JPH07107199B2 - ウエハ処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はウエハをメッキ或は化学液で処理する処理装置
に関するものである。

［従来の技術］ 従来の此種装置例えばメッキ装置は、第４図に示すよう
に、噴流カップＡの上方にコンタクトピン電極Ｂを位置
させ、このコンタクトピン電極Ｂ上にウエハＣを乗架
し、噴流カップＡ内にメッシュ電極Ｄを設け、噴流カッ
プＡの下部に設けたメッキ供給孔Ｅからメッキ液Ｆを噴
流としてウエハＣに吸付け、噴流カップＡの上側からメ
ッキ液Ｆをオーバフローさせるようになっていた。

［発明が解決しようとする課題］ 前記従来の装置にあっては、下方から噴流としてメッキ
液を吹付けるので、ウエハとメッキ液との間に空気を巻
き込んで気泡ができやすく、一度派生した気泡は非常に
出にくい構造になっており、メッキのムラができやす
く、歩止りを悪化させる原因の一つとなっている。

又、ウエハに通電するコンタクトピン電極が液中にあ
り、且つ接触部が露出しているため、この接触部にもメ
ッキが成長してしまう。これにより、コンタクト不良及
びコンタクトピン電極の取換え期間が短くなるという欠
点があった。

又、メッキ処理後の洗浄等はウエハを移動させる必要が
あった。

そこで、本発明においては気泡の発生を防止し、メッキ
処理、洗浄、乾燥を移動させることなく行うことがで
き、且つコンタクトピン電極を被覆して長期間の使用が
可能なウエハ処理装置を提供するのが目的である。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前記目的を達成するために、側壁を有し、下面
を開放し、天板に処理液供給管と処理液リターン管を設
けた箱形の上部カップと、上部カップよりも大きな径の
側壁を有し、上面を解放し、底壁の一部にバルブを有す
る処理液ドレン管を設け、底壁の中央にウエハを載置し
て開塞できるウエハよりも小さな孔を設け、この孔にウ
エハを吸着保持する昇降自在の吸着保持部を通すように
設け、上部カップの下端を底壁に密着するようにした昇
降自在の下部カップとからなるウエハ処理装置を構成す
る。

又、上部カップ内の上側に上部メッシュ電極を、下側に
ウエハに当接するコンタクトピン電極を設けたものであ
る。

又、コンタクトピン電極は外周を非電極の被覆カバーで
覆われ、コンタクトピン電極と被覆カバーとの間に加圧
気体を流すように構成したものである。

又、下部カップの下方に、上面を解放した箱形をした下
部カップを収容できる底壁に洗浄水ドレン管を設けたド
レンカバーを設け、ドレンカバーの内部に下部カップの
底壁に設けた孔を通してウエハを吸着保持して回転する
吸着保持部材を設け、上部カップの下方で、上部カップ
と下部カップの側壁により外側に、ウエハに純水を噴射
する純水ノズルを設けたものである。

［作用］ 本発明は前記のように構成したもので、下部カップの孔
上にウエハを載置して下部カップの下端を下部カップの
底壁に密着させた状態で処理液供給管から処理液を供給
して化学処理を行う。

メッキ作業を行う際には、上部カップ内の上部メッシュ
電極とコンタクトピン電極とに通電を行い、処理液供給
管からメッキ液を供給して電解メッキを行う。

そして、メッキ等の処理を行った後は処理液ドレンから
処理液を排出し、下部カップを下降させる。この下降の
途中でウエハを吸着保持部へ移乗させ、下部カップ下降
後に吸着保持部を低速回転させながら純水ノズルから純
水をウエハに噴射してウエハの洗浄を行い、洗浄液を洗
浄水ドレンから外部へ排出させる。

洗浄後は純水ノズルの噴射を停止させ、吸着保持部を高
速回転させて乾燥させる。

［実施例］ 本発明の実施例を第１図乃至第３図に基づいて詳細に説
明する。

上部カップ１は箱形をなし、下面が開放され、天板２に
バルブ３を有する処理液供給管４と、処理液リターン管
５とを設けている。そして、上部カップ１の内部には上
部メッシュ電極６と被覆コンタクトピン電極７とを設け
ている。被覆コンタクトピン電極７は第３図に示すよう
に、被覆コンタクトピン８の周囲を非電導性の被覆カバ
ー９で覆い、コンタクトピン８と被覆カバー９との間に
加圧気体を送りウエハ10と被覆カバー９との間から処理
液であるメッキ液が侵入してコンタクトピン８へのメッ
キの付着成長を阻止している。

前記上部カップ１は下端を下部カップ11の底壁12に密着
してシールできるようになっている。この下部カップ11
は上面を開放し、側壁を有するもので、昇降できるよう
に設けられ、底壁12の中央に孔13を設け、この孔13の上
面にウエハ10を載置し、メッキ作業中はメッキ液が漏れ
ないようになっている。又、底壁12の一部にはバルブ14
を有する処理液を抜き取る処理液ドレン管15を設けてい
る。

又、下部カップ11の下方にはドレカバー16を設けてい
る。ドレンカバー16は底壁17の中央に吸着保持部18を有
する軸19を貫通して設け、この軸19をスピンモータ（図
示省略）で自由に回転できるようになっている。又、底
壁17の一部に洗浄水を抜き取る洗浄水ドレン管20を設け
ている。

更に、前記上部カップ１の下部外側に鎖線で示すように
純水ノズル21を設けている。

本実施例は前記のように構成したもので、第１図で示す
ように孔13上にウエハ10を載置し、下部カップ11を上昇
させ、下部カップ11の底壁12に上部カップ１の下端を密
着シールする。この際、被覆コンタクトピン電極７の先
端はウエハ10のパターン面に当接している。

前記状態においてバルブ14を閉じ、バルブ３を開いて処
理液供給管４からメッキ液を供給し、通電すると、上部
メッシュ電極６と被覆コンタクトピン電極７を通し、ウ
エハ10にあらかじめ設定された電流が供給され、電解メ
ッキが行われる。

尚、メッキ液は処理液供給管４から供給され、メッキ液
リターン管５から戻るようになっている。

又、メッキ作業中は被覆コンタクトピン電極７のコンタ
クトピン８と非電導性の被覆カバー９との間に加圧気体
を供給し、メッキ液がコンタクトピン８に接触してメッ
キが成長するのを防止している。

メッキ作業終了後は、通電を停止し、バルブ３を閉じて
メッキ液の供給を停止する。一方、バルブ14を開いて処
理液ドレーン15からメッキ液を排出させる。この排出し
たメッキ液はドレンカバー16の洗浄水ドレン管20から外
部へ排出される。その後、下部カップ11を下降させる
と、ウエハ10が吸着保持部18上に載置され、吸着保持さ
れる。下部カップ11は更に下降を続け、底壁12からウエ
ハ10と十分な間隔ができた位置で停止する。

その後、スピンモーターの駆動により吸着保持部18を数
百回転／分で回転させながら純水ノズル21から純水をウ
エハ10に吹き付けて洗浄する。洗浄水は孔13からドレン
カバー16に落下し、洗浄水ドレン管20から外部へ排出さ
れる。

洗浄後は、純水の噴射を停止し、回転速度を数千回転／
分に増速して乾燥させる。この際、遠心力で外側に飛ば
された水滴はドレンカバー16に落下し、洗浄水ドレン管
20から排出される。

ウエハ10が乾燥した後は、ウエハ10を吸着保持部18から
取り除き、新しくメッキを施すウエハ10を吸着保持部18
に載置した後に、下部カップ11を上昇させ、孔13上にウ
エハ10を移乗させ、更に上昇を続けて、上部カップ１の
下端を底壁12に密着した時に上昇を停止させる。その後
は前記したメッキ作業を行うものである。

尚、前記実施例においてはメッキ作業について説明した
が、この装置はこれに限定するものではなく、無電解メ
ッキ、ウェットエッチング、陽極酸化等の各種の化学処
理を行うことができる。

［発明の効果］ 本発明は前記のような構成、作用を有するもので、上側
から処理液を供給するようになっているので、空気を巻
込んで気泡を発生させる心配がないので、特にメッキむ
らの発生を防止することができる。

又、コンタクトピン電極は非導電性の被覆カバーで覆わ
れ、加圧気体により処理液の侵入を阻止しているので、
メッキ作業中にメッキの成長を阻止し、長期間の使用が
可能となりコンタクト不良によるメッキ不良を軽減でき
るもので、装置の自動化が可能となり、不良率を大幅に
軽減することができる。

又、一つの装置で化学処理、洗浄及び乾燥を行うことが
できるので、ウエハを移動させて作業を行う必要がない
ので、従来のように移動中に塵埃が付着する恐れがなく
なる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るウエハ処理装置の化学処理中の断
面図、第２図は洗浄作業中の断面図、第３図は被覆コン
タクトピン電極の断面図、第４図は従来のメッキ装置の
断面図である。 １……上部カップ、２……天板、３……バルブ、４……
処理液供給管、５……処理液リターン管、６……上部メ
ッシュ電極、７……被覆コンタクトピン電極、８……コ
ンタクトピン、９……被覆カバー、10……ウエハ、11…
…下部カップ、12……底壁、13……孔、14……バルブ、
15……処理液ドレン管、16……ドレンカバー、17……底
壁、18……吸着保持部材、19……軸、20……洗浄水ドレ
ン管、21……純水ノズル

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】側壁を有し、下面を開放し、天板に処理液
   供給管と処理液リターン管を設けた箱形の上部カップ
   と、上部カップよりも大きな径の側壁を有し、上面を解
   放し、底壁の一部にバルブを有する処理液ドレン管を設
   け、底壁の中央にウエハを載置して開塞できるウエハよ
   りも小さな孔を設け、この孔にウエハを吸着保持する昇
   降自在の吸着保持部を通すように設け、上部カップの下
   端を底壁に密着するようにした昇降自在の下部カップと
   からなるウエハ処理装置。
2. 【請求項２】上部カップ内の上側に上部メッシュ電極
   を、下側にウエハに当接するコンタクトピン電極を設け
   た請求項（１）記載のウエハ処理装置。
3. 【請求項３】コンタクトピン電極は外周を非電極の被覆
   カバーで覆われ、コンタクトピン電極と被覆カバーとの
   間に加圧気体を流すことを特徴とする請求項（２）記載
   のウエハ処理装置。
4. 【請求項４】下部カップの下方に、上面を解放した箱形
   をした下部カップを収容できる底壁に洗浄水ドレン管を
   設けたドレンカバーを設け、ドレンカバーの内部に下部
   カップの底壁に設けた孔を通してウエハを吸着保持して
   回転する吸着保持部材を設け、上部カップの下方で、上
   部カップと下部カップの側壁により外側に、ウエハに純
   水を噴射する純水ノズルを設けたことを特徴とする請求
   項（１）、（２）のいずれかに記載のウエハ処理装置。