JPH07206607A - 除草剤組成物 - Google Patents

除草剤組成物

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JPH07206607A
JPH07206607A JP724494A JP724494A JPH07206607A JP H07206607 A JPH07206607 A JP H07206607A JP 724494 A JP724494 A JP 724494A JP 724494 A JP724494 A JP 724494A JP H07206607 A JPH07206607 A JP H07206607A
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carbon atoms
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derivative
compound
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JP724494A
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English (en)
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Hiroyuki Murakami
博幸 村上
Kazuyuki Takahashi
一幸 高橋
Seiji Tomita
誠司 富田
Hideki Kamano
秀樹 鎌野
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 一般式(I) 具体的には、例えば で表されるカーバメート系誘導体等の化合物と、例えば
1−{[2−(シクロプロピルカルボニル)フェニル]
スルファモイル}−3−(4,6−ジメトキシピリミジ
ン−2−イル)ウレアとを有効成分として含有すること
を特徴とする除草剤組成物。 【効果】 これらの除草剤組成物は、幅広い雑草スペク
トラムを示すとともに低薬量で高い除草効果を示し、水
稲薬害も少ない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は除草剤組成物に関する。
【0002】
【背景技術】これまでに種々の除草剤が開発されてお
り、農業生産性および省力化に寄与してきた。しかしな
がら、ある種の除草剤は長年に亘り使用されてきたた
め、これら除草剤の効かない難防除雑草が増えて来てお
り、殺草スペクトラムが広く、かつ、これら難防除雑草
に対しても有効な除草剤の出現が望まれている。
【0003】また、従来の除草剤による環境汚染問題を
解消するため、環境への投薬量の低い高活性除草剤の開
発も望まれている。さらには、雑草の長期間に亘る不均
一な発生に対処するため、残効性に優れ、かつ、雑草の
発生前から生育期までの広範囲の時期にわたって処理し
ても有効な処理適期幅の広い除草剤の出現も待たれてい
る。
【0004】このような状況のもとで、本発明者らは、
特定の新規なカーバメート系誘導体またはアミド系誘導
体が湛水土壌処理効果が優れた化合物であることを見い
出した(特願平4−200036号明細書および同4−
346937号明細書)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のカーバメート系
誘導体またはアミド系誘導体は単独でも十分な除草効果
を有するが、これら除草剤はアゼナ等の広葉雑草やミズ
ガヤツリなどの多年生雑草に対する効果は必ずしも十分
でなく、この点の改良が求められていた。
【0006】従って本発明の目的は、上記のカーバメー
ト系誘導体またはアミド系誘導体をベースにし、他の除
草剤を併用することにより、幅広い雑草スペクトラムを
有するとともに、より低薬量で高い除草活性を示す除草
剤組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明者は鋭意検討を加えた結果、特願平4−20003
6号明細書に記載のカーバメート系誘導体および特願平
4−346937号明細書に記載のアミド系誘導体から
選ばれる少なくとも1種の化合物に下記式(A)および
/または(B)で示される特定の化合物を組み合せた組
成物が、上記カーバメート系誘導体および上記アミド系
誘導体のそれぞれ単独の性質からは予測できない優れた
除草活性を発揮し、幅広い雑草スペクトラムを有すると
ともに、より低薬量で高い除草効果を示すことを見出
し、本発明を完成するに到った。
【0008】従って本発明は、一般式(I)
【化7】 (式中、Aは
【化8】 を示し、Bは
【化9】 を示す。また、式A中のXはハロゲン原子または炭素数
1〜4のハロアルキル基を示す。式B中のR1 は水素原
子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2は水素
原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4の
ハロアルキル基を示し、R3 は炭素数1〜6のアルキル
基、炭素数1〜4のハロアルキル基またはフェニル基を
示す。)で表されるカーバメート系誘導体および一般式
(II)
【化10】 (式中、Cは
【化11】 を示し、Dは
【化12】 を示し、そして、式C中のYはハロゲン原子または炭素
数1〜4のハロアルキル基を示し、式D中のR4 は水素
原子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、R5 は水
素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4
のアシル基を示し、R6 は水素原子、炭素数1〜6のア
ルキル基または炭素数1〜4のハロアルキル基を示
す。)で表されるアミド系誘導体からなる群から選ばれ
る少なくとも1種の化合物と、下記化合物(A)および
(B)から選ばれる少なくとも1種の化合物とを有効成
分として含有することを特徴とする除草剤組成物であ
る。
【0009】(A) 1−{[2−(シクロプロピルカ
ルボニル)フェニル]スルファモイル}−3−(4,6
−ジメトキシピリミジン−2−イル)ウレア (B) 1H−ピラゾール−5−スルフォンアマイド,
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル)−1−メチル−4−(2−メチル−2
H−テトラゾール−5−イル) 以下本発明を詳説する。
【0010】本発明の除草剤組成物の有効成分について
順次説明する。
【0011】有効成分の一つであるカーバメート系誘導
体は、一般式(I)
【化13】 (式中、Aは
【化14】 を示し、Bは
【化15】 を示す。また、式A中のXはハロゲン原子または炭素数
1〜4のハロアルキル基を示す。式B中のR1 は水素原
子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2は水素
原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4の
ハロアルキル基を示し、R3 は炭素数1〜6のアルキル
基、炭素数1〜4のハロアルキル基またはフェニル基を
示す。)で表されるものである。
【0012】前記一般式(I)で表されるカーバメイト
誘導体は新規な化合物であり、式中のA、B、X、
1 、R2 、R3 について具体的に説明すると以下の通
りである。
【0013】Aは
【化16】 である。
【0014】式A中のXはハロゲン原子または炭素数1
〜4のハロアルキル基である。ここにハロゲン原子とし
ては弗素、塩素、臭素、沃素が挙げられる。炭素数1〜
4のハロアルキル基としては、炭素数1〜4のアルキル
基が1個又は2個以上の上記ハロゲン原子で置換された
基、例えばハロメチル基、ハロエチル基、ハロプロピル
基、ハロブチル基が挙げられる。
【0015】Bは
【化17】 である。
【0016】R1 は水素原子または炭素数1〜4のアル
キル基である。ここに炭素数1〜4のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げ
られる。
【0017】R2 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル
基またはメトキシエチル基である。ここに炭素数1〜4
のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基が挙げられる。
【0018】R3 は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数
1〜4のハロアルキル基またはフェニル基である。ここ
に炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
が挙げられる。炭素数1〜4のハロアルキル基として
は、炭素数1〜4のアルキル基が1個又は2個以上のハ
ロゲン原子で置換された基、例えばハロメチル基、ハロ
エチル基、ハロプロピル基、ハロブチル基が挙げられ
る。
【0019】なお、上記X、R1 、R2 、R3 における
アルキル基、ハロアルキル基中のアルキルは、直鎖状お
よび分枝状のいずれでもよい。
【0020】なお、以下メチル基をMe,エチル基をE
t,n−プロピル基をn−Pr,i−プロピル基をi−
Pr,n−ブチル基をn−Bu、t−ブチル基をt−B
uと略記することがある。
【0021】一般式(I)で示される本発明のカーバメ
ート誘導体の代表例としては、表1〜表4に掲げるもの
が挙げられる。
【0022】
【表1】
【0023】
【表2】
【0024】
【表3】
【0025】
【表4】
【0026】また、一般式(I)のカーバメイト誘導体
にはベンジル部分、オキシラン部分の4級炭素に基づい
て鏡像体が存在し、通常ラセミ体として得られるが、不
斉合成などの既知の方法で各対掌体を得ることも可能で
ある。カーバメート誘導体(I)はラセミ体であって
も、あるいは各鏡像体単独であってもよく、それぞれが
除草剤として使用できる。
【0027】また、一般式(I)のカーバメート誘導体
において不斉炭素が2個以上ある場合にはジアステレオ
マーが存在し、カラムクロマトグラフィーなどの既知の
方法で各ジアステレオマーを得ることも可能である。カ
ーバメート誘導体(I)はジアステレオマー混合物であ
っても、あるいは各ジアステレオマー単独であってもよ
く、それぞれが除草剤成分として使用できる。
【0028】本発明においては、表1から表4に示され
る各カーバメート系誘導体と後記の化合物(A)とから
なる各組成物あるいは表1から表4に示される各カーバ
メート系誘導体と後記の化合物(B)とからなる各組成
物が除草剤として使用できる。
【0029】カーバメート誘導体(I)のうちポリハロ
アルケン誘導体(Ia)(表1および表2の化合物)
は、図1で示されるように、プロペン誘導体(III)を原
料として製造することができる。
【0030】すなわち、塩化第一銅などの触媒及びピペ
リジンやシクロヘキシルアミンなどのアミン類の存在
下、プロペン誘導体(III)とポリハロアルカン(CCl
2 XX′)とを、通常0℃ないしポリハロアルカンの沸
点の範囲の温度において1〜20時間程度反応させるこ
とにより、所望のポリハロアルケン誘導体(Ia)又は
ポリハロアルカン誘導体(IV)が得られる。この場合、
反応条件を適当に選ぶことによりポリハロアルケン誘導
体(Ia)に直接導いてもよいし、ポリハロアルカン誘
導体(IV)に導いてもよい。ポリハロアルカン誘導体
(IV)を得た場合には、このものを、例えばo−ジクロ
ロベンゼン、1,2−ジクロロエタンなどの溶媒中にお
いて塩化第一銅、塩化第二鉄などの触媒の存在下に適当
な温度に加熱することにより、所望のポリハロアルケン
誘導体(Ia)に導くことができる。
【0031】また、本発明のカーバメート誘導体(I)
のうちオキシラン誘導体(Ib)(表3および表4の化
合物)は、図2で示されるように、ポリハロアルケン誘
導体(Ia)を過酸化物を用いてエポキシ化することに
より製造することができる。
【0032】この反応において用いられる過酸化物につ
いては特に制限はなく、通常エチレン性二重結合のエポ
キシ化に用いられるもの、例えばクメンハイドロパーオ
キシド、t−ブチル−ハイドロパーオキシド、シクロヘ
キシルハイドロパーオキシドや過酢酸、α−ハイドロパ
ーオキシイソ酪酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸
などの過有機カルボン酸および過酸化水素、オキソンな
どを使用することができるが、これらの中で過有機カル
ボン酸、特に過酢酸及びm−クロロ過安息香酸が好適で
ある。この反応は通常、不活性溶媒中において、好まし
くは0〜80℃の範囲の温度において実施される。不活
性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、1,1,1−トリクロロ
エタン、o−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素類が好ましく用いられる。また、所望により、この反
応系に酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、りん酸水
素二ナトリウム、炭酸リチウムなどの緩衝剤を添加して
反応を行ってもよい。前記アルケン誘導体(Ia)と過
酸化物との使用割合については、過酸化物をアルケン誘
導体(Ia)に対して1〜4倍当量の割合で用いること
が望ましい。反応時間は、反応温度や使用する過酸化物
の種類などによって異なり、一義的に決めることができ
ないが、通常1〜50時間程度である。
【0033】なお、カーバメート誘導体(I)の製造に
おいて原料として用いられる前記プロペン誘導体(III)
は容易に入手しうる原料を用いて通常の方法により製造
することができる。図3にその代表例を示す。
【0034】次に一般式(II)のアミド誘導体について
説明する。
【0035】前記一般式(II)で表されるアミド誘導体
は、新規な化合物であり、式中のC、D、Y、R4 、R
5 およびR6 について具体的に説明すると以下の通りで
ある。 Cは
【化18】 である。
【0036】そして式C中のYはハロゲン原子または炭
素数1〜4のハロアルキル基である。ここにハロゲン原
子としては弗素、塩素、臭素、沃素が挙げられる。炭素
数1〜4のハロアルキル基としては、1個又は2個以上
の上記ハロゲン原子を有するメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基が挙げられる。
【0037】Dは
【化19】 である。
【0038】そして式中DのR4 は水素原子または炭素
数1〜4のアルキル基である。ここに炭素数1〜4のア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基が挙げられる。
【0039】式中DのR5 は水素原子、炭素数1〜4の
アルキル基または炭素数1〜4のアシル基である。ここ
に炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。炭素数は1
〜4のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プ
ロピオニル基、ブチリル基が挙げられる。
【0040】式中DのR6 は水素原子、炭素数1〜6の
アルキル基または炭素数1〜4のハロアルキル基であ
る。ここに炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基が挙げられ、炭素数3以上のアルキル基はシク
ロアルキル基であっても良い。炭素数1〜4のハロアル
キル基としては、1個又は2個以上の上記ハロゲン原子
を有するメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が
挙げられる。
【0041】なお、上記Y、R4 、R5 、R6 中のアル
キル基、ハロアルキル基におけるアルキルは、直鎖状お
よび分枝状のいずれでもよい。
【0042】一般式(II)のアミド誘導体の代表例とし
ては、表5〜表8に掲げるものが挙げられる。
【0043】
【表5】
【0044】
【表6】
【0045】
【表7】
【0046】
【表8】
【0047】また、アミド誘導体(II)にはベンジル部
分、オキシラン部分の4級炭素に基づいて鏡像体が存在
し、通常セラミ体として得られるが、不斉合成などの既
知の方法で各対掌体を得ることも可能である。アミド誘
導体(II)はラセミ体であっても、あるいは各鏡像体単
独であってもよく、それぞれが除草剤として使用でき
る。
【0048】また、アミド誘導体(II)において不斉炭
素が2個以上ある場合にはジアステレオマーが存在し、
カラムクロマトグラフィーなどの既知の方法で各ジアス
テレオマーを得ることも可能である。アミド誘導体(I
I)はジアステレオマー混合物であっても、あるいは各
ジアステレオマー単独であってもよく、それぞれが除草
剤成分として使用できる。
【0049】本発明においては、表5から表8に示され
る各アミド系誘導体と後記化合物(A)とからなる各組
成物あるいは表5から表8に示される各アミド系誘導体
と後記化合物(B)とからなる各組成物が除草剤として
使用できる。
【0050】アミド誘導体(II)のうちポリハロアルケ
ン誘導体(IIa)(表5および表6の化合物)は、図4
で示されるように、プロペン誘導体(VI)を原料として
製造することができる。
【0051】すなわち、塩化第一銅などの触媒及びピペ
リジンやシクロヘキシルアミンなどのアミン類の存在
下、プロペン誘導体(VI)とポリハロアルカン(CCl
2 YX′)とを、通常0℃ないしポリハロアルカンの沸
点の範囲の温度において1〜20時間程度反応させるこ
とにより、所望のポリハロアルケン誘導体(IIa)又は
ポリハロアルカン誘導体(V)が得られる。この場合、
反応条件を適当に選ぶことによりポリハロアルケン誘導
体(IIa)に直接導いてもよいし、ポリハロアルカン誘
導体(V)に導いてもよい。ポリハロアルカン誘導体
(V)を得た場合には、このものを、例えばo−ジクロ
ロベンゼン、1,2−ジクロロエタンなどの溶媒中にお
いて塩化第一銅、塩化第二鉄などの触媒の存在下に適当
な温度に加熱することにより、所望のポリハロアルケン
誘導体(IIa)に導くことができる。また、アミド誘導
体(II)のうちオキシラン誘導体(IIb)(表7および
表8の化合物)は、図5で示されるように、ポリハロア
ルケン誘導体(IIa)を過酸化物を用いてエポキシ化す
ることにより製造することができる。
【0052】この反応において用いられる過酸化物につ
いては特に制限はなく、通常エチレン性二重結合のエポ
キシ化に用いられるもの、例えばクメンハイドロパーオ
キシド、t−ブチル−ハイドロパーオキシド、シクロヘ
キシルハイドロパーオキシドや過酢酸、α−ハイドロパ
ーオキシイソ酪酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸
などの過有機カルボン酸および過酸化水素、オキソンな
どを使用することができるが、これらの中で過有機カル
ボン酸、特に過酢酸及びm−クロロ過安息香酸が好適で
ある。この反応は通常、不活性溶媒中において、好まし
くは0〜80℃の範囲の温度において実施される。不活
性溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、1,1,1−トリクロロ
エタン、o−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素類が好ましく用いられる。また、所望により、この反
応系に酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、りん酸水
素二ナトリウム、炭酸リチウムなどの緩衝剤を添加して
反応を行ってもよい。前記アルケン誘導体(IIa)と過
酸化物との使用割合については、過酸化物をアルケン誘
導体(IIa)に対して1〜4倍当量の割合で用いること
が望ましい。反応時間は、反応温度や使用する過酸化物
の種類などによって異なり、一義的に決めることができ
ないが、通常1〜50時間程度である。
【0053】なお、アミド誘導体(II)の製造において
原料として用いられる前記プロペン誘導体(VI)は容易
に入手しうる原料を用いて通常の方法により製造するこ
とができる。図6及び図7にその代表例を示す。
【0054】本発明の除草剤組成物においては、上記一
般式(I)のカーバメート誘導体および一般式(II)の
アミド誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種
に、下記の化合物(A)および(B)から選ばれる少な
くとも1種の化合物が配合される。
【0055】(A) 1−{[2−(シクロプロピルカ
ルボニル)フェニル]スルファモイル}−3−(4,6
−ジメトキシピリミジン−2−イル)ウレア
【化20】 (特開平4−224567号公報に従って合成した。A
C−140剤) (B) 1H−ピラゾール−5−スルフォンアマイド,
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
ミノカルボニル)−1−メチル−4−(2−メチル−2
H−テトラゾール−5−イル)
【化21】 (特開昭63−185906号公報に従って合成した。
DPX−47剤) 本発明の除草剤組成物は、上記一般式(I)で表される
カーバメート系誘導体および上記一般式(II)で表され
るアミド系誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1
種と、上記化合物(A)および(B)から選ばれた少な
くとも1種の化合物を有効成分として含有するものであ
るが、本発明の除草剤組成物の主な具体的態様として
は、下記のものが挙げられる。
【0056】(1)一般式(I)で示されるカーバメー
ト系誘導体と化合物(A)とからなる組成物 (2)一般式(II)で示されるアミド系誘導体と化合物
(A)とからなる組成物 (3)一般式(I)で示されるカーバメート系誘導体と
化合物(B)とからなる組成物 (4)一般式(II)で示されるアミド系誘導体と化合物
(B)とからなる組成物 (5)一般式(I)で示されるカーバメート系誘導体と
化合物(A)および化合物(B)とからなる組成物 (6)一般式(II)で示されるアミド系誘導体と化合物
(A)および化合物(B) とからなる組成物 (7)一般式(I)で示されるカーバメート系誘導体お
よび一般式(II)で示されるアミド系誘導体と化合物
(A)とからなる組成物 (8)一般式(I)で示されるカーバメート系誘導体お
よび一般式(II)で示されるアミド系誘導体と化合物
(B)とからなる組成物 本発明の除草剤組成物の配合割合は特に制限がなく、広
い配合比において優れた相乗効果が得られるが、一般的
な配合例を示すと、一般式(I)のカーバメート系誘導
体および/または一般式(II)のアミド系誘導体1重量
部に対し、化合物(A)および/または(B)は0.0
05〜10重量部、好ましくは0.01〜1重量部の範
囲で用いられる。
【0057】本発明の除草剤組成物は、上記のカーバメ
ート系誘導体(I)および/またはアミド系誘導体(I
I)と上記化合物(A)および/または(B)とを、有
機溶媒等の液状担体または鉱物質粉等の固体担体と混合
し、水和剤、乳剤、粉剤、粒剤、フロアブル剤、液剤等
の形態に製剤化して使用することができる。製剤化に際
しては、所望により乳化剤、分散剤、展着剤、懸濁剤、
浸透剤、安定剤として各種の界面活性剤、その他の補助
剤を添加すればよい。
【0058】本発明の除草剤組成物を水和剤の形態で用
いる場合、通常は、上述したカーバメート系誘導体
(I)および/またはアミド系誘導体(II)と化合物
(A)および/または(B)とを有効成分として5〜5
5重量%、固体担体40〜88重量%および界面活性剤
2〜5重量%の割合で配合して組成物を調製し、これを
用いればよい。
【0059】また、乳剤およびフロアブル剤の形態で用
いる場合は、通常は、有効成分として上述したカーバメ
ート系誘導体(I)および/またはアミド系誘導体(I
I)と化合物(A)および/または(B)とを1〜50
重量%、溶剤35〜94重量%および界面活性剤5〜1
5重量%の割合で配合して調製すればよい。
【0060】一方、粉剤の形態で用いる場合は、通常
は、有効成分として上述したカーバメート系誘導体
(I)および/またはアミド系誘導体(II)と化合物
(A)および/または(B)とを1〜20重量%、固体
担体75〜97重量%および界面活性剤2〜5重量%の
割合で配合して調製すればよい。
【0061】さらに、粒剤の形態で用いる場合は、通常
は、有効成分として上述したカーバメート系誘導体
(I)および/またはアミド系誘導体(II)と化合物
(A)および/または(B)とを1〜20重量%、固体
担体75〜97重量%および界面活性剤2〜5重量%の
割合で配合して調製すればよい。
【0062】ここで、固体担体としては鉱物質の微粉が
用いられ、この鉱物質の微粉として具体的には、ケイソ
ウ土、消石灰等の酸化物、リン灰石等のリン酸塩、セッ
コウ等の硫酸塩、タルク、パイロフェライト、クレー、
カオリン、ベントナイト、酸性白土、ホワイトカーボ
ン、石英粉末、ケイ石粉等のケイ酸塩などを挙げること
ができる。
【0063】また、溶剤としては、有機溶媒が用いら
れ、具体的にはキシレン、トルエン、ベンゼン等の芳香
族炭化水素、o−クロルトルエン、トリクロルメタン、
トリクロルエチレン等の塩素化炭化水素、シクロヘキサ
ノール、アミルアルコール、エチレングリコール等のア
ルコール、エチレングルコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル等のアルコールエ
ーテル、イソホロン、シクロヘキサノン、シクロヘキセ
ニル−シクロヘキサノン等のケトン、ブチルセロソル
ブ、ジメチルエーテル、メチルエチルエーテル等のエー
テル、酢酸イソプロピル、酢酸ベンジル、フタル酸メチ
ル等のエステル、ジメチルホルムアミド等のアミド、ア
セトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル、ジメチ
ルスルホキシド等のスルホキシド、あるいはこれらの混
合物等の有機溶媒を挙げることができる。
【0064】さらに、界面活性剤としては、アニオン型
(アルキルベンゼンスルフォネート、アルキルスルフォ
ネート、ラウリン酸アミドスルフォネート等)、ノニオ
ン型(ポリオキシエチレンオクチルエーテル、ポリエチ
レングリコールラウレート、ソルビタンアルキルエステ
ル等)、カチオン型(ジメチルラウリルベンジルアンモ
ニウムクロライド、ラウリルアミン、ステアリルトリメ
チルアンモニウムクロライド等)あるいは両性イオン型
(アミノ酸、ベタイン等)のいずれを用いることもでき
る。
【0065】また、本発明の除草剤組成物には、製剤の
性状を改善し、除草効果を高める目的で、アルギン酸ソ
ーダ、カルボキシメチルセルロース、カルボキシビニル
ポリマー、アラビヤガム、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース等の高分子化合物や補助剤を併用することもで
きる。
【0066】このような本発明の除草剤組成物は、水稲
作において雑草の発芽前または発芽後に湛水土壌処理す
ることにより、薬害のない高選択性除草剤として優れた
効果を発揮する。本発明の除草剤組成物は、有効成分で
10アール当り1g〜1,000g程度、好ましくは5
〜500gを施用する。
【0067】また、必要に応じて本発明の除草剤組成物
に殺虫剤または各種添加物を加えても良い。とくに除草
剤として、より一層の効果向上を目指して、他の除草剤
を併用することが望ましい場合がある。添加し得る除草
剤としては、以下に示すものが挙げられる。
【0068】(1)クロロアセトアミド系除草剤 2−クロロ−2′,6′−ジメチル−N−(n−ブロポ
キシエチル)−アセトアニリド(一般名:プレチラクロ
ール) N−ブトキシメチル−2−クロロ−2′,6′−ジメチ
ルアセトアニリド(一般名:ブタクロール) 2−クロロ−N−(3−メトキシ−2−チエニル)−メ
チル−2′,6′−ジメチルアセトアニリド(一般名:
テニルクロール)
【0069】(2)チオカーバメート系化合物 S−(4−クロロベンジル)N,N−ジメチル−チオカ
ーバメート(一般名:ベンチオカーブ) S−エチル−N,N−ヘキサメチレン−チオカーバメー
ト(一般名:モリネート) S−(α,α−ジメチルベンジル)ピペリジン−1−カ
ルボチオエート(一般名:ジメピペレート) S−ベンジル−N−エチル−N−(1,2−ジメチル−
プロピル)チオカーバメート(一般名:エスプロカル
ブ) o−3−tert−ブチルフェニル−6−メトキシ−ピ
リジル(メチル)チオカーバメート(一般名:ピリブチ
カルブ)
【0070】(3)アミド系除草剤 2−ベンゾチアゾール−2−イルオキシ−N−メチル−
アセトアニリド(一般名:メフェナセット) 3′4′−ジクロロプロビオンアニリド(一般名:ブロ
パニル) N−(α,α−ジメチルベンジル)−2−ブロモ−3,
3−ジメチルブチルアミド(一般名:ブロモブチド) 2′3′−ジクロロ−4−エトキメトキシベンズアニリ
ド(特開昭58−73055号公報)
【0071】(4)ジフェニルエーテル系除草剤 2,4,6−トリクロロフェニル−4−ニトロフェニル
エーテル(一般名:CNP) 2,4−ジクロロフェニル−3′−メトキシ−4′−ニ
トロフェニルエーテル(一般名:クロメトキシニル) メチル−5−(2,4−ジクロロフェノキシ)−2−ニ
トロベンゾエート(一般名:ビフェノックス)
【0072】(5)トリアジン系除草剤 2,4−ビス(エチルアミノ)−6−メチルチオ−1,
3,5−トリアジン(一般名:シメトリン) 2,4−ビス(イソプロピルアミノ)−6−メチルチオ
−1,3,5−トリアジン(一般名:プロメトリン) 2−(1,2−ジメチルプロピルアミノ)−4−エチル
アミノ−6−メチルチオ−1,3,5−トリアジン(一
般名:ジメタメトリン)
【0073】(6)複素環系除草剤 5−tert−ブチル−3−(2,4−ジクロロ−5−
イソプロポキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾ
ール−2(3H)−オン(一般名:オキサジアゾン) 3−N−(2−フルオロ−4−クロロ−シクロペンチル
オキシフェニル)−5−イソプロピリデン−1,3−オ
キサゾリジン−2,4−ジオン 3,7−ジクロロキノリン−8−カルボキシリックアシ
ッド(一般名:キンクロラック) S,S′−ジメチル−2−ジフルオロメチル−4−イソ
ブチル−6−トリフルオロメチルピリジン−3,5−ジ
カルボキシエート(一般名:ジチオピル) 2−アミノ−4−(α−フルオロ,α−メチルエチル)
−6−[2−(3′5′−ジメチルフェノキシ)−1−
メチル−エチルアミノ]−S−トリアジン 2−アミノ−4−(α−クロロ,α−メチルエチル)−
6−[2−(3′5′−ジメチルフェノキシ)−1−メ
チル−エチルアミノ]−S−トリアジン 2−アミノ−4−[1−ベンゾフラン−2′−イルエチ
ルアミノ]−6−(α−フルオロ,α−メチルエチル)
−S−トリアジン 2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−ベンゾフラニル
−エタンスルフォネート(一般名:ベンフレセート) 3−イソプロピル−1H−2,1,3−ベソゾチアジア
ジン−4−(3H)−オン−2,3−ジオキシド(一般
名:ベンタゾン) 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチ
ル−1H−ピラゾール−5−イル−p−トルエン−スル
フォネート(一般名:ピラゾレート) 4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチ
ル−5−(4−メチルフェナシルオキシ)−1H−ピラ
ゾール(一般名:ピラゾキシフェン) 2−(2,4−ジクロロ−3−メチルベンゾイル)−
1,3−ジメチル−5−(4−メチルフェナシルオキ
シ)−1H−ピラゾール(一般名:ベンゾフェナップ) 2−アミノ−4−(α−フルオロ,α−メチルエチル)
−6−[2−(3′5′−ジメチルフェノキシ)−1−
メチル−エチルアミノ]−S−トリアジン 2−アミノ−4−(α−クロロ,α−メチルエチル)−
6−[2−(3′5′−ジメチルフェノキシ)−1−メ
チル−エチルアミノ]−S−トリアジン 2−アミノ−4−[1−ベンゾフラン−2′−イルエチ
ルアミノ]−6−(α−フルオロ,α−メチルエチル)
−S−トリアジン
【0074】(7)フェノキシ系除草剤 2,4−ジクロロフェノキシ酢酸(一般名:2,4−
D) 4−(クロロ−2−メチルフェノキシ)酪酸(一般名:
MCPB) 4−(クロロ−2−メチルフェノキシ)酢酸(一般名:
MCPA) 2−(2−ナフチルオキシ)プロピオンアニリド(一般
名:ナプロアニリド)2−(2,4−ジクロロ−3−ネ
チルフェノキシ)プロピオンアニリド(一般名:クロメ
プロップ)
【0075】(8)ウレア系除草剤 1−(α,α−ジメチルベンジル)−3−(4−メチル
フェニル)ウレア(一般名:ダイムロン) 1−(2−クロロベンジル)−3−(α,α−ジメチル
ベンジル)ウレア
【0076】(9)スルホニルウレア系除草剤 メチル−2−[3−(4,6−ジメトキピリミジン−2
−イル−9−ウレイドスルホニルメチル]ベンゾエート
(一般名:ベンスルフロンメチル) エチル−5−[3−(4,6−ジメトキピリミジン−2
−イル−9−ウレイドスルホニル]−1−メトヒルピラ
ゾール−4−カルボキシレート(一般名:ピラゾスルフ
ロンエチル) N−(2−クロロイミダゾール[1,2−α]ピリジン
−3−イル−スルホニル)−N′−(4,6−ジメトキ
シ−2−ビリミジ)ウレア(一般名:イマゾスルフロ
ン) 1−(4,6−ジメトキシ−1,3,5)トリアジン−
2−イル)−3−[2−(2−メトキシエトキシ)フェ
ニルスルホニル]ウレア(一般名:シノスルフロン)
【0077】(10)その他 2−アミノ−3−クロロ−1,4−ナフトキノン(一般
名:ACN) 本発明においては、表1から表8に示される各化合物と
化合物(A)からなる各組成物あるいは表1から表8に
示される各化合物と化合物(B)からなる各組成物に上
記(1)〜(10)に示した各化合物を添加した組成物
が除草剤として使用できる。
【0078】
【実施例】次に本発明を実施例により説明する。
【0079】なお、下記製造例中、「部」は重量%を意
味する。カーバメート系誘導体またはアミド系誘導体と
しては、表9〜10に示した化合物を用いた。
【0080】
【表9】
【0081】
【表10】
【0082】(1)除草剤組成物の調製 タルク57重量部、ベントナイト40重量部、界面活性
剤としてアルキルベンゼンスルホン酸ソーダ3重量部を
均一に粉砕混合して水和剤用の担体を得た。
【0083】次にカーバメート系誘導体(I)、アミド
系誘導体(II)、化合物(A)または化合物(B)のい
ずれか一剤を10重量部と、上記の水和剤用担体90重
量部を均一に粉砕混合して水和剤を得た。
【0084】さらに、カーバメート系誘導体(I)、ア
ミド系誘導体(II)と、化合物(A)または化合物
(B)のいずれか一剤とを含有する水和剤のそれぞれ水
で希釈したものを所定量混合して、本発明の除草剤組成
物を調製した。
【0085】さらに、カーバメート系誘導体(I)また
はアミド系誘導体(II)と、化合物(A)および(B)
のいずれか一剤と、スルホニルウレア系除草剤のベンス
ルフロンメチルとを含有する水和剤のそれぞれ水で希釈
したものを所定量混合して、本発明の除草剤組成物を調
製した。
【0086】(2)生物試験I 1/7500アールの磁器製ポットに、水田土壌を充填
し、ノビエの種子を播種した。湛水深を3cmとし、温室
内に静置した。播種後12日目、ノビエが2葉期に生育
した時期に、前記(I)で調製した水和剤を所定量を水
で希釈し、滴下処理した。薬剤処理後30日目に、残存
しているノビエの地上部生草重および無処理区の地上部
生草重を測定し、下式により、殺草率(%)を算出し
た。
【0087】殺草率(%)={1−(処理区の地上部生
草重/無処理区の地上部生草重)}×100 結果は表11に示した。
【0088】なお、表11には殺草率の実測値とともに
予想値(QE )を示したが、この予想値(QE )はColb
y の公式により算出した混合剤の殺草率の予想値
(QE )である。ここで上記試験により測定した実測値
[殺草率(%)]が、この予想値(QE )よりも大きい
ほど、除草活性に相乗作用が発現したということにな
る。
【0089】 QE (%)=Qx +Qy −{(Qx ×Qy )/100} QE =予想値 Qx =除草剤X(有効成分として一般式(I)および/
または一般式(II)の化合物のみを含む)をxグラム/
10アールの量で処理した時の殺草率 Qy =除草剤Y(有効成分として化合物(A)および/
または(B)のみを含む)をyグラム/10アールの量
で処理した時の殺草率
【0090】
【表11】
【0091】表11より明らかなように、化合物(I)
および/または(II) と化合物(A)および/または
(B)とを併用した本発明組成物は、いずれも殺草率の
実測値が予想値(QE )よりも3〜13%も高く、両剤
の併用による相乗効果が認められた。
【0092】(3)生物試験II 1/5000アールのプラスチック容器に、水田土壌を
充填し、表層にノビエ、ホタルイ、アゼナ、コナギの種
子を播種し、催芽させたミズガヤツリの塊茎を移植し、
さらに2葉期の稲苗(品種:日本晴)を移植した。その
後湛水深を3cmとし、温室内に静置した。水稲移植後3
日後に前記(I)で調製した水和剤を所定量を水で希釈
し、所定量滴下処理した。薬剤処理後45日目に、除草
効果および薬害を下記の判定基準に従い調査した。結果
を表12,13,14に示した。
【0093】 (判定基準) 除草効果の程度 除草効果(殺草率) 0 5%未満(ほとんど効果なし) 1 10〜20%未満 2 20〜30%未満 3 30〜40%未満 4 40〜50%未満 5 50〜60%未満 6 60〜70%未満 7 70〜80%未満 8 80〜90%未満 9 90〜95%未満(ほとんど完全枯死) 10 95〜100%(完全枯死) ただし、上記の殺草率は、薬剤処理区の地上部生草重お
よび無処理区の地上部生草重を測定して、上記の式によ
り求めたものである。
【0094】薬害の程度 0…作物に対する薬害は認められず 1…作物に対する薬害は殆ど認められず 2…作物に対する薬害が若干認められる 3…作物に対する薬害が認められる 4…作物に対する薬害が顕著に認められる
【0095】
【表12】
【0096】
【表13】
【0097】
【表14】
【0098】表12より明らかなように化合物(I)ま
たは(II)と化合物(A)を併用した本発明組成物は、
除草効果が高く、水稲薬害も認められなかった。
【0099】また表13より明らかなように、化合物
(I)または(II)と化合物(B)にさらにベンスルフ
ロンメチルを加えた本発明組成物は、除草効果が高く、
水稲薬害も認められなかった。また表13の3成分系組
成物は表12の2成分系組成物よりもミズガヤツリの除
草効果に優れていた。
【0100】これに対し、表14の比較剤は、除草効果
に劣っていた。
【0101】
【発明の効果】本発明の除草剤組成物は、その有効成分
であるカーバメート系誘導体および/またはアミド系誘
導体と、特定の化合物群(A)および(B)から選ばれ
た少なくとも1種の化合物とを含有することにより、幅
広い雑草スペクトラムを示すとともに低薬量で高い除草
効果を示し、水稲薬害も少ないという利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】一般式(Ia)の化合物の製造工程図
【図2】一般式(Ib)の化合物の製造工程図
【図3】一般式(III)の化合物の製造工程図
【図4】一般式(IIa)の化合物の製造工程図
【図5】一般式(IIb)の化合物の製造工程図
【図6】一般式(VI)の化合物の製造工程図(前半)
【図7】一般式(VI)の化合物の製造工程図(後半)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A01N 47/28 101 (72)発明者 鎌野 秀樹 千葉県袖ケ浦市上泉1280番地 出光興産株 式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、Aは 【化2】 を示し、Bは 【化3】 を示す。また、式A中のXはハロゲン原子または炭素数
    1〜4のハロアルキル基を示す。式B中のR1 は水素原
    子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2は水素
    原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4の
    ハロアルキル基を示し、R3 は炭素数1〜6のアルキル
    基、炭素数1〜4のハロアルキル基またはフェニル基を
    示す。)で表されるカーバメート系誘導体および一般式
    (II) 【化4】 (式中、Cは 【化5】 を示し、Dは 【化6】 を示し、そして、式C中のYはハロゲン原子または炭素
    数1〜4のハロアルキル基を示し、式D中のR4 は水素
    原子または炭素数1〜4のアルキル基を示し、R5 は水
    素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4
    のアシル基を示し、R6 は水素原子、炭素数1〜6のア
    ルキル基または炭素数1〜4のハロアルキル基を示
    す。)で表されるアミド系誘導体からなる群から選ばれ
    る少なくとも1種の化合物と、 下記化合物(A)および(B)から選ばれる少なくとも
    1種の化合物とを有効成分として含有することを特徴と
    する除草剤組成物。 (A) 1−{[2−(シクロプロピルカルボニル)フ
    ェニル]スルファモイル}−3−(4,6−ジメトキシ
    ピリミジン−2−イル)ウレア (B) 1H−ピラゾール−5−スルフォンアマイド,
    N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ア
    ミノカルボニル)−1−メチル−4−(2−メチル−2
    H−テトラゾール−5−イル)
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