JPH08181165A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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- JPH08181165A JPH08181165A JP6322680A JP32268094A JPH08181165A JP H08181165 A JPH08181165 A JP H08181165A JP 6322680 A JP6322680 A JP 6322680A JP 32268094 A JP32268094 A JP 32268094A JP H08181165 A JPH08181165 A JP H08181165A
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】LOC構造のLSIにおいて、上下両面にボン
ディンパッドを持つチップを用いときのワイヤボンディ
ングを可能にすることにより、チップサイズを大型化す
ることなく外部リード端子数を増加させる。 【構成】両面に能動領域6A,6Bを持つチップ5の上
下両面にボンディングパッド10A,10Bを設ける。
それらパッド10A,10Bの配置を、チップ平面に関
して非対称な配置にすることにより、一方の面のパッド
10A(10B)のワイヤボンディング時に、他方の面
パッド10B(10A)をチップの真裏からボンディン
グ装置の加熱用ステージで支持できるようにして、ボン
ディング部分にキャピラリなどからの圧力による曲げ応
力が加わらないようにして、ボンディング中に十分な圧
力を加えられるようにする。
ディンパッドを持つチップを用いときのワイヤボンディ
ングを可能にすることにより、チップサイズを大型化す
ることなく外部リード端子数を増加させる。 【構成】両面に能動領域6A,6Bを持つチップ5の上
下両面にボンディングパッド10A,10Bを設ける。
それらパッド10A,10Bの配置を、チップ平面に関
して非対称な配置にすることにより、一方の面のパッド
10A(10B)のワイヤボンディング時に、他方の面
パッド10B(10A)をチップの真裏からボンディン
グ装置の加熱用ステージで支持できるようにして、ボン
ディング部分にキャピラリなどからの圧力による曲げ応
力が加わらないようにして、ボンディング中に十分な圧
力を加えられるようにする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路に関
し、特に、LOC(リード・オン・チップ:Lead
on Chip)構造の半導体集積回路に関する。
し、特に、LOC(リード・オン・チップ:Lead
on Chip)構造の半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のLOC構造LSIの一例の断面構
造を図3に示す。図3を参照して、この図に示すLSI
においては、半導体チップ5は上面側に能動領域6を持
ち、その能動領域側の面の周縁に沿って多数のボンディ
ングパッド10が配列されている。このチップ5は、上
記の能動領域側の面に張り付けられた絶縁性両面接着テ
ープ4により、金属製リードフレーム2の内部リード1
1先端に絶縁的に接着、固定されている。チップ5のボ
ンディングパッド10と内部リード11とはワイヤボン
ディングにより、金属細線3で電気的に接続されてい
る。そして、チップ5と、金属細線3と、内部リード1
1とは、例えばエポキシ樹脂のトランスファモールディ
ングで形成された樹脂1で、封止され外装されている。
造を図3に示す。図3を参照して、この図に示すLSI
においては、半導体チップ5は上面側に能動領域6を持
ち、その能動領域側の面の周縁に沿って多数のボンディ
ングパッド10が配列されている。このチップ5は、上
記の能動領域側の面に張り付けられた絶縁性両面接着テ
ープ4により、金属製リードフレーム2の内部リード1
1先端に絶縁的に接着、固定されている。チップ5のボ
ンディングパッド10と内部リード11とはワイヤボン
ディングにより、金属細線3で電気的に接続されてい
る。そして、チップ5と、金属細線3と、内部リード1
1とは、例えばエポキシ樹脂のトランスファモールディ
ングで形成された樹脂1で、封止され外装されている。
【0003】LOC構造では、チップ5を内部リード1
1に支持させるので、チップを支持するために通常リー
ドフレーム中央部に設けられるアイランドが不要であ
る。そして、チップ5上のボンディングパッド10と内
部リード11のボンディング部との位置関係が、アイラ
ンドを持つ構造のLSI(以後、アイランド構造LSI
と称することとする)における位置関係とは逆に、内部
リード11のボンディング部の方がLSIの中心部側に
位置し、ボンディングパッド10の方がその外側に位置
することになる。つまりアイランド構造LSIでは、チ
ップ5と内部リード11とが同一水平面上に並んでいる
ことから、必然的に、内部リード先端とチップとの間に
距離が必要でその分パッケージが大きくなるのに対し、
LOC構造にすると、内部リード11先端とチップ5と
が上下に重なる立体的構造となるので、同じチップサイ
ズでもパッケージを小型化することが可能で、それだけ
電子機器の小型化に有利である。
1に支持させるので、チップを支持するために通常リー
ドフレーム中央部に設けられるアイランドが不要であ
る。そして、チップ5上のボンディングパッド10と内
部リード11のボンディング部との位置関係が、アイラ
ンドを持つ構造のLSI(以後、アイランド構造LSI
と称することとする)における位置関係とは逆に、内部
リード11のボンディング部の方がLSIの中心部側に
位置し、ボンディングパッド10の方がその外側に位置
することになる。つまりアイランド構造LSIでは、チ
ップ5と内部リード11とが同一水平面上に並んでいる
ことから、必然的に、内部リード先端とチップとの間に
距離が必要でその分パッケージが大きくなるのに対し、
LOC構造にすると、内部リード11先端とチップ5と
が上下に重なる立体的構造となるので、同じチップサイ
ズでもパッケージを小型化することが可能で、それだけ
電子機器の小型化に有利である。
【0004】ところが、近年、LSIの高機能化は著し
く、それに伴ってLSIの外部リード端子数、換言すれ
ばチップ上のボンディングパッドの数は増大傾向にあ
り、チップサイズ、更にはパッケージサイズも大型化傾
向にある。しかしながら一方では、電子機器の小型化に
伴ってLSIの小型化に対する要望は強く、チップサイ
ズの大型化は強く制限される。このような状況に対処
し、チップを大型化することなくボンディングパッド数
を増加させるための技術の一つに、チップの両面に能動
領域を形成すると共に、ボンディング用電極をチップ両
面に設ける技術がある。図4は、上述のような、チップ
両面にボンディング用電極を持つLSIの一例の断面構
造を示す図であって、特開平2ー201947号公報
(以後、第1の公報と記す)に開示されたものの要部を
示す。図4を参照すると、このLSIでは、チップ5の
両面にそれぞれ、能動領域とボンディングパッドとが形
成されている。すなわち、チップ5の上面には能動領域
6Aとボンディングパッド10Aを備え、チップ5下面
には能動領域6Bとボンディングパッド10Bが形成さ
れている。上下のボンディングパッド10A,10B
は、上下対称の位置に配置されている。ボンディングパ
ッド10A,10Bのそれぞれとリードフレーム2の内
部リード11とは、ワイヤボンディングにより金属細線
3A,3Bで電気的に接続されている。このLSIで
は、図3に示すLOC構造のLSIとは異って、チップ
5は、金属細線3A,3Bによってのみリードフレーム
2に支持されていることになる。このLSIにおいてチ
ップ5と内部リード11の位置関係に着目するとそれら
は同一水平面上に位置しており、この点で、このLSI
はLOC構造ではない。
く、それに伴ってLSIの外部リード端子数、換言すれ
ばチップ上のボンディングパッドの数は増大傾向にあ
り、チップサイズ、更にはパッケージサイズも大型化傾
向にある。しかしながら一方では、電子機器の小型化に
伴ってLSIの小型化に対する要望は強く、チップサイ
ズの大型化は強く制限される。このような状況に対処
し、チップを大型化することなくボンディングパッド数
を増加させるための技術の一つに、チップの両面に能動
領域を形成すると共に、ボンディング用電極をチップ両
面に設ける技術がある。図4は、上述のような、チップ
両面にボンディング用電極を持つLSIの一例の断面構
造を示す図であって、特開平2ー201947号公報
(以後、第1の公報と記す)に開示されたものの要部を
示す。図4を参照すると、このLSIでは、チップ5の
両面にそれぞれ、能動領域とボンディングパッドとが形
成されている。すなわち、チップ5の上面には能動領域
6Aとボンディングパッド10Aを備え、チップ5下面
には能動領域6Bとボンディングパッド10Bが形成さ
れている。上下のボンディングパッド10A,10B
は、上下対称の位置に配置されている。ボンディングパ
ッド10A,10Bのそれぞれとリードフレーム2の内
部リード11とは、ワイヤボンディングにより金属細線
3A,3Bで電気的に接続されている。このLSIで
は、図3に示すLOC構造のLSIとは異って、チップ
5は、金属細線3A,3Bによってのみリードフレーム
2に支持されていることになる。このLSIにおいてチ
ップ5と内部リード11の位置関係に着目するとそれら
は同一水平面上に位置しており、この点で、このLSI
はLOC構造ではない。
【0005】一方、特開平3ー236245号公報(以
後、第2の公報と記す)には、上下両面にボンディング
用電極を持つチップを用いたLSIの、他の例が開示さ
れている。この公報記載のLSIでは、チップ上面には
その周縁部に沿って、従来と同様のボンディングパッド
が形成されており、又、チップ下面には周縁部を外れた
チップ中央領域にバンプが形成されている。一方、リー
ドフレーム中央のチップ搭載用アイランドには、チップ
下面のバンプに対応する位置に、バンプを受けるための
パッドが設けられている。チップとリードフレームと
は、チップ下面のバンプとアイランド上面のパッドとを
フリップチップボンディングすることにより、電気的、
機械的に接続、固定される。チップ上面のボンディング
パッドはリードフレーム側の内部リードと、通常のワイ
ヤボンディングにより接続されている。この第2の公報
記載のLSIも、チップ支持のためのアイランドが必要
である点、又、内部リードとチップとが同一水平面上に
位置している点で、LOC構造とは異なる構造である。
後、第2の公報と記す)には、上下両面にボンディング
用電極を持つチップを用いたLSIの、他の例が開示さ
れている。この公報記載のLSIでは、チップ上面には
その周縁部に沿って、従来と同様のボンディングパッド
が形成されており、又、チップ下面には周縁部を外れた
チップ中央領域にバンプが形成されている。一方、リー
ドフレーム中央のチップ搭載用アイランドには、チップ
下面のバンプに対応する位置に、バンプを受けるための
パッドが設けられている。チップとリードフレームと
は、チップ下面のバンプとアイランド上面のパッドとを
フリップチップボンディングすることにより、電気的、
機械的に接続、固定される。チップ上面のボンディング
パッドはリードフレーム側の内部リードと、通常のワイ
ヤボンディングにより接続されている。この第2の公報
記載のLSIも、チップ支持のためのアイランドが必要
である点、又、内部リードとチップとが同一水平面上に
位置している点で、LOC構造とは異なる構造である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した第1の公報記
載のLSIでは、製造工程中でリードフレーム2に対し
てチップ5を機械的に支持するものが金属細線3A,3
Bだけであるので、組立て工程での保持強度が不足す
る。又、チップ5側のボンディングパッド10A,10
Bがチップ5の上下両面に対称に配置されているので、
ワイヤボンディングが困難である。すなわち、ワイヤボ
ンディング時には、通常、チップ5を加熱するためと、
キャピラリやウエッジツールによってボンディングパッ
ドに加えられる圧力を支持するために、ボンディングパ
ッドの真裏に当る部分も含めてチップ裏面を、ボンディ
ング装置のステージで受けるようにする。ところが、第
1の公報記載のLSIでは、チップ上面と下面の対称の
位置に、ボンディングパッドがそれぞれ配置されている
ので、現にボンディングが行われているパッドをその真
裏から機械的に支持することができず、キャピラリなど
からの圧力によりボンディング部に曲げ応力が加わる。
このため、ボンディングパッドに十分な圧力を加えるこ
とができず、ボンディング強度が低下したり、或いはチ
ップが破損してしまうなどの障害が生じる。
載のLSIでは、製造工程中でリードフレーム2に対し
てチップ5を機械的に支持するものが金属細線3A,3
Bだけであるので、組立て工程での保持強度が不足す
る。又、チップ5側のボンディングパッド10A,10
Bがチップ5の上下両面に対称に配置されているので、
ワイヤボンディングが困難である。すなわち、ワイヤボ
ンディング時には、通常、チップ5を加熱するためと、
キャピラリやウエッジツールによってボンディングパッ
ドに加えられる圧力を支持するために、ボンディングパ
ッドの真裏に当る部分も含めてチップ裏面を、ボンディ
ング装置のステージで受けるようにする。ところが、第
1の公報記載のLSIでは、チップ上面と下面の対称の
位置に、ボンディングパッドがそれぞれ配置されている
ので、現にボンディングが行われているパッドをその真
裏から機械的に支持することができず、キャピラリなど
からの圧力によりボンディング部に曲げ応力が加わる。
このため、ボンディングパッドに十分な圧力を加えるこ
とができず、ボンディング強度が低下したり、或いはチ
ップが破損してしまうなどの障害が生じる。
【0007】一方、第2の公報記載のLSIでは、チッ
プとアイランドとをフリップチップボンディングにより
接続するということに伴う製造工程の複雑化および、フ
リップチップボンディングが持つ一般的な欠点の混入が
避けられない。すなわち、立体的な金属突起形成とい
う、平面的構造のボンディングパッドを形成する工程と
は全く異なる工程が必要となり、又、はんだなどの金属
溶融という、ワイヤボンディングとは全く異なる工程が
必要となる。これらのことは、単に製造工程が増加する
のみならず、このLSI製造のためにフリップチップボ
ンダなど新たな設備が必要で多大の投資を要することを
意味する。又、フリップチップボンディングは、接合部
がチップ下部に位置することから、ボンディング精度の
確保が困難であると共にボンディング後の接合状態の視
認が不可能であるので、これらの点を解決するための技
術開発が必要とされている。
プとアイランドとをフリップチップボンディングにより
接続するということに伴う製造工程の複雑化および、フ
リップチップボンディングが持つ一般的な欠点の混入が
避けられない。すなわち、立体的な金属突起形成とい
う、平面的構造のボンディングパッドを形成する工程と
は全く異なる工程が必要となり、又、はんだなどの金属
溶融という、ワイヤボンディングとは全く異なる工程が
必要となる。これらのことは、単に製造工程が増加する
のみならず、このLSI製造のためにフリップチップボ
ンダなど新たな設備が必要で多大の投資を要することを
意味する。又、フリップチップボンディングは、接合部
がチップ下部に位置することから、ボンディング精度の
確保が困難であると共にボンディング後の接合状態の視
認が不可能であるので、これらの点を解決するための技
術開発が必要とされている。
【0008】従って本発明は、上下両面にボンディング
パッドを備えるチップを用いたLSIであって、LOC
構造が可能で高密度実装化に優れると共に、従来の組立
て技術に対する適合性が高く経済性に優れたLSIを提
供することを目的とするものである。
パッドを備えるチップを用いたLSIであって、LOC
構造が可能で高密度実装化に優れると共に、従来の組立
て技術に対する適合性が高く経済性に優れたLSIを提
供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、リードフレームの内部リードと半導体チップとを絶
縁的に固着して前記半導体チップを前記内部リードに支
持させることによりアイランドレスとしたLOC構造の
半導体集積回路において、前記半導体チップが、相対す
る両平面にそれぞれ、能動領域及びその能動領域と外部
とを電気的に接続するためのワイヤボンディング用のパ
ッドとを備えると共に、前記半導体チップの一方の平面
上に設けられたパッドと他方の平面上に設けられたパッ
ドとが、チップ平面に関して非対称に配置されているこ
とを特徴とする。
は、リードフレームの内部リードと半導体チップとを絶
縁的に固着して前記半導体チップを前記内部リードに支
持させることによりアイランドレスとしたLOC構造の
半導体集積回路において、前記半導体チップが、相対す
る両平面にそれぞれ、能動領域及びその能動領域と外部
とを電気的に接続するためのワイヤボンディング用のパ
ッドとを備えると共に、前記半導体チップの一方の平面
上に設けられたパッドと他方の平面上に設けられたパッ
ドとが、チップ平面に関して非対称に配置されているこ
とを特徴とする。
【0010】
【実施例】次に、本発明の好適な実施例について、図面
を用いて説明する。図1は 、本発明の第1の実施例の
完成後の断面を示す図である。又、図2(a)及び
(b)は、第1の実施例の製造工程中の断面を、工程順
に示す図である。図1を参照して、本実施例におけるチ
ップ5は、その上下両面に能動領域とボンディングパッ
ドを備えている。すなわち、チップ上面には能動領域6
Aとボンディングパッド10Aとが形成されており、チ
ップ下面には能動領域6Bとボンディングパッド10B
とが形成されている。上下両面のパッド10A,10B
はチップ平面に関して、非対称に配置されている。チッ
プ上面のパッド10Aはチップ5中央部に配置され、チ
ップ下面のパッド10Bはチップ5周縁部に配列されて
いる。チップ5はその上面に張り付けられた絶縁性両面
接着テープ4により、リードフレーム2の内部リード1
1に接着、固定されている。チップ上面のパッド10A
及び下面のパッド10Bはそれぞれ、金属細線3A,3
Bによって内部リード11にワイヤボンディングされて
いる。そして、全体が封止樹脂1によって覆われてい
る。このように本実施例は、チップ5を絶縁性両面接着
テープ4によりリードフレーム2の内部リード11に固
定し機械的に保持することで、アイランドを不要にする
という、LOC構造となっている。
を用いて説明する。図1は 、本発明の第1の実施例の
完成後の断面を示す図である。又、図2(a)及び
(b)は、第1の実施例の製造工程中の断面を、工程順
に示す図である。図1を参照して、本実施例におけるチ
ップ5は、その上下両面に能動領域とボンディングパッ
ドを備えている。すなわち、チップ上面には能動領域6
Aとボンディングパッド10Aとが形成されており、チ
ップ下面には能動領域6Bとボンディングパッド10B
とが形成されている。上下両面のパッド10A,10B
はチップ平面に関して、非対称に配置されている。チッ
プ上面のパッド10Aはチップ5中央部に配置され、チ
ップ下面のパッド10Bはチップ5周縁部に配列されて
いる。チップ5はその上面に張り付けられた絶縁性両面
接着テープ4により、リードフレーム2の内部リード1
1に接着、固定されている。チップ上面のパッド10A
及び下面のパッド10Bはそれぞれ、金属細線3A,3
Bによって内部リード11にワイヤボンディングされて
いる。そして、全体が封止樹脂1によって覆われてい
る。このように本実施例は、チップ5を絶縁性両面接着
テープ4によりリードフレーム2の内部リード11に固
定し機械的に保持することで、アイランドを不要にする
という、LOC構造となっている。
【0011】以下に、本実施例におけるワイヤボンディ
ング方法について、説明する。図2(a),(b)を参
照して、本実施例では、先ず、チップ5上面のパッド1
0Aに対するワイヤボンディングを行う(図2
(a))。この場合、従来のLOC構造LSIの製造に
おけるボンディング装置をそのまま流用できる。すなわ
ち、チップ5をその上面を上向にして、ボンディング装
置の加熱用ステージ7上に乗せる。ここで、LSIチッ
プにおけるボンディングパッドは、一般に、チップ表面
から殆ど飛び出さないと見做せる。つまり本実施例で
は、チップ5下面は実質的にフラットで、全面が加熱用
ステージ7に密着しているといえる。従って、加熱用ス
テージ7とチップ5との間の熱の授受には、何ら差支え
はない。又、チップ5上面のパッド10Aはその真裏か
らステージ7に支持されることになるので、そのパッド
10Aにはキャピラリ8から十分に圧力を加えることが
できる。
ング方法について、説明する。図2(a),(b)を参
照して、本実施例では、先ず、チップ5上面のパッド1
0Aに対するワイヤボンディングを行う(図2
(a))。この場合、従来のLOC構造LSIの製造に
おけるボンディング装置をそのまま流用できる。すなわ
ち、チップ5をその上面を上向にして、ボンディング装
置の加熱用ステージ7上に乗せる。ここで、LSIチッ
プにおけるボンディングパッドは、一般に、チップ表面
から殆ど飛び出さないと見做せる。つまり本実施例で
は、チップ5下面は実質的にフラットで、全面が加熱用
ステージ7に密着しているといえる。従って、加熱用ス
テージ7とチップ5との間の熱の授受には、何ら差支え
はない。又、チップ5上面のパッド10Aはその真裏か
らステージ7に支持されることになるので、そのパッド
10Aにはキャピラリ8から十分に圧力を加えることが
できる。
【0012】次に、チップ下面側のパッド10Bに対す
るワイヤボンディングを行う(図2(b))。ここで
は、加熱用ステージ7として、図示するような、中央部
分に凹みを持つステージを用いる。この凹みは、既にボ
ンディング済みのチップ上面側の金属細線3Aに対する
逃げの凹みである。この凹み付きのステージ7上に、チ
ップ5をその上面を下向にし、ボンディング済みの金属
細線3Aが凹み内に入り込むように乗せる。このように
チップ5をセットすると、チップ5下面(この図では、
上向になっている)側のパッド10Bは、その真裏から
ステージ7によって支持されることになる。従って、こ
の場合にも、キャピラリ8をパッド10Bに押し付けて
十分な圧力を加えることができる。
るワイヤボンディングを行う(図2(b))。ここで
は、加熱用ステージ7として、図示するような、中央部
分に凹みを持つステージを用いる。この凹みは、既にボ
ンディング済みのチップ上面側の金属細線3Aに対する
逃げの凹みである。この凹み付きのステージ7上に、チ
ップ5をその上面を下向にし、ボンディング済みの金属
細線3Aが凹み内に入り込むように乗せる。このように
チップ5をセットすると、チップ5下面(この図では、
上向になっている)側のパッド10Bは、その真裏から
ステージ7によって支持されることになる。従って、こ
の場合にも、キャピラリ8をパッド10Bに押し付けて
十分な圧力を加えることができる。
【0013】上述のようにして、チップ上下両面のワイ
ヤボンディングを終った後、内部リード11、チップ
5、金属細線3A,3Bをトランスファモールディング
により樹脂封止して、本実施例を完成する。
ヤボンディングを終った後、内部リード11、チップ
5、金属細線3A,3Bをトランスファモールディング
により樹脂封止して、本実施例を完成する。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、半導体
チップの上下両面にそれぞれ、能動領域とボンディング
パッドを持ち、上下のパッドをチップ平面に関して非対
称に配置すると共に、リードフレームの内部リードとチ
ップとを絶縁性両面接着テープなどにより接着、固定し
てアイランドレスとし、LOC構造としている。
チップの上下両面にそれぞれ、能動領域とボンディング
パッドを持ち、上下のパッドをチップ平面に関して非対
称に配置すると共に、リードフレームの内部リードとチ
ップとを絶縁性両面接着テープなどにより接着、固定し
てアイランドレスとし、LOC構造としている。
【0015】これにより本発明によれば、チップとリー
ドフレームとの製造工程中における機械的支持力を従来
のLOC構造並みに維持しつつ、しかも、チップ両面の
パッドに対するワイヤボンディングを可能とし、LSI
の入出力数を少くとも従来の2倍以上にすることができ
る。
ドフレームとの製造工程中における機械的支持力を従来
のLOC構造並みに維持しつつ、しかも、チップ両面の
パッドに対するワイヤボンディングを可能とし、LSI
の入出力数を少くとも従来の2倍以上にすることができ
る。
【0016】本発明によれば、チップと内部リードとを
全てワイヤボンディングで接続可能であるので、その製
造に当って従来の装置をそのまま適用でき、新たな設備
投資は必要ない。
全てワイヤボンディングで接続可能であるので、その製
造に当って従来の装置をそのまま適用でき、新たな設備
投資は必要ない。
【図1】本発明の第1の実施例の、完成後の断面図であ
る。
る。
【図2】第1の実施例の断面を、製造工程順に示す図で
ある。
ある。
【図3】従来のLOC構造LSIの一例の断面図であ
る。
る。
【図4】チップの両面にボンディングパッドを有する従
来のLSIの一例の断面図である。
来のLSIの一例の断面図である。
1 樹脂 2 リードフレーム 3,3A,3B ワイヤ 4 接着テープ 5 チップ 6,6A,6B 能動領域 7 加熱用ステージ 8 キャピラリ 10,10A,10B ボンディングパッド 11 内部リード
Claims (2)
- 【請求項1】 リードフレームの内部リードと半導体チ
ップとを絶縁的に固着して前記半導体チップを前記内部
リードに支持させることによりアイランドレスとしたL
OC構造の半導体集積回路において、 前記半導体チップが、相対する両平面にそれぞれ、能動
領域及びその能動領域と外部とを電気的に接続するため
のワイヤボンディング用のパッドとを備えると共に、 前記半導体チップの一方の平面上に設けられたパッドと
他方の平面上に設けられたパッドとが、チップ平面に関
して非対称に配置されていることを特徴とする半導体集
積回路。 - 【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記半導体チップの一方の平面上のパッドを半導体チッ
プ周縁部に配置し、前記他方の平面上のパッドを半導体
チップ中央部に配置したことを特徴とする半導体集積回
路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6322680A JPH08181165A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6322680A JPH08181165A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08181165A true JPH08181165A (ja) | 1996-07-12 |
Family
ID=18146423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6322680A Pending JPH08181165A (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08181165A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6583511B2 (en) | 2001-05-17 | 2003-06-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device and a method of producing the same |
JP2011167318A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Seiko Epson Corp | 光デバイスの製造方法、光デバイス及び生体情報検出器 |
JP2021034506A (ja) * | 2019-08-22 | 2021-03-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及びインバータ |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5683896A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-08 | Nec Corp | Memory circuit |
JPH06216313A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止半導体装置 |
-
1994
- 1994-12-26 JP JP6322680A patent/JPH08181165A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5683896A (en) * | 1979-12-11 | 1981-07-08 | Nec Corp | Memory circuit |
JPH06216313A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止半導体装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6583511B2 (en) | 2001-05-17 | 2003-06-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device and a method of producing the same |
JP2011167318A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Seiko Epson Corp | 光デバイスの製造方法、光デバイス及び生体情報検出器 |
US8915857B2 (en) | 2010-02-18 | 2014-12-23 | Seiko Epson Corporation | Method for manufacturing optical device, optical device, and biological information detector |
JP2021034506A (ja) * | 2019-08-22 | 2021-03-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及びインバータ |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19961217 |