン性二重結合のエポ
キシ化に用いられるもの、例えばクメンハイドロパーオ
キシド、ｔ−ブチル−ハイドロパーオキシド、シクロヘ
キシルハイドロパーオキシドや過酢酸、α−ハイドロパ
ーオキシイソ酪酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸
などの過有機カルボン酸および過酸化水素、オキソンな
どを使用することができるが、これらの中で過有機カル
ボン酸、特に過酢酸及びｍ−クロロ過安息香酸が好適で
ある。この反応は通常、不活性溶媒中において、好まし
くは０〜８０℃の範囲の温度において実施される。不活
性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、１，１，１−トリクロロ
エタン、ｏ−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素類が好ましく用いられる。また、所望により、この反
応系に酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、りん酸水
素二ナトリウム、炭酸リチウムなどの緩衝剤を添加して
反応を行ってもよい。前記アルケン誘導体（IIa）と過
酸化物との使用割合については、過酸化物をアルケン誘
導体（IIa）に対して１〜４倍当量の割合で用いること
が望ましい。反応時間は、反応温度や使用する過酸化物
の種類などによって異なり、一義的に決めることができ
ないが、通常１〜５０時間程度である。

【００５２】なお、アミド誘導体（II）の製造において
原料として用いられる前記プロペン誘導体（VI）は容易
に入手しうる原料を用いて通常の方法により製造するこ
とができる。図６及び図７にその代表例を示す。

【００５３】本発明の除草剤組成物においては、上記一
般式（I）のカーバメート誘導体および一般式（II）の
アミド誘導体からなる群から選ばれる少なくとも１種
に、下記の化合物（Ａ）〜（Ｌ）からなる群から選ばれ
る少なくとも１種の化合物が配合される。

【００５４】（Ａ）メチル−２−［３−（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル−９−ウレイドスルホニル
メチル］ベンゾエート （Ｂ）エチル−５−［３−（４，６−ジメトキシピリミ
ジン−２−イル−９−ウレイドスルホニル］−１−メト
キシ−ピラゾール−４−カルボキシレート （Ｃ）Ｎ−［２−クロロイミダゾール−（１、２−α）
−ピリジン−３−イル−スルホニル］−Ｎ’−（４，６
−ジメトキシ−２−ピリミジル）ウレア （Ｄ）Ｎ−［２−（２−メトキシエトキシ）−フェニル
スルホニル］−Ｎ’−（４，６−ジメトキシ−１，３，
５−トリアジン−２−イル）−ウレア （Ｅ）４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−
ジメチル−５−ピラゾリル−ｐ−トルエンスルホネート （Ｆ）２−［４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−
１，３−ジメチルピラゾール−５−イルオキシ］アセト
フェン （Ｇ）２−（２，４−ジクロロ−３−メチルベンゾイ
ル）−１，３−ジメチル−５−（４−メチルフェナシル
オキシ）−１Ｈ−ピラゾール （Ｈ）α−（２−ナフトキシ）プロピオンアニリド （Ｉ）２−（２，４−ジクロロ−３−メチルフェノキ
シ）プロピオンアニリド （Ｊ）４−（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酪酸
エチル （Ｋ）（２，４−ジクロロフェノキシ）酢酸エチル （Ｌ）（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酢酸エチ
ル また、上記化合物（Ａ）〜（Ｌ）の構造式、一般名、製
法を以下に示す。

【００５５】化合物（Ａ） 構造式

【化２０】 一般名 ベンゾスルフロンメチル 製法 特開昭５７−１１２３７９号公報の記載に従って合成し
た。

【００５６】化合物（Ｂ） 構造式

【化２１】 一般名 ピラゾスルフロンエチル 製法 シリウス（日慶化学）よりアセトン抽出して得た。

【００５７】化合物（Ｃ） 構造式

【化２２】 一般名 イマゾスルフロン 製法 特開昭６４−３８０９１号公報の記載に従って合成し
た。

【００５８】化合物（Ｄ） 構造式

【化２３】 一般名 シノスルフロン 製法 米国特許第４７９８２１号の記載に従って合成した。

【００５９】化合物（Ｅ） 構造式

【化２４】 一般名 ピラゾレート 製法 サンバード（三共）からアセトン抽出して得た。

【００６０】化合物（Ｆ） 構造式

【化２５】 一般名 ピラゾキシフェン 製法 ワンオール（石原産業）からアセトン抽出して得た。

【００６１】化合物（Ｇ） 構造式

【化２６】 一般名 ペンゾフェナップ 製法 シーゼットフロアブルよりアセトン抽出して得た。

【００６２】化合物（Ｈ） 構造式

【化２７】 一般名 ナプロアニリド 製法 ウリベスト（三井東圧）よりアセトン抽出して得た。

【００６３】化合物（Ｉ） 構造式

【化２８】 一般名 クロメプロップ 製法 センテ（三菱油化）よりアセトン抽出して得た。

【００６４】化合物（Ｊ） 構造式

【化２９】 一般名 ＭＣＰＢ 製法 既知の合成法に従って合成した。

【００６５】化合物（Ｋ） 構造式

【化３０】 一般名 ２，４−Ｄ 製法 既知の合成法に従って合成した。

【００６６】化合物（Ｌ） 構造式

【化３１】 一般名 ＭＣＰＡ 製法 既知の合成法に従って合成した。

【００６７】本発明の除草剤組成物は、上記一般式
（I）で表されるカーバメート系誘導体および上記一般
式（II）で表されるアミド系誘導体からなる群から選ば
れる少なくとも１種と、上記化合物（Ａ）〜（Ｌ）から
なる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を有効成分
として含有するものであるが、その配合割合は特に制限
がなく、広い配合比において優れた相乗効果が得られ
る。

【００６８】一般的な配合例を示すと、一般式（I）の
カーバメート系誘導体および／または一般式（II）のア
ミド系誘導体１重量部に対し、化合物（Ａ）〜（Ｌ）は
０．０２〜３００重量部、好ましくは０．０３〜１００
重量部の範囲で用いられる。本発明の除草剤組成物は、
上記のカーバメート系誘導体（I）および／またはアミ
ド系誘導体（II）と上記化合物（Ａ）〜（Ｌ）よりなる
群から選ばれた少なくとも１種の化合物を、有機溶媒等
の液状担体または鉱物質粉等の固体担体と混合し、水和
剤、乳剤、粉剤、粒剤、フロアブル剤、液剤等の形態に
製剤化して使用することができる。製剤化に際しては、
所望により乳化剤、分散剤、展着剤、懸濁剤、浸透剤、
安定剤として各種の界面活性剤、その他の補助剤を添加
すればよい。

【００６９】本発明の除草剤組成物を水和剤の形態で用
いる場合、通常は、上述したカーバメート系誘導体
（I）および／またはアミド系誘導体（II）と化合物
（Ａ）〜（Ｌ）よりなる群から選ばれた少なくとも１種
の化合物を有効成分として５〜５５重量％、固体担体４
０〜８８重量％および界面活性剤２〜５重量％の割合で
配合して組成物を調製し、これを用いればよい。

【００７０】また、乳剤およびフロアブル剤の形態で用
いる場合は、通常は、有効成分として上述したカーバメ
ート系誘導体（I）および／またはアミド系誘導体（I
I）と化合物（Ａ）〜（Ｌ）よりなる群から選ばれた少
なくとも１種の化合物を１０〜５０重量％、溶剤３５〜
７５重量％および界面活性剤５〜１５重量％の割合で配
合して調製すればよい。

【００７１】一方、粉剤の形態で用いる場合は、通常
は、有効成分として上述したカーバメート系誘導体
（I）および／またはアミド系誘導体（II）と化合物
（Ａ）〜（Ｌ）よりなる群から選ばれた少なくとも１種
の化合物を１〜２０重量％、固体担体７５〜９７重量％
および界面活性剤２〜５重量％の割合で配合して調製す
ればよい。 さらに、粒剤の形態で用いる場合は、通常
は、有効成分として上述したカーバメート系誘導体
（I）および／またはアミド系誘導体（II）と化合物
（Ａ）〜（ Ｌ）よりなる群から選ばれた少なくとも１
種の化合物を１〜２０重量％、固体担体７５〜９７重量
％および界面活性剤２〜５重量％の割合で配合して調製
すればよい。

【００７２】ここで、固体担体としては鉱物質の微粉が
用いられ、この鉱物質の微粉として具体的には、ケイソ
ウ土、消石灰等の酸化物、リン灰石等のリン酸塩、セッ
コウ等の硫酸塩、タルク、パイロフェライト、クレー、
カオリン、ベントナイト、酸性白土、ホワイトカーボ
ン、石英粉末、ケイ石粉等のケイ酸塩などを挙げること
ができる。

【００７３】また、溶剤としては、有機溶媒が用いら
れ、具体的にはキシレン、トルエン、ベンゼン等の芳香
族炭化水素、ｏ−クロルトルエン、トリクロルメタン、
トリクロルエチレン等の塩素化炭化水素、シクロヘキサ
ノール、アミルアルコール、エチレングリコール等のア
ルコール、エチレングルコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル等のアルコールエ
ーテル、イソホロン、シクロヘキサノン、シクロヘキセ
ニル−シクロヘキサノン等のケトン、ブチルセロソル
ブ、ジメチルエーテル、メチルエチルエーテル等のエー
テル、酢酸イソプロピル、酢酸ベンジル、フタル酸メチ
ル等のエステル、ジメチルホルムアミド等のアミド、ア
セトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル、ジメチ
ルスルホキシド等のスルホキシド、あるいはこれらの混
合物等の有機溶媒を挙げることができる。

【００７４】さらに、界面活性剤としては、アニオン型
（アルキルベンゼンスルフォネート、アルキルスルフォ
ネート、ラウリン酸アミドスルフォネート等）、ノニオ
ン型（ポリオキシエチレンオクチルエーテル、ポリエチ
レングルコールラウレート、ソルビタンアルキルエステ
ル等）、カチオン型（ジメチルラウリルベンジルアンモ
ニウムクロライド、ラウリルアミン、ステアリルトリメ
チルアンモニアムクロライド等）あるいは両性イオン型
（アミノ酸、ベタイン等）のいずれを用いることもでき
る。

【００７５】また、本発明の除草剤組成物には、製剤の
性状を改善し、除草効果を高める目的で、アルギン酸ソ
ーダ、カルボキシメチルセルロース、カルボキシビニル
ポリマー、アラビヤガム、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース等の高分子化合物や補助剤を併用することもで
きる。

【００７６】このような本発明の除草剤組成物は、水稲
作において雑草の発芽前または発芽後に湛水土壌処理す
ることにより、薬害のない高選択性除草剤として優れた
効果を発揮する。本発明の除草剤組成物は、有効成分で
１０アール当り１ｇ〜１，０００ｇ程度、好ましくは５
〜５００ｇを施用する。

【００７７】また、必要に応じて本発明の除草剤組成物
に殺虫剤または各種添加物を加えても良い。とくに除草
剤として、より一層の効果向上を目指して、他の除草剤
を併用することが望ましい場合がある。添加し得る除草
剤としては、表９〜１０に示すものが挙げられる。

【００７８】

【００７９】

【表９】

【００８０】

【表１０】

【００８１】

【実施例】次に本発明を実施例により説明する。

【００８２】なお、下記製造例中、「部」は重量％を意
味する。カーバメート系誘導体またはアミド系誘導体と
しては、表１１〜１２に示した化合物を用いた。

【００８３】

【００８４】

【表１１】

【００８５】

【表１２】

【００８６】（１）除草剤組成物の調製 タルク５７重量部、ベントナイト４０重量部、界面活性
剤としてアルキルベンゼンスルホン酸ソーダ３重量部を
均一に粉砕混合して水和剤用の担体を得た。

【００８７】次にカーバメート系誘導体（I）、アミド
系誘導体（II）または化合物（Ａ）〜（Ｌ）で表される
化合物のいずれか一剤を１０量部と、上記の水和剤用担
体９０重量部を均一に粉砕混合して水和剤を得た。

【００８８】さらに、カーバメート系誘導体（I）また
はアミド系誘導体（II）と化合物（Ａ）〜（Ｌ）で表さ
れる化合物のいずれか一剤とを含有する水和剤のそれぞ
れ水で希釈したものを所定量混合して、本発明の除草剤
組成物を調製した。

【００８９】（２）生物試験Ｉ １／５０００アールのプラスチック容器に、水田土壌を
充填し、表層にノビエ、ホタルイ、アゼナの種子を播種
し、催芽させたミズガヤツリの塊茎を移植し、さらに２
葉期の稲苗（品種：日本晴）を移植した。その後、湛水
深を３cmとし、温室内に静置した。水稲移植後、３日
（ノビエ発芽時）および１２日（ノビエ２葉期）に前記
（１）で調製した水和剤の所定量を水で希釈し、所定量
滴下処理した。薬剤処理後３０日目に、除草効果および
薬害を下記の判定基準に従い調査した。結果を表１３〜
２１（ノビエ発芽時）、および表２２〜３０（ノビエ２
葉期）に示す。

【００９０】（判定基準） 除草効果の程度 除草効果（殺草率） ０ ５％未満（ほとんど効果なし） １ １０〜２０％未満 ２ ２０〜３０％未満 ３ ３０〜４０％未満 ４ ４０〜５０％未満 ５ ５０〜６０％未満 ６ ６０〜７０％未満 ７ ７０〜８０％未満 ８ ８０〜９０％未満 ９ ９０〜９５％未満（ほとんど完全枯死） １０ ９５〜１００％（完全枯死） ただし、上記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重お
よび無処理区の地上部生草重を測定して、下記の式によ
り求めたものである。

【００９１】殺草率（％） ＝｛１−（処理区の地上部生草重）／（無処理区の地上
部生草重）｝×１００ 薬害の程度 ０…作物に対する薬害は認められず １…作物に対する薬害は殆ど認められず ２…作物に対する薬害が若干認められる ３…作物に対する薬害が認められる ４…作物に対する薬害が顕著に認められる

【００９２】

【表１３】

【００９３】

【表１４】

【００９４】

【表１５】

【００９５】

【表１６】

【００９６】

【表１７】

【００９７】

【表１８】

【００９８】

【表１９】

【００９９】

【表２０】

【０１００】

【表２１】

【０１０１】

【表２２】

【０１０２】

【表２３】

【０１０３】

【表２４】

【０１０４】

【表２５】

【０１０５】

【表２６】

【０１０６】

【表２７】

【０１０７】

【表２８】

【０１０８】

【表２９】

【０１０９】

【表３０】

【０１１０】（３）生物試験ＩＩ １／７５００アールの磁器製ポットに、水田土壌を充填
し、ノビエ種子を播種した。湛水深を３cmとし、温室内
に静置した。播種後１２日目、ノビエが２葉期に生育し
た時期に、前記（１）で調製した水和剤の所定量を水で
希釈し、滴下処理した。薬剤処理後３０日目に、残存し
ているノビエの地上部生草重および無処理区の地上部生
草重を測定し、下記式により、殺草率（％）を算出し
た。結果については、表３１ないし表３３に示す。

【０１１１】殺草率（％） ＝｛１−（処理区の地上部生草重）／（無処理区の地上
部生草重）｝×１００

【０１１２】

【表３１】

【０１１３】

【表３２】

【０１１４】

【表３３】

【０１１５】（４）生物試験III １／７５００アールの磁器製ポットに水田土壌を充填
し、ホタルイ種子を播種した。湛水深を３cmとし、温室
内に静置した。播種後１２日目、ホタルイが１．５葉期
に生育した時期に、前記（１）で調製した水和剤の所定
量を水で希釈し、滴下処理した。薬剤処理後３０日目
に、残存しているホタルイの地上部生草重および無処理
区の地上部生草重を測定し、下記式により、殺草率
（％）を算出した。結果については、表３４〜３８に示
す。

【０１１６】殺草率（％） ＝｛１−（処理区の地上部生草重）／（無処理区の地上
部生草重）｝×１００ なお、表３１〜３８中の予想値（Ｑ_E）は、Colby の次
式により算出した混合剤の殺草率の予想値（Ｑ_E）であ
る。ここで、上記試験により測定した実測値（殺草率）
が、この予想値（Ｑ_E）より大きければ、除草活性に相
乗作用が発現したということになる。

【０１１７】Ｑ_E（％）＝Ｑ_a＋Ｑ_b−｛（Ｑ_a×Ｑ_b）／
１００｝ Ｑ_E＝予想値 Ｑ_a＝除草剤Ａ（有効成分として一般式（I）および／ま
たは一般式（II）の化合物のみを含む）をａグラム／１
０アールの量で処理した時の殺草率 Ｑ_b＝除草剤Ｂ（有効成分として化合物（Ａ）〜（Ｌ）
のうちの１種のみを含む）をｂグラム／１０アールの量
で処理した時の殺草率

【０１１８】

【表３４】

【０１１９】

【表３５】

【０１２０】

【表３６】

【０１２１】

【表３７】

【０１２２】

【表３８】

【０１２３】

【発明の効果】本発明の除草剤組成物は、その有効成分
であるカーバメート系誘導体および／またはアミド系誘
導体と、特定の化合物群（Ａ）〜（Ｌ）から選ばれた少
なくとも１種の化合物とを含有することにより、多種類
の雑草に対して優れた除草効果を示すとともに、水田の
強害雑草であるノビエもしくはホタルイに対して予想を
上回る顕著な相乗効果を示す。

【０１２４】その結果、本発明の除草剤組成物は、１回
の散布で水田の主要な雑草を防除できるだけでなく、相
乗効果により有効薬量の低減を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般式（Ia）の化合物の製造工程図

【図２】一般式（Ib）の化合物の製造工程図

【図３】一般式（III）の化合物の製造工程図

【図４】一般式（IIa）の化合物の製造工程図

【図５】一般式（IIb）の化合物の製造工程図

【図６】一般式（VI）の化合物の製造工程図（前半）

【図７】一般式（VI）の化合物の製造工程図（後半）

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成６年１月１８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５４】化合物（Ｂ） 構造式

【化２１】 一般名 ピラゾスルフロンエチル 製法 シリウス（日産化学）よりアセトン抽出して得た。 ─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成６年２月４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】請求項１

【補正方法】変更

【補正内容】

【化１】 （式中、Ａは

【化２】 を示し、Ｂは

【化３】 を示す。また、式Ａ中のＸはハロゲン原子または炭素数
１〜４のハロアルキル基を示す。式Ｂ中のＲ¹は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロア
ルキル基を示し、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基、炭
素数１〜４のハロアルキル基、フェニル基を示す。）で
表されるカーバメート系誘導体および一般式（II）

【化４】 （式中、Ｃは

【化５】 を示し、Ｄは

【化６】 を示し、そして、式Ｃ中のＹはハロゲン原子または炭素
数１〜４のハロアルキル基を示し、式Ｄ中のＲ⁴は水素
原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁵は水
素原子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４
のアシル基を示し、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１〜６のア
ルキル基または炭素数１〜４のハロアルキル基を示
す。）で表されるアミド系誘導体からなる群から選ばれ
る少なくとも１種の化合物と、下記化合物（Ａ）〜
（Ｌ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組
成物。 （Ａ）メチル−２−［３−（４，６−ジメトキシピリミ
ジン−２−イル−９−ウレイドスルホニルメチル］ベン
ゾエート （Ｂ）エチル−５−［３−（４，６−ジメトキシピリミ
ジン−２−イル−９−ウレイドスルホニル］−１−メト
キシ−ピラゾール−４−カルボキシレート （Ｃ）Ｎ−［２−クロロイミダゾール−（１、２−α）
−ピリジン−３−イル−スルホニル］−Ｎ’−（４，６
−ジメトキシ−２−ピリミジル）ウレア （Ｄ）Ｎ−［２−（２−メトキシエトキシ）−フェニル
スルホニル］−Ｎ’−（４，６−ジメトキシ−１，３，
５−トリアジン−２−イル）−ウレア （Ｅ）４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−
ジメチル−５−ピラゾリル−ｐ−トルエンスルホネート （Ｆ）２−［４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−
１，３−ジメチルピラゾール−５−イルオキシ］アセト
フェン （Ｇ）２−（２，４−ジクロロ−３−メチルベンゾイ
ル）−１，３−ジメチル−５−（４−メチルフェナシル
オキシ）−１Ｈ−ピラゾール （Ｈ）α−（２−ナフトキシ）プロピオンアニリド （Ｉ）２−（２，４−ジクロロ−３−メチルフェノキ
シ）プロピオンアニリド （Ｊ）４−（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酪酸
エチル （Ｋ）（２，４−ジクロロフェノキシ）酢酸エチル （Ｌ）（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酢酸エチ
ル

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００８

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００８】従って本発明は、一般式（I）

【化７】 （式中、Ａは

【化８】 を示し、Ｂは

【化９】 を示す。また、式Ａ中のＸはハロゲン原子または炭素数
１〜４のハロアルキル基を示す。式Ｂ中のＲ¹は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロア
ルキル基を示し、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基、炭
素数１〜４のハロアルキル基、フェニル基を示す。）で
表されるカーバメート系誘導体および一般式（II）

【化１０】 （式中、Ｃは

【化１１】 を示し、Ｄは

【化１２】 を示し、そして、式Ｃ中のＹはハロゲン原子または炭素
数１〜４のハロアルキル基を示し、式Ｄ中のＲ⁴は水素
原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁵は水
素原子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４
のアシル基を示し、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１〜６のア
ルキル基または炭素数１〜４のハロアルキル基を示
す。）で表されるアミド系誘導体からなる群から選ばれ
る少なくとも１種の化合物と、下記化合物（Ａ）〜
（Ｌ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組
成物である。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００６８】また、乳剤およびフロアブル剤の形態で用
いる場合は、通常は、有効成分として上述したカーバメ
ート系誘導体（I）および／またはアミド系誘導体（I
I）と化合物（Ａ）〜（Ｌ）よりなる群から選ばれた少
なくとも１種の化合物を１〜５０重量％、溶剤３５〜９
４重量％および界面活性剤５〜１５重量％の割合で配合
して調製すればよい。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 43/56 Ａ Ｂ Ｃ 47/34 Ｅ 47/36 １０１ Ｅ (72)発明者 鎌野 秀樹 千葉県袖ケ浦市上泉1280番地 出光興産株 式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（I） 【化１】 （式中、Ａは 【化２】 を示し、Ｂは 【化３】 を示す。また、式Ａ中のＸはハロゲン原子または炭素数
   １〜４のハロアルキル基を示す。式Ｂ中のＲ¹は水素原
   子、炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²は水素原
   子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のハロア
   ルキル基を示し、Ｒ³は炭素数１〜４のアルキル基、炭
   素数１〜４のハロアルキル基、フェニル基を示す。）で
   表されるカーバメート系誘導体および一般式（II） 【化４】 （式中、Ｃは 【化５】 を示し、Ｄは 【化６】 を示し、そして、式Ｃ中のＹはハロゲン原子または炭素
   数１〜４のハロアルキル基を示し、式Ｄ中のＲ⁴は水素
   原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁵は水
   素原子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４
   のアシル基を示し、Ｒ⁶は水素原子、炭素数１〜４のア
   ルキル基または炭素数１〜４のハロアルキル基を示
   す。）で表されるアミド系誘導体からなる群から選ばれ
   る少なくとも１種の化合物と、下記化合物（Ａ）〜
   （Ｌ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
   とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組
   成物。 （Ａ）メチル−２−［３−（４，６−ジメトキシピリミ
   ジン−２−イル−９−ウレイドスルホニルメチル］ベン
   ゾエート （Ｂ）エチル−５−［３−（４，６−ジメトキシピリミ
   ジン−２−イル−９−ウレイドスルホニル］−１−メト
   キシ−ピラゾール−４−カルボキシレート （Ｃ）Ｎ−［２−クロロイミダゾール−（１、２−α）
   −ピリジン−３−イル−スルホニル］−Ｎ’−（４，６
   −ジメトキシ−２−ピリミジル）ウレア （Ｄ）Ｎ−［２−（２−メトキシエトキシ）−フェニル
   スルホニル］−Ｎ’−（４，６−ジメトキシ−１，３，
   ５−トリアジン−２−イル）−ウレア （Ｅ）４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−
   ジメチル−５−ピラゾリル−ｐ−トルエンスルホネート （Ｆ）２−［４−（２，４−ジクロロベンゾイル）−
   １，３−ジメチルピラゾール−５−イルオキシ］アセト
   フェン （Ｇ）２−（２，４−ジクロロ−３−メチルベンゾイ
   ル）−１，３−ジメチル−５−（４−メチルフェナシル
   オキシ）−１Ｈ−ピラゾール （Ｈ）α−（２−ナフトキシ）プロピオンアニリド （Ｉ）２−（２，４−ジクロロ−３−メチルフェノキ
   シ）プロピオンアニリド （Ｊ）４−（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酪酸
   エチル （Ｋ）（２，４−ジクロロフェノキシ）酢酸エチル （Ｌ）（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）酢酸エチ
   ル