JPH0428897A

JPH0428897A - ウエハ処理装置

Info

Publication number: JPH0428897A
Application number: JP13404290A
Authority: JP
Inventors: Harutake Sonoda; 園田　治毅
Original assignee: SPC Electronics Corp
Current assignee: SPC Electronics Corp
Priority date: 1990-05-25
Filing date: 1990-05-25
Publication date: 1992-01-31
Anticipated expiration: 2010-11-15
Also published as: JPH07107199B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明はウェハをメツキ或は化学液て処理する処理装置
に関するものである。

［従来の技術］従来の此種装置例えばメツキ装置は、第４図に示すよう
に、噴流カップＡの上方にコンタクトピン電極Ｂを位置
させ、このコンタクトビン電極Ｂ上にウェハＣを乗架し
、噴流カップＡ内にメツシュ電極りを設け、噴流カップ
Ａの下部に設けたメツキ供給孔Ｅからメツキ液Ｆを噴流
としてウェハＣに吸付け、噴流カップＡの上側からメツ
キ液Ｆをオーバフローさせるようになっていた。

［発明か解決しようとする課題］前記従来の装置にあっては、下方から噴流としてメツキ
液を吹付けるのて、ウェハとメツキ液との間に空気を巻
き込んて気泡ができやすく、−度派生した気泡は非常に
出にくい構造になっており、メツキのムラかてきやすく
、歩出りを悪化させる原因の一つとなっている。

又、ウェハに通電するコンタクトピン電極か液中にあり
、且つ接触部か露出しているため、この接触部にもメツ
キか成長してしまう。これにより、コンタクト不良及び
コンタクトピン電極の取換え期間か短くなるという欠点
があった。

又、メツキ処理後の洗浄等はウェハを移動させる必要か
あった。

そこて、本発明においては気泡の発生を防止し、メツキ
処理、洗浄、乾燥を移動させることなく行うことがてき
、且つコンタクトピン電極を被覆して長期間の使用が可
能なウェハ処理装置を提供するのが目的である。

［課題を解決するための手段］本発明は前記目的を達成するために、下側を開放し、上
側に処理液供給管と処理液リターン管を設けた上部カッ
プと、底壁の一部にバルブを有する処理液ドレンな設け
、中央にウェハを載置する孔を設けた昇降自在の下部カ
ップとから成るウェハ処理装置を構成したものである。

又、上部カップ内の上側と上部メツシュ電極を下側にウ
ェハに当接するコンタクトピン電極を設けたものである
。

又、コンタクトピン電極は外周を非導電性の被覆カバー
で覆われ、コンタクトピン電極と被覆カバーとの間に加
圧気体を流すように構成したものである。

又、下部カップの下側に、ウェハを吸着保持して回転す
る吸着保持部材を設け、底壁に洗浄水ドレーンを設けた
下部カップを収容できるドレンカバーと、上部カップの
外側とウェハに純水を噴射する純水ノズルを設けたもの
である。

［作　　用］本発明は前記のように構成したもので、下部カップの孔
上にウェハを載置して下部カップの下端を下部カップの
底壁に密着させた状態て処理液供給管から処理液を供給
して化学処理を行う。

メツキ作業を行う際には、上部カップ内の上部メツシュ
電極とコンタクトピン電極とに通電を行い、処理液供給
管からメツキ液を供給して電解メツキを行う。

そして、メツキ等の処理を行った後は処理液ドレンから
処理液を排出し、下部カップを下降させる。この下降の
途中てウェハを吸着保持部へ移乗させ、下部カップ下ｌ
ｌＩ後に吸着保持部を低速回転させなから純水ノズルか
ら純水をウェハに噴射してウェハの洗浄を行い、洗浄液
を洗浄水ドレンから外部へ排出させる。

洗浄後は純水ノズルの噴射を停止させ、吸着保持部を高
速回転させて乾燥させる。

［実施例］本発明の実施例を第１図乃至第３図に基づいて詳細に説
明する。

上部カップ１は下側が開放され、天板２にバルブ３を有
する処理液供給管４と、処理液リターン管５とを設けて
いる。そして、上部カップ１の内部には上部メツシュ電
極６と被覆コンタクトピン電極７とを設けている。被覆
コンタクトピン電極７は第３図に示すように、被覆コン
タクトピン８の周囲を非電導性の被覆カバー９で覆い、
コンタクトピン８と被覆カバー９との間に加圧気体を送
りウェハ１０と被覆カバー９との間から処理液であるメ
ツキ液か侵入してコンタクトピン８へのメツキの付着成
長を阻止している。

前記上部力・ンプ１は下端を下部カップ１１の底壁１２
に密着してシールできるようになっている。この下部カ
ップエ１は昇降てきるように設けられ、中央に孔１３を
設け、この孔１３の上面にウニハエ０を載置し、メツキ
作業中はメツキ液か漏れないようになっている。又９底
壁１２の一部にはバルブ１４を有する処理液ドレン１５
を設けている。

又、下部力・ンプ１１の下方にはトレヵバー１６を設け
ている。ドレンカバ−１６は底壁１７の中央に吸着保持
部１８を有する軸１９を貫通して設け、この軸１９をス
ピンモータ（図示省略）で自由に回転てきるようになっ
ている。又、底壁１７の一部に洗浄水ドレン２ｏを設け
ている。

更に、前記上部カップ１の下部外側に鎖線て示すように
純水ノズル２１を設けている。

本実施例は前記のように構成したものて、第１図て示す
ように孔１３上にウェハ１０を載置し、下部カップ１１
を上昇させ、下部カップ１１の底壁１２に上部カップ１
の下端を密着シールする。

この際、被覆コンタクトピン電極７の先端はウェハ１０
のパターン面に当接している。

前記状態においてバルブ１４を閉じ、バルブ３を開いて
処理液供給管４からメツキ液を供給し、通電すると、上
部メツシュ電極６と被覆コンタクトピン電極７を通し、
ウェハ１０にあらかしめ設定された電流か供給され、電
解メツキか行われる。

尚、メツキ液は処理液供給管４から供給され、メッキ液
リターン管５から戻るようになっている。

又、メツキ作業中は被覆コンタクトピン電極７のコンタ
クトピン８と非電導性の被覆カバー９との間に加圧気体
を供給し、メツキ液かコンタクトピン８に接触してメツ
キか成長するのを防止している。

メツキ作業終了後は、通電を停止し、バルブ３を閉して
メツキ液の供給を停止する。一方、バルブ１４を開いて
処理液ドレーン１５からメツキ液を排出させる。この排
出したメツキ液はドレンカバー１６の洗浄水ドレン２０
から外部へ排出される。その後、下部カップ１１を下降
させると、ウェハ１０か吸着保持部１８上に載置され、
吸着保持される。下部カップ１１は更に下降を続け、底
壁１２からウェハ１０と十分な間隔かできた位置て停止
する。

その後、スピンモーターの駆動により吸着保持部１８を
数百回転７分て回転させなから純水ノズル２１から純水
をウェハ１０に吹き付けて洗浄する。洗浄水は孔１３か
らドレンカバー１６に落下し、洗浄水ドレン２０から外
部へ排出される。

洗浄後は、純水の噴射を停止し、回転速度を数千回転７
分に増速して乾燥させる。この際、遠心力て外側に飛ば
された水滴はドレンカバー１６に落下し、洗浄水ドレン
２０から排出される。

ウェハ１０か乾燥した後は、ウェハ１０を吸着保持部１
８から取り除き、新しくメツキを施すウェハ１０を吸着
保持部１８に載置した後に、下部カップ１１を上昇させ
、孔１３上にウェハ１０を移乗させ、更に上昇を続けて
、上部カップ１の下端を底壁１２に密着した時に上昇を
停止させる。

その後は前記したメツキ作業を行うものである。

尚、前記実施例においてはメツキ作業について説明した
が、この装置はこれに限定するものではなく、無電解メ
ツキ、ウェットエツチング、陽極酸化等の各種の化学処
理を行うことかてきる。

［発明の効果コ本発明は前記のような構成、作　用を有するものて、上
側から処理液を供給するようになっているので、空気を
巻込んて気泡を発生させる心配かないので、特にメツキ
むらの発生を防止することかできる。

又、コンタクトビン電極は非導電性の被覆カバーて覆わ
れ、加圧気体により処理液の侵入を阻止しているのて、
メツキ作業中にメツキの成長を阻止し、長期間の使用が
可能となりコンタクト不良によるメツキネ良を軽減てき
るもので、装置の自動化か可能となり、不良率を大幅に
軽減することかできる。

又、一つの装置で化学処理、洗浄及び乾燥を行うことか
てきるのて、ウェハを移動させて作業を行う必要かない
のて、従来のように移動中に塵埃か付着する恐れかなく
なる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るウェハ処理装置の化学処理中の断
面図、第２図は洗浄作業中の断面図、第３図は被覆コン
タクトピン電極の断面図、第４図は従来のメツキ装置の
断面図である。ｌ・・・上部カップ、２・・・天板、３・・・バルブ、
４・・・処理液供給管、５・・・処理液リターン管、６
・・・上部メツシュ電極、７・・・被覆コンタクトピン
電極、８・・・コンタクトピン、９・・・被覆カバー１
０・・・ウェハ、１１・・・下部カップ、１２・・・底
壁１３・・・孔、１４・・・ハＪＬ／）、１５・・・処
理液ドレン、１６・・・ドレンカバー、１７・・・底壁
、１８・・・吸着保持部材、１９・・・軸、２０・・・
洗浄水ドレン、２１・・・純水ノズル第１図ドＬン第２図箔３図馬４図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）下側を開放し、上側に処理液供給管と処理液リタ
ーン管を設けた上部カップと、底壁の一部にバルブを有
する処理液ドレンを設け、中央にウエハを載置する孔を
設けた昇降自在の下部カップとから成るウエハ処理装置
。
（２）上部カップ内の上側に上部メッシュ電極を下側に
ウエハに当接するコンタクトピン電極を設けた請求項（
１）記載のウエハ処理装置。
（３）コンタクトピン電極は外周を非導電性の被覆カバ
ーで覆われ、コンタクトピン電極と被覆カバーとの間に
加圧気体を流すことを特徴とする請求項（２）記載のウ
エハ処理装置。
（４）下部カバーの下側に、ウエハを吸着保持して回転
する吸着保持部材を設け、底壁に洗浄水ドレーンを設け
た下部カップを収容できるドレンカバーと、上部カップ
の外側にウエハに純水を噴射する純水ノズルを設けたこ
とを特徴とする請求項（１）（２）記載のウエハ処理装
置。