JPH0753314A - 除草剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 具体的には、例えば で示されるカーバメート系誘導体および／またはアミド
系誘導体と、（１）クロロアセトアミド系除草剤（２）
チオカーバメート系化合物（３）アミド系除草剤（４）
ジフェニルエーテル系除草剤（５）トリアジン系除草剤
（６）複素環系除草剤から選ばれた少なくとも１種の化
合物とを有効成分として含有する除草剤組成物。 【効果】 有効成分の相乗効果により、特に水田の強害
雑草であるノビエに対し、かなり生育が進んだものまで
高い効果を示し、その結果、水田の強害雑草であるノビ
エに対し、処理適期幅が拡大され、有効薬量の低減を測
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は除草剤組成物に関する。

【０００２】

【従来技術】これまでに種々の除草剤が開発されてお
り、農業生産性および省力化に寄与してきた。しかしな
がら、ある種の除草剤は長年に亘り使用されてきたた
め、これら除草剤の効かない難防除雑草が増えて来てお
り、殺草スペクトラムが広く、かつ、これら難防除雑草
に対しても有効な除草剤の出現が望まれている。

【０００３】また、従来の除草剤による環境汚染問題を
解消するため、高活性除草剤の開発も望まれている。さ
らには、雑草の長期間に亘る不均一な発生に対処するた
め、残効性に優れ、かつ、雑草の発生前から生育期まで
の広範囲の時期にわたって処理しても有効な処理適期幅
の広い除草剤の出現も待たれている。

【０００４】このような状況のもとで、本発明者らは、
特定の新規なカーバメート系誘導体またはアミド系誘導
体が湛水土壌処理効果が優れた化合物であることを見出
した（特願平４−２０００３６号明細書および同４−３
４６９３７号明細書）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のカーバメート系
誘導体またはアミド系誘導体は単独でも十分な除草効果
を有するが、これら除草剤の除草活性および処理適期幅
をさらに改良することが求められていた。

【０００６】従って本発明の目的は、上記のカーバメー
ト系誘導体またはアミド系誘導体をベースにし、他の除
草剤を併用することにより、より低薬量で高い除草活性
を示すとともに、幅広い処理適期幅を有する除草剤組成
物を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明者は鋭意検討を加えた結果、特願平４−２０００３
６号明細書に記載のカーバメート系誘導体および特願平
４−３４６９３７号明細書に記載のアミド系誘導体から
選ばれる少なくとも１種の化合物に下記式（Ａ）〜
（Ｗ）で示される特定の化合物を組み合せた組成物が、
上記カーバメート系誘導体および上記アミド系誘導体の
それぞれ単独の性質からは予測できない優れた除草活性
を発揮し、より低薬量で高い除草効果を示すとともに、
幅広い処理適期幅を有することを見出し、本発明を完成
するに到った。

【０００８】従って本発明は、一般式（Ｉ）

【化７】 （式中、Ａは

【化８】 を示し、Ｂは

【化９】 を示す。また、Ｘはハロゲン原子または炭素数１〜４の
ハロアルキル基を示す。Ｒ¹ は水素原子、炭素数１〜４
のアルキル基を示し、Ｒ² は水素原子、炭素数１〜４の
アルキル基、メトキシエチル基を示し、Ｒ³ は炭素数１
〜６のアルキル基、炭素数１〜４のハロアルキル基、フ
ェニル基を示す。）で表されるカーバメート系誘導体お
よび一般式（II）

【化１０】 （式中、Ｃは

【化１１】 を示し、Ｄは

【化１２】 を示し、そして、式Ｃ中のＹはハロゲン原子または炭素
数１〜４のハロアルキル基を示し、式Ｄ中のＲ⁴ は水素
原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁵ は水
素原子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４
のアシル基を示し、Ｒ⁶ は水素原子、炭素数１〜６のア
ルキル基または炭素数１〜４のハロアルキル基を示
す。）で表されるアミド系誘導体からなる群から選ばれ
る少なくとも１種の化合物と、下記化合物（Ａ）〜
（Ｗ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組
成物である。

【０００９】（Ａ） ２−クロロ−２′，６′−ジメチ
ル−Ｎ−（ｎ−プロポキシエチル）−アセトアニリド （Ｂ） Ｎ−ブトキシメチル−２−クロロ−２′，６′
−ジメチルアセトアニリド （Ｃ） ２−クロロ−Ｎ−（３−メトキシ−２−チエニ
ル）−メチル−２′，６′−ジメチルアセトアニリド （Ｄ） Ｓ−（４−クロロベンジル）Ｎ，Ｎ−ジメチル
−チオカーバメート （Ｅ） Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレン−チオカ
ーバメート （Ｆ） Ｓ−（α，α−ジメチルベンジル）ピペリジン
−１−カルボチオエート （Ｇ） Ｓ−ベンジル−Ｎ−エチル−Ｎ−（１，２−ジ
メチル−プロピル）チオカーバメート （Ｈ） ｏ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−６−メト
キシ−ピリジル（メチル）チオカーバメート （Ｉ） ２−ベンゾチアゾール−２−イルオキシ−Ｎ−
メチル−アセトアニリド （Ｊ） ２′３′−ジクロロ−４−エトキシメトキシベ
ンズアニリド （Ｋ） ２，４，６−トリクロロフェニル−４−ニトロ
フェニルエーテル （Ｌ） ２，４−ジクロロフェニル−３′−メトキシ−
４′−ニトロフェニルエーテル （Ｍ） メチル−５−（２，４−ジクロロフェノキシ）
−２−ニトロベンゾエート （Ｎ） ２，４−ビス（エチルアミノ）−６−メチルチ
オ−１，３，５−トリアジン （Ｏ） ２，４−ビス（イソプロピルアミノ）−６−メ
チルチオ−１，３，５−トリアジン （Ｐ） ５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（２，４−ジクロ
ロ−５−イソプロポキシフェニル）−１，３，４−オキ
サジアゾール−２（３Ｈ）−オン （Ｑ） ３−Ｎ−（２−フルオロ−４−クロロ−シクロ
ペンチルオキシフェニル）−５−イソプロピリデン−
１，３−オキサゾリジン−２，４−ジオン （Ｒ） ３，７−ジクロロキノリン−８−カルボキシリ
ックアシッド （Ｓ） Ｓ，Ｓ′−ジメチル−２−ジフルオロメチル−
４−イソブチル−６−トリフルオロメチルピリジン−
３，５−ジカルボキシエート （Ｔ） ２−アミノ−４−（α−フルオロ，α−メチル
エチル）−６−［２−（３′５′−ジメチルフェノキ
シ）−１−メチル−エチルアミノ］−Ｓ−トリアジン （Ｕ） ２−アミノ−４−（α−クロロ，α−メチルエ
チル）−６−［２−（３′５′−ジメチルフェノキシ）
−１−メチル−エチルアミノ］−Ｓ−トリアジン （Ｖ） ２−アミノ−４−［１−ベンゾフラン−２′−
イルエチルアミノ］−６（α−フルオロ，α−メチルエ
チル）−Ｓ−トリアジン （Ｗ） ２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−ベンゾ
フラニル−エタンスルフォネート 本発明の除草剤組成物の有効成分について順次説明す
る。

【００１０】有効成分の一つであるカーバメート系誘導
体は、一般式（Ｉ）

【化１３】 （式中、Ａは

【化１４】 を示し、Ｂは

【化１５】 を示す。また、Ｘはハロゲン原子または炭素数１〜４の
ハロアルキル基を示す。Ｒ¹ は水素原子、炭素数１〜４
のアルキル基を示し、Ｒ² は水素原子、炭素数１〜４の
アルキル基、メトキシエチル基を示し、Ｒ³ は炭素数１
〜６のアルキル基、炭素数１〜４のハロアルキル基、フ
ェニル基を示す。）で示されるものである。

【００１１】前記一般式（Ｉ）で表されるカーバメイト
誘導体は新規な化合物であり、式中のＡ、Ｂ、Ｘ、
Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ について具体的に説明すると以下の通
りである。

【００１２】Ａは

【化１６】 である。

【００１３】そして式Ａ中のＸはハロゲン原子または炭
素数１〜４のハロアルキル基である。ここにハロゲン原
子としては弗素、塩素、臭素、沃素が挙げられる。炭素
数１〜４のハロアルキル基としては、炭素数１〜４のア
ルキル基が１個又は２個以上の上記ハロゲン原子で置換
された基、例えばハロメチル基、ハロエチル基、ハロプ
ロピル基、ハロブチル基が挙げられる。

【００１４】Ｂは

【化１７】 である。

【００１５】Ｒ¹ は水素原子または炭素数１〜４のアル
キル基である。ここに炭素数１〜４のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げ
られる。

【００１６】Ｒ² は水素原子、炭素数１〜４のアルキル
基またはメトキシエチル基である。ここに炭素数１〜４
のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基が挙げられる。

【００１７】Ｒ³ は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数
１〜４のハロアルキル基またはフェニル基である。ここ
に炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
が挙げられる。炭素数１〜４のハロアルキル基として
は、炭素数１〜４のアルキル基が１個又は２個以上のハ
ロゲン原子で置換された基、例えばハロメチル基、ハロ
エチル基、ハロプロピル基、ハロブチル基が挙げられ
る。ここでアルキル基、ハロアルキル基中のアルキルは
直鎖状および分枝状のいずれでもよい。

【００１８】なお、以下メチル基をＭｅ，エチル基をＥ
ｔ，ｎ−プロピル基をｎ−Ｐｒ，ｉ−プロピル基をｉ−
Ｐｒ，ｎ−ブチル基をｎ−Ｂｕ、ｔ−ブチル基をｔ−Ｂ
ｕと略記することがある。

【００１９】一般式（Ｉ）で示される本発明のカーバメ
ート誘導体の代表例としては、表１〜表４に掲げるもの
が挙げられる。

【００２０】

【表１】

【００２１】

【表２】

【００２２】

【表３】

【００２３】

【表４】

【００２４】また、一般式（Ｉ）のカーバメイト誘導体
にはベンジル部分、オキシラン部分の４級炭素に基づい
て鏡像体が存在し、通常ラセミ体として得られるが、不
斉合成などの既知の方法で各対掌体を得ることも可能で
ある。カーバメート誘導体（Ｉ）はラセミ体であって
も、あるいは各鏡像体単独であってもよく、それぞれが
除草剤として使用できる。

【００２５】また、一般式（Ｉ）のカーバメート誘導体
において不斉炭素が２個以上ある場合にはジアステレオ
マーが存在し、カラムクロマトグラフィーなどの既知の
方法で各ジアステレオマーを得ることも可能である。カ
ーバメート誘導体（Ｉ）はジアステレオマー混合物であ
っても、あるいは各ジアステレオマー単独であってもよ
く、それぞれが除草剤成分として使用できる。

【００２６】カーバメート誘導体（Ｉ）のうちポリハロ
アルケン誘導体（Ｉａ）（表１および表２の化合物）
は、図１で示されるように、プロペン誘導体（III)を原
料として製造することができる。

【００２７】すなわち、塩化第一銅などの触媒及びピペ
リジンやシクロヘキシルアミンなどのアミン類の存在
下、プロペン誘導体（III)とポリハロアルカン（ＣＣｌ
₂ ＸＸ′）とを、通常０℃ないしポリハロアルカンの沸
点の範囲の温度において１〜２０時間程度反応させるこ
とにより、所望のポリハロアルケン誘導体（Ｉａ）又は
ポリハロアルカン誘導体（IV）が得られる。この場合、
反応条件を適当に選ぶことによりポリハロアルケン誘導
体（Ｉａ）に直接導いてもよいし、ポリハロアルカン誘
導体（IV）に導いてもよい。ポリハロアルカン誘導体
（IV）を得た場合には、このものを、例えばｏ−ジクロ
ロベンゼン、１，２−ジクロロエタンなどの溶媒中にお
いて塩化第一銅、塩化第二鉄などの触媒の存在下に適当
な温度に加熱することにより、所望のポリハロアルケン
誘導体（Ｉａ）に導くことができる。

【００２８】また、本発明のカーバメート誘導体（I)の
うちオキシラン誘導体（Ｉｂ）（表３および表４の化合
物）は、図２で示されるように、ポリハロアルケン誘導
体（Ｉａ）を過酸化物を用いてエポキシ化することによ
り製造することができる。

【００２９】この反応において用いられる過酸化物につ
いては特に制限はなく、通常エチレン性二重結合のエポ
キシ化に用いられるもの、例えばクメンハイドロパーオ
キシド、ｔ−ブチル−ハイドロパーオキシド、シクロヘ
キシルハイドロパーオキシドや過酢酸、α−ハイドロパ
ーオキシイソ酪酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸
などの過有機カルボン酸および過酸化水素、オキソンな
どを使用することができるが、これらの中で過有機カル
ボン酸、特に過酢酸及びｍ−クロロ過安息香酸が好適で
ある。この反応は通常、不活性溶媒中において、好まし
くは０〜８０℃の範囲の温度において実施される。不活
性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、１，１，１−トリクロロ
エタン、ｏ−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素類が好ましく用いられる。また、所望により、この反
応系に酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、りん酸水
素二ナトリウム、炭酸リチウムなどの緩衝剤を添加して
反応を行ってもよい。前記アルケン誘導体（Ｉａ）と過
酸化物との使用割合については、過酸化物をアルケン誘
導体（Ｉａ）に対して１〜４倍当量の割合で用いること
が望ましい。反応時間は、反応温度や使用する過酸化物
の種類などによって異なり、一義的に決めることができ
ないが、通常１〜５０時間程度である。

【００３０】なお、カーバメート誘導体（I)の製造にお
いて原料とて用いられる前記プロペン誘導体（III)は容
易に入手しうる原料を用いて通常の方法により製造する
ことができる。図３にその代表例を示す。

【００３１】次に一般式（II）のアミド誘導体について
説明する。

【００３２】前記一般式（II）で表されるアミド誘導体
は、新規な化合物であり、式中のＣ、Ｄ、Ｙ、Ｒ⁴ 、Ｒ
⁵ およびＲ⁶ について具体的に説明すると以下の通りで
ある。

【００３３】Ｃは

【化１８】 である。

【００３４】そして式Ｃ中のＹはハロゲン原子または炭
素数１〜４のハロアルキル基である。ここにハロゲン原
子としては弗素、塩素、臭素、沃素が挙げられる。炭素
数１〜４のハロアルキル基としては、１個又は２個以上
の上記ハロゲン原子を有するメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基が挙げられる。

【００３５】Ｄは

【化１９】 である。

【００３６】そして式中ＤのＲ⁴ は水素原子または炭素
数１〜４のアルキル基である。ここに炭素数１〜４のア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基が挙げられる。

【００３７】式中ＤのＲ⁵ は水素原子、炭素数１〜４の
アルキル基または炭素数１〜４のアシル基である。ここ
に炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。炭素数は１
〜４のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プ
ロピオニル基、ブチリル基が挙げられる。

【００３８】式中ＤのＲ⁶ は水素原子、炭素数１〜６の
アルキル基または炭素数１〜４のハロアルキル基であ
る。ここに炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基が挙げられ、炭素数３以上のアルキル基はシク
ロアルキル基であっても良い。炭素数１〜４のハロアル
キル基としては、１個又は２個以上の上記ハロゲン原子
を有するメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が
挙げられる。なお、アルキル基、ハロアルキル基におけ
るアルキルは、直鎖状および分枝状のいずれでもよい。

【００３９】一般式（II）のアミド誘導体の代表例とし
ては、表５〜表８に掲げるものが挙げられる。

【００４０】

【表５】

【００４１】

【表６】

【００４２】

【表７】

【００４３】

【表８】

【００４４】また、アミド誘導体（II）にはベンジル部
分、オキシラン部分の４級炭素に基づいて鏡像体が存在
し、通常セラミ体として得られるが、不斉合成などの既
知の方法で各対掌体を得ることも可能である。アミド誘
導体（II）はラセミ体であっても、あるいは各鏡像体単
独であってもよく、それぞれが除草剤として使用でき
る。

【００４５】また、アミド誘導体（II）において不斉炭
素が２個以上ある場合にはジアステレオマーが存在し、
カラムクロマトグラフィーなどの既知の方法で各ジアス
テレオマーを得ることも可能である。アミド誘導体（I
I）はジアステレオマー混合物であっても、あるいは各
ジアステレオマー単独であってもよく、それぞれが除草
剤成分として使用できる。

【００４６】アミド誘導体（II）のうちポリハロアルケ
ン誘導体（IIａ）（表５および表６の化合物）は、図４
で示されるように、プロペン誘導体（VI）を原料として
製造することができる。

【００４７】すなわち、塩化第一銅などの触媒及びピペ
リジンやシクロヘキシルアミンなどのアミン類の存在
下、プロペン誘導体（VI）とポリハロアルカン（ＣＣｌ
₂ ＹＸ′）とを、通常０℃ないしポリハロアルカンの沸
点の範囲の温度において１〜２０時間程度反応させるこ
とにより、所望のポリハロアルケン誘導体（IIａ）又は
ポリハロアルカン誘導体（Ｖ）が得られる。この場合、
反応条件を適当に選ぶことによりポリハロアルケン誘導
体（IIａ）に直接導いてもよいし、ポリハロアルカン誘
導体（Ｖ）に導いてもよい。ポリハロアルカン誘導体
（Ｖ）を得た場合には、このものを、例えばｏ−ジクロ
ロベンゼン、１，２−ジクロロエタンなどの溶媒中にお
いて塩化第一銅、塩化第二鉄などの触媒の存在下に適当
な温度に加熱することにより、所望のポリハロアルケン
誘導体（IIａ）に導くことができる。また、アミド誘導
体（II）のうちオキシラン誘導体（IIｂ）（表７および
表８の化合物）は、図５で示されるように、ポリハロア
ルケン誘導体（IIａ）を過酸化物を用いてエポキシ化す
ることにより製造することができる。

【００４８】この反応において用いられる過酸化物につ
いては特に制限はなく、通常エチレン性二重結合のエポ
キシ化に用いられるもの、例えばクメンハイドロパーオ
キシド、ｔ−ブチル−ハイドロパーオキシド、シクロヘ
キシルハイドロパーオキシドや過酢酸、α−ハイドロパ
ーオキシイソ酪酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸
などの過有機カルボン酸および過酸化水素、オキソンな
どを使用することができるが、これらの中で過有機カル
ボン酸、特に過酢酸及びｍ−クロロ過安息香酸が好適で
ある。この反応は通常、不活性溶媒中において、好まし
くは０〜８０℃の範囲の温度において実施される。不活
性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、１，１，１−トリクロロ
エタン、ｏ−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素類が好ましく用いられる。また、所望により、この反
応系に酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、りん酸水
素二ナトリウム、炭酸リチウムなどの緩衝剤を添加して
反応を行ってもよい。前記アルケン誘導体（IIａ）と過
酸化物との使用割合については、過酸化物をアルケン誘
導体（IIａ）に対して１〜４倍当量の割合で用いること
が望ましい。反応時間は、反応温度や使用する過酸化物
の種類などによって異なり、一義的に決めることができ
ないが、通常１〜５０時間程度である。

【００４９】なお、アミド誘導体（II）の製造において
原料として用いられる前記プロペン誘導体（VI）は容易
に入手しうる原料を用いて通常の方法により製造するこ
とができる。図６及び図７にその代表例を示す。

【００５０】本発明の除草剤組成物においては、上記一
般式（Ｉ）のカーバメート誘導体および一般式（II）の
アミド誘導体からなる群から選ばれる少なくとも１種
に、下記の化合物（Ａ）〜（Ｗ）からなる群から選ばれ
る少なくとも１種の化合物が配合される。

【００５１】（１）クロロアセトアミド系除草剤 （Ａ） ２−クロロ−２′，６′−ジメチル−Ｎ−（ｎ
−ブロポキシエチル）−アセトアニリド （Ｂ） Ｎ−ブトキシメチル−２−クロロ−２′，６′
−ジメチルアセトアニリド （Ｃ） ２−クロロ−Ｎ−（３−メトキシ−２−チエニ
ル）−メチル−２′，６′−ジメチルアセトアニリド （２）チオカーバメート系化合物 （Ｄ） Ｓ−（４−クロロベンジル）Ｎ，Ｎ−ジメチル
−チオカーバメート （Ｅ） Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレン−チオカ
ーバメート （Ｆ） Ｓ−（α，αジメチルベンジル）ピペリジン−
１−カルボチオエート （Ｇ） Ｓ−ベンジル−Ｎ−エチル−Ｎ−（１，２−ジ
メチル−プロピル）チオカーバメート （Ｈ） ｏ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−６−メト
キシ−ピリジル（メチル）チオカーバメート （３）アミド系除草剤 （Ｉ） ２−ベンゾチアゾール−２−イルオキシ−Ｎ−
メチル−アセトアニリド （Ｊ） ２′３′−ジクロロ−４−エトキシメトキシベ
ンズアニリド （４）ジフェニルエーテル系除草剤 （Ｋ） ２，４，６−トリクロロフェニル−４−ニトロ
フェニルエーテル （Ｌ） ２，４−ジクロロフェニル−３′−メトキシ−
４′−ニトロフェニルエーテル （Ｍ） メチル−５−（２，４−ジクロロフェノキシ）
−２−ニトロベンゾエート （５）トリアジン系除草剤 （Ｎ） ２，４−ビス（エチルアミノ）−６−メチルチ
オ−１，３，５−トリアジン （Ｏ） ２，４−ビス（イソプロピルアミノ）−６−メ
チルチオ−１，３，５−トリアジン （６）複素環系除草剤 （Ｐ） ５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（２，４−ジクロ
ロ−５−イソプロポキシフェニル）−１，３，４−オキ
サジアゾール−２（３Ｈ）−オン （Ｑ） ３−Ｎ−（２−フルオロ−４−クロロ−シクロ
ペンチルオキシフェニル）−５−イソプロピリデン−
１，３−オキサゾリシン−２，４−ジオン （Ｒ） ３，７−ジクロロキノリン−８−カルボキシリ
ックアシッド （Ｓ） Ｓ，Ｓ′−ジメチル−２−ジフルオロメチル−
４−イソブチル−６−トリフルオロメチルピリジン−
３，５−ジカルボキシエート （Ｔ） ２−アミノ−４−（α−フルオロ，α−メチル
エチル）−６−［２−（３′５′−ジメチルフェノキ
シ）−１−メチル−エチルアミノ］−Ｓ−トリアジン （Ｕ） ２−アミノ−４−（α−クロロ，α−メチルエ
チル）−６−［２−（３′５′−ジメチルフェノキシ）
−１−メチル−エチルアミノ］−Ｓ−トリアジン （Ｖ） ２−アミノ−４−［１−ベンゾフラン−２′−
イルエチルアミノ］−６−（α−フルオロ，α−メチル
エチル）−Ｓ−トリアジン （Ｗ） ２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−ベンゾ
フラニル−エタンスルフォネート また、上記化合物（Ａ）〜（Ｗ）の構造式、一般名、商
品名、製法などを以下に示す。

【００５２】化合物（Ａ） 構造式

【化２０】 一般名 プレチラクロール 商品名 ソルネット（チバガイギー）

【００５３】化合物（Ｂ） 構造式

【化２１】 一般名 ブタクロール 商品名 マーシェット（三共）

【００５４】化合物（Ｃ） 構造式

【化２２】 製法 特開昭６０−４１８１号公報の記載に従って合成した。

【００５５】化合物（Ｄ） 構造式

【化２３】 一般名 ベンチオカーブ 商品名 サターン（クミアイ化学）

【００５６】化合物（Ｅ） 構造式

【化２４】 一般名 モリネート 商品名 オードラム（八洲化学）

【００５７】化合物（Ｆ） 構造式

【化２５】 一般名 ジメピレート 製法 ブッシュ混（デュポン）よりアセトンで抽出して得た。

【００５８】化合物（Ｇ） 構造式

【化２６】 一般名 エスプロカルブ 製法 フジグラス混（日本農薬）よりアセトンで抽出して得
た。

【００５９】化合物（Ｈ） 構造式

【化２７】 一般名 ピリブチカルブ 製法 ジーゼット混（三共）よりアセトンで抽出して得た。

【００６０】化合物（Ｉ） 構造式

【化２８】 一般名 メフェナセット 商品名 ヒノクロア（日本バイエルアグロケム）

【００６１】化合物（Ｊ） 構造式

【化２９】 製法 特開昭５６−７３０５５号公報に従って合成した。

【００６２】化合物（Ｋ） 構造式

【化３０】 一般名 クロロニトルフェン（ＣＮＰ） 商品名 ＭＯ（三共東圧）

【００６３】化合物（Ｌ） 構造式

【化３１】 一般名 クロメトキシニル 商品名 Ｘ−５２（石原産業）

【００６４】化合物（Ｍ） 構造式

【化３２】 一般名 ビフェノックス 商品名 モーダウン（八洲化学）

【００６５】化合物（Ｎ） 構造式

【化３３】 一般名 シメトリン 製法 クミリードＳＭ（クミアイ化学）よりアセトン抽出して
得た。

【００６６】化合物（Ｏ） 構造式

【化３４】 一般名 プロメトリン 商品名 ゲザガード（日本農薬）

【００６７】化合物（Ｐ） 構造式

【化３５】 一般名 オキサジアゾン 商品名 ロンスター（日産化学）

【００６８】化合物（Ｑ） 構造式

【化３６】 製法 特開平１−３１６３０５号公報に従って合成した。

【００６９】化合物（Ｒ） 構造式

【化３７】 一般名 キンクロラック 製法 イナズマ（日産化学）よりアセトン抽出して得た。

【００７０】化合物（Ｓ） 構造式

【化３８】 一般名 ジチオピル 製法 ディクトラン（大日本インキ）よりアセトン抽出して得
た。

【００７１】化合物（Ｔ） 構造式

【化３９】 製法 ＷＯ９０／０９８３７８号公報に従って合成した。

【００７２】化合物（Ｕ） 構造式

【化４０】 製法 ＷＯ９０／０９３７８号公報に従って合成した。

【００７３】化合物（Ｖ） 構造式

【化４１】 製法 ＷＯ９０／０９３７８号公報に従って合成した。

【００７４】化合物（Ｗ） 構造式

【化４２】 一般名 ベンフレセート 製法 特開昭５３−９８９３６号公報の記載に従って合成し
た。

【００７５】上記のように化合物（Ａ）〜（Ｗ）として
示した化合物は、公知の製造方法により得ることがで
き、また市販されているものを用いることもできる。

【００７６】本発明の除草剤組成物は、上記一般式
（Ｉ）で表されるカーバメート系誘導体および上記一般
式（II）で表されるアミド系誘導体からなる群から選ば
れる少なくとも１種と、上記化合物（Ａ）〜（Ｗ）から
なる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を有効成分
として含有するものであるが、その配合割合は特に制限
がなく、広い配合比において優れた相乗効果が得られ
る。

【００７７】一般的な配合例を示すと、一般式（Ｉ）の
カーバメート系誘導体および／または一般式（II）のア
ミド系誘導体１重量部に対し、化合物（Ａ）〜（Ｗ）は
０．０１〜３００重量部、好ましくは０．０２〜１００
重量部の範囲で用いられる。本発明の除草剤組成物は、
上記のカーバメート系誘導体（Ｉ）および／またはアミ
ド系誘導体（II）と上記化合物（Ａ）〜（Ｗ）よりなる
群から選ばれた少なくとも１種の化合物を、有機溶媒等
の液状担体または鉱物質粉等の固体担体と混合し、水和
剤、乳剤、粉剤、粒剤、フロアブル剤、液剤等の形態に
製剤化して使用することができる。製剤化に際しては、
所望により乳化剤、分散剤、展着剤、懸濁剤、浸透剤、
安定剤として各種の界面活性剤、その他の補助剤を添加
すればよい。

【００７８】本発明の除草剤組成物を水和剤の形態で用
いる場合、通常は、上述したカーバメート系誘導体
（Ｉ）および／またはアミド系誘導体（II）と化合物
（Ａ）〜（Ｗ）よりなる群から選ばれた少なくとも１種
の化合物を有効成分として５〜５５重量％、固体担体４
０〜８８重量％および界面活性剤２〜５重量％の割合で
配合して組成物を調製し、これを用いればよい。

【００７９】また、乳剤およびフロアブル剤の形態で用
いる場合は、通常は、有効成分として上述したカーバメ
ート系誘導体（Ｉ）および／またはアミド系誘導体（I
I）と化合物（Ａ）〜（Ｗ）よりなる群から選ばれた少
なくとも１種の化合物を１０〜５０重量％、溶剤３５〜
７５重量％および界面活性剤５〜１５重量％の割合で配
合して調製すればよい。

【００８０】一方、粉剤の形態で用いる場合は、通常
は、有効成分として上述したカーバメート系誘導体
（Ｉ）および／またはアミド系誘導体（II）と化合物
（Ａ）〜（Ｗ）よりなる群から選ばれた少なくとも１種
の化合物を１〜２０重量％、固体担体７５〜９７重量％
および界面活性剤２〜５重量％の割合で配合して調製す
ればよい。

【００８１】さらに、粒剤の形態で用いる場合は、通常
は、有効成分として上述したカーバメート系誘導体
（Ｉ）および／またはアミド系誘導体（II）と化合物
（Ａ）〜（Ｗ）よりなる群から選ばれた少なくとも１種
の化合物を３〜２０重量％、固体担体８０〜９５重量％
および界面活性剤２〜５重量％の割合で配合して調製す
ればよい。

【００８２】ここで、固体担体としては鉱物質の微粉が
用いられ、この鉱物質の微粉として具体的には、ケイソ
ウ土、消石灰等の酸化物、リン灰石等のリン酸塩、セッ
コウ等の硫酸塩、タルク、パイロフェライト、クレー、
カオリン、ベントナイト、酸性白土、ホワイトカーボ
ン、石英粉末、ケイ石粉等のケイ酸塩などを挙げること
ができる。

【００８３】また、溶剤としては、有機溶媒が用いら
れ、具体的にはキシレン、トルエン、ベンゼン等の芳香
族炭化水素、ｏ−クロルトルエン、トリクロルメタン、
トリクロルエチレン等の塩素化炭化水素、シクロヘキサ
ノール、アミルアルコール、エチレングリコール等のア
ルコール、エチレングルコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル等のアルコールエ
ーテル、イソホロン、シクロヘキサノン、シクロヘキセ
ニル−シクロヘキサノン等のケトン、ブチルセロソル
ブ、ジメチルエーテル、メチルエチルエーテル等のエー
テル、酢酸イソプロピル、酢酸ベンジル、フタル酸メチ
ル等のエステル、ジメチルホルムアミド等のアミド、ア
セトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル、ジメチ
ルスルホキシド等のスルホキシド、あるいはこれらの混
合物等の有機溶媒を挙げることができる。

【００８４】さらに、界面活性剤としては、アニオン型
（アルキルベンゼンスルフォネート、アルキルスルフォ
ネート、ラウリン酸アミドスルフォネート等）、ノニオ
ン型（ポリオキシエチレンオクチルエーテル、ポリエチ
レングリコールラウレート、ソルビタンアルキルエステ
ル等）、カチオン型（ジメチルラウリルベンジルアンモ
ニウムクロライド、ラウリルアミン、ステアリルトリメ
チルアンモニウムクロライド等）あるいは両性イオン型
（アミノ酸、ベタイン等）のいずれを用いることもでき
る。

【００８５】また、本発明の除草剤組成物には、製剤の
性状を改善し、除草効果を高める目的で、アルギン酸ソ
ーダ、カルボキシメチルセルロース、カルボキシビニル
ポリマー、アラビヤガム、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース等の高分子化合物や補助剤を併用することもで
きる。

【００８６】このような本発明の除草剤組成物は、水稲
作において雑草の発芽前または発芽後に湛水土壌処理す
ることにより、薬害のない高選択性除草剤として優れた
効果を発揮する。本発明の除草剤組成物は、有効成分で
１０アール当り１ｇ〜１，０００ｇ程度、好ましくは５
〜５００ｇを施用する。

【００８７】また、必要に応じて本発明の除草剤組成物
に殺虫剤または各種添加物を加えても良い。とくに除草
剤として、より一層の効果向上を目指して、他の除草剤
を併用することが望ましい場合がある。添加し得る除草
剤としては、表９〜１０に示すものが挙げられる。

【００８８】

【表９】

【００８９】

【表１０】

【００９０】

【実施例】次に本発明を実施例により説明する。なお、
下記製造例中、「部」は重量％を意味する。カーバメー
ト系誘導体またはアミド系誘導体としては、表１１〜１
２に示した化合物を用いた。

【００９１】

【表１１】

【００９２】

【表１２】

【００９３】（１）除草剤組成物の調製 タルク５７重量部、ベントナイト４０重量部、界面活性
剤としてアルキルベンゼンスルホン酸ソーダ３重量部を
均一に粉砕混合して水和剤用の担体を得た。

【００９４】次にカーバメート系誘導体（Ｉ）、アミド
系誘導体（II）または化合物（Ａ）〜（Ｗ）で表される
化合物のいずれか一剤１０量部と、上記の水和剤用担体
９０重量部を均一に粉砕混合して水和剤を得た。

【００９５】さらに、カーバメート系誘導体（Ｉ）また
はアミド系誘導体（II）と化合物（Ａ）〜（Ｗ）で表さ
れる化合物のいずれか一剤とを含有する水和剤のそれぞ
れ水で希釈したものを所定量混合して、本発明の除草剤
組成物を調製した。

【００９６】（２）生物試験Ｉ １／２０００アールのワグネルポットに、水田土壌を充
填し、表層にノビエの種子を播種し、さらに２．５葉期
の稲苗を移植した。なお、湛水深は３cmとした。ポット
を２０〜２５℃の温室内に置いて、植物を育成し、水稲
移植後、１０日後（ノビエ１．５葉期）および水稲移植
後１７日後（ノビエ３．５葉期）に前記（Ｉ）で調製し
た水和剤を所定量加えて処理した。薬剤処理後２０日目
に、除草効果および水稲薬害を下記の判定基準に従い、
調査した。結果を表１３〜２１（メビエ１．５葉期）お
よび表２２〜３０（ノビエ３．５葉期）に示す。

【００９７】 （判定基準） 除草効果の程度 除草効果（殺草率） ０ ５％未満（ほとんど効果なし） １ ５％〜２０％未満 ２ ２０％〜４０％未満 ３ ４０％〜７０％未満 ４ ７０％〜９０％未満 ５ ９０％以上（ほとんど完全枯死） ただし、上記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重お
よび無処理区の地上部生草重を測定して、下記の式によ
り求めたものである。

【００９８】殺草率（％）＝｛１−（処理区の地上部生
草重／無処理区の地上部生草重）｝×１００ 薬害の程度 ０…作物に対する薬害は認められず １…作物に対する薬害は殆ど認められず ２…作物に対する薬害が若干認められる ３…作物に対する薬害が認められる ４…作物に対する薬害が顕著に認められる

【００９９】

【表１３】

【０１００】

【表１４】

【０１０１】

【表１５】

【０１０２】

【表１６】

【０１０３】

【表１７】

【０１０４】

【表１８】

【０１０５】

【表１９】

【０１０６】

【表２０】

【０１０７】

【表２１】

【０１０８】

【表２２】

【０１０９】

【表２３】

【０１１０】

【表２４】

【０１１１】

【表２５】

【０１１２】

【表２６】

【０１１３】

【表２７】

【０１１４】

【表２８】

【０１１５】

【表２９】

【０１１６】

【表３０】

【０１１７】（３）生物試験II １／１５５００アールの磁製ポットに、水田土壌を充填
し、表層にノビエの種子を播種した。湛水深を３ｃｍと
した後に、２０〜２５℃の温室内に置いて、植物を育成
し、播種後１４日目、ノビエが３．５葉期に成育した時
期に、前記（１）で調製した水和剤を水に希釈し、所定
量滴下処理した。薬液処理後３０日目に、残存している
ノビエの地上部生草重および無処理区の地上部生草重を
測定し、下記の式により、殺草率（％）を算出した。結
果については表３１〜３８に示す。

【０１１８】殺草率（％）＝｛１−（処理区の地上部生
草重／無処理区の地上部生草重）｝×１００ なお、表３１〜３８中の予想値（Ｑ_E ）は、Colby の次
式により算出した混合剤の殺草率の予想値（Ｑ_E ）であ
る。ここで、上記試験により測定した実測値（殺草率）
が、この予想値（Ｑ_E ）より大きければ、除草活性に相
乗作用が発現したということになる。

【０１１９】 Ｑ_E （％）＝Ｑａ＋Ｑｂ−｛（Ｑａ×Ｑｂ）／１００｝ Ｑ_E ＝予想値 Ｑａ＝除草剤Ａ（有効成分として一般式（Ｉ）および／
または一般式（II）の化合物のみを含む）をａグラム／
１０アールの量で処理した時の殺草率 Ｑｂ＝除草剤Ｂ（有効成分として化合物（Ａ）〜（Ｗ）
のうちの１種のみを含む）をｂグラム／１０アールの量
で処理した時の殺草率

【０１２０】

【表３１】

【０１２１】

【表３２】

【０１２２】

【表３３】

【０１２３】

【表３４】

【０１２４】

【表３５】

【０１２５】

【表３６】

【０１２６】

【表３７】

【０１２７】

【表３８】

【０１２８】

【発明の効果】本発明の除草剤組成物は、その有効成分
であるカーバメート系誘導体および／またはアミド系誘
導体と、特定の化合物群（Ａ）〜（Ｗ）から選ばれた少
なくとも１種の化合物とを含有することにより、予想を
大きく上まわる極めて顕著な相乗効果を発現し、特に水
田の強害草であるノビエに対し、かなり生育が進んだも
のまで高い除草効果を示す。その結果、本発明の除草剤
組成物は、水田の強害雑草であるノビエに対し、処理適
期幅が拡大され、また有効薬量の低減を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般式（Ｉａ）の化合物の製造工程図

【図２】一般式（Ｉｂ）の化合物の製造工程図

【図３】一般式（III)の化合物の製造工程図

【図４】一般式（IIａ）の化合物の製造工程図

【図５】一般式（IIｂ）の化合物の製造工程図

【図６】一般式（VI）の化合物の製造工程図（前半）

【図７】一般式（VI）の化合物の製造工程図（後半）

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成６年２月４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００７９

【補正方法】変更

【補正内容】

【００７９】また、乳剤およびフロアブル剤の形態で用
いる場合は、通常は、有効成分として上述したカーバメ
ート系誘導体（Ｉ）および／またはアミド系誘導体（I
I）と化合物（Ａ）〜（Ｗ）よりなる群から選ばれた少
なくとも１種の化合物を１〜５０重量％、溶剤３５〜９
４重量％および界面活性剤５〜１５重量％の割合で配合
して調製すればよい。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 43:82 47:12 43:04） (72)発明者 鎌野 秀樹 千葉県袖ケ浦市上泉1280番地 出光興産株 式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａは 【化２】 を示し、Ｂは 【化３】 を示す。また、Ｘはハロゲン原子または炭素数１〜４の
   ハロアルキル基を示す。Ｒ¹ は水素原子、炭素数１〜４
   のアルキル基を示し、Ｒ² は水素原子、炭素数１〜４の
   アルキル基、メトキシエチル基を示し、Ｒ³ は炭素数１
   〜６のアルキル基、炭素数１〜４のハロアルキル基、フ
   ェニル基を示す。）で表されるカーバメート系誘導体お
   よび一般式（II） 【化４】 （式中、Ｃは 【化５】 を示し、Ｄは 【化６】 を示し、そして、式Ｃ中のＹはハロゲン原子または炭素
   数１〜４のハロアルキル基を示し、式Ｄ中のＲ⁴ は水素
   原子または炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁵ は水
   素原子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４
   のアシル基を示し、Ｒ⁶ は水素原子、炭素数１〜６のア
   ルキル基または炭素数１〜４のハロアルキル基を示
   す。）で表されるアミド系誘導体からなる群から選ばれ
   る少なくとも１種の化合物と、下記化合物（Ａ）〜
   （Ｗ）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
   とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組
   成物。 （Ａ） ２−クロロ−２′，６′−ジメチル−Ｎ−（ｎ
   −プロポキシエチル）−アセトアニリド （Ｂ） Ｎ−ブトキシメチル−２−クロロ−２′，６′
   −ジメチルアセトアニリド （Ｃ） ２−クロロ−Ｎ−（３−メトキシ−２−チエニ
   ル）−メチル−２′，６′−ジメチルアセトアニリド （Ｄ） Ｓ−（４−クロロベンジル）Ｎ，Ｎ−ジメチル
   −チオカーバメート （Ｅ） Ｓ−エチル−Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレン−チオカ
   ーバメート （Ｆ） Ｓ−（α，α−ジメチルベンジル）ピペリジン
   −１−カルボチオエート （Ｇ） Ｓ−ベンジル−Ｎ−エチル−Ｎ−（１，２−ジ
   メチル−プロピル）チオカーバメート （Ｈ） ｏ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−６−メト
   キシ−ピリジル（メチル）チオカーバメート （Ｉ） ２−ベンゾチアゾール−２−イルオキシ−Ｎ−
   メチル−アセトアニリド （Ｊ） ２′３′−ジクロロ−４−エトキシメトキシベ
   ンズアニリド （Ｋ） ２，４，６−トリクロロフェニル−４−ニトロ
   フェニルエーテル （Ｌ） ２，４−ジクロロフェニル−３′−メトキシ−
   ４′−ニトロフェニルエーテル （Ｍ） メチル−５−（２，４−ジクロロフェノキシ）
   −２−ニトロベンゾエート （Ｎ） ２，４−ビス（エチルアミノ）−６−メチルチ
   オ−１，３，５−トリアジン （Ｏ） ２，４−ビス（イソプロピルアミノ）−６−メ
   チルチオ−１，３，５−トリアジン （Ｐ） ５−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（２，４−ジクロ
   ロ−５−イソプロポキシフェニル）−１，３，４−オキ
   サジアゾール−２（３Ｈ）−オン （Ｑ） ３−Ｎ−（２−フルオロ−４−クロロ−シクロ
   ペンチルオキシフェニル）−５−イソプロピリデン−
   １，３−オキサゾリジン−２，４−ジオン （Ｒ） ３，７−ジクロロキノリン−８−カルボキシリ
   ックアシッド （Ｓ） Ｓ，Ｓ′−ジメチル−２−ジフルオロメチル−
   ４−イソブチル−６−トリフルオロメチルピリジン−
   ３，５−ジカルボキシエート （Ｔ） ２−アミノ−４−（α−フルオロ，α−メチル
   エチル）−６−［２−（３′５′−ジメチルフェノキ
   シ）−１−メチル−エチルアミノ］−Ｓ−トリアジン （Ｕ） ２−アミノ−４−（α−クロロ，α−メチルエ
   チル）−６−［２−（３′５′−ジメチルフェノキシ）
   −１−メチル−エチルアミノ］−Ｓ−トリアジン （Ｖ） ２−アミノ−４−［１−ベンゾフラン−２′−
   イルエチルアミノ］−６（α−フルオロ，α−メチルエ
   チル）−Ｓ−トリアジン （Ｗ） ２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−ベンゾ
   フラニル−エタンスルフォネート