JPH0675103A - 反射防止膜を有する光学部材 - Google Patents
反射防止膜を有する光学部材Info
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- JPH0675103A JPH0675103A JP4229688A JP22968892A JPH0675103A JP H0675103 A JPH0675103 A JP H0675103A JP 4229688 A JP4229688 A JP 4229688A JP 22968892 A JP22968892 A JP 22968892A JP H0675103 A JPH0675103 A JP H0675103A
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Abstract
でも合成樹脂基板が着色せず、またポリウレタン樹脂の
ように経時的に微小変形しやすい合成樹脂からなる光学
基板にTiO2 層を形成した場合でも反射防止膜に無数
のくぼみ、しわが発生しにくく、低視感反射特性を示す
TiO2 層を有する反射防止膜を備えた光学部材を提供
する。 【構成】 合成樹脂基板上に反射防止膜を有する光学部
材であって、前記反射防止膜は、λ/4−λ/4−λ/
2−λ/4型の4層反射防止膜であり、基板側から数え
て順に、SiO2 を主成分とし、屈折率が1.43〜
1.48、実質的膜厚が0.15λ〜0.30λである
第1層と、屈折率が1.64〜1.72、実質的膜厚が
0.15λ〜0.30λである第2層と、TiO2 を主
成分とし、屈折率が2.25〜2.34、実質的膜厚が
0.42λ〜0.58λである第3層と、SiO2 を主
成分とし、屈折率が1.43〜1.48、実質的膜厚が
0.20λ〜0.58λである第4層とにより形成され
ていることを特徴とする反射防止膜を有する光学部材。
Description
部材に関する。
めに、合成樹脂基材上に反射防止膜を施すことはよく知
られている。また、できる限り低い視感反射率を得るた
めに高屈折率物質であるTiO2 層が膜厚λ/2の高屈
折率層として用いられ、さらにTiO2 層を形成する際
には、酸素イオンビームを合成樹脂基材に照射しながら
TiO2 を蒸着させることも知られている。合成樹脂基
材上にTiO2 層を備えた反射防止効果のある光学部材
の例として、例えば特開平2−39101号公報には基
板をポリウレタンレンズとし、このポリウレタンレンズ
上に、SiO2 からなる第1層[屈折率1.47、膜厚
3/2λ(λは550nmである。以下同様)]、Zr
O2 とSiO2 の2層等価膜からなる第2層[屈折率
1.80、膜厚λ/4]、基材に酸素イオンビームを照
射しながら形成されたTiO2 層からなる第3層[屈折
率2.40、膜厚λ/2]、SiO2 からなる第4層
[屈折率1.47、膜厚λ/4]を順に積層してなる反
射防止膜を設けた光学部材が開示されている。この反射
防止膜付き光学部材においては、第3層のTiO2 層の
膜厚をλ/2、屈折率を上限の2.40にして、低視感
反射率を得ている。
−39101号公報に開示されている光学部材は、Ti
O2 層の屈折率を上限の2.40にするために、高エネ
ルギーの酸素イオンビームを基板に照射する必要があ
る。そのため高エネルギーの酸素イオンビームの照射に
より合成樹脂基板が着色しやすい問題を有する。またT
iO2 層の屈折率を2.40にしておくと、TiO2 の
分子状態は密な状態になるためTiO2 層内に強い内部
応力が生じ、ポリウレタン樹脂のような経時的に微小変
形しやすい合成樹脂では反射防止膜に無数のくぼみ、し
わが発生しやすく外観上また光学上好ましくない問題を
有している。このため前述した光学部材は眼鏡用レンズ
などには適用しにくい問題を有している。
されたものであり、その目的は高屈折率層であるTiO
2 層を形成した場合でも合成樹脂基板が着色せず、また
ポリウレタン樹脂のように経時的に微小変形しやすい合
成樹脂からなる光学基板にTiO2 層を形成した場合で
も反射防止膜に無数のくぼみ、しわが発生しにくく、さ
らに低視感反射特性を示すTiO2 層を有する光学部材
を提供することにある。
脂基板上に反射防止膜を有する光学部材であって、前記
反射防止膜は、λ/4−λ/4−λ/2−λ/4型の4
層反射防止膜であり、基板側から数えて順に、SiO2
を主成分とし、屈折率が1.43〜1.48、実質的な
膜厚が0.15λ〜0.30λである第1層と、屈折率
が1.64〜1.72、実質的な膜厚が0.15λ〜
0.30λである第2層と、TiO2 を主成分とし、屈
折率が2.25〜2.34、実質的な膜厚が0.42λ
〜0.58λである第3層と、SiO2 を主成分とし、
屈折率が1.43〜1.48、実質的な膜厚が0.20
λ〜0.30λである第4層とにより形成されているこ
とを特徴とする反射防止膜を有する光学部材により達成
された。
いて、第2層を等価膜とすることもでき、この場合、等
価膜は全体としての屈折率が1.64〜1.72、実質
的な膜厚が0.15〜0.30λであり、第2層が単層
からなる場合の反射率と等価な反射率を有する。
3層のTiO2 層の屈折率を2.25〜2.34にする
ことによって合成樹脂基板へのイオンビームの照射エネ
ルギー量を屈折率2.40のTiO2 層を形成する場合
に比べ小さくすることが可能となり、合成樹脂基板の着
色を抑さえることができること、(ii)TiO2 層の屈
折率を2.25〜2.34にすることによって屈折率
2.40のTiO2 層に比べて、層のTiO2 の分子状
態は疎の状態になり、TiO2 層の内部応力を低く抑え
ることができること、(iii)これにより経時的に微小変
化しやすい例えばポリウレタン樹脂などの合成樹脂の上
にTiO2 層を有する反射防止膜を施しても視感反射特
性を損なわず、反射防止膜にくぼみ、しわの発生を防ぐ
ことができることを見い出した。
2−λ/4型の反射防止膜において基板から数えて第1
層をSiO2 を主成分とする層にすることにより、
(a)この第1層が反射防止膜を構成するとともに、下
地層としても働き、別途、下地層を設けた場合と同程度
の反射防止膜と基板との密着性が得られること、(b)
反射防止膜が全体として良好な表面硬度を有すること、
さらに(c)特開平2−39101号公報記載の3/2
λ−λ/4−λ/2−λ/4型の反射防止膜を有する光
学部材よりも低い視感反射特性が得られることを見い出
した。
射防止膜を有する光学部材について以下さらに詳細に説
明する。本発明の反射防止膜を有する光学部材は合成樹
脂基板上に反射防止効果を担う第1層、第2層、第3
層、第4層からなるλ/4−λ/4−λ/2−λ/4型
の反射防止膜を施したものである。
いる。SiO2 を主成分とした理由はSiO2 層が前述
した利点(a), (b)および(c)を有することによ
る。第1層の屈折率の範囲は1.43〜1.48であ
る。また第1層の基本膜厚はλ/4であるが、実質的な
膜厚の範囲は0.15λ〜0.30λである。
である。第2層の屈折率は、上記第1層および下記第4
層の膜構成物質、すなわち屈折率並びに基板の物質、す
なわち屈折率が定まれば下記のλ/4−λ/4−λ/2
−λ/4型反射防止膜の振幅条件式により定めることが
できる。
されず、ZrO2 、Al2 O3 、TiO2 、Ta
2 O5 、SiO2 などの公知の膜の1種又は2種以上構
成物質を用いることができる。第2層の基本膜厚はλ/
4であり、実質的な膜厚の範囲は0.15λ〜0.30
λである。
64〜1.72、実質的な膜厚が0.15λ〜0.30
λであり、第2層が単層からなる場合の反射率を有する
等価膜とすることもできる。その例として2層等価膜、
3層等価膜などが挙げられる。
挙げられる(なお、下記2層等価膜を構成する層のう
ち、上に記載の層が第3層側に、下に記載の層が第1層
側に存在する)。
率は2.25〜2.34である。第3層に屈折率が2.
25〜2.34のTiO2 層を用いた理由は、屈折率
2.25〜2.34のTiO2 層が前述した利点
(i)、(ii)および(iii)を有するからである。ま
た、このTiO2 層は、合成樹脂基板を加熱した状態で
基板に酸素イオンビームを照射しながらチタン又はその
酸化物(一酸化チタン、二酸化チタン等)を基材方向に
飛ばして、二酸化チタンを蒸着させる方法により形成さ
れる。この形成方法において合成樹脂基板を50〜12
0℃に加熱することが好ましい。その理由は、50℃未
満であると、形成されるTiO2 層の硬度が不十分にな
りやすく、一方、120℃を超えるとプラスチック基板
が熱変形し歪みなどが発生する恐れがあるからである。
酸素イオンビームの照射方法、原料であるチタン又はそ
の酸化物の蒸発方法など)は通常採用されている条件の
中から適宜選択されるが、基板へのイオンビームの照射
時の酸素イオン電流密度はTiO2 層の屈折率を2.2
5〜2.34にするために5〜15μA/cm2 の範囲
が好ましい。尚、第3層の基本膜厚はλ/2であるが、
実質的な膜厚の範囲は0.42λ〜0.58λである。
また特に好ましいTiO2 層の屈折率の範囲は2.28
〜2.32である。
いる。第4層としてSiO2 を主成分とした層にした理
由は、高い表面硬度を有すること、および第3層のTi
O2層との密着性が良好であることによるものである。
第4層の基本膜厚はλ/4、実質的な膜厚の範囲は0.
20λ〜0.30λである。また第4層の屈折率の範囲
は1.43〜1.48である。尚、第1層から第4層
は、前述した屈折率範囲内で公知の膜構成物質を添加し
てもよい。
としては、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメ
タクリレートと1種以上の他のモノマーとをモノマー成
分とする共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネートと1種以上の他のモノマーとをモノマー
成分とする共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含
有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩
化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリウレタンなどの重合体が挙げられる。尚、
ここでいうポリウレタンとは、ポリイソシアネート化合
物とポリチオール化合物および/またはポリオール化合
物とが反応してできた重合体をいう。
の間に有機ケイ素重合体を含むハードコート層を介在さ
せることができる。本発明の反射防止膜を有する光学部
材は、眼鏡レンズのほか、カメラ用レンズ、自動車の窓
ガラス、ワードプロセッサーのディスプレイに付設する
光学フィルターなどに使用することが可能である。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。なお、実施例及び比較例で得られた反射防止膜を有
する光学部材は、以下に示す試験方法により、諸物性を
測定した。 (a)耐擦傷性試験 #0000のスチールウールにより表面を往復回数で1
0回こすって耐擦傷性を次のように判定した。 A:わずかに傷がつく B:多く傷がつく C:膜のはがれが生じる (b)視感反射率、視感透過率 日立製作所製U3410型自記分光光度計を用い、視感
反射率、視感透過率を求めた。 (c)外観 目視により以下の項目をチェックし、項目に該当しない
ものを良、該当するものを不良とした。 (i)光学部材が着色していること。 (ii)反射防止膜にくぼみ、しわが見えること。 (d)密着性試験 JIS−Z−1522に従いゴバン目を10×10個作
りセロファン粘着テープにより剥離試験を3回行い、残
ったゴバン目の数を数えた。
ンジイソシアネートとペンタエリスリトールテトラキス
プロピルプロピオネートとを重合してなるポリウレタン
レンズ(nd=1.60、νd=36)を用意した。
テンゾルで被覆した酸化スズゾルと50モル%のγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランを含有するコー
ティング液に浸漬し、その後硬化してハードコート層を
設けた。
℃に加熱し、前記ハードコート層の上に真空蒸着法(真
空度2×10-5Torr)により、SiO2 層(屈折率
1.46、膜厚0.16λ)からなる第1層、この第1
層の上に、TiO2 とTa2 O5 との混合層(屈折率
2.13、膜厚0.10λ)とSiO2 層(屈折率1.
46、膜厚0.09λ)との2層等価膜からなる第2
層、この第2層の上に、TiO2 層(屈折率2.30、
膜厚0.50λ)からなる第3層、この第3層の上にS
iO2 層(屈折率1.46、膜厚0.25λ)からなる
第4層を積層して反射防止膜を有する光学部材を作製し
た。尚、設計波長はλ=540nmで行なった。第3層
のTiO2 層を形成する際には、前記ポリウレタンレン
ズ基板に酸素イオンビームを酸素イオン電流密度10μ
A/cm2 にして照射しながらTiO2 を基材方向に飛
ばしてTiO2 層を形成した。得られた反射防止膜付き
光学部材の評価結果を表1に示す。表1から判るように
本実施例の反射防止膜付き光学部材は耐擦傷性および密
着性に優れ、さらに視感反射率が0.15%と反射防止
効果に優れ、またレンズに着色、反射防止膜にくぼみ、
しわが確認されないものであった。
λ)と、このZrO2 層の上に設けたSiO2 層(屈折
率1.46、膜厚0.09λ)との2層等価膜にした以
外はすべて実施例1と同様に行なった。その結果を表1
に示す。表1に示すように実施例2の反射防止膜付き光
学部材は実施例1の反射防止膜付き光学部材と同程度の
物性を有するものであった。
30、膜厚0.50λ)にした以外はすべて実施例1と
同様に行なった。尚、酸素イオンビームの照射条件も実
施例1と同様に行なった。その結果を表1に示す。表1
に示すように実施例3の反射防止膜付き光学部材は実施
例1の反射防止膜付き光学部材と同程度の物性を有する
ものであった。
Al2 O3 の重量比は70:30、混合層の屈折率1.
67、膜厚0.25λ)にした以外はすべて実施例1と
同様に行なった。その結果を表1に示す。表1に示すよ
うに実施例4の反射防止膜付き光学部材は実施例1の反
射防止膜付き光学部材と同程度の物性を有するものであ
った。
き光学部材を以下のようにして作製した。すなわち、前
記実施例1と同様の合成樹脂基板に、前記実施例1と同
様のハードコート層を施した。このハードコート層を有
するプラスチックレンズを80℃に加熱し、前記ハード
コート層の上に真空蒸着法(真空度2×10-5Tor
r)により、SiO2 層(屈折率1.47、膜厚3/2
λ)からなる第1層を形成した。この第1層の上にZr
O2 層とSiO2 層との2層等価膜からなる第2層(屈
折率1.80、膜厚λ/4)、この第2層の上にTiO
2 層(屈折率2.40、膜厚λ/2)からなる第3層、
この第3層の上にSiO2 層(屈折率1.47、膜厚λ
/4)からなる第4層を積層して反射防止膜を有する光
学部材を作製した。尚、設計波長はλ=540nmで行
なった。第3層のTiO2 層を形成する際には、前記ポ
リウレタンレンズ基材に酸素イオンビームを酸素イオン
電流密度25μA/cm2 にして照射しながらTiO2
を基材方向に飛ばしてTiO2 層を形成した。得られた
反射防止膜付き光学部材の評価結果を表1に示す。表1
に示すように比較例の反射防止膜付き光学部材は、その
視感反射率が0.8%と、実施例1〜4の光学部材の反
射特性と比べ劣るものであった。またレンズに着色が、
反射防止膜にしわが見られ、外観上好ましいものではな
かった。
O2 を蒸着物質として使用した場合でも基板が着色せ
ず、また経時的に微小変形しやすい合成樹脂基板にTi
O2 層を形成した場合でも反射防止膜に無数のくぼみ、
しわが発生しにくく、さらに低視感反射特性を示す反射
防止膜を有する光学部材を提供することができた。
Claims (3)
- 【請求項1】 合成樹脂基板上に反射防止膜を有する光
学部材であって、 前記反射防止膜は、λ/4−λ/4−λ/2−λ/4型
の4層反射防止膜であり、基板側から数えて順に、 SiO2 を主成分とし、屈折率が1.43〜1.48、
実質的な膜厚が0.15λ〜0.30λである第1層
と、 屈折率が1.64〜1.72、実質的な膜厚が0.15
λ〜0.30λである第2層と、 TiO2 を主成分とし、屈折率が2.25〜2.34、
実質的な膜厚が0.42λ〜0.58λである第3層
と、 SiO2 を主成分とし、屈折率が1.43〜1.48、
実質的な膜厚が0.20λ〜0.30λである第4層
と、により形成されていることを特徴とする反射防止膜
を有する光学部材。 - 【請求項2】 第2層が、等価膜からなり、該等価膜は
全体としての屈折率が1.64〜1.72、実質的な膜
厚が0.15λ〜0.30λであり、第2層が単層から
なる場合の反射率と等価な反射率を有する、請求項1に
記載の反射防止膜を有する光学部材。 - 【請求項3】 合成樹脂基板がポリウレタン樹脂であ
る、請求項1または2に記載の反射防止膜を有する光学
部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4229688A JP2894530B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 反射防止膜を有する光学部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0675103A true JPH0675103A (ja) | 1994-03-18 |
JP2894530B2 JP2894530B2 (ja) | 1999-05-24 |
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ID=16896145
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Country | Link |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008209877A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-09-11 | Fujifilm Corp | 光学用積層フィルム及び画像表示装置 |
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JPS5694301A (en) * | 1979-12-28 | 1981-07-30 | Fujitsu Ltd | Multilayered antireflection film |
JPS5870201A (ja) * | 1981-10-22 | 1983-04-26 | Tokyo Optical Co Ltd | 反射防止膜を施した強化ガラス |
JPH04166901A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-12 | Hoya Corp | 反射防止膜を有する光学部品 |
JPH04191801A (ja) * | 1990-11-27 | 1992-07-10 | Hoya Corp | 光学部品 |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP4229688A patent/JP2894530B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2008209877A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-09-11 | Fujifilm Corp | 光学用積層フィルム及び画像表示装置 |
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