JP3038903B2 - ウラシル誘導体及び有害生物防除剤 - Google Patents

ウラシル誘導体及び有害生物防除剤

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JP3038903B2 JP02327671A JP32767190A JP3038903B2 JP 3038903 B2 JP3038903 B2 JP 3038903B2 JP 02327671 A JP02327671 A JP 02327671A JP 32767190 A JP32767190 A JP 32767190A JP 3038903 B2 JP3038903 B2 JP 3038903B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なウラシル誘導体ならびに該誘導体を
有効成分として含有する有害生物防除剤に関するもので
ある。
〔従来の技術〕
従来、ウラシル化合物に関してはいくつかの特許およ
び文献に記載がある。
ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサイヤ
ティ（J.Amer.Chem.Soc.）、58巻、299頁（1935年）に
は、3,6−ジフェニルウラシルおよび３−フェニル−６
−（３−ブロム−４−メトキシフェニル）ウラシルが記
載されている。
又、ケミカル アブストラクト（Chem.Ab.）、52巻、
6364h（1958年）には3,6−ジフェニルウラシルが記載さ
れている。
しかし、上記文献にはこれらの化合物の生物に対する
活性は何ら示されていない。
又、米国特許第3,580,913号公報、第3,869,457号公報
および第3,981,715号公報には６位がトリフルオロメチ
ル基で３位が無置換または置換されたフェニル基である
ウラシル化合物が記載されているが、置換基の数は２個
までに限定されており、３個以上の置換基を有するフェ
ニル基は記載されていない。また上記特許にはこれらの
化合物の害虫防除に関する活性は何ら示されていない。
また、日本特許公開公報昭61−221178号、昭63−4146
6号、昭63−107967号、国際公開番号WO88−10254号、WO
89−02891号およびWO89−03825号には６位が水素原子、
C1〜C4アルキル基またはC1〜C4フルオロアルキル基で、
３位が2,4,5位に３個置換されたフェニル基であるウラ
シル化合物が記載されているが、フェニル基の５位の置
換基は酸素原子またはカルボニル基でつながっている置
換基に限定されている。また上記特許にはこれらの化合
物の害虫防除に関する活性は何ら示されていない。
〔発明の態様〕
本発明は一般式〔Ｉ〕 《式中、R1は水素原子、C1〜C4アルキル基、C2〜C4アル
ケニル基、C2〜C4アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル
基、C2〜C4アルコキシアルキル基、ホルミル基、C2〜C6
アルキルカルボニル基、C2〜C6アルコキシカルボニル
基、C3〜C6アルコキシカルボニルアルキル基、C2〜C6シ
アノアルキル基、ベンジル基、フェニル基、アルカリ金
属またはアルカリ土類金属を示し、 R2は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1
〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ヒドロキシアルキル基、C2
〜C4アルコキシアルキル基、C2〜C4アルキルチオアルキ
ル基、チオール基、C1〜C4アルキルチオ基、C1〜C4アル
キルスルフィニル基、C1〜C4アルキルスルホニル基、C1
〜C4ハロアルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキルスルフィ
ニル基、C1〜C4ハロアルキルスルホニル基、ヒドロキシ
基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルコキシ基、ホ
ルミル基、シアノ基、ニトロ基またはチオシアネート基
を示し、 Z1,Z2は各々独立して酸素原子、イオウ原子またはイ
ミノ基を示し、 ｛ただし、Ｘはハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜
C4アルコキシ基、C1〜C4アルキルチオ基、C1〜C4ハロア
ルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C1〜C4ハロアルキ
ルチオ基、アミノ基、シアノ基、またはニトロ基を示
し、ｌは０〜５の整数（ただし、２〜５の場合はＸは同
一であっても異なっていてもよい）を示す｝、 未置換または置換されていてもよいナフチル基、フリ
ル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダ
ゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾ
リル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チ
アジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダ
ジル基、ピリミジル基、ピラジル基（ただし、置換され
ていてもよい置換基としては、ハロゲン原子、C1〜C4ア
ルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4アルキルチオ
基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、
C1〜C4ハロアルキルチオ基、アミノ基、シアノ基または
ニトロ基を示し、置換基の数が２個以上の場合、置換基
は同一であっても異なっていてもよい）、 フッ素原子を１個以上含んだC1〜C6ハロアルキル基、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチ
オ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキル
スルホニル基、C1〜C6ハロアルキルチオ基、C1〜C6ハロ
アルキルスルフィニル基、C1〜C6ハロアルキルスルホニ
ル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ基ま
たはC2〜C6アルコキシカルボニル基を示し、 （ただし、Ｘおよびｌは前記と同じ意味を示す）、未置
換または置換されていてもよいナフチル基、フリル基、
チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル
基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル
基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジ
アゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジル
基、ピリミジル基またはピラジル基の場合、 〔ただし、Y1はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜
C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C3〜C6シクロア
ルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C6ハロアルケニ
ル基、C2〜C6ハロアルキニル基、C3〜C6ハロシクロアル
キル基、C2〜C6シアノアルキル基、C1〜C6ヒドロキシア
ルキル基、C2〜C6カルボキシアルキル基、C1〜C6アルコ
キシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C2〜C6アルキニル
オキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C1〜C6ハロ
アルコキシ基、C2〜C6ハロアルケニルオキシ基、C2〜C6
ハロアルキニルオキシ基、C3〜C6ハロシクロアルコキシ
基、C4〜C7ハロシクロアルキルアルコキシ基、C1〜C6ア
ルキルチオ基、C2〜C6アルケニルチオ基、C2〜C6アルキ
ニルチオ基、C3〜C6シクロアルキルチオ基、C1〜C6ハロ
アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C2〜
C6アルケニルスルフィニル基、C2〜C6アルキニルスルフ
ィニル基、C3〜C6シクロアルキルスルフィニル基、C1〜
C6ハロアルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホ
ニル基、C2〜C6アルケニルスルホニル基、C2〜C6アルキ
ニルスルホニル基、C3〜C6シクロアルキルスルホニル
基、C1〜C6ハロアルキルスルホニル基、C2〜C6アルコキ
シアルキル基、C2〜C6アルコキシアルコキシ基、C2〜C6
ハロアルコキシアルキル基、C2〜C6ハロアルコキシアル
コキシ基、C2〜C6アルキルチオアルキル基、C2〜C6アル
キルチオアルコキシ基、C3〜C6アルコキシカルボニルア
ルキル基、C3〜C6アルキルカルボニルアルキル基、C2〜
C6アルコキシカルボニルオキシ基、C2〜C6アルキルカル
ボニルオキシ基、C2〜C6アルキルカルボニル基、C3〜C6
アルケニルカルボニル基、C3〜C6アルキニルカルボニル
基、C4〜C7シクロアルキルカルボニル基、C2〜C6ハロア
ルキルカルボニル基、C2〜C6アルコキシカルボニル基、
C2〜C6ハロアルコキシカルボニル基、C3〜C6アルコキシ
カルボニルアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロ
キシ基、カルボキシル基、チオシアネート基、イソチオ
シアネート基、C2〜C6チオシアネートアルキル基、C1〜
C6アルキルスルホニルオキシ基、C2〜C6アルキルチオカ
ルボニル基、アミノ基（−NR3R4）、アミノカルボニル
基（−CONR3R4）、アミノカルボニルオキシ基（−OCONR
3R4）、アミド基（−NR3COR4）、アルコキシカルボニル
アミノ基（−NR3CO2R4）、アミノスルホニル基（−SO2N
R3R4）、チオアミド基（−NR3CSR4）、メチレンジオキ
シ基、ハロメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、
ハロエチレンジオキシ基、トリメチルシリル基または ＷnAr基 （ただし、R3およびR4は各々独立して水素原子、C1〜C6
アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル
基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C6ハロアルケニル基、
C2〜C6ハロアルキニル基、C2〜C6アルキルカルボニル
基、C2〜C6アルコキシカルボニル基、フェニル基または
ベンジル基を示し、 R5およびR6は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、
C1〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、シアノ基
またはフェニル基を示し、 ｑは０〜２の整数を示す）を示し、 ｎは０または１の整数を示し、 Arは無置換または置換されていてもよいフェニル基、
ナフチル基、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラ
ゾリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾ
リル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサ
ジアゾリル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピ
リジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、
キノリル基またはキノキザリル基（ただし、置換されて
いてもよい置換基としてはハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、C1〜C4アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1
〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C1〜C4ア
ルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキルチオ基、C1〜C4アル
キルスルホニル基、C1〜C4ハロアルキルスルホニル基、
C2〜C4アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アミ
ノ基、モノC1〜C4アルキルアミノ基、ジC1〜C4アルキル
アミノ基、フェニル基、ベンジル基、メチレンジオキシ
基またはハロメチレンジオキシ基を示し、置換基が２個
以上の場合は置換基は同一であっても異なっていてもよ
い）を示す｝を示し、 ｍは０〜５の整数（ただし、２〜５の場合はY1は同一
であっても異なっていてもよい）を示す〕、 未置換または置換されていてもよいナフチル基、フリ
ル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダ
ゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾ
リル基、イソオキサゾリル基、チアジアゾリル基、オキ
サジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダ
ジル基、ピリミジル基、ピラジル基、キノリル基、キノ
キザリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、イン
ドリル基、ベンゾオキサゾリル基またはベンゾチアゾリ
ル基（ただし、置換されていてもよい置換基としてはハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C4アルキル基、
C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハ
ロアルコキシ基、C1〜C4アルキルチオ基、C1〜C4ハロア
ルキルチオ基、C1〜C4アルキルスルホニル基、C1〜C4ハ
ロアルキルスルホニル基、C2〜C4アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基、アミノ基、モノC1〜C4アルキルア
ミノ基、ジC1〜C4アルキルアミノ基、フェニル基、フェ
ノキシ基またはベンジル基を示し、置換基が２個以上の
場合は置換基は同一であっても異なっていてもよい）を
示し、 Ａがフッ素原子を１個以上含んだC1〜C6ハロアルキル
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキ
ルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アル
キルスルホニル基、C1〜C6ハロアルキルチオ基、C1〜C6
ハロアルキルスルフィニル基、C1〜C6ハロアルキルスル
ホニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ
基またはC2〜C6アルコキシカルボニル基の場合、 ｛ただし、Y2はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜
C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロア
ルコキシ基、C1〜C4アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキ
ルチオ基、C1〜C4アルキルスルフィニル基、C1〜C4ハロ
アルキルスルフィニル基、C1〜C4アルキルスルホニル
基、C1〜C4ハロアルキルスルホニル基、スルホンアミド
基、C2〜C4アルケニル基、C2〜C4ハロアルケニル基、ア
ミノ基、モノC1〜C4アルキルアミノ基、ジC1〜C4アルキ
ルアミノ基、C2〜C6アルコキシアルコキシ基、C2〜C6ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基またはニトロ基を示
し、 ｒは３〜５の整数（ただし、Y2は同一であっても異な
っていてもよく、ｒ＝３で2,4,5−位の３置換体の場合
は５位の置換基Y2はC1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロア
ルコキシ基、C2〜C6アルコキシアルコキシ基、C2〜C6ア
ルコキシカルボニル基であってはならない）を示し｝を
示し、 またＡがフェニル基または３−ブロム−４−メトキシ
フェニル基であり、Ｂがフェニル基である場合は除く》 で表わされるウラシル誘導体および該誘導体の１種また
は２種以上を有効成分として含有する有害生物防除剤に
関するものである。
本発明において有害生物防除剤とは特に害虫防除剤お
よび除草剤を意味する。
本発明化合物は極めて低い薬剤濃度で各種の有害な害
虫に対して効力を示す。その害虫としては、例えば、ツ
マグロヨコバイ、トビイロウンカ、モモアカアブラム
シ、ニジュウヤホシテントウ、ハスモンヨトウ、コナガ
等の農業害虫、ナミハダニ、ミカンハダニ、カンザワハ
ダニ等のハダニ類、アカイエカ、イエバエ、チャバネゴ
キブリ、アリ、ノミ、シラミ等の衛生害虫、コクゾウム
シ、コクヌストモドキ、スジマダラメイガ等の貯殻害
虫、シロアリのような家屋害虫、ダニ、ノミ、シラミ等
の家畜害虫等が挙げられる。すなわち、本発明化合物は
直翅目、半翅目、鱗翅目、鞘翅目、膜翅目、双翅目、シ
ロアリ目およびダニ・シラミ類の害虫を低濃度で有効に
防除できる。一方、本発明化合物はホ乳類、魚類、甲殻
類および益虫に対してはほとんど悪影響をおよぼさな
い。
また、本発明化合物の幾つかは、各種の雑草に対し優
れた殺草力を有し、例えば、イチビ、オナモミ、アオビ
ユ、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、シャターケーン等
の農業上問題となる重要雑草に対しては、極めて低い薬
量で高い除草活性を有し、且つ、有用作物、例えば、イ
ネ、トウモロコシ、コムギ、ダイズ、ワタ、ビート等に
は薬害を生じないことを見出し、本発明を完成した。
次に本発明化合物の製造法について説明する。本発明
化合物は新規なウラシル誘導体である。その合成法とし
ては例えばコンプレヘンシブ ヘテロサイクリック ケ
ミストリー（Comprehensive Heterocyclic Chemistr
y）、３巻、57頁（1984年）等に記載されている合成法
等を参考にウラシル骨格を合成することができる。上記
の方法も含めて製造法を具体的に説明する。
〔式中（Ａ法〜Ｋ法）においてR1,R2,A,B,Z1およびZ2は
前記と同じ意味を示し、R7およびR8はそれぞれ独立をし
てC1〜C6アルキル基、ベンジル基またはフェニル基を示
し、R9はC1〜C6アルキル基またはC1〜C6ハロアルキル基
を示し、R10はハロゲン原子、ニトロ基またはチオシア
ネート基を示し、R11はC1〜C4アルキル基またはC1〜C4
ハロアルキル基を示し、L1はハロゲン原子、メタンスル
ホネート基、ｐ−トルエンスルホネート基またはC1〜C4
アルキル硫酸基のような良好な脱離基を示し、L2,L3は
各々独立してハロゲン原子、ヒドロキシ基、またはC1〜
C4アルコキシ基を示し、X1は塩素原子または臭素原子を
示し、X2はフッ素原子、塩基原子、臭素原子またはヨー
素原子を示し、M1はナトリウム原子、カリウム原子また
は銅原子を示し、M2およびM3はそれぞれ独立してナトリ
ウム原子またはカリウム原子を示し、Z3は酸素原子また
はイオウ原子を示し、halは塩素原子または臭素原子を
示す。また式〔VII〕、式〔IX〕、式〔XIX〕、式〔XX
I〕、式〔XXII〕、式〔XXIII〕、式〔XXIV〕、式〔XX
V〕、式〔XXVI〕、式〔XXVII〕、式〔XXVIII〕、式〔XX
IX〕、式〔XXX〕、式〔XXXII〕および式〔XXXIII〕は本
発明化合物である。
Ａ法はR2が水素原子やC1〜C4アルキル基等の合成に適
する方法である。式〔II〕の出発原子はジヤーナル オ
ブ ヘテロサイクリック ケミストリー（J.Heterocycl
ic Chem.）、９巻、513頁（1972年）等を参考にして、
既知の方法で合成することができる。工程１においては
式〔II〕の化合物をエタノール等の溶媒中で酢酸の存在
下、アンモニアまたは酢酸アンモニアと反応させること
により容易かつ収率よく式〔III〕の化合物を得ること
ができる。
工程２においては式〔III〕の化合物と式〔IV〕のイ
ソ（チオ）シアネート類または式〔Ｖ〕の（チオ）カル
バミン酸エステル類を塩基の存在下、不活性な溶媒中で
反応させることにより、中間体〔VI〕を単離することな
く、式〔VII〕の本発明化合物を得ることができる。用
いられる塩基としてはナトリウムエトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩または水素化ナト
リウム等が挙げられる。溶媒としてはメタノール、エタ
ノール等の低級アルコール類、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、1,2
−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、
1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドまたはこれ
らの混合溶媒等が挙げられる。一般的には式〔III〕のR
3と同じアルコール（R3OH）溶媒中で塩基としてナトリ
ウムアルコキシド（R3ONa）を用いるか、またはテトラ
ヒドロフラン、ジメチルホルムアミドまたはジメチルス
ルホキシド溶媒中で塩基として水素化ナトリウムを用い
るのが好ましい。反応温度は−30℃から反応混合物が還
流温度までの任意の温度を設定することができる。
工程３においては式〔VII〕の化合物と式〔VIII〕の
化合物を塩基の存在下、不活性な溶媒中で反応させるこ
とにより、式〔IX〕の本発明化合物を得ることができ
る。R1がC1〜C4アルキル基、C2〜C4アルケニル基、C2〜
C4アルキニル基またはC2〜C4アルコキシアルキル基の場
合には式〔VIII〕のR1−L1としては各クロライド、ブロ
マイド等のハライドを使用するのが好ましい。またR1が
C1〜C4アルキル基の場合にはジアルキル硫酸（R1 2SO4）
も適している。用いられる塩基としてはナトリウムエト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド類、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩または水
素化ナトリウムが好ましい。溶媒としては水、エタノー
ルのような低級アルコール類、1,2−ジメトキシエタ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジメチルホル
ムアミドまたはジメチルスルホキシドが好ましい。反応
温度は０℃から反応混合物の還流温度までの任意の温度
を設定できるが、０℃〜30℃で行なうのが好ましい。R1
がホルミルの場合はR1−L1としてギ酸ハライドを、C2〜
C6のアルキルカルボニル基の場合はR1−L1としてC2〜C6
アルカン酸ハライドまたは無水物を、C2〜C6アルコキシ
カルボニル基の場合はR1−L1としてC2〜C6アルキルクロ
ロホルメートまたはブロモホルメートを使用するのが好
ましい。用いられる塩基としては水素化ナトリウムが好
ましい。ただし、酸無水物を用いてC2〜C6アルキルカル
ボニル基を導入する場合には塩基を使用することなく反
応を行なうことができる。溶媒としてはジメチルホルム
アミドまたはジメチルスルホキシドが好ましい。反応温
度は０℃から反応混合物の還流温度までの任意の温度を
設定できるが、０℃から30℃で行うのが好ましい。
式〔VII〕化合物でZ1がイオウ原子の場合にアルキル
化すると通常Ｎ−およびＳ−アルキル化生成物の混合物
が生成する。所望のＮ−C1〜C4アルキル−、Ｎ−C2〜C4
アルケニル、Ｎ−C2〜C4アルキニル−またはＮ−C2〜C4
アルコキシアルキル体はこのような混合物からカラムク
ロマトグラフィーのような常法により容易に単離するこ
とができる。
Ｂ法はウラシル環形成前にR1として水素原子以外の各
種置換基を導入できることに特徴がある。工程１におい
て式〔II〕の化合物と式〔Ｘ〕の各種アミンを酸触媒の
存在下で反応することにより式〔XI〕の化合物を得るこ
とができる。用いられる酸としては酢酸またはトリフル
オロ酢酸が好ましい。
工程２においては式〔XI〕の化合物と式〔IV〕のイソ
（チオ）シアネート類、または式〔Ｖ〕の（チオ）カル
バミン酸エステル類と塩基の存在下で反応させることに
より式〔XII〕の中間体を単離することなく式〔IX〕の
本発明化合物を得ることができる。この工程で用いられ
る塩基、溶媒および反応温度等の条件はＡ法の工程２と
ほぼ同じである。
Ｃ法はＡ法の工程２における中間体〔VI〕を合成する
別の方法である。工程１においては式〔II〕の化合物と
式〔XIII〕の（チオ）尿素類を酸触媒の存在下、不活性
な溶媒中で反応させることにより式〔VI〕の化合物を得
ることができる。用いられる酸触媒としては硫酸、塩酸
等の強鉱酸類、ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸
類またはオルトリン酸、ポリリン酸等のリン酸類が好ま
しい。溶媒としてはベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類、四塩化炭素、クロルベンゼン等のハロゲン化炭
化水素類または1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサ
ン等のエーテル類が好ましい。反応温度は20℃から反応
混合物の還流温度までの任意の温度が設定できるが、還
流温度で行なうのが好ましい。
工程２においては式〔VI〕の化合物を塩基の存在下、
不活性な溶媒中で環化反応させて式〔VII〕の本発明化
合物を得ることができる。この工程で用いられる塩基、
溶媒および反応温度等の条件はＡ法の工程２とほぼ同じ
である。
Ｄ法はZ1がイオウ原子である本発明化合物の合成に適
している。出発原料の〔XIV〕は既知の方法で合成する
ことができる。工程１においてはＡ法の工程１と同様に
式〔XIV〕の化合物をエタノール等の不活性溶媒中で酢
酸の存在下、酢酸アンモニアと反応させて式〔XV〕の化
合物を得ることができる。
工程２においては式〔XV〕の化合物とホスゲンまたは
チオホスゲンを塩基の存在下、不活性な溶媒中で反応さ
せて式〔VII〕の本発明化合物を得ることができる。用
いられる塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン等の
有機塩基が好ましい。溶媒としてはベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素類またはジクロルメタン、1,2−ジ
クロルエタン等のハロゲン化炭化水素類が好ましい。反
応温度は０℃から反応混合物の還流温度までの任意の温
度が設定できるが、０℃〜30℃で行なうのが好ましい。
また、チオホスゲンの代りに1,1′−チオカルボニルジ
イミダゾールを用いることもできる。
Ｅ法はＡ法の工程１における中間体〔III〕を合成す
る別の方法である。式〔XVI〕のニトリル類と式〔XVI
I〕のアルファーブロム酢酸エステル類を亜鉛の存在
下、不活性な溶媒中で反応させることにより式〔III〕
の化合物を得ることができる。用いられる溶媒としては
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ン、1,4−ジオキサン等のエーテル類が好ましい。反応
温度は20℃から反応混合物の還流温度までの任意の温度
が設定できるが、還流温度で行なうのが好ましい。
Ｆ法はZ2がイミノ基である場合および、それを経てZ2
が酸素原子である本発明化合物の合成に適する方法であ
る。式〔XVIII〕の出発原料は既知の方法で合成するこ
とができる。式〔XVIII〕の化合物と式〔IV〕または式
〔Ｖ〕の化合物を塩基の存在下、不活性な溶媒中で反応
させることにより、式〔XIX〕の本発明化合物を得るこ
とができる。反応に用いられる塩基、溶媒および反応温
度の条件はＡ法の工程２とほぼ同じである。次に式〔XI
X〕の化合物を酸性の条件下で加水分解することにより
式〔VII〕の本発明化合物を得ることができる。用いら
れる酸としては塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸が好ましく、
さらにはそれらの希釈水溶液が好ましい。反応温度は20
℃から反応混合物の還流温度までの任意の温度が設定で
きるが、還流温度で行なうのが好ましい。
Ｇ法はＡがハロゲン原子またはシアノ基である本発明
化合物の合成に適する方法である。式〔XX〕のマロン酸
誘導体と式〔XIII〕の（チオ）尿素類を塩基の存在下、
不活性な溶媒中で反応させることにより、式〔XXI〕の
化合物を得ることができる。用いられる塩基としてはナ
トリウムエトキシドのような金属アルコキシド類、水酸
化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム
等のアルカリ金属炭酸塩または水素化ナトリウム等が挙
げられる。溶媒としてはメタノール、エタノール等の低
級アルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−
ジオキサン等のエーテル類、ジメチルホルムアミド等が
挙げられる。反応温度は０℃から反応混合物の還流温度
までの任意の温度を設定することができる。L2およびL3
が共にハロゲン原子である場合は塩基を加えずにジオキ
サン等溶媒中で０℃から反応混合物の還流温度までの任
意の温度で反応させることにより式〔XXI〕の化合物を
得ることができる。
式〔XXI〕の化合物をオキシハロゲン化リン、三ハロ
ゲン化リンまたはハロゲン化チオニルと反応させること
により式〔XXII〕の化合物を得ることができる。場合に
よっては塩基を存在させた方が容易に進行する。オキシ
ハロゲン化リンとしてはオキシ塩化リン、オキシ臭化リ
ンが、三ハロゲン化リンとしては三塩化リン、三臭化リ
ンが、ハロゲン化チオニルとしては塩化チオニル、臭化
チオニルが挙げられる。塩基としてはピリジン、トリエ
チルアミン等の有機塩基が好ましい。
式〔XXII〕の化合物と金属シアン化合物を不活性な溶
媒中で反応させることにより式〔XXIII〕の化合物を得
ることができる。金属シアン化合物としてはシアン化ナ
トリウム、シアン化カリウムシアン化銅を用いるのが好
ましい。溶媒としてはメタノール、エタノール等の低級
アルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジ
オキサン等のエーテル類、ジメチルホルムアミド等が挙
げられる。反応温度は０℃から反応混合物の還流温度ま
での任意の温度を設定することができる。
Ｈ法はＡがアルキルチオ基、アルキルスルフイニル基
またはアルキルスルホニル基の合成に適する方法であ
る。式〔XXII〕の化合物とアルキルメカプタンの金属塩
を不活性な溶媒中で反応させることにより式〔XXIV〕の
化合物を得ることができる。アルキルメルカプタンの金
属塩の金属としてはナトリウムとカリウムが挙げられ
る。溶媒としては1,2−ジメトキシエタン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル類が好ましいが、過剰のメルカプ
タンを溶媒として用いてもよい。反応温度は０℃から反
応混合物の還流温度までの任意の温度が設定できる。
式〔XXIV〕の化合物と、当モルの過酸化物を不活性な
溶媒中で反応させることにより式〔XXV〕の化合物を得
ることができる。さらに式〔XXV〕の化合物と当モルの
過酸化物を反応させることにより式〔XXVI〕の化合物を
得ることができる。また式〔XXIV〕の化合物と２倍モル
の過酸化物を反応させることにより式〔XXV〕の化合物
を単離することなく、式異〔XXVI〕の化合物を得ること
もできる。用いられる過酸化物としては過酸化水素、過
酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸等が挙げられる。溶媒とし
てはメタノール、エタノール等のアルコール類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類、水および酢酸等が用いられる。反応温度は０
℃から反応混合物の還流温度までの任意の温度が設定で
きるが、０℃から30℃で行なうのが好ましい。
Ｉ法はR2が水素原子である式〔XXVII〕のウラシル誘
導体の水素原子をハロゲン原子、ニトロ基またはチオシ
アネート基に変換して式〔XXVIII〕の本発明化合物を得
る方法である。ハロゲン化剤としては、塩素化は塩素、
スルフリルクロリドまたはＮ−クロロスクシンイミド
を、臭素化は臭素、スルフリルブロミドまたはＮ−ブロ
モスクシンイミドを、ヨウ素化はヨウ素または一塩化ヨ
ウ素を用いるのが好ましい。溶媒としては酢酸またはジ
クロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類を
用いるのが好ましい。反応温度は０℃から反応混合物の
還流温度までの任意の温度が設定できるが20℃から還流
温度までの範囲で行なうのが好ましい。
ニトロ化剤としては硝酸、硝酸と硫酸の混合物を用い
るのが好ましい。溶剤としてはジクロロメタン、1,2−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類または酢酸が
好ましいが、溶剤を用いなくてもよい。反応温度は０℃
から反応混合物の還流温度までの任意の温度が設定でき
るが、０℃から50℃までが好ましい。
チオシアネート化剤としては、アンモニウムチオシア
ネートと臭素を用いてチオシアノゲンを発生させるのが
好ましい。溶媒としてはジクロロメタン、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素類、1,2−ジメトキシエタン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類または酢酸を用いるの
が好ましい。反応温度は０℃から50℃までの任意の温度
が設定できるが、０℃から30℃で行なうのが好ましい。
Ｊ法はR2がメチル基である式〔XXIX〕のウラシル誘導
体のメチル基をハロメチル基に変換して式〔XXX〕の本
発明化合物を得、さらに式〔XXX〕の化合物のハロメチ
ル基をアルコキシメチル基、アルキルチオメチル基また
はヒドロキシメチル基に変換して式〔XXXII〕または式
〔XXXIII〕の本発明化合物を得る方法である。
工程１においては式〔XXIX〕の化合物にＮ−クロロ−
またはＮ−ブロモスクシンイミドを反応させ式〔XXX〕
の５−クロロメチルおよび５−ブロモメチル体を得るこ
とができる。溶媒としては四塩化炭素のようなハロゲン
化炭化水素が好ましい。反応温度は50℃から反応混合物
の還流温度までの任意の温度が設定できるが、還流温度
で行なうのが好ましい。この反応においては過酸化ベン
ゾイルやアゾビスイソブチロニトリル等のラジカル開始
剤を添加するか、またはUV照射下で行なうと有利であ
る。
工程２においては式〔XXX〕の５−ハロメチル化合物
と式〔XXXI〕のアルカリ金属アルコラートまたはチオア
ルコラートを反応させて式〔XXXII〕の５−アルコキシ
メチルおよび５−アルキルチオメチル体を得ることがで
きる。用いられる式〔XXXI〕のアルカリ金属アルコラー
トおよびチオアルコラートはアルコールまたはメルカプ
タンとアルカリ金属を反応させて容易に合成することが
できる。用いられる溶媒としては1,2−ジメトキシエタ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類が好ましいが、
過剰のアルコールまたはメルカプタンを溶媒として用い
てもよい。反応温度は０℃から反応混合物の還流温度ま
での任意の温度が設定できるが、20℃から70℃で行なう
のが好ましい。
工程３においては式〔XXX〕の５−ハロメチル化合物
を塩基の存在下、加水分解することにより式〔XXXIII〕
の５−ヒドロキシメチル体を得ることができる。用いら
れる塩基としては炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属
炭酸塩または炭酸水素ナトリウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩が好ましい。反応温度は０℃から反応混合物
の還流温度までの任意の温度が設定できるが、０℃〜30
℃で行なうのが好ましい。
Ｋ法は３位が水素原子であるウラシル化合物式〔XXXI
V〕と式〔XXXV〕の化合物を塩基の存在下、不活性な溶
媒中で反応させて式〔Ｉ〕の化合物を得る方法である。
式〔XXXV〕の化合物としては電子吸引性の置換基を有す
るハロゲン化芳香族が挙げられ、ハロゲンとしてはフッ
素原子、塩素原子、臭素原子およびヨー素原子が挙げら
れる。塩基としてはナトリウムエトキシドのようなアル
カリ金属アルコキシド類、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩または水素化ナトリ
ウムが挙げられる。溶媒としてはメタノール、エタノー
ル等の低級アルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン、1,2−ジメトキエタン等のエーテ
ル類、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等のアミド類、アセトニトリル、ジメチルス
ルホキシドまたはこれらの混合溶媒等が挙げられる。一
般的にはテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドま
たはジメチルスルホキシド溶媒中で塩基として水素化ナ
トリウムを用いるのが好ましい。反応温度は−30℃から
反応混合物が還流温度までの任意の温度を設定すること
ができる。
又、各製造法（Ａ法〜Ｋ法）において、各反応物質の
モル比には特に制限はないが、等モル又はそれに近い比
率で反応を行なうのが有利である。
本発明化合物を精製する必要が生じた場合は、再結
晶、カラムクロマトグラフィー等の任意の精製方法によ
って分離、精製することができる。
尚、本発明に包含される化合物の中で不斉炭素原子を
有する化合物の場合には、光学活性な化合物（＋）体お
よび（−）体が含まれる。
更に、立体配置異性体が存在する場合には、シス体お
よびトランス体が含まれる。
本発明に包含される化合物としては、具体的には例え
ば、第１〜５表に示す化合物が挙げられる。
但し、第１〜５表の化合物は例示のためのものであっ
て、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
第１〜５表のQ1〜Q61は次の式で表される基である。
次に本発明化合物の製造方法について実施例を具体的
に挙げて説明するが、本発明はこれらのみに限定される
ものではない。
製造例１ ３−（２−フルオロ−４−クロロフェニル）−６−（２
−フルオロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオ
ン（本発明化合物No.1.3） エチル（２−フルオロベンゾイル）アセテート52.5g
と酢酸アンモニウム96.3gをエタノール250 mlに加え、1
0℃で攪拌下、酢酸75.0gを滴下した。室温まで温めた
後、還流下で４時間攪拌した。反応終了後、減圧下で溶
媒を留去し、ジエチルエーテルに溶解した。このエーテ
ル溶液を希塩酸、水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、ついで溶媒を留去してエチル
３−アミノ−３−（２−フルオロフェニル）−２−プロ
ペノエートを50.5g得た。
水素化ナトリウム（純度55％）0.5gをジメチルホルム
アミド20 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ３−アミ
ノ−３−（２−フルオロフェニル）−２−プロペノエー
ト2.1gを滴下した。室温で15分間攪拌後、−30℃に冷却
し、２−フルオロ−４−クロロフェニルイソシアネート
1.7gのトルエン溶液20 mlを滴下した。室温まで温めた
後、さらに80℃で30分間攪拌した。ついで、減圧下で溶
媒留去後100 mlの水を加えて溶解した。この水溶液をジ
エチルエーテルで２回洗浄後、氷50gと濃塩酸20 mlの混
合液中に加えた。析出した結晶をろ過して集め、減圧下
で乾燥し、粗生成物3.0gを得た。これを熱したジイソプ
ロピルエーテルで洗浄した後、乾燥することにより目的
化合物2.4g得た。
融点:186.0−190.0℃1 H−NMR（DMSO d−6,TMS,δppm）： 6.05（1H,s）,7.10〜8.05（7H,m）.11.77（1H,bs） 製造例２ ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−６−（２
−クロロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン
（本発明化合物No.1.14） 水素化ナトリウム（純度55％）2.0gをジメチルホルム
アミド100 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ３−アミ
ノ−３−（２−クロロフェニル）−２−プロペノエート
7.9gを滴下した。室温で15分間攪拌後、エチル ４−ト
リフルオロメトキシフェニルカーバメート8.7gを添加し
た。100℃で４時間攪拌後、減圧下で溶媒を留去した。
残留物を200 mlの水に溶解し、ジエチルエーテルで２回
洗浄した。この水溶液を氷100gと濃塩酸50 mlの混合液
中に加えた。析出した結晶をろ過して集め、減圧下で乾
燥し、粗生成物10.7gを得た。この結晶を熱したジイソ
プロピルエーテルで洗浄した後、乾燥することにより目
的化合物9.7gを得た。
融点:254.0−256.0℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−6,TMS,δppm）： 5.67（1H,s）,7.20〜7.35（8H,m）.11.60（1H,bs） 製造例３ １−エトキシメチル−３−（４−トリフルオロメトキシ
フェニル）−６−（２−クロロフェニル）−2,4（1H,3
H）−ピリミジンジオン（本発明化合物No.1.41） 水素化ナトリウム（純度55％）0.5gをジメチルホルム
アミド50 mlに加え、０℃で攪拌下、３−（４−トリフ
ルオロメトキシフェニル）−６−（２−クロロフェニ
ル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン3.8gを添加し
た。室温で15分間攪拌後、クロロメチルエチルエーテル
1.3gを滴下し、さらに室温で３時間攪拌した。反応混合
物を氷水200 ml中に加え、酢酸エチル200 mlで抽出し
た。有機層を水洗、乾燥後、減圧下で溶媒を留去して粗
生成物3.8gを得た。これをジイソプロピルエーテルを用
いて再結晶して目的化合物を3.2g得た。
融点:168.5−172.0℃1 H−NMR（CDCl3,TMS,δppm）:1.07（3H,t,J＝6.0Hz）,
3.38（2H,q,J＝6.0Hz）,4.59（1H,d,J＝10.0Hz）,5.26
（1H,d,J＝10.0Hz）,5.70（1H,s）,7.20−7.45（8H,m） 製造例４ ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−５−ブロ
モ−６−（２−クロロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリ
ミジンジオン（本発明化合物No.1.33） ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−６−
（２−クロロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジ
オン3.8gを酢酸75 mlに加え、室温で攪拌下、臭素1.7g
を滴下した。反応混合物をさらに２時間攪拌後、減圧下
で溶媒を留去した。残留物を酢酸エチル200 mlに溶解
し、希炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、ついで溶媒を留去して粗生成物
4.5gを得た。この結晶を熱したジイソプロピルエーテル
で洗浄した後、乾燥することにより目的化合物4.1g得
た。
融点:264.0−268.5℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−6,TMS,δppm）： 7.35−7.60（8H,m） 製造例５ ３−（４−クロロフェニル）−６−（２−クロロフェニ
ル）−（1H,3H）−ピリミジン−２−チオン−４−オン
（本発明化合物No.1.43） 水素化ナトリウム（純度55％）0.5gをジメチルホルム
アミド20 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ３−アミ
ノ−２−（２−クロロフェニル）−２−プロペノエート
2.3gを滴下した。室温で15分間攪拌後、０℃に冷却し、
４−クロロフェニルイソチオシアネート1.7gを添加し
た。室温まで温めた後、さらに100℃で１時間攪拌し
た。ついで減圧下で溶媒留去後100 mlの水を加えて溶解
した。この水溶液をジエチルエーテルで２回洗浄後、氷
50gと濃塩酸20 mlの混合液中に加えた。酢酸エチル100
mlで抽出し、水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、ついで溶媒を留去して粗生成物2.1g
を得た。これを熱したジイソプロピルエーテルで洗浄し
た後、乾燥することにより目的化合物を1.0g得た。
融点:245−250.5℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−6,TMS,δppm）： 5.94（1H,s）,7.20〜7.55（8H,m） 製造例６ ３−（3,4−ジクロロフェニル）−６−（2,6−ジフルオ
ロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン（本発
明化合物No.1.166） 亜鉛18.3gをテトラヒドロフラン250 mlに加えた後、
還流下でエチル α−ブロモアセテート3.0gおよび微量
のヨー素を加え、激しく攪拌し、反応を開始させた。室
温まで冷却後、2,6−ジフルオロベンゾニトリル13.9gの
テトラヒドロフラン30 ml溶液を一度に加えた。ついで
エチル α−ブロモアセテート17.8gをゆるやかな還流
が続くような速度で滴下した。さらに１時間還流後、冷
却し、塩化アンモニウム50.0gの水溶液350 ml中に加え
た。ジエチルエーテル300 mlを加えて抽出し、有機層を
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去してエチル ３−アミノ−３−（2,6−ジフ
ルオロフェニル）−２−プロペノエート16.5gを得た。
水素化ナトリウム（純度55％）0.24gを1,4−ジオキサ
ン20 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ３−アミノ−
３−（2,6−ジフルオロフェニル）−２−プロペノエー
ト1.12gを滴下した。室温で１時間攪拌後、０℃に冷却
し、3,4−ジクロロフェニルイソシアネート0.95gを加え
た。室温で８時間攪拌後、減圧下で濃縮し、100 mlの水
を加えて溶かした。ジエチルエーテルで洗浄後、水層を
濃塩酸20 mlと氷50gの混合液中に加えた。酢酸エチル10
0 mlを加えて抽出し、有機層を食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して粗生成
物を得た。これを、ジイソプロピルエーテルとイソプロ
ピルアルコールの混合溶媒を用いて再結晶して目的化合
物を0.20g得た。
融点:255.5−256.5℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−6,TMS,δppm）： 5.78（1H,s）,6.90〜7.75（6H,m）,8.55（1H,bs） 製造例７ ３−｛４−（３−クロロ−５−トリフルオロメチル−２
−ピリジルオキシ）フェニル｝−６−（２−クロロフェ
ニル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン（本発明化合
物No.1.66） 水素化ナトリウム（純度55％）1.8gをジメチルホルム
アミド40 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ３−アミ
ノ−３−（２−クロロフェニル）−２−プロペノエート
8.7gを滴下した。室温で15分間攪拌後、０℃に冷却し、
エチル ４−メトキシメトキシフェニルカーバメート7.
2gのジメチルホルムアミド20 ml溶液を滴下した。120℃
で２時間攪拌後、減圧下で溶媒を留去した。水200 mlを
加えて溶かし、ジエチルエーテルで洗浄後、水層を濃塩
酸50 mlと氷150gの混合液中に加え、析出した結晶をろ
過して集め、減圧下で乾燥し、３−（４−メトキシメト
キシフェニル）−６−（２−クロロフェニル）−2,4（1
H,3H）−ピリミジンジオン10.0g得た。
３−（４−メトキシメトキシフェニル）−６−（２−
クロロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン7.
0gをテトラヒドロフラン100 mlに溶かし、室温で攪拌
下、濃塩酸を10 ml滴下した。さらに室温で12時間攪拌
後、酢酸エチル200 mlを加えて抽出した。有機層を食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶
媒を留去して、３−（４−ヒドロキシフェニル）−６−
（２−クロロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジ
オンを4.5g得た。
水素化ナトリウム（純度55％）0.10gをジメチルホル
ムアミド10 mlに加え、室温で攪拌下、３−（４−ヒド
ロキシフェニル）−６−（２−クロロフェニル）−2,4
（1H,3H）−ピリミジンジオン1.1gを加えた。室温で15
分間攪拌後、2,3−ジクロロ−５−トリフルオロメチル
ピリジン0.7gを加え100℃で２時間攪拌した。反応混合
物を水100 ml中に加え、酢酸エチル100 mlで抽出した。
有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下で溶媒を留去し、目的化合物を0.8g得た。
融点:175.0−176.0℃1 H−NMR（DMSO d−6,TMS,δppm）： 5.70（1H,s）,7.32（4H,s）,7.49（4H,s）,8.20〜8.6
0（3H,m） 製造例８ ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−５−フル
オロ−６−フェニル−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン
（本発明化合物No.2.56） エチル α−フルオロベンゾイルアセテート6.0gと酢
酸アンモニウム7.0gをエタノール50 mlに加え、室温で
攪拌下、酢酸を6.0g滴下した。還流下で４時間攪拌後、
冷却した炭酸水素ナトリウム水溶液中に加えた。ジエチ
ルエーテル200 mlを加えて抽出し、有機層を食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留
去してエチル ２−フルオロ−３−アミノ−３−フェニ
ル−２−プロペノエートを5.5g得た。
水素化ナトリウム（純度55％）0.24gをジメチルホル
ムアミド20 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ２−フ
ルオロ−３−アミノ−３−フェニル−２−プロペノエー
ト1.00gを滴下した。室温で15分間攪拌後、０℃に冷却
し、４−トリフロオロメトキシフェニルイソシアネート
1.02gを滴下した。室温まで温めた後、80℃でさらに２
時間攪拌した。減圧下で濃縮した後、水100 mlを加えて
溶かした。ジエチルエーテルで洗浄後、水層を濃塩酸20
mlと水50gの混合液中に加えた。抽出した結晶をろ過し
て集め、減圧下で乾燥し、粗生成物を得た。これを熱し
たジイソプロピルエーテルで洗浄した後、乾燥すること
により目的化合物0.57g得た。
融点:295.0−303.0℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−M,TMS,δppm）： 7.32（4H,s）,7.45〜7.85（5H,m） 製造例９ ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−５−ヨー
ド−６−フェニル−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン
（本発明化合物No.2.7） ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−６−フ
ェニル−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン0.45gをクロ
ロホルム20 mlに加え、室温で攪拌下、一塩化ヨウ素0.5
mlを滴下した。室温でさらに１時間攪拌後、氷水中に
加えた。クロロホルム50 mlを加えて抽出し、有機層を
チオ硫酸ナトリウム水溶液および食塩水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、ついで減圧下で溶媒を留去し
て粗生成物0.53gを得た。この結晶を熱したジイソプロ
ピルエーテルで洗浄した後、乾燥することにより、目的
化合物を0.40g得た。
融点:294.0−298.0℃1 H−NMR（CDCl3,TMS,δppm）： 7.30（5H,s）,7.50（4H,s）,9.65（1H,bs） 製造例10 １−メチル−３−（２−フルオロ−４−クロロフェニ
ル）−６−（３−トリフルオロメチルフェニル）−2,4
（1H,3H）−ピリミジンジオン（本発明化合物No.2.57） ３−（２−フルオロ−４−クロロフェニル−６−（３
−トリフルオロメチルフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリ
ミジンジオン1.00gをジメチルホルムアミド10 mlに溶解
し、無水炭酸カリウム0.48gおよびヨウ化メチル0.48gを
加え、室温で４時間攪拌した。反応終了後、水に注入
し、析出した結晶をろ過、乾燥することにより目的化合
物を0.90g得た。
融点:139.0−142.0℃1 H−NMR（DMSO d−6,TMS,δppm）： 3.20（3H,s）,5.85（1H,s）,7.12〜7.40（3H,m）,7.4
9〜7.86（4H,m） 製造例11 ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−５−シア
ノ−６−フェニル−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン
（本発明化合物No.2.5） ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−５−ブ
ロモ−６−（２−クロロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピ
リミジンジオン0.7gとシアン化第１銅0.6gをＮ−メチル
−ピロリドン30 mlに加え、200℃で８時間攪拌した。冷
却後、水100 mlに加えて、酢酸エチル100 mlで抽出し
た。有機層を３回水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、ついで減圧下で溶媒を留去して粗生成物を0.62g得
た。これを展開溶媒としてクロロホルムと酢酸エチルの
混合溶媒を用い、分取薄層クロマトグラフィーで精製し
て目的化合物を0.20g得た。
融点:278.0−282℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−6,TMS,δppm）： 7.29（5H,s）,7.40〜7.70（4H,m） 製造例12 ３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−５−ヨー
ド−６−（２−ピリジル）−2,4（1H,3H）−ピリミジン
ジオン（本発明化合物No.3.4） 水素化ナトリウム（純度55％）0.26gをジメチルホル
ムアミド20 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ３−ア
ミノ−３−（２−ピリジル）−２−プロペノエート1.0g
を滴下した。室温で15分間攪拌後、エチル ４−トリフ
ルオロメトキシフェニルカーバメート1.3gを加えた。10
0℃で３時間攪拌下、減圧下で溶媒を留去した。水100 m
lを加えて溶かし、ジエチルエーテルで洗浄した後、水
層を濃塩酸20 mlと氷50gの混合液中に加えた。析出した
結晶をろ過して集め、減圧下で乾燥して、３−（４−ト
リフルオロメトキシフェニル）−６−（２−ピリジル）
−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオンを1.0g得た。
３−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−６−
（２−ピリジル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン1.
0gをジクロロメタン20 mlに加え、室温で攪拌下、一塩
化ヨウ素0.7gを加えた。さらに室温で３時間攪拌後、水
100 ml中に加え、酢酸エチル100 mlで抽出した。有機層
を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
下で溶媒を留去して目的化合物を0.6g得た。
融点:215.0−217.0℃1 H−NMR（DMSO d−6,TMS,δppm）： 7.20〜7.95（7H,m）,8.55〜8.75（1H,m） 製造例13 ３−（５−トリフルオロメチル−２−ピリジル）−６−
（２−クロロフェニル）−2,4（1H,3H）−ピリミジンジ
オン（本発明化合物No.4.4） 水素化ナトリウム（純度55％）0.26gをジメチルホル
ムアミド20 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ３−ア
ミノ−３−（２−クロロフェニル）−２−プロペノエー
ト1.27gを滴下した。室温で15分間攪拌後、０℃に冷却
し、メチル （５−トリフルオロメチル−２−ピリジ
ル）カーバメート1.24gを添加した。120℃で５時間攪拌
後、減圧下で溶媒を留去した。水100 mlを加えて溶解し
た後、ジエチルエーテルで洗浄した。水層を濃塩酸20 m
lと氷50gの混合液中に加え、析出した結晶をろ過して集
め、減圧下で乾燥して目的物を0.21g得た。
融点:281.0−283.0℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−6,TMS,δppm）： 5.81（1H,s）,7.40〜7.60（5H,m）,8.00〜8.25（1H,
m）,8.75〜8.90（1H,m） 製造例14 ３−（2,6−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェニ
ル）−６−トリフルオロメチル−2,4（1H,3H）−ピリミ
ジンジオン（本発明化合物No.5.8） 水素化ナトリウム（純度55％）0.78gのジメチルホル
ムアミド20 ml溶液に、０℃で攪拌下、エチル ３−ア
ミノ−4,4,4−トリフルオロクロトネート2.7gのジメチ
ルホルムアミド20 ml溶液を滴下した。室温まで温めて1
5分間攪拌後、−30℃に冷却し、2,6−ジクロロ−４−ト
リフルオロメチルフェニルイソシアネート3.8gのジメチ
ルホルムアミド溶液20 mlを滴下した。室温まで温めた
後、さらに80℃で30分間攪拌した。ついで、減圧下で溶
媒留去後100 mlの水を加えて溶解した。この水溶液をジ
エチルエーテルで２回洗浄後、氷50gと濃塩酸20 mlの混
合液中に加えた。酢酸エチルで抽出した後、有機層を水
洗、乾燥し、減圧下で溶媒を留去して粗生成物3.75g得
た。これをジイソプロピルエーテルとイソプロピルアル
コールとの混合溶媒から再結晶して目的化合物1.65g得
た。
融点:248.0−250.0℃1 H−NMR（CDCl3＋CD3OD,TMS,δppm）： 6.19（1H,s）,7.71（2H,s） 製造例15 ３−（2,3,4−トリフルオロフェニル）−６−トリフル
オロメチル−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン（本発明
化合物No.5.1） 水素化ナトリウム（純度55％）0.33gのジメチルホル
ムアミド10 ml溶液に、氷冷下でエチル ３−アミノ−
4,4,4−トリフルオロクロトネート1.28gを添加した後、
室温で15分間攪拌した。ついでエチル 2,3,4−トリフ
ルオロフェニルカーバメート1.31gを加え、90℃で４時
間攪拌した。減圧下でジメチルホルムアミドを留去し、
残留物を水100 mlに溶解した。この水溶液をジエチルエ
ーテルで洗浄した後、氷50gと濃塩酸20 mlの混合溶液中
に加えた。酢酸エチルで抽出した後、有機層を水洗、乾
燥し、減圧下で溶媒を留去して目的化合物を0.3g得た。
融点:137.0−138.5℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−6,TMS,δppm）： 6.10（1H,s）,6.80−7.20（2H,m） 製造例16 ３−（2,4,6−トリクロロフェニル）−５−ブロモ−６
−トリフルオロメチル−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオ
ン（本発明化合物No.5.15） ３−（2,4,6−トリクロロフェニル）−６−トリフル
オロメチル−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン3.6gと酢
酸ナトリウム4.1gを酢酸30 mlに加え、室温で攪拌下、
臭素6.4gを滴下した。110℃で５時間攪拌後、減圧下で
溶媒を留去した。酢酸エチル100 mlを加えて抽出した
後、有機層を水洗、乾燥し、ついで溶媒を留去し、粗生
成物を得た。これをイソプロピルエーテルで洗浄した
後、乾燥することにより目的化合物を1.8g得た。
融点:219.0−222.0℃1 H−NMR（CDCl3＋CD3OD,TMS,δppm）： 7.38（2H,s） 製造例17 １−エトキシメチル−３−（2,4,6−トリクロフェニ
ル）−６−トリフルオロメチル−2,4（1H,3H）−ピリミ
ジンジオン（本発明化合物No.5.20） 水素化ナトリウム（純度55％）0.30gのテトラヒドロ
フラン10 ml溶液に、氷冷下で攪拌下、３−（2,4,6−ト
リクロロフェニル）−６−トリフルオロメチル−2,4（1
H,3H）−ピリミジンジオン1.50gを添加し、さらに室温
で15分間攪拌した。ついでクロロメチルエチルエーテル
0.70gを添加した後、室温で３時間攪拌した。氷を加え
て過剰の水素化ナトリウムを分解し、酢酸エチル100 ml
を加えて抽出した。有機層を水で３回洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去して目的化
合物を1.2g得た。粘稠油状物1 H−NMR（CDCl3,TMS,δppm）： 1.18（3H,t,J＝6.0Hz）,3.64（2H,q,J＝6.0Hz）,5.38
（2H,s）,6.30（1H,s）,7.37（2H,s） 製造例18 ３−（2,4,6−トリクロロフェニル）−６−クロロジフ
ルオロメチル−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン（本発
明化合物No.5.56） 水素化ナトリウム（純度55％）0.24gをジメチルホル
ムアミド10 mlに加え、０℃で攪拌下、エチル ３−ア
ミノ−４−クロロ−4,4−ジフルオロクロトネート1.0g
を滴下した。室温で15分間攪拌後、０℃に冷却し、2,4,
6−トリクロロフェニルイソシアネート0.8gを加えた。
室温まで温めた後、さらに100℃で２時間攪拌した。減
圧下で溶媒を留去後、100 mlの水を加えて溶解し、ジエ
チルエーテルで洗浄した。水層を濃塩酸20 mlと氷50gの
混合液中に加え、析出した結晶をろ過して集め、減圧下
で乾燥して粗生成物を得た。これを熱したジイソプロピ
ルエーテルとイソプロピルアルコールの混合溶媒で洗浄
後、乾燥して目的化合物を0.65g得た。
融点:268.0−270.0℃1 H−NMR（CDCl3＋CD3OD,TMS,δppm）： 6.14（1H,s）,7.48（2H,s） 製造例19 ３−（2,4,6−トリクロロフェニル）−６−トリフルオ
ロメチル−（1H,3H）−ピリミジン−２−チオン−４−
オン（本発明化合物No.5.75） 水素化ナトリウム（純度55％）1.0gをジメチルホルム
アミド30 mlに加え、５℃で攪拌下、エチル ３−アミ
ノ−4,4,4−トリフルオロクロトネート3.7gのジメチル
ホルムアミド５ ml溶液を滴下した。室温で15分間攪拌
後、５℃に冷却し、2,4,6−トリクロロフェニルイソチ
オシアネート5.0gのジメチルホルムアミド10 ml溶液を
滴下した。室温まで温めた後、さらに130℃で２時間攪
拌した。減圧下で溶媒を留去後、200 mlの水を加えて溶
解し、ジエチルエーテルで洗浄した。水層を濃塩酸30 m
lと氷100gの混合液中に加えた後、酢酸エチル200 mlを
加えて抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して粗生成物を
2.8g得た。これを展開溶媒としてクロロホルムと酢酸エ
チルの混合溶媒を用い、分取薄層クロマトグラフィーで
精製して目的化合物を0.43g得た。
融点:208.0−214.0℃1 H−NMR（CDCl3＋DMSO d−6,TMS,δppm）： 6.39（1H,s）,7.40（2H,s）,9.60（1H,bs） 製造例20 ３−（2,4−ジニトロ−６−トリフルオロメチルフェニ
ル）−６−トリフルオロメチル−2,4（1H,3H）−ピリミ
ジンジオン（本発明化合物No.5.65） ６−トリフルオロメチル−2,4（1H,3H）−ピリミジン
ジオン1.0gをジメチルホルムアミド10 mlに加え、０℃
で攪拌下、水素化ナトリウム（純度55％）0.65gを加え
た。室温で30分間攪拌後０℃に冷却し、２−クロロ−3,
5−ジニトロベンゾトリフルオライド1.89gのジメチルホ
ルムアミド5 ml溶液を滴下した。室温で３時間攪拌後、
減圧下で溶媒を留去した。冷却した希塩酸を加えた後、
酢酸エチル100 mlを加えて抽出した。有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して粗生成物
を得た。これをクロロホルムと石油エーテルの混合溶媒
から再結晶して目的化合物を0.77g得た。
融点:219.0−220.5℃1 H−NMR（CDCl3＋CD3OD,TMS,δppm）： 6.10（1H,s）,8.78（1H,d,J＝3.0Hz）,9.08（1H,d,J
＝3.0Hz） 製造例21 ３−（2,4,6−トリクロロフェニル）−６−ブロム−
2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン（本発明化合物No.5.8
1） 2,4,6−トリクロロフェニル尿素2.4gを1,4−ジオキサ
ン50 mlに加え、０℃で攪拌下、マロン酸ジクロライド
1.7gを滴下した。室温で３時間攪拌後、減圧下で溶媒を
留去して粗生成物を得た。これを展開溶媒としてクロロ
ホルムを用い、シリカゲルのカラムクロマトグラフィー
で精製して、３−（2,4,6−トリクロロフェニル）−６
−ヒドロキシ−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオンを2.35
g得た。
三臭化リン10 mlを０℃で攪拌下、ピリジン0.60gを滴
下した。０℃でさらに15分間攪拌後、３−（2,4,6−ト
リクロロフェニル）−６−ヒドロキシ−2,4（1H,3H）−
ピリミジンジオン1.6gを加えた。80℃で３時間攪拌後、
氷水中に加え、酢酸エチル100 mlを加えて抽出した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留
去して粗生成物を得た。これをヘキサンとイソプロピル
エーテルの混合溶媒で再結晶し、目的化合物を0.62g得
た。
融点:187−190℃1 H−NMR（CDCl3＋CD3OD,TMS,δppm）： 6.10（1H,s）,7.45（2H,s） 製造例22 ３−（2,6−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−６−メチルチオ−2,4（1H,3H）−ピリミジンジ
オン（本発明化合物No.5.87） ３−（2,6−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ニル）−６−ブロモ−2,4（1H,3H）−ピリミジンジオン
0.81gをジメチルホルムアミド5mlに加え、室温で攪拌
下、メチルメルカプタンソーダ0.35gを添加した。80℃
で２時間攪拌後、室温まで冷却し、冷やした希塩酸中に
加えた。酢酸エチル100mlを加えて抽出し、有機層を希
塩酸及び水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、つ
いで減圧下で溶媒を留去して粗生成物を得た。これをヘ
キサンとイソプロピルエーテルの混合溶媒を用いて再結
晶し、目的化合物を0.33g得た。
融点:219−222℃1 H−NMR（CDCl3,TMS,δppm）： 2.48（3H,s）,5.68（1H,s）,7.76（2H,s） 9.70（1H,bs） 以下、製造例に準じて製造した化合物の物性を第６〜
10表に示す。（ただし、表中の表記は第１〜５表に準ず
る。） 第６〜10表の化合物の番号は後述する製剤例および生
物試験例において参照される。） 本発明化合物を有害生物防除剤として使用するに当た
っては、一般には適当な担体、例えばクレー、タルク、
ベントナイト、珪藻土等の固体担体或いは水、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩素化炭化水素
類、エーテル類、ケトン類、酢酸エチル等のエステル
類、ジメチルホルムアミド等の酸アミド類の液体担体と
混用して適用することができ、所望により乳化剤、分散
剤、懸濁剤、浸透剤、展着剤、安定剤等を添加し、乳
剤、油剤、水和剤、粉剤、粒剤、フロアブル剤等任意の
剤型として実用に供することができる。
又、必要に応じて製剤時又は散布時に他種の除草剤、
各種殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、共力剤等と混合
施用してもよい。
本発明化合物の施用薬量は適用場面、施用時期、施用
方法、対象病害虫、栽培作物等により差異はあるが、一
般には有効成分量としてヘクタール当たり、0.005〜50k
g程度が適当である。
次に、本発明の各種製剤の配合割合及び種類を下記に
記載する。
上記の表中の数値は、重量％を示す。
施用に際しては、乳剤、油剤、フロアブル剤及び水和
剤では所定量の水で希釈して散布し、粉剤及び粒剤は水
で希釈することなく、そのまま直接散布する。
次に、上記の各製剤中の各成分の例を挙げる。
乳剤 有効成分 ：本発明化合物 担 体 ：キシレン、ジメチルホルムアミド、メチル
ナフタレン、シクロヘキサノン、ジクロロベンゼン、イ
ソホロン 界面活性剤：ソルポール2680、ソルポール3005X、ソル
ポール3353 その他の成分：ピペロニルブトキサイド、ベンゾトリア
ゾール 油剤 有効成分 ：本発明化合物 担 体 ：キシレン、メチルセロソルブ、ケロシン フロアブル剤 有効成分 ：本発明化合物 担 体 ：水 界面活性剤：ルノックス1000C、ソルポール3353、ソプ
ロファーFL、ニッポール、アグリソールＳ−710、リグ
ニンスルホン酸ソーダ その他の成分：ザンサンガム、ホルマリン、エチレング
リコール、プロピレングリコール 水和剤 有効成分 ：本発明化合物 担 体 ：炭酸カルシウム、カオリナイト、ジークラ
イトＤ、ジークライトPFP、珪藻土、タルク 界面活性剤：ソルポール5039、ルノックス1000C、リグ
ニンスルホン酸カルシウム、ドデシルベンゼンスルホン
酸ソーダ、ソルポール5050、ソルポール005D、ソルポー
ル5029−０ その他の成分：カープレックス＃80 粉剤 有効成分 ：本発明化合物 担 体 ：炭酸カルシウム、カオリナイト、ジークラ
イトＤ、タルク その他の成分：ジイソプロピルホスフェート、カープレ
ックス＃80 粒剤（１） 有効成分 ：本発明化合物 担 体 ：炭酸カルシウム、カオリナイト、ベントナ
イト、タルク その他の成分：リグニンスルホン酸カルシウム、ポリビ
ニールアルコール 粒剤（２）〔ベイト剤〕 有効成分 ：本発明化合物 担 体 ：小麦粉、フスマ、コーン・グリット、ジー
クライトＤ その他の成分：パラフィン、大豆油 次に、本発明化合物を有効成分とする害虫防除剤の製
剤例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
尚、以下の製剤例において、「部」は重量部を意味す
る。
製剤例１ 乳 剤 本発明化合物 ……５部 キシレン ……70部 N,N−ジメチルホルムアミド ……20部 ソルポール2680 ……５部 （非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物：東邦化学工業（株）商品名） 以上を均一に混合して乳剤とする。
使用に際しては、上記乳剤を50〜20000倍に希釈して
有効成分量がヘクタール当たり0.005〜50kgになるよう
に散布する。
製剤例２ 水和物 本発明化合物 ……25部 ジークライトPFP ……66部 （カオリナイトとセリサイトの混合物：ジークライト工
業（株）商品名） ソルポール5039 ……４部 （アニオン性界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名） カープレックス＃80 ……３部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） リグニンスルホン酸カルシウム ……２部 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
使用に際しては、上記水和剤を50〜20000倍に希釈し
て有効成分量がヘクタール当たり0.005〜50kgになるよ
うに散布する。
製剤例３ 油 剤 本発明化合物 ……10部 メチルセルソルブ ……90部 以上を均一に混合して油剤とする。
使用に際しては、上記油剤を有効成分量がヘクタール
当たり0.005〜50kgになるように散布する。
製剤例４ 粉 剤 本発明化合物 ……3.0部 カープレックス＃80 ……0.5部 （ホワイトカーボン：塩野義製薬（株）商品名） クレー ……95部 リン酸ジイソプロピル ……1.5部 以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
使用に際しては、上記粉剤を有効成分量がヘクタール
当たり0.005〜50kgになるように散布する。
製剤例５ 粒 剤 本発明化合物 ……５部 ベントナイト ……54部 タルク ……40部 リグニンスルホン酸カルシウム ……１部 以上を均一に混合粉砕して少量の水を加えて攪拌混合
し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤とする。
使用に際しては、上記粒剤を有効成分量がヘクタール
当たり0.005〜50kgになるように散布する。
製剤例６ フロアブル剤 本発明化合物 ……35部 ソルポール3353 ……10部 （非イオン性界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名） ルノックス1000C ……0.5部 （陰イオン界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名） １％ザンサンガム水溶液 ……20部 （天然高分子） 水 ……34.5部 有効成分（本発明化合物）を除く上記の成分を均一に
溶解し、次いで本発明化合物を加えてよく攪拌した後、
サンドミルにて湿式粉砕してフロアブル剤を得る。
使用に際しては、上記フロアブル剤を50〜20000倍に
希釈して有効成分量がヘクタール当たり0.005〜50kgに
なるように散布する。
次に、本発明化合物の有害生物防除剤としての有用性
について、以下の試験例において具体的に説明する。
試験例１ ツマグロヨコバイに対する殺虫試験 明細書に記載された本発明化合物の５％乳剤（化合物
によっては25％水和剤を供試）を展着剤の入った水で希
釈して、1000ppm濃度の薬液に調製した。
この薬液を1/20,000アールのポットに植えたイネの茎
葉に十分量散布した。風乾後、円筒をたて、有機リン系
殺虫剤及びカーバメート系殺虫剤に抵抗性を示すツマグ
ロヨコバイの２令幼虫をポット当たり、10頭放虫し、蓋
をし、恒温室に保管した。調査は６日経過後に行い死虫
率を下記の計算式から求めた。
尚、試験は２区制で行なった。
その結果、以下の化合物が100％の死虫率を示した。
本発明化合物： 1.1、1.2、1.3、1.4、1.7、1.8、1.9、1.10、1.11、
1.12、1.13、1.14、1.16、1.21、1.41、1.42、1.60、1.
75、1.76、1.81、1.82、1.83、1.84、1.85、1.86、1.8
8、1.93、1.94、1.95、1.98、1.99、1.100、1.114、1.1
15、1.116、1.117、1.118、1.121、1.122、1.124、1.12
5、1.127、1.129、1.136、1.138、1.139、1.140、1.16
1、1.163、1.167、1.171、2.5、4.2、5.1、5.2、5.3、
5.6、5.7、5.8、5.10、5.11、5.13、5.20、5.21、5.2
2、5.23、5.24、5.29、5.31、5.34、5.38、5.39、5.4
1、5.42、5.43、5.44、5.46、5.47、5.48、5.50、5.5
2、5.53、5.54、5.55、5.56、5.57、5.58、5.59、5.6
0、5.62、5.64、5.67、5.69、5.70、5.71、5.72、5.7
5、5.76、5.82、5.84 試験例２ ニジュウヤホシテントウに対する殺虫試験 明細書に記載された本発明化合物の５％乳剤（化合物
によっては25％水和剤を供試）を展着剤の入った水で希
釈して、1000ppm濃度の薬液に調整しこの薬液中にトマ
トの葉を約10秒間浸漬し、風乾後シャーレに入れ、この
中にニジュウヤホシテントウ２令幼虫をシャーレ当たり
10頭を放虫し、蓋をして25℃恒温室に収容し、６日間経
過後の死虫率を下記の計算式から求めた。尚、試験は２
区制で行なった。
その結果、以下の化合物が100％の死虫率を示した。
本発明化合物： 1.1、1.2、1.3、1.7、1.8、1.9、1.10、1.12、1.14、
1.16、1.21、1.23、1.24、1.25、1.27、1.28、1.29、1.
41、1.42、1.46、1.47、1.53、1.56、1.66、1.67、1.6
8、1.75、1.76、1.78、1.79、1.82、1.83、1.98、1.10
1、1.126、1.127、1.128、1.131、1.132、1.134、1.13
8、1.140、1.151、1.155、1.158、1.167、1.168、1.17
2、1.182、2.11、2.13、2.16、2.17、2.31、2.32、5.
1、5.2、5.3、5.6、5.7、5.8、5.11、5.13、5.20、5.2
1、5.22、5.23、5.24、5.25、5.26、5.29、5.30、5.3
1、5.32、5.34、5.35、5.37、5.38、5.39、5.41、5.4
2、5.43、5.45、5.46、5.47、5.50、5.52、5.53、5.5
4、5.55、5.56、5.57、5.58、5.59、5.60、5.61、5.6
2、5.64、5.70、5.73、5.74、5.76、5.82 試験例３ ハスモンヨトウに対する殺虫試験 明細書に記載された本発明化合物の５％乳剤（化合物
によっては25％水和剤を供試）を展着剤の入った水で希
釈して、1000ppm濃度の薬液に調製しこの薬液中にカン
ランの葉を約10秒間浸漬し、風乾後シャーレに入れ、こ
の中にコナガ２令幼虫をシャーレ当たり10頭を放虫し、
孔のあいた蓋をして25℃恒温室に収容し、６日間経過後
の死虫率を下記の計算式から求めた。
尚、試験は２区制で行なった。
その結果、以下の化合物が100％の死虫率を示した。
本発明化合物： 1.1、1.2、1.3、1.7、1.8、1.9、1.10、1.12、1.14、
1.16、1.21、1.24、1.25、1.27、1.28、1.29、1.45、1.
46、1.51、1.52、1.54、1.55、1.63、1.65、1.66、1.6
7、1.70、1.71、1.72、1.73、1.74、1.75、1.76、1.7
8、1.81、1.82、1.83、1.85、1.86、1.87、1.89、1.9
2、1.97、1.98、1.101、1.102、1.104、1.105、1.110、
1.114、1.115、1.116、1.120、1.121、1.122、1.124、
1.125、1.126、1.127、1.128、1.129、1.132、1.133、
1.134、1.138、1.139、1.140、1.147、1.149、1.150、
1.151、1.152、1.153、1.155、1.156、1.158、1.159、
1.160、1.161、1.163、1.164、1.166、1.167、1.170、
1.171、1.172、2.7、2.13、2.14、2.17、2.32、2.39、
2.42、2.57、3.3、3.4、4.4、5.14、5.31、5.33、5.88 試験例４ ナミハダニに対する数ダニ効力試験 インゲンの葉をリーフパンチを用いて径3.0cmの円形
に切り取り、径7cmのスチロールカップ上の湿った濾紙
上に置いた。これにナミハダニ幼虫を１葉当たり10頭接
種した。明細書に記載された本発明化合物の５％乳剤
（化合物によっては25％水和剤を供試）を展着剤の入っ
た水で希釈して、1000ppm濃度の薬液に調整しこの薬液
をスチロールカップ当たり2 mlずつ回転式散布塔を用い
て散布し、25℃の恒温室に収容し、96時間経過後の死虫
率を下記の計算式から求めた。なお、試験は２区制で行
なった。
その結果、以下の化合物が100％の死虫率を示した。
本発明化合物： 1.9、1.11、1.12、1.17、1.18、1.19、1.20、1.21、
1.23、1.25、1.28、1.29、1.31、1.32、1.33、1.42、1.
51、1.63、1.66、1.68、1.69、1.70、1.71、1.72、1.7
3、1.75、1.76、1.81、1.84、1.85、1.86、1.87、1.9
0、1.92、1.99、1.112、1.114、1.115、1.116、1.122、
1.132、1.138、1.142、1.156、1.162、1.166、1.167、
1.170、1.173、1.184、2.33、2.7、2.71、2.72、3.3、
3.4、5.1、5.3、5.7、5.11、5.18、5.19、5.20、5.22、
5.23、5.24、5.25、5.26、5.27、5.30、5.31、5.32、5.
33、5.34、5.37、5.38、5.39、5.41、5.42、5.43、5.4
7、5.49 比較試験例 文献既知化合物である3,6−ジフェニルウラシル（一
般式ＩにおいてＡ＝フェニル、Ｂ＝フェニル、R1＝水素
原子、R2＝水素原子、Z1＝酸素原子、Z2＝酸素原子）は
前記試験例１〜４において1000ppm濃度でいずれの害虫
（ツマグロヨコバイ、ニジュウヤホシテントウ、ハスモ
ンヨトウおよびナミハダニ）に対しても何ら活性を示さ
なかった（死虫率０％）。
試験例５ 茎葉処理における除草効果試験 縦30cm、横22cm、深さ6cmのプラスチック製箱に殺菌
した畑土壌を入れ、イチビ、オナモミ、アオビユ、シロ
ザ、イヌタデ、アサガオ、ヒエ、メヒシバ、エノコログ
サ、シャターケーンおよびトウモロコシの種子をそれぞ
れスポット状に播種し、薬1.5cm覆土した。
各種植物が２〜３葉期に達したとき、有効成分量が所
定割合となる様に茎葉部へ均一に散布した。
散布の際の薬液は、明細書に記載された25％水和剤を
水で希釈して小型スプレーで各種植物の葉茎部全面に散
布した。薬液散布３週間後に、各種植物に対する除草効
果を下記の判定基準に従い調査した。
結果は第11表に示した。
判定基準 5:完全枯死あるいは90％以上の抑制 4:70〜90％の抑制 3:40〜70％の抑制 2:20〜40％の抑制 1: 5〜20％の抑制 0:5％以下の抑制 抑制の程度は、肉眼による観察結果から求めた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 413/04 Ｃ０７Ｄ 413/04 (72)発明者 福田 憲造 千葉県船橋市坪井町722番地１ 日産化 学工業株式会社中央研究所内 (72)発明者 伊藤 馨 千葉県船橋市坪井町722番地１ 日産化 学工業株式会社中央研究所内 (72)発明者 梅原 利之 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日 産化学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者 工藤 正毅 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日 産化学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者 井上 洋一 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日 産化学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者 縄巻 勤 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日 産化学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者 渡辺 重臣 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470 日 産化学工業株式会社生物科学研究所内 審査官 横尾 俊一 (56)参考文献 特開 昭63−41466（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−107967（ＪＰ，Ａ) 特公 昭50−41466（ＪＰ，Ｂ１) 米国特許3497515（ＵＳ，Ａ) 米国特許3981715（ＵＳ，Ａ) 国際公開89／3825（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 239/54 C07D 401/04 C07D 403/04 C07D 409/04 C07D 413/04 A01N 43/54 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式〔Ｉ〕 《式中、R1は水素原子、C1〜C4アルキル基、C2〜C4アル
    ケニル基、C2〜C4アルキニル基、C1〜C4ハロアルキル
    基、C2〜C4アルコキシアルキル基、ホルミル基、C2〜C6
    アルキルカルボニル基、C2〜C6アルコキシカルボニル
    基、C3〜C6アルコキシカルボニルアルキル基、C2〜C6シ
    アノアルキル基、ベンジル基、フェニル基、アルカリ金
    属またはアルカリ土類金属を示し、 R2は水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜
    C4ハロアルキル基、C1〜C4ヒドロキシアルキル基、C2〜
    C4アルコキシアルキル基、C2〜C4アルキルチオアルキル
    基、チオール基、C1〜C4アルキルチオ基、C1〜C4アルキ
    ルスルフィニル基、C1〜C4アルキルスルホニル基、C1〜
    C4ハロアルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキルスルフィニ
    ル基、C1〜C4ハロアルキルスルホニル基、ヒドロキシ
    基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルコキシ基、ホ
    ルミル基、シアノ基、ニトロ基またはチオシアネート基
    を示し、 Z1,Z2は各々独立して酸素原子、イオウ原子またはイミ
    ノ基を示し、 ｛ただし、Ｘはハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜
    C4アルコキシ基、C1〜C4アルキルチオ基、C1〜C4ハロア
    ルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C1〜C4ハロアルキ
    ルチオ基、アミノ基、シアノ基、またはニトロ基を示
    し、ｌは０〜５の整数（ただし、２〜５の場合はＸは同
    一であっても異なっていてもよい）を示す｝、 未置換または置換されていてもよいナフチル基、フリル
    基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾ
    リル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリ
    ル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チア
    ジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジ
    ル基、ピリミジル基、ピラジル基（ただし、置換されて
    いてもよい置換基としては、ハロゲン原子、C1〜C4アル
    キル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4アルキルチオ基、
    C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロアルコキシ基、C1〜
    C4ハロアルキルチオ基、アミノ基、シアノ基またはニト
    ロ基を示し、置換基の数が２個以上の場合、置換基は同
    一であっても異なっていてもよい）、 フッ素原子を１個以上含んだC1〜C6ハロアルキル基、ハ
    ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ
    基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルス
    ルホニル基、C1〜C6ハロアルキルチオ基、C1〜C6ハロア
    ルキルスルフィニル基、C1〜C6ハロアルキルスルホニル
    基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ基また
    はC2〜C6アルコキシカルボニル基を示し、 （ただし、Ｘおよびｌは前記と同じ意味を示す）、未置
    換または置換されていてもよいナフチル基、フリル基、
    チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル
    基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル
    基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジ
    アゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジル
    基、ピリミジル基またはピラジル基の場合、 〔ただし、Y1はハロゲン原子、C1〜C6アルキル基、C2〜
    C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C3〜C6シクロア
    ルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C6ハロアルケニ
    ル基、C2〜C6ハロアルキニル基、C3〜C6ハロシクロアル
    キル基、C2〜C6シアノアルキル基、C1〜C6ヒドロキシア
    ルキル基、C2〜C6カルボキシアルキル基、C1〜C6アルコ
    キシ基、C2〜C6アルケニルオキシ基、C2〜C6アルキニル
    オキシ基、C3〜C6シクロアルキルオキシ基、C1〜C6ハロ
    アルコキシ基、C2〜C6ハロアルケニルオキシ基、C2〜C6
    ハロアルキニルオキシ基、C3〜C6ハロシクロアルコキシ
    基、C4〜C7ハロシクロアルキルアルコキシ基、C1〜C6ア
    ルキルチオ基、C2〜C6アルケニルチオ基、C2〜C6アルキ
    ニルチオ基、C3〜C6シクロアルキルチオ基、C1〜C6ハロ
    アルキルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C2〜
    C6アルケニルスルフィニル基、C2〜C6アルキニルスルフ
    ィニル基、C3〜C6シクロアルキルスルフィニル基、C1〜
    C6ハロアルキルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホ
    ニル基、C2〜C6アルケニルスルホニル基、C2〜C6アルキ
    ニルスルホニル基、C3〜C6シクロアルキルスルホニル
    基、C1〜C6ハロアルキルスルホニル基、C2〜C6アルコキ
    シアルキル基、C2〜C6アルコキシアルコキシ基、C2〜C6
    ハロアルコキシアルキル基、C2〜C6ハロアルコキシアル
    コキシ基、C2〜C6アルキルチオアルキル基、C2〜C6アル
    キルチオアルコキシ基、C3〜C6アルコキシカルボニルア
    ルキル基、C3〜C6アルキルカルボニルアルキル基、C2〜
    C6アルコキシカルボニルオキシ基、C2〜C6アルキルカル
    ボニルオキシ基、C2〜C6アルキルカルボニル基、C3〜C6
    アルケニルカルボニル基、C3〜C6アルキニルカルボニル
    基、C4〜C7シクロアルキルカルボニル基、C2〜C6ハロア
    ルキルカルボニル基、C2〜C6アルコキシカルボニル基、
    C2〜C6ハロアルコキシカルボニル基、C3〜C6アルコキシ
    カルボニルアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロ
    キシ基、カルボキシル基、チオシアネート基、イソチオ
    シアネート基、C2〜C6チオシアネートアルキル基、C1〜
    C6アルキルスルホニルオキシ基、C2〜C6アルキルチオカ
    ルボニル基、アミノ基（−NR3R4）、アミノカルボニル
    基（−CONR3R4）、アミノカルボニルオキシ基（−OCONR
    3R4）、アミド基（−NR3COR4）、アルコキシカルボニル
    アミノ基（−NR3CO2R4）、アミノスルホニル基（−SO2N
    R3R4）、チオアミド基（−NR3CSR4）、メチレンジオキ
    シ基、ハロメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、
    ハロエチレンジオキシ基、トリメチルシリル基または ＷnAr基 （ただし、R3およびR4は各々独立して水素原子、C1〜C6
    アルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル
    基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C6ハロアルケニル基、
    C2〜C6ハロアルキニル基、C2〜C6アルキルカルボニル
    基、C2〜C6アルコキシカルボニル基、フェニル基または
    ベンジル基を示し、 R5およびR6は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、C1
    〜C6アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、シアノ基ま
    たはフェニル基を示し、 ｑは０〜２の整数を示す）を示し、 ｎは０または１の整数を示し、 Arは無置換または置換されていてもよいフェニル基、ナ
    フチル基、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾ
    リル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリ
    ル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジ
    アゾリル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリ
    ジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、キ
    ノリル基またはキノキザリル基（ただし、置換されてい
    てもよい置換基としてはハロゲン原子、シアノ基、ニト
    ロ基、C1〜C4アルキル基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜
    C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキコシ基、C1〜C4アル
    キルチオ基、C1〜C4ハロアルキルチオ基、C1〜C4アルキ
    ルスルホニル基、C1〜C4ハロアルキルスルホニル基、C2
    〜C4アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アミノ
    基、モノC1〜C4アルキルアミノ基、ジC1〜C4アルキルア
    ミノ基、フェニル基、ベンジル基、メチレンジオキシ基
    またはハロメチレンジオキシ基を示し、置換基が２個以
    上の場合は置換基は同一であっても異なっていてもよ
    い）を示す｝を示し、 ｍは０〜５の整数（ただし、２〜５の場合はY1は同一で
    あっても異なっていてもよい）を示す〕、 未置換または置換されていてもよいナフチル基、フリル
    基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾ
    リル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリ
    ル基、イソオキサゾリル基、チアジアゾリル基、オキサ
    ジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジ
    ル基、ピリミジル基、ピラジル基、キノリル基、キノキ
    ザリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インド
    リル基、ベンゾオキサゾリル基またはベンゾチアゾリル
    基（ただし、置換されていてもよい置換基としてはハロ
    ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C4アルキル基、C1
    〜C4ハロアルキル基、C1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロ
    アルコキシ基、C1〜C4アルキルチオ基、C1〜C4ハロアル
    キルチオ基、C1〜C4アルキルスルホニル基、C1〜C4ハロ
    アルキルスルホニル基、C2〜C4アルコキシカルボニル
    基、カルボキシル基、アミノ基、モノC1〜C4アルキルア
    ミノ基、ジC1〜C4アルキルアミノ基、フェニル基、フェ
    ノキシ基またはベンジル基を示し、置換基が２個以上の
    場合は置換基は同一であっても異なっていてもよい）を
    示し、 Ａがフッ素原子を１個以上含んだC1〜C6ハロアルキル
    基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキ
    ルチオ基、C1〜C6アルキルスルフィニル基、C1〜C6アル
    キルスルホニル基、C1〜C6ハロアルキルチオ基、C1〜C6
    ハロアルキルスルフィニル基、C1〜C6ハロアルキルスル
    ホニル基、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ
    基またはC2〜C6アルコキシカルボニル基の場合、 ｛ただし、Y2はハロゲン原子、C1〜C4アルキル基、C1〜
    C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアルキル基、C1〜C4ハロア
    ルコキシ基、C1〜C4アルキルチオ基、C1〜C4ハロアルキ
    ルチオ基、C1〜C4アルキルスルフィニル基、C1〜C4ハロ
    アルキルスルフィニル基、C1〜C4アルキルスルホニル
    基、C1〜C4ハロアルキルスルホニル基、スルホンアミド
    基、C2〜C4アルケニル基、C2〜C4ハロアルケニル基、ア
    ミノ基、モノC1〜C4アルキルアミノ基、ジC1〜C4アルキ
    ルアミノ基、C2〜C6アルコキシアルコキシ基、C2〜C6ア
    ルコキシカルボニル基、シアノ基またはニトロ基を示
    し、 ｒは３〜５の整数（ただし、Y2は同一であっても異なっ
    ていてもよく、ｒ＝３で2,4,5−位の３置換体の場合は
    ５位の置換基Y2はC1〜C4アルコキシ基、C1〜C4ハロアル
    コキシ基、C2〜C6アルコキシアルコキシ基、C2〜C6アル
    コキシカルボニル基であってはならない）を示し｝を示
    し、 またＡがフェニル基または３−ブロム−４−メトキシフ
    ェニル基であり、Ｂがフェニル基である場合は除く》 で表わされるウラシル誘導体。
  2. 【請求項２】一般式〔Ｉ〕において （ただし、Ｘおよびｌは前記と同じ意味を示す）、未置
    換または置換されていてもよいナフチル基、フリル基、
    チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル
    基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル
    基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジ
    アゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジル
    基、ピリミジル基またはピラジル基（ただし、置換され
    ていてもよい置換基は前記と同じ意味を示す）を示し、 （ただし、Y1およびｍは前記と同じ意味を示す）、未置
    換または置換されていてもよいナフチル基、フリル基、
    チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル
    基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル
    基、イソオキサゾリル基、チアジアゾリル基、オキサジ
    アゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジル
    基、ピリミジル基、ピラジル基、キノリル基、キノキザ
    リル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリ
    ル基、ベンゾオキサゾリル基またはベンゾチアゾリル基
    （ただし、置換されていてもよい置換基は前記と同じ意
    味を示す）を示し、 またＡがフェニル基または３−ブロム−４−メトキシフ
    ェニル基であり、Ｂがフェニル基である場合を除く請求
    項（１）記載の化合物。
  3. 【請求項３】一般式〔Ｉ〕において （ただし、Ｘおよびｌは前記と同じ意味を示す）を示
    し、 （ただし、Y1およびｍは前記と同じ意味を示す）を示
    し、 またＡがフェニル基または３−ブロム−４−メトキシフ
    ェニル基であり、Ｂがフェニル基である場合を除く請求
    項（１）記載の化合物。
  4. 【請求項４】一般式〔Ｉ〕においてＡが未置換または置
    換されていてもよいナフチル基、フリル基、チエニル
    基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、チア
    ゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソオ
    キサゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル
    基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリ
    ミジル基またはピラジル基（ただし、置換されていても
    よい置換基は前記と同じ意味を示す）を示し、 （ただし、Y1およびｍは前記と同じ意味を示す）を示す
    請求項（１）記載の化合物。
  5. 【請求項５】一般式〔Ｉ〕においてＡがフッ素原子を１
    個以上含んだC1〜C6ハロアルキル基、ハロゲン原子、シ
    アノ基、ニトロ基、C1〜C6アルキルチオ基、C1〜C6アル
    キルスルフィニル基、C1〜C6アルキルスルホニル基、C1
    〜C6ハロアルキルチオ基、C1〜C6ハロアルキルスルフィ
    ニル基、C1〜C6ハロアルキルスルホニル基、C1〜C6アル
    コキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ基またはC2〜C6アルコ
    キシカルボニル基を示し、 （ただし、Y2およびｒは前記と同じ意味を示す）を示す
    請求項（１）記載の化合物。
  6. 【請求項６】請求項（１）記載のウラシル誘導体の１種
    または２種以上を有効成分として含有する有害生物防除
    剤。
  7. 【請求項７】請求項（２）記載のウラシル誘導体の１種
    または２種以上を有効成分として含有する害虫防除剤。
  8. 【請求項８】請求項（３）記載のウラシル誘導体の１種
    または２種以上を有効成分として含有する害虫防除剤。
  9. 【請求項９】請求項（４）記載のウラシル誘導体の１種
    または２種以上を有効成分として含有する害虫防除剤。
  10. 【請求項１０】請求項（５）記載のウラシル誘導体の１
    種または２種以上を有効成分として含有する害虫防除
    剤。
  11. 【請求項１１】請求項（５）記載のウラシル誘導体の１
    種または２種以上を有効成分として含有する除草剤。
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