JPH07115148A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH07115148A
JPH07115148A JP5257268A JP25726893A JPH07115148A JP H07115148 A JPH07115148 A JP H07115148A JP 5257268 A JP5257268 A JP 5257268A JP 25726893 A JP25726893 A JP 25726893A JP H07115148 A JPH07115148 A JP H07115148A
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JP
Japan
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fixed
leads
semiconductor device
ceramic base
lead
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Withdrawn
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JP5257268A
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English (en)
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Hiroyuki Nishida
弘行 西田
Hidekazu Matsubayashi
秀和 松林
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap

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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はベース上にリードを位置決め固定す
る半導体装置に関し、固定されるリードの位置ばらつき
の発生を防止することを目的とする。 【構成】 セラミックベース21上のインナリード25
aを位置させる部分に、インナリード25aのそれぞれ
を嵌合させて固定させる溝22を形成する構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ベース上でリードを位
置決め固定する半導体装置に関する。
【0002】近年、半導体装置の高密度化が進み、これ
に伴い半導体装置のリードも多ピン化する傾向にある。
一方で、半導体装置の小型化が要求されており、小さな
パッケージ内に多くのリードが配設される。そのため、
リードと半導体チップを正確に接続するために、リード
の位置ばらつきをなくす必要がある。
【0003】
【従来の技術】従来、サーディップ又はサークワッドタ
イプパッケージの半導体装置は、一般にリードフレーム
と、ガラス付セラミックベースと、キャップにより構成
され、その製造工程においてリードフレームをセラミッ
クベースに固定する。
【0004】そこで、図5に、従来の半導体装置のリー
ド固定の説明図を示す。図5(A)は固定時の平面図、
図5(B)はその断面図を示している。
【0005】図5(A),(B)において、セラミック
ベース11上の中央部分に接着剤によりダイステージ1
2が搭載され、ダイステージ12を除く部分に低融点の
ガラス材13が形成される。そして、サークワッドタイ
プのリードフレーム14のうち、インナリード14aを
ガラス材13上に位置させ、所定温度に加熱しつつ加圧
することにより接着固定するものである。
【0006】この後、図示しないが、ダイステージ12
上に半導体チップが搭載されて該半導体チップのパッド
とインナリード14aとがワイヤによりボンディングさ
れ、低融点ガラス材を接着材としてセラミックキャップ
により封止されるものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
リード固定では、インナリード14aに反りや捩れがあ
る場合や、接着固定時の圧力等により、固定後にインナ
リード14aの位置がばらつくという問題がある。すな
わち、インナリード14aの位置ばらつきは、ワイヤボ
ンディング工程において、ワイヤボンダ(ボンディング
装置)で記憶しているボンディング座標とインナリード
14aの位置が異なりボンディングに位置ずれを生じる
ことになる。
【0008】一方、上述のようなボンディングの位置ず
れに対して補正を行う機能、例えば画像認識で位置比較
を行って補正する機能を使用することも知られている
が、個々のインナリード14aで位置補正を行うこと
は、認識に長時間を要し、作業効率が悪いという問題が
ある。
【0009】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、固定されるリードの位置ばらつきの発生が防止
される半導体装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1では、ベース上
の、半導体チップが搭載されるダイステージ以外の部分
に、接着部材を介して金属導体の所定数の内部リードが
位置固定され、該半導体装置において、前記ベース上の
前記内部リードを位置させる部分に、該内部リードのそ
れぞれを嵌合させて固定させるための所定数の溝が形成
される。
【0011】また、請求項2では、前記内部リードのそ
れぞれを嵌合部に固定させて、前記接着部材上の所定位
置に固定させるための位置決め部材を設ける。
【0012】
【作用】上述のように、請求項1の発明では、ベースに
設けられた溝に接着部材を介して金属導体の内部リード
が嵌合されて固定される。
【0013】また、請求項2の発明では、位置決め部材
の嵌合部に内部リードが嵌合された状態でベース上に接
着部材により位置固定される。
【0014】このように、ベース上での内部リードの固
定に際し、ベース上に設けられた溝又は位置決め部材に
より位置矯正されることとなって内部リードの位置ばら
つきの発生を防止することが可能となる。これにより、
半導体チップと内部リードとの接続において位置補正が
不要となって作業効率が向上すると共に、接続の位置ず
れの発生を防止することが可能となる。
【0015】
【実施例】図1に、本発明の第1実施例の構成図を示
す。図1(A)はセラミックベースの平面図、図1
(B)はリードフレームを接着固定した場合の平面図、
図1(C),(D)は図1(B)の断面図を示してい
る。なお、本第1実施例及び後述する第2実施例ではサ
ークワッドパッケージタイプの半導体装置について説明
するが、サーディップタイプの半導体装置についても同
様である。
【0016】まず、図1(A)において、例えばアルミ
ナにより正方形状に形成されたセラミックベース21上
には、接着固定される金属導体であるリードフレームの
インナリード(内部リード)に対応する形状及び数の溝
22が形成される。すなわち、この溝22は、セラミッ
クベース21上の、半導体チップが搭載されるダイステ
ージ以外の部分に形成される。
【0017】そこで、図1(B)〜(D)において、セ
ラミックベース21の中央部分にダイステージ(材質を
問わない)23が例えばエポキシ系の接着剤(図示せ
ず)により搭載される。このダイステージ23は溝22
と干渉しない位置に設けられる。
【0018】また、セラミックベース21の各溝22内
に、接着部材である低融点ガラス24が設けられ、この
溝22内にインナリード25aを嵌合させてリードフレ
ーム25が配置される。そして、加熱しつつ加圧するこ
とによりインナリード25aが接着固定される。
【0019】なお、リードフレーム25はセラミックベ
ース21に位置するリードがインナリード25a,セラ
ミックベース21外に位置するリードがアウタリード2
5bとなり、アウタリード25bの先端がタイバー25
cで一体的に形成されたものである。
【0020】ここで、図2に、図1の半導体装置の側部
断面図を示す。図2において半導体装置20A は表面実
装型のものを示したもので、図1(B)〜(D)に示す
ようにセラミックベース21上にダイステージ23及び
リードフレーム25のインナリード25aが接着固定さ
れた後、ダイステージ23上に半導体チップ26がダイ
ス付けされ、ワイヤ27により該半導体チップ26とイ
ンナリード25aとがボンディングされる。
【0021】ボンディングは、図示しないボンディング
装置で行われるが、この場合に各インナリード25aが
セラミックベース21の溝22内で位置矯正されている
ことから位置ばらつきがなく、位置補正が不要となって
作業効率が向上されると共に、ワイヤボンディングの位
置ずれが防止されるものである。
【0022】そして、セラミックベース21上に接着部
材である低融点ガラス24bを介してセラミックキャッ
プ28が接着される。また、リードフレーム25の不要
なタイバー25cが、切断除去され、アウタリード25
bをガルウィング形状に折曲されるものである。
【0023】次に、図3に、本発明の第2実施例の構成
図を示す。図3(A)はセラミックベース上にリードフ
レームを接着固定した場合の平面図、図3(B)は位置
決め枠の断面図、図3(C)は図3(A)の側部断面図
である。
【0024】図3(A)〜(C)において、アルミナで
形成された正方形状のセラミックベース31上の中央部
分にはダイステージ23が接着固定され、その周囲に接
着部材である低融点ガラス24cが形成される。
【0025】一方、リードフレーム25のインナリード
25aが、例えばポリイミドで形成される環状の位置決
め枠32に設けられた嵌合部32a内に嵌合固定され、
低融点ガラス24c上に位置される。そして、加熱しつ
つ加圧することにより低融点ガラス24c上(セラミッ
クベース31上)にインナリード25aを接着固定する
ものである。
【0026】ここで、図4に図3の半導体装置の側部断
面図を示す。図4における半導体装置20B においても
第1実施例と同様に表面実装型のものを示したもので、
図3(A),(C)に示すようにセラミックベース31
上にダイステージ23が形成され、低融点ガラス24c
上にリードフレーム25のインナリード25aが接着固
定された後、ダイステージ23上に半導体チップ26が
ダイス付けされ、ワイヤ27により該半導体チップ26
とインナリード25aとがボンディングされる。
【0027】この場合、インナリード25aが位置決め
枠32により位置矯正されて接着固定されていることか
ら位置ばらつきがなく、第1実施例と同様に位置補正を
不要にしてボンディングすることができ、作業効率を向
上させることができる。また、これによりワイヤボンデ
ィングの位置ずれを防止することができるものである。
【0028】そして、セラミックベース31上に接着部
材である低融点ガラス24bを介してセラミックキャッ
プ28が接着される。また、リードフレーム25の不要
なタイバー25cが切断除去され、アウタリード25b
をガルウィング形状に折曲されるものである。
【0029】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ベース上
に各内部リードを嵌合固定させる溝を形成し、又は内部
リードを固定させる嵌合部が形成された位置決め部材を
設けることにより、固定されるリードの位置ばらつきの
発生を防止することができ、作業効率の向上、ボンディ
ング位置ずれの発生防止を図ることができるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の構成図である。
【図2】図1の半導体装置の側部断面図である。
【図3】本発明の第2実施例の構成図である。
【図4】図2の半導体装置の側部断面図である。
【図5】従来の半導体装置のリード固定の説明図であ
る。
【符号の説明】
20A ,20B 半導体装置 21,31 セラミックベース 22 溝 23 ダイステージ 24a〜24c 低融点ガラス 25 リードフレーム 25a インナリード 25b アウタリード 25c タイバー 26 半導体チップ 27 ワイヤ 28 セラミックキャップ 32 位置決め枠 32a 嵌合部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ベース(21)上の、半導体チップ(2
    6)が搭載されるダイステージ(23)以外の部分に、
    接着部材(24a)を介して金属導体(25)の所定数
    の内部リード(25a)が位置固定され、該内部リード
    (25a)と該半導体チップ(26)との接続後に封止
    される半導体装置において、 前記ベース(21)上の前記内部リード(25a)を位
    置させる部分に、該内部リード(25a)のそれぞれを
    嵌合させて固定させるための所定数の溝(22)が形成
    されることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 ベース(31)上の、半導体チップ(2
    6)が搭載されるダイステージ(23)以外の部分に、
    接着部材(24c)を介して金属導体(25)の所定数
    の内部リード(25a)が位置固定され、該内部リード
    (25a)と該半導体チップ(26)との接続後に封止
    される半導体装置において、 前記内部リード(25a)のそれぞれを嵌合部(32
    a)に固定させて、前記接着部材(24c)上の所定位
    置に固定させるための位置決め部材(32)を設けるこ
    とを特徴とする半導体装置。
JP5257268A 1993-10-14 1993-10-14 半導体装置 Withdrawn JPH07115148A (ja)

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