JPH069859U - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

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JPH069859U
JPH069859U JP5486992U JP5486992U JPH069859U JP H069859 U JPH069859 U JP H069859U JP 5486992 U JP5486992 U JP 5486992U JP 5486992 U JP5486992 U JP 5486992U JP H069859 U JPH069859 U JP H069859U
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JP
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polishing
work
holding frame
surface plate
plate
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Withdrawn
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JP5486992U
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English (en)
Inventor
勉 澤野
浩史 小村
Original Assignee
日本板硝子株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 研磨装置に対して研磨剤を効率的に供給でき
るようにする。 【構成】 上面に研磨面2を有する定盤1と、この定盤
1上に対向して、揺動アームの先端部に回転可能に設け
られ、保持枠3に保持したガラス板(ワーク)Wを貼り
付けるワーク保持部材5とを備え、保持枠3はワークW
の四隅を保持する保持部3aを有し、保持部3a以外の
部分では研磨面2との間に充分な隙間3bを確保し、研
磨剤を効率的に外部から供給する。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はガラス板等の研磨装置に関し、特にワークを保持する保持枠及び定盤 に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶用基板ガラスは、表面の平坦度が極めて要求されるガラス板であり、通常 、この平坦度を達成するためにフロート式製造装置によって製造したフロート板 ガラスをさらに研磨装置で研磨するようにしている。
【0003】 このような研磨装置としては、図6に示すように研磨布又は研磨パッド等の研 磨面102を有する定盤101と、この定盤101上に対向してガラス板(ワー ク)Wを貼り付けるガラス保持部材103とを備え、このガラス保持部材103 を揺動アームの先端部に垂下した支軸の下端部にフリー状態で回転可能に取付け た所謂オスカー式研磨機がある。
【0004】 この研磨装置においては、定盤101を一定速度で回転させながら研磨面10 2に酸化セリウム等の研磨剤を含むスリラーを定盤の上方から落下させて供給し 、他方ガラス保持部材103には図6に示すような保持枠104にて保持したワ ークWを貼り付けて、このワークWを定盤101の研磨面102に一定の研磨加 工圧で押し付けるようにしている。
【0005】 以上において、ガラス保持部材103はその中心を軸として自由に回転できる ので、定盤101の回転に応じて自由回転しながら定盤上で揺動する。これによ り、ワークWは研磨面102と研磨剤とによって均一な研磨が行われ、ワーク表 面の微小凹凸は研磨とともに消失し、高い平坦度の液晶用基板ガラスが得られる 。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
ところで、上述したような研磨装置においては、ワークであるガラス板と研磨 面との間に効率よく研磨剤を供給する必要がある。しかしながら、従来のオスカ ー式の研磨装置にあっては、ガラス板をガラス板の厚みより薄く且つ図7に示す ような一定厚の環状の保持枠104にて保持してガラス保持部材に貼り付けるの で、ガラス板の厚みが薄くなればなるほど保持枠104も薄くしなければならな い。しかしながら、ガラス板を確実に保持するためには保持枠を薄くするにも限 界があり、ガラス板が薄くなるに従って保持枠104の面と研磨面102との隙 間が薄くなり、研磨液がガラス板と研磨面との間に供給されなくなって研磨効率 が低下して研磨速度が低下する。
【0007】 またガラス板が大きくなるに従って研磨液を上方から研磨面に落下させて供給 しても、ガラス板全体に供給液が行き渡らないため、同様に研磨液がガラス板と 研磨面との間に供給されなくなって研磨効率が低下して研磨速度が低下する。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、請求項1の考案はワーク保持枠でワークの四隅の みを保持するようにし、請求項2の考案は定盤内に外部から研磨液が供給される 中空部を形成し、この中空部に連通する多数の供給孔から研磨液を研磨面に供給 するようにした。
【0009】
【作用】
保持枠がワークの四隅のみを保持するので、ガラス板の周囲の大部分について 保持枠と研磨面との隙間を充分確保して研磨剤を充分供給できる。また、定盤内 に外部から研磨液が供給される中空部を形成して、この中空部に連通する多数の 供給孔から研磨液を研磨面に供給するので、ワークが大きくなっても研磨面全体 に研磨剤を供給できる。
【0010】
【実施例】 以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説明する。図1は請求項1の考案 に係る研磨装置の要部正面図、図2は同装置の保持枠の平面図、図3は同保持枠 の正面図、図4は請求項2の考案に係る研磨装置の定盤の一部断面正面図、図5 は同定盤の平面図である。
【0011】 この研磨装置は、上面に研磨布又は研磨パッド等を貼付してなる研磨面2を有 する定盤1と、この定盤1上に対向して保持枠3で保持されたガラス板(ワーク )Wをポリウレタン製のバッククロス4等を介して貼り付けるワーク保持部材5 とを備えている。このワーク保持部材5は、図示しない揺動アームの先端部に取 付けている。保持枠3は図2及び図3に示すように四隅を他の部分よりも厚くし てワークWの四隅を保持する保持部3aを形成している。
【0012】 以上のように構成したので、定盤1を一定速度で回転させながら研磨面2上に 酸化セリウム等の研磨剤を含むスリラーを供給し、他方ワーク保持部材5に貼り 付けた保持枠3で保持されたワークWを定盤1の研磨面2に一定の研磨加工圧で 押し付けることにより、ワーク保持部材5が回転しながら揺動アームの揺動に応 じて定盤1上で揺動する。
【0013】 このとき、保持枠3の保持部3a以外の部分では研磨面2との間に充分な隙間 3bを確保することでできて、研磨剤を効率的に外部から供給することができ、 研磨速度が速くなる。
【0014】 この場合、ワークWの四隅以外についてはワークWが研磨面上で回転して研磨 中でも保持枠3に力を加えないため省略しても不都合はないので、保持枠3自体 は破損しない程度に可能な限り薄くすることができる。
【0015】 また、保持枠3の保持部3aの長さは研磨液を効率良くワークWと研磨面2と の間に入れることができ、かつワークWを確実に保持できる寸法を選択すればよ く、例えば各1辺が30mm程度に設定することが好ましいが、ワークWを確実に 保持できればこれより短くすることができる。
【0016】 ここで具体的な実施例について説明すると、保持枠3の厚みを保持部3aでは 1.0mm、その他の部分3bでは0.8mmとし、バッククロス4の厚みを0.6 mmとすると、厚みが7mmのワークWが保持枠3から突出す部分は保持部3aで0 .3mm、それ以外の部分3bで0.5mmとなり、保持枠3と研磨面2との隙間は 充分確保できる。また、保持枠3の保持部3aのうちの0.4mmでワークWを保 持するので、研磨中にワークWが保持枠3を飛出すこともない。
【0017】 そして、この保持枠3と従来の一定厚さの保持枠を使用し、定盤1及びワーク 保持部材5の各直径をφ800及びφ600に、定盤1の回転数100rpm、研 磨加工圧125gf/cm2として、300角、厚み0.7mmのガラスを研磨した ところ、一定厚さの保持枠を使用した場合の研磨速度は0.9μ/分であったの に対し、保持枠3を使用した場合の研磨速度は1.2μ/分となり、厚み1.1 mmのガラス板を研磨するときと同様の研磨速度が得られた。
【0018】 次に、図4及び図5に示す定盤11は、内部に外部から研磨剤が供給される中 空部12を形成し、この中空部12に連通して研磨面13に研磨剤を供給する多 数の供給孔14を形成したものである。尚、供給孔14は中心から外側に向かっ て徐々に外周方向に向かうように形成している。
【0019】 これによって、定盤11の多数の供給孔14から研磨剤が研磨面13に供給さ れるので、研磨するワークが大きくなった場合での、全体に効率良く研磨剤を供 給することができ、研磨速度が向上する。
【0020】 そこで、φ5の供給孔14を25個形成した定盤11と中心に1個の供給孔を 形成した定盤とを使用して、定盤11及びワーク保持部材5の各直径をφ800 及びφ600に、定盤11の回転数を100rpm,200rpm、研磨加工圧125 gf/cm2として、300角、厚み1.1mmのガラスを研磨したところ、研磨速 度は、定盤の回転数が100rpmのとき、1個の供給孔を形成した定盤にあって 1.2μ/分であったのに対し、25個の供給孔を形成した定盤11にあっては 1.4μ/分であり、回転数が200rpmのとき、1個の供給孔を形成した定盤 にあって1.7μ/分であったのに対し、25個の供給孔を形成した定盤11に あっては2.2μ/分であった。
【0021】 この結果からわかるように、本考案の定盤は研磨速度が速くなり、しかも定盤 の回転数が増加するほど研磨速度も速くなり、効率的な研磨を行うことができる 。
【0022】
【考案の効果】
以上に説明したように本考案によれば、保持枠がワークの四隅を保持するよう にしたので、ガラス板の周囲の大部分について保持枠と研磨面との隙間を充分確 保でき、研磨剤を充分供給できるために研磨速度が速くなって効率的な研磨を行 うことができる。
【0023】 また、定盤内に外部から研磨液が供給される中空部を形成して、この中空部に 連通する多数の供給孔から研磨液を研磨面に供給するので、ワークが大きくなっ ても研磨面全体に研磨剤を供給できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】請求項1の考案に係る研磨装置の一部断面正面
【図2】同装置の保持枠の平面図
【図3】図2のA−A線断面図
【図4】請求項2の考案に係る研磨装置の定盤の一部断
面正面図
【図5】同定盤の平面図
【図6】従来の研磨装置の一部断面正面図
【図7】従来の研磨装置の保持枠の平面図
【符号の説明】
1、11…定盤、2、13…研磨面、3…保持枠、5…
ワーク保持部材、12…中空部、14…供給孔。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨面を有する定盤と、この定盤の研磨
    面に対向してワークを保持するワーク保持枠とを備え、
    前記定盤を回転させながら前記ワーク保持枠で保持され
    たワークを研磨面に押し付けて研磨する研磨装置におい
    て、前記保持枠は各辺の中間部に凹部若しくは切欠を設
    け、保持枠の四隅によってワークの四隅を保持すること
    を特徴とする研磨装置。
  2. 【請求項2】 研磨面を有する定盤と、この定盤の研磨
    面に対向してワークを保持するワーク保持部材とを備
    え、前記定盤を回転させながら前記ワーク保持部材に保
    持されたワークを研磨面に押し付けて研磨する研磨装置
    において、前記定盤内に外部から研磨液が供給される中
    空部を形成し、この中空部に連通して研磨液を前記研磨
    面に供給する多数の供給孔を定盤表面に形成したことを
    特徴とする研磨装置。
JP5486992U 1992-07-13 1992-07-13 研磨装置 Withdrawn JPH069859U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006297523A (ja) * 2005-04-19 2006-11-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 角型基板研磨用ガイドリング及び研磨ヘッド並びに角型基板の研磨方法
JP2006297524A (ja) * 2005-04-19 2006-11-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 角型基板研磨用ガイドリング及び研磨ヘッド並びに角型基板の研磨方法

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JP4616062B2 (ja) * 2005-04-19 2011-01-19 信越化学工業株式会社 角型基板研磨用ガイドリング及び研磨ヘッド並びに角型基板の研磨方法
JP4616061B2 (ja) * 2005-04-19 2011-01-19 信越化学工業株式会社 角型基板研磨用ガイドリング及び研磨ヘッド並びに角型基板の研磨方法

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