JPH07106405A - アライメント方法 - Google Patents

アライメント方法

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JPH07106405A
JPH07106405A JP26946293A JP26946293A JPH07106405A JP H07106405 A JPH07106405 A JP H07106405A JP 26946293 A JP26946293 A JP 26946293A JP 26946293 A JP26946293 A JP 26946293A JP H07106405 A JPH07106405 A JP H07106405A
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wafer
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体ウェーハの異列のチップの撮像に起因
する斜めの直線に基づいてアライメントしてしまい、ダ
イシング時にチップの切断事故が発生するのを未然に防
止する。 【構成】 被加工物の所定の距離をおいた第1の領域と
第2の領域とをパターンマッチングにより検出し、その
検出値に基づいて座標のずれを算出し、それらのキーパ
ターンを結ぶ直線が基準線(ヘアーライン)と平行にな
るように角度調整を行うアライメント方法において、前
記角度調整を行った後に、切削すべきラインと基準線と
が現実に平行になっているかを確認するために、前記直
線上の第3の領域にキーパターンと同一のパターンが存
在するかをパターンマッチングにより確認する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイシング装置等にお
けるアライメント方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、IC等のチップが複数形成され
たウェーハは、ダイシング装置によって個々のチップに
分割される。この分割に先立ちウェーハに形成されたチ
ップを区画する切削ライン(ストリートと称する)とブ
レードの切削方向とを合致させるアライメントが遂行さ
れる。このアライメント方法としては、ウェーハの所定
の距離をおいた第1の領域と、第2の領域とをパターン
マッチングによって検出し、その検出値に基づいて座標
のずれを算出して第1の領域のキーパターンと同一のパ
ターンと、第2の領域のキーパターンと同一のパターン
とによって形成される直線がアライメントの基準線(ヘ
アーライン)と平行になるようにθ補正を行うものが知
られている(例えば、特開昭60−54454号公
報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来のアライメン
ト方法によると、第1の領域のチップと第2の領域のチ
ップとは同一の列内のものでなければならないのに、異
なる列に属するものを誤ってアライメントしてしまうこ
とがある。つまり、切削ラインに対して斜めの直線をア
ライメントしてしまい、この斜めの直線に沿ってダイシ
ングを遂行してチップそのものを切断する事故が発生す
る。本発明は、このような従来の問題点を解決するため
になされ、斜めのアライメントによるチップの切断事故
を未然に防止出来るようにした、アライメント方法を提
供することを課題としたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記課題を技術的に解決
するための手段として、本発明は、被加工物の所定の距
離をおいた第1の領域と、第2の領域とをキーパターン
に基づくパターンマッチングによって検出し、その検出
値に基づいて座標のずれを算出して第1の領域のキーパ
ターンと同一のパターンと、第2の領域のキーパターン
と同一のパターンとによって形成される直線がアライメ
ントの基準線と平行になるようにθ補正を行うダイシン
グ装置等におけるアライメント方法において、前記θ補
正を行った後に、被加工物の切削すべきラインとアライ
メントの基準線とが現実に平行になっているかを確認す
るために、第1の領域のキーパターンと同一のパターン
と第2の領域のキーパターンと同一のパターンとによっ
て形成される直線上の第3の領域にキーパターンと同一
のパターンが存在するかをパターンマッチングにより確
認するアライメント方法を要旨とする。
【0005】
【作 用】第1の領域のキーパターンと同一のパターン
と第2の領域のキーパターンと同一のパターンとによっ
て形成される直線に基づいてアライメントした後に、そ
の直線上の第3の領域にキーパターンと同一のパターン
がはたして存在するかどうかを確認する方法であるか
ら、異列のチップの撮像に起因する傾斜直線のミスアラ
イメントの検出が可能であり、チップの切断事故を未然
に防止することが出来る。
【0006】
【実施例】以下、添付図面を参照しながら本発明の実施
例について詳説する。図1において、Wは被加工物たる
ウェーハであり、テープTを介してフレームFに保持さ
れ、図7に示すようにカセット1内に収納されると共に
ダイシング装置Dのカセット載置台2上に載置される。
【0007】前記ウェーハWは、ダイシング装置Dのウ
ェーハ搬出入手段3によってフレームFが挟持され、カ
セット1内からウェーハ搬出入領域4まで搬出される。
このウェーハ搬出の際に、図1に示すフレームFに形成
されたノッチNがウェーハ搬出入手段3の位置決めピン
(図略)に当接して機械的なアライメントが遂行され
る。
【0008】その後、ウェーハWは旋回アーム5によっ
てフレームFが吸引保持されてチャックテーブル6まで
搬送される。チャックテーブル6に保持されたウェーハ
Wは、図7に示すチャックテーブル6のx軸方向の移動
によりアライメントユニット7の撮像手段7aの直下に
位置付けられ、アライメントが遂行される。
【0009】このアライメントにおいて、アライメント
ユニット7を構成する撮像手段7aが、図1に示すよう
にウェーハWの所定の間隔をおいた第1の領域A、第2
の領域Bを撮像する。第1の領域Aを撮像したアライメ
ントユニット7は、図3のようにパターンマッチングに
より所定のキーパターンと同一のパターンが第1の領域
Aに存在するか否かを判断する。所定のキーパターンと
同一のパターンを発見した時は、そのパターンの基準点
Pの座標を例えば(x1 ,y1 )と記憶する。
【0010】次に、撮像手段7aは第1の領域Aからx
軸方向に所定の間隔をおいた第2の領域Bを撮像し、前
記と同様に所定のキーパターンと同一のパターンを発見
し、その基準点Qの座標を例えば(x2 ,y2 )と記憶
する。
【0011】ここで、y1 =y2 であれば基準点P、Q
を結ぶ直線Lがx軸(ブレードによる切削方向と同一方
向でありアライメントの基準となる軸)と平行になり、
図7に示すブレード8による切削ラインと一致すること
となって角度補正は必要ない。しかし、y1 ≠y2 であ
る場合は、図4のように基準点P、Qを結ぶ直線Lがx
軸と平行ではなく、ブレード8による切削ラインSと一
致しないこととなって角度補正が必要となる。
【0012】この場合直線Lとブレード8による切削ラ
インSとのずれ角dθは、次式 dθ=tan-1(y2 −y1 )/(x2 −x1 ) で求めることが出来る。このずれ角dθの算出により、
前記チャックテーブル6をθ補正してx軸(ブレードに
よる切削ラインS)に対して直線Lが平行となるように
調整する。
【0013】次に角度補正が終了した後、ブレード8の
位置とストリートRの位置とを合致させる。これはキー
パターンの位置とストリートRとの位置関係が予めダイ
シング装置のCPUに登録されていて、図5のようにθ
補正後の基準点P1 、Q1 の座標例えば(x3 ,y
3 )、(x4 ,y3 )とを照合することによって遂行さ
れる。
【0014】総てのアライメントが完了した後に、ウェ
ーハWを保持したチャックテーブル6は更にx軸方向に
進出してダイシングが遂行される。尚、前記アライメン
トにおいてウェーハWのy軸方向のアライメントの説明
を省略したが、チャックテーブル6を90°回転してx
軸方向と同様にy軸方向のアライメントも遂行される。
【0015】このように適正なアライメントの下で適正
なダイシングが遂行されるが、アライメントが適正に遂
行されてもダイシングが適正に遂行されない場合があ
る。これは本来ミスアライメントであるにも拘らず、ミ
スであることが分からずにダイシングが遂行されてしま
うからである。従来はアライメントのミスを検出する機
能が無かったため発見出来なかったが、本発明はそのミ
スアライメントを検出出来るように構成したのである。
【0016】ここで、いかなる場合にミスアライメント
が生じるかについて説明する。前記アライメントユニッ
ト7の撮像手段7aによって撮像する領域は比較的狭
く、第1の領域A、第2の領域Bで撮像するウェーハW
上のチップは、ストリートRで区画された同一列のチッ
プであることが必要である。従って、カセット1から搬
出されたウェーハWはフレームFのノッチNによって機
械的なアライメントが遂行され、x軸とストリートRと
の角度ずれが例えば±1.5°以内になるように調整さ
れる。
【0017】図1のように、ウェーハWに形成されてい
るオリエンテーションフラットUはストリートRと略平
行に形成されているので、ウェーハWをテープTを介し
てフレームFに貼着する際、ノッチNの形成されている
フレームFのフラット部VとウェーハWのオリエンテー
ションフラットUとが平行となるように配設し、x軸と
ストリートRとの角度ずれを例えば±1.5°以内に納
めるようにしている。
【0018】しかし、図2に示すようにウェーハWのオ
リエンテーションフラットUと、フレームFのフラット
部Vとが許容範囲を超えて角度ずれを生じている場合
は、フレームFのノッチNに基づいて機械的なアライメ
ントが適正になされても、角度ずれを許容範囲内に納め
ることが出来なくなる。又、ウェーハWが許容範囲内に
フレームFに配設されている場合でも、ノッチNに基づ
く機械的なアライメントが不適正に遂行されれば同様の
問題が生じる。
【0019】このような場合は、図2に示すように第1
の領域A′と第2の領域B′とでは異なる列のチップを
撮像することになり、この状態を適正な状態と誤認して
アライメントが遂行される。その結果、アライメントの
終了後のダイシング時においては、図6のように基準点
P′、Q′を結ぶ直線L′を適正にアライメントして、
直線L′をx軸と平行になるように設定しても現実にチ
ップが並んでいる線S′がx軸と平行にならず、L′と
平行な直線に沿って切削が遂行されると各チップが切断
されてしまい多大な損失を招く。
【0020】そこで、本発明は同一列のチップを撮像し
てアライメントが適正になされていれば、第1の領域A
と第2の領域Bの基準点P、Qを結ぶ直線L上にその
A、B領域間に存在する任意のチップのキーパターンと
同一のパターンの基準点は必ず存在し、逆にA′領域と
B′領域のごとく異なる列のチップを撮像してアライメ
ントした場合には、その基準点P′、Q′を結んだ直線
L′上にはA′B′領域間に存在する任意のチップのキ
ーパターンと同一のパターンの基準点は存在しないとい
う考えに基づいてなされたものである。
【0021】図1及び図5に基づいて本発明を更に具体
的に説明すると、第1の領域Aと第2の領域Bとの間に
例えばチップが10個程度存在する場合、アライメント
後に第1の領域Aのチップから3個目あたり(これに限
定されるものではないが)の領域を第3の領域Cとして
撮像手段7aにより撮像し、キーパターンと同一のパタ
ーンの基準点Oがy座標値を同じくして存在するか否か
を確認する。この第3の領域Cの基準点Oの座標が例え
ば(x5 ,y3 )であれば、y座標の座標値が第1の領
域A、第2の領域Bの基準点P、Qのy座標値y3 と同
じであるから、適正なアライメントが遂行されたと判断
される。
【0022】一方、図6に示すように第1の領域A′と
第2の領域B′が異なる列のチップを撮像してアライメ
ントが遂行された場合は、第1の領域A′からチップ3
個分ほど離れた領域を第3の領域C′として撮像する
と、y座標を同じくする基準点は存在しない。その領域
C′の基準点O′の座標は例えば(x12,y11)と認識
され、これは第1の領域A′の基準点P′のy座標値y
10とは異なるのでアライメントが不適正であったと判断
される。
【0023】アライメントが不適正と判断された場合
は、次のダイシング工程にウェーハWを進めないでアラ
イメントエラーとしてウェーハWをダイシング装置から
取り外し、アライメントエラーの原因を調べる。例え
ば、ウェーハWがフレームFに対して許容範囲内に配設
されているかをチェックし、許容範囲を超えている場合
にはウェーハWをフレームFから取り外し、フレームF
のフラット部VとウェーハWのオリエンテーションフラ
ットUとが平行になるようにして再度フレームFに貼着
される。
【0024】以上のように、アライメントが適正に遂行
されたか否かが確認されるためにミスアライメントの状
態でウェーハがダイシングされる事態を避けることが出
来、高価なチップの損失がなくなる。チップサイズが小
さくなるにつれて、異列のチップを撮像する蓋然性が高
くなりミスアライメントの頻度も高くなるが、本発明を
採用することでかかる問題は解決される。
【0025】尚、実施例では第3の領域を第1の領域の
チップから3つ目位としたが、これに限らず例えばチッ
プが小さい場合は5つ目乃至10個目といった具合に任
意に決められる。又、第3の領域は1箇所である必要は
なく、複数箇所としてチェック機能を高めることが可能
である。更に、第3の領域は前記実施例ではA、Bで挟
まれた間の箇所であったが、此れに限定されずA、B間
の外側であっても構わない。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ダイシングする時の半導体ウェーハのアライメント方法
において、第1の領域と第2の領域のキーパターンの基
準点を結ぶ直線に基づきアライメントした後に、その直
線上に第3の領域内のキーパターンの基準点が存在する
か否かを確認するようにしたので、第1の領域と第2の
領域とは異なる列の場合のミスアライメントを発見する
ことが出来、これにより高価なチップを切断する事故を
未然に防止する効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 フレームに正常に保持された半導体ウェーハ
の平面図である。
【図2】 フレームに正常でない状態に保持された半導
体ウェーハの平面図である。
【図3】 図1のA部及びB部の拡大図である。
【図4】 アライメントにおける角度補正前での基準点
の座標を示す図である。
【図5】 図1のアライメントにおける基準点の座標を
示す図である。
【図6】 図2のアライメントにおける基準点の座標を
示す図である。
【図7】 ダイシング装置の外観図である。
【符号の説明】
1…カセット 2…カセット載置台 3…ウェーハ
搬出入手段 4…ウェーハ搬出入領域 5…旋回ア
ーム 6…チャックテーブル 7…アライメントユ
ニット 7a…撮像手段 8…ブレード A…第1の領域 B…第2の領域 C…第3の領域
D…ダイシング装置 F…フレーム T…テー
プ W…ウェーハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G06T 7/00 H01L 21/301

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被加工物の所定の距離をおいた第1の領
    域と、第2の領域とをキーパターンに基づくパターンマ
    ッチングによって検出し、その検出値に基づいて座標の
    ずれを算出して第1の領域のキーパターンと同一のパタ
    ーンと、第2の領域のキーパターンと同一のパターンと
    によって形成される直線がアライメントの基準線と平行
    になるようにθ補正を行うダイシング装置等におけるア
    ライメント方法において、前記θ補正を行った後に、被
    加工物の切削すべきラインとアライメントの基準線とが
    現実に平行になっているかを確認するために、第1の領
    域のキーパターンと同一のパターンと第2の領域のキー
    パターンと同一のパターンとによって形成される直線上
    の第3の領域にキーパターンと同一のパターンが存在す
    るかをパターンマッチングにより確認するアライメント
    方法。
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