JPH0649202A - 高分子電解質及びその調製法 - Google Patents
高分子電解質及びその調製法Info
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- JPH0649202A JPH0649202A JP5140894A JP14089493A JPH0649202A JP H0649202 A JPH0649202 A JP H0649202A JP 5140894 A JP5140894 A JP 5140894A JP 14089493 A JP14089493 A JP 14089493A JP H0649202 A JPH0649202 A JP H0649202A
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-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
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- B01D71/522—Aromatic polyethers
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- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 芳香族ポリエーテルケトンを迅速に且つ穏や
かにスルホン化する方法を提供する。 【構成】 次式IIで表されるようなスルホン化芳香族
ポリエーテルケトン 【化1】 (式中、aは0.2 − 1であり、cは0 − 0.8で
あり、且つa+c=1である)のスルホン化芳香族ポリ
エーテルケトンを含む高分子電解質。該高分子電解質
は、94 − 97重量%硫酸中に芳香族ポリエーテルケ
トンを溶かし、その溶液に、硫酸の濃度が98 − 9
9.9重量%になるまで、発煙硫酸のようなスルホン化
剤を加えることによって調製する。
かにスルホン化する方法を提供する。 【構成】 次式IIで表されるようなスルホン化芳香族
ポリエーテルケトン 【化1】 (式中、aは0.2 − 1であり、cは0 − 0.8で
あり、且つa+c=1である)のスルホン化芳香族ポリ
エーテルケトンを含む高分子電解質。該高分子電解質
は、94 − 97重量%硫酸中に芳香族ポリエーテルケ
トンを溶かし、その溶液に、硫酸の濃度が98 − 9
9.9重量%になるまで、発煙硫酸のようなスルホン化
剤を加えることによって調製する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、スルホン化芳香族ポリ
エーテルケトンを含む電解質と、前記高分子電解質を調
製する方法とに関するものである。
エーテルケトンを含む電解質と、前記高分子電解質を調
製する方法とに関するものである。
【0002】
【従来の技術】スルホン化ポリエーテルケトンは、陽イ
オン交換体を形成する。それらは、多くの場合におい
て、水の存在下でも、機械的に安定であるので、膜材料
として、例えば限外濾過、脱塩、及び微生物除去のため
の膜材料として有用である。
オン交換体を形成する。それらは、多くの場合におい
て、水の存在下でも、機械的に安定であるので、膜材料
として、例えば限外濾過、脱塩、及び微生物除去のため
の膜材料として有用である。
【0003】スルホン化ポリエーテルケトンの調製法
は、欧州特許出願第08895号及び第041780号
に記載されている。欧州特許出願第8895号によれ
ば、スルホン化すべきポリマーは、室温において、98
重量%硫酸中に懸濁される。溶解プロセスとスルホン化
は、同時に進行し、極めて粘稠な溶液が徐々に得られ
る。この溶液は、同じ温度において同じ濃度の硫酸で希
釈されるか、又はそのままの状態にしておく。反応は、
極めてゆっくりと進行する。この特許出願明細書によれ
ば、スルホン化可能なフェニレン単位の約90%をスル
ホン化するのに10日間を要したということである。エ
ーテル橋 対 CO橋 の数的割合は、用いられたエーテ
ルケトン中において約2:1である。
は、欧州特許出願第08895号及び第041780号
に記載されている。欧州特許出願第8895号によれ
ば、スルホン化すべきポリマーは、室温において、98
重量%硫酸中に懸濁される。溶解プロセスとスルホン化
は、同時に進行し、極めて粘稠な溶液が徐々に得られ
る。この溶液は、同じ温度において同じ濃度の硫酸で希
釈されるか、又はそのままの状態にしておく。反応は、
極めてゆっくりと進行する。この特許出願明細書によれ
ば、スルホン化可能なフェニレン単位の約90%をスル
ホン化するのに10日間を要したということである。エ
ーテル橋 対 CO橋 の数的割合は、用いられたエーテ
ルケトン中において約2:1である。
【0004】欧州特許出願第41780号に記載されて
いる方法によると、芳香族ポリエーテルケトン(実際に
はコポリマー)は、高温でスルホン化される。モノマー
単位(A)のうちのほんの幾つかがスルホン化され、モ
ノマー単位(B)は、全くスルホン化されない。スルホ
ン化度は、A対Bの割合によって調節することができ
る。しかしながら、この場合においても、溶解プロセス
中及びその後において、反応条件は、不変のままであ
る。対応するホモポリマー(A)は、特定の条件下で、
極めて高度にスルホン化されて、水溶性化合物を与える
と考えられる。この場合、スルホン化は、ポリマー溶解
プロセス中に起こるので、スルホン化度を調節して、ほ
んのわずかにスルホン化された生成物を得ることは難し
い。
いる方法によると、芳香族ポリエーテルケトン(実際に
はコポリマー)は、高温でスルホン化される。モノマー
単位(A)のうちのほんの幾つかがスルホン化され、モ
ノマー単位(B)は、全くスルホン化されない。スルホ
ン化度は、A対Bの割合によって調節することができ
る。しかしながら、この場合においても、溶解プロセス
中及びその後において、反応条件は、不変のままであ
る。対応するホモポリマー(A)は、特定の条件下で、
極めて高度にスルホン化されて、水溶性化合物を与える
と考えられる。この場合、スルホン化は、ポリマー溶解
プロセス中に起こるので、スルホン化度を調節して、ほ
んのわずかにスルホン化された生成物を得ることは難し
い。
【0005】上記方法においては、反応条件は、反応中
において、実際には変化しないので、かなりの割合のス
ルホン酸基を、溶解プロセス中においてさえも導入する
ことができる。これらのスルホン化法には、穏やかな条
件下では反応が極めてゆっくり進行し、活発な条件下で
は、純粋なスルホン化生成物が得にくい、という短所が
ある。又、スルホン化剤及びスルホン化溶剤として濃硫
酸を用いる場合には、分解反応及び/又は架橋反応が、
ポリエーテルケトンの処理中に起こるという短所がある
(欧州特許第08 895号)。
において、実際には変化しないので、かなりの割合のス
ルホン酸基を、溶解プロセス中においてさえも導入する
ことができる。これらのスルホン化法には、穏やかな条
件下では反応が極めてゆっくり進行し、活発な条件下で
は、純粋なスルホン化生成物が得にくい、という短所が
ある。又、スルホン化剤及びスルホン化溶剤として濃硫
酸を用いる場合には、分解反応及び/又は架橋反応が、
ポリエーテルケトンの処理中に起こるという短所がある
(欧州特許第08 895号)。
【0006】該方法中にポリエーテルケトンのスルホン
化度をモニターすることは、極めて重要である。調製し
た水性媒体からの生成物の単離は、スルホン化度が増大
すると共に益々難しくなる。ポリマー構造に従って、ス
ルホン化生成物は、水中で生成し、あるスルホン化度に
おいては、膜を製造するには不適当な高度に膨潤したゲ
ル沈殿又は乳状沈殿が生起する。
化度をモニターすることは、極めて重要である。調製し
た水性媒体からの生成物の単離は、スルホン化度が増大
すると共に益々難しくなる。ポリマー構造に従って、ス
ルホン化生成物は、水中で生成し、あるスルホン化度に
おいては、膜を製造するには不適当な高度に膨潤したゲ
ル沈殿又は乳状沈殿が生起する。
【0007】Marvel ら(Journal of Polymer Science、
Polymer Chem. Vol.23、2205-2223、(1985))は、クロ
ロスルホン酸、又は SO3/トリエチルホスフェート錯体
を用いて、種々の(エーテル/ケトン)シーケンスをス
ルホン化することを報告している。後者の系において
は、ポリマー主鎖に関して高度の分解並びに架橋が、観
察された。対照的に、クロロスルホン酸経路ではより好
しい結果を得たが、ここでもポリマー主鎖の分解は有意
な副反応であった。同様に、Bishop らによる研究(Mac
romolecules、18、 86-93(1985))でも、クロロスルホ
ン酸を用いるポリエーテルケトンのスルホン化において
架橋反応が起こることが認められた。
Polymer Chem. Vol.23、2205-2223、(1985))は、クロ
ロスルホン酸、又は SO3/トリエチルホスフェート錯体
を用いて、種々の(エーテル/ケトン)シーケンスをス
ルホン化することを報告している。後者の系において
は、ポリマー主鎖に関して高度の分解並びに架橋が、観
察された。対照的に、クロロスルホン酸経路ではより好
しい結果を得たが、ここでもポリマー主鎖の分解は有意
な副反応であった。同様に、Bishop らによる研究(Mac
romolecules、18、 86-93(1985))でも、クロロスルホ
ン酸を用いるポリエーテルケトンのスルホン化において
架橋反応が起こることが認められた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、芳香族ポリエーテルケトンを迅速に且つ穏やかにス
ルホン化する方法を提供することにある。又、本方法に
よって新規なスルホン化ポリエーテルケトンを得ること
も本発明の目的である。
は、芳香族ポリエーテルケトンを迅速に且つ穏やかにス
ルホン化する方法を提供することにある。又、本方法に
よって新規なスルホン化ポリエーテルケトンを得ること
も本発明の目的である。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、次式I
【化12】 (式中、Arはパラ及び/又はメタ結合を有するフェニ
レン環であり、Ar’はフェニレン、ナフチレン、ビフ
ェニレン、アンスリレン、又は他の二価芳香族単位であ
り、X、M、及びNは、それぞれ別個に0または1であ
り、Yは0、1、2、又は3であり、Pは1、2、3、
又は4である)で表される芳香族ポリエーテルケトンを
スルホン化する方法、及びその結果得られる高分子電解
質によって達成されることを見出した。この方法は、濃
度94− 97重量%の硫酸中に芳香族ポリエーテルケ
トンを溶かす工程、その得られた溶液に、硫酸の濃度が
98 − 99.5重量%になるまで、スルホン化剤を加
える工程、及び望ましいスルホン化度に達したら直ちに
反応混合物を調製する工程、を含む。
レン環であり、Ar’はフェニレン、ナフチレン、ビフ
ェニレン、アンスリレン、又は他の二価芳香族単位であ
り、X、M、及びNは、それぞれ別個に0または1であ
り、Yは0、1、2、又は3であり、Pは1、2、3、
又は4である)で表される芳香族ポリエーテルケトンを
スルホン化する方法、及びその結果得られる高分子電解
質によって達成されることを見出した。この方法は、濃
度94− 97重量%の硫酸中に芳香族ポリエーテルケ
トンを溶かす工程、その得られた溶液に、硫酸の濃度が
98 − 99.5重量%になるまで、スルホン化剤を加
える工程、及び望ましいスルホン化度に達したら直ちに
反応混合物を調製する工程、を含む。
【0010】式Iの芳香族ポリエーテルケトンは、容易
に得ることができる。スルホン化に用いられる高分子芳
香族エーテルケトンは、原理的には、適当な芳香族ビス
酸二ハロゲン化物を芳香族エーテルと反応させるフリー
デル・クラフツ求電子重縮合によって得ることができ
る。この方法は、例えば、米国特許第3 065 205
号、英国特許第971 227号、米国特許第3 441
538号、英国特許第1387 303号、 WO第84
−03 891号、及び Iwakura Y.、Uno K.、及び Tah
iguchi T.J. による論文 Polym. Sci.、 Pat.A-1、6、
3345(1968)に記載されている。
に得ることができる。スルホン化に用いられる高分子芳
香族エーテルケトンは、原理的には、適当な芳香族ビス
酸二ハロゲン化物を芳香族エーテルと反応させるフリー
デル・クラフツ求電子重縮合によって得ることができ
る。この方法は、例えば、米国特許第3 065 205
号、英国特許第971 227号、米国特許第3 441
538号、英国特許第1387 303号、 WO第84
−03 891号、及び Iwakura Y.、Uno K.、及び Tah
iguchi T.J. による論文 Polym. Sci.、 Pat.A-1、6、
3345(1968)に記載されている。
【0011】又、エーテルケトンは、求核芳香族置換に
よって得ることができる。この目的のために、例えば:
R.A. Clendinning、A.G. Farnham、W.F. Hall、R.N. Jo
hnson、及び C.N. Merriam による J. Polym. Sci. A1
5、2375、(1967)、英国特許第1 177 183号、
英国特許第1 141 421号、欧州特許第0 001
879号、米国特許第4 108 837号、米国特許第
4 175 175号、T.E. Attwood、A.B. Newton、J.
B. Rose による Br. Polym. Journ.、 4、 391、(1972);
T.E. Attwood、P.C. Dawson、 J.L. Freemann、 L.R.J. H
oy、 J.B. Rose、P.A. Staniland による Polymer、 22、
1096、 (1981) に記載されているように、対応する芳香
族ビスジオールを、芳香族ジハロゲン化ケトンと反応さ
せる。
よって得ることができる。この目的のために、例えば:
R.A. Clendinning、A.G. Farnham、W.F. Hall、R.N. Jo
hnson、及び C.N. Merriam による J. Polym. Sci. A1
5、2375、(1967)、英国特許第1 177 183号、
英国特許第1 141 421号、欧州特許第0 001
879号、米国特許第4 108 837号、米国特許第
4 175 175号、T.E. Attwood、A.B. Newton、J.
B. Rose による Br. Polym. Journ.、 4、 391、(1972);
T.E. Attwood、P.C. Dawson、 J.L. Freemann、 L.R.J. H
oy、 J.B. Rose、P.A. Staniland による Polymer、 22、
1096、 (1981) に記載されているように、対応する芳香
族ビスジオールを、芳香族ジハロゲン化ケトンと反応さ
せる。
【0012】P=1、X=1、M=1、Y=0、N=0
のポリマーはビクトレックス(Victrex、登録商標)と
いう商品名で市販されている。N=1又はY=3又はP
=4又はX=1のポリマーは、好ましくは、求核法によ
って調製することができる。芳香族ポリエーテルケトン
は、好ましくは、穏やかな条件下で、即ちスルホン化が
十分に抑制されるか又は差し当たって起こらない条件下
で硫酸中に溶かす。様々な溶解条件下において、式IV
で表されるホモポリマーをスルホン化する場合のスルホ
ン化度に関する詳細は、X. Jin、 M.T. Bishop、 T.S. El
lis、及び F.E.Karasz による British Polymer Journa
l、 Vol. 17、 (1985)、 p. 4-10 に記載されている。これ
らの著者によると、濃度94%硫酸中25℃において、
3.75時間後にはスルホン化度は4%であった。本発
明者らの研究によると、濃度95%硫酸中25℃におい
て、30時間後にはスルホン化度25%、及び濃度9
6.2%硫酸中において、24時間後にはスルホン化度
32%が観察された。これらのポリマーに関する好まし
い溶解条件は、最大スルホン化度が35%となるような
条件である。
のポリマーはビクトレックス(Victrex、登録商標)と
いう商品名で市販されている。N=1又はY=3又はP
=4又はX=1のポリマーは、好ましくは、求核法によ
って調製することができる。芳香族ポリエーテルケトン
は、好ましくは、穏やかな条件下で、即ちスルホン化が
十分に抑制されるか又は差し当たって起こらない条件下
で硫酸中に溶かす。様々な溶解条件下において、式IV
で表されるホモポリマーをスルホン化する場合のスルホ
ン化度に関する詳細は、X. Jin、 M.T. Bishop、 T.S. El
lis、及び F.E.Karasz による British Polymer Journa
l、 Vol. 17、 (1985)、 p. 4-10 に記載されている。これ
らの著者によると、濃度94%硫酸中25℃において、
3.75時間後にはスルホン化度は4%であった。本発
明者らの研究によると、濃度95%硫酸中25℃におい
て、30時間後にはスルホン化度25%、及び濃度9
6.2%硫酸中において、24時間後にはスルホン化度
32%が観察された。これらのポリマーに関する好まし
い溶解条件は、最大スルホン化度が35%となるような
条件である。
【0013】式VIのホモポリマーに関して、本発明者
らの研究によると、濃度95%又は96.2%硫酸中2
5℃において、5時間後にはスルホン化度は14%にな
ることが観察されている。従って、硫酸の濃度は、この
場合、重要ではない。このポリマーに関する好ましい溶
解条件は、最大スルホン化度が15%となるような条件
である。
らの研究によると、濃度95%又は96.2%硫酸中2
5℃において、5時間後にはスルホン化度は14%にな
ることが観察されている。従って、硫酸の濃度は、この
場合、重要ではない。このポリマーに関する好ましい溶
解条件は、最大スルホン化度が15%となるような条件
である。
【0014】スルホン化されるべきポリマーの好ましい
全ての二価芳香族ラジカルArは、フェニレンラジカル
であり、好ましくは1,4−フェニレンラジカルであ
る。硫酸の濃度を増加させるのに役立ち且つスルホン化
に役立つ好ましいスルホン化剤は、発煙硫酸、クロロス
ルホン酸、又は三酸化硫黄である。
全ての二価芳香族ラジカルArは、フェニレンラジカル
であり、好ましくは1,4−フェニレンラジカルであ
る。硫酸の濃度を増加させるのに役立ち且つスルホン化
に役立つ好ましいスルホン化剤は、発煙硫酸、クロロス
ルホン酸、又は三酸化硫黄である。
【0015】溶解に用いられる硫酸の濃度は、好ましく
は、96 − 96.5%である。溶解温度は、エーテル
橋 対 カルボニル橋 の数的割合によって左右される。
カルボニル基に比べて、エーテル基の割合が増大する
と、求電子置換(例えば、スルホン化)のためのポリエ
ーテルケトン主鎖の反応性も増大する。導入することが
できるスルホン酸基の数は、酸素原子によって架橋され
ている芳香環の数によって左右される。O−フェニル−
O 単位のみが、特定の条件下でスルホン化され、一方
O−フェニル−CO 基は、スルホン化されないままで
ある。ポリマーの溶解中の温度は、一般的には、10
− 60℃であり、特に20 − 60℃であり、好まし
くは30 − 50℃である。この溶解プロセス中におい
ては、主鎖のスルホン化は、十分に抑制される。本発明
者らが行ったNMRによる測定では、スルホン化中に分
解は起こっていないことが分かった。
は、96 − 96.5%である。溶解温度は、エーテル
橋 対 カルボニル橋 の数的割合によって左右される。
カルボニル基に比べて、エーテル基の割合が増大する
と、求電子置換(例えば、スルホン化)のためのポリエ
ーテルケトン主鎖の反応性も増大する。導入することが
できるスルホン酸基の数は、酸素原子によって架橋され
ている芳香環の数によって左右される。O−フェニル−
O 単位のみが、特定の条件下でスルホン化され、一方
O−フェニル−CO 基は、スルホン化されないままで
ある。ポリマーの溶解中の温度は、一般的には、10
− 60℃であり、特に20 − 60℃であり、好まし
くは30 − 50℃である。この溶解プロセス中におい
ては、主鎖のスルホン化は、十分に抑制される。本発明
者らが行ったNMRによる測定では、スルホン化中に分
解は起こっていないことが分かった。
【0016】試料を完全に溶かした後、例えば発煙硫酸
を加えることによって、H2SO4 濃度を、98 − 99.
9重量%、特に98 − 99.5重量%、好ましくは9
8.2 − 99.5重量%になるまで上昇させる。実際
のスルホン化における反応温度は、溶解プロセスにおけ
るそれに比べて高くてもよい。スルホン化は、一般的に
は、10 − 100℃、特に30 − 90℃、好ましく
は30 − 80℃で行う。温度を上昇させることによっ
て、且つ反応時間を長くすることによって、ポリマーの
スルホン化度は増大する。一般的な反応時間は、0.5
− 10時間、特に1− 8時間、好ましくは1.5 −
3時間である。反応時間が、10時間を超えると、ス
ルホン化度は、ほんのわずかしか増大しない。スルホン
化剤を加えた後、溶液の温度を少なくとも50℃まで上
昇させると、スルホン化が、かなり加速される。
を加えることによって、H2SO4 濃度を、98 − 99.
9重量%、特に98 − 99.5重量%、好ましくは9
8.2 − 99.5重量%になるまで上昇させる。実際
のスルホン化における反応温度は、溶解プロセスにおけ
るそれに比べて高くてもよい。スルホン化は、一般的に
は、10 − 100℃、特に30 − 90℃、好ましく
は30 − 80℃で行う。温度を上昇させることによっ
て、且つ反応時間を長くすることによって、ポリマーの
スルホン化度は増大する。一般的な反応時間は、0.5
− 10時間、特に1− 8時間、好ましくは1.5 −
3時間である。反応時間が、10時間を超えると、ス
ルホン化度は、ほんのわずかしか増大しない。スルホン
化剤を加えた後、溶液の温度を少なくとも50℃まで上
昇させると、スルホン化が、かなり加速される。
【0017】好ましくは、式IV、V、又はVIで表さ
れるホモポリマーをスルホン化する。本発明の更なる改
良に従って、既に述べた方法を用いて、コポリマーであ
り、且つ次式IV、V、又はVI
れるホモポリマーをスルホン化する。本発明の更なる改
良に従って、既に述べた方法を用いて、コポリマーであ
り、且つ次式IV、V、又はVI
【化13】 で表される少なくとも2つの異なる単位から構成される
芳香族ポリエーテルケトンをスルホン化する。
芳香族ポリエーテルケトンをスルホン化する。
【0018】本発明に従う方法の更に好ましい態様は、
式V又はVIで表される単位、及び非スルホン化性の単
位から構成されるポリエーテルケトンを用いることであ
る。式IVで表されるモノマー単位と、非スルホン化性
のエーテルケトン単位とのコポリマーをスルホン化する
ことは、欧州特許出願第41780号及び欧州特許第0
8895号に記載されている。同じ条件下で、式IVで
表されるホモポリマーを完全にスルホン化すると、室温
の水中において、極めて高度な膨潤性能を有し、その結
果単離するのが極めて難しい完全に水溶性の生成物が生
じると考えられる。これらの特性は、例えば電気分解セ
ル中においてポリスルホン酸を親水性イオン交換膜とし
て用いようとする場合には望ましくない。なぜならば、
高度に膨潤すると、膜の機械的強度が失われるからであ
る。一方では、特に、高いイオン交換容量を実現するた
めには、高度のスルホン化が必要である。
式V又はVIで表される単位、及び非スルホン化性の単
位から構成されるポリエーテルケトンを用いることであ
る。式IVで表されるモノマー単位と、非スルホン化性
のエーテルケトン単位とのコポリマーをスルホン化する
ことは、欧州特許出願第41780号及び欧州特許第0
8895号に記載されている。同じ条件下で、式IVで
表されるホモポリマーを完全にスルホン化すると、室温
の水中において、極めて高度な膨潤性能を有し、その結
果単離するのが極めて難しい完全に水溶性の生成物が生
じると考えられる。これらの特性は、例えば電気分解セ
ル中においてポリスルホン酸を親水性イオン交換膜とし
て用いようとする場合には望ましくない。なぜならば、
高度に膨潤すると、膜の機械的強度が失われるからであ
る。一方では、特に、高いイオン交換容量を実現するた
めには、高度のスルホン化が必要である。
【0019】本発明の方法においても、ポリエーテルケ
トンは、94 − 97重量%硫酸中に溶かす。その溶液
に、硫酸の濃度が98 − 99.5重量%になるまで、
スルホン化剤を加える。望ましい程度のスルホン化が達
成されたら直ぐに、反応混合物を調製する。
トンは、94 − 97重量%硫酸中に溶かす。その溶液
に、硫酸の濃度が98 − 99.5重量%になるまで、
スルホン化剤を加える。望ましい程度のスルホン化が達
成されたら直ぐに、反応混合物を調製する。
【0020】非スルホン化性の単位は、好ましくは、4
−ヒドロキシベンゾフェノンから正式に誘導される次式
VII
−ヒドロキシベンゾフェノンから正式に誘導される次式
VII
【化14】 を有するか、又は4−ヒドロフェニルスルホンから誘導
される次式VIII
される次式VIII
【化15】 を有する。
【0021】式IVのポリマーは、最高温度25℃にお
いて、95 − 96.5重量%硫酸中に溶かす。式Vの
ポリマーは、94 − 96重量%硫酸中に、好ましく
は、30℃で溶かす。式VIのホモポリマーは、好まし
くは、25 − 50℃において、95 − 96.5重量
%硫酸中に溶かし、次に温度60 − 90℃で、スルホ
ン化する。式Iのポリマーは、25℃で溶かす。実際の
スルホン化は、少なくとも温度50℃、少なくとも酸濃
度98.5重量% H2SO4 で行う。本発明に従う方法に
よって得られた芳香族ポリアリールエーテルケトンは、
幾つかの場合においては新規である。それらは、式Iで
表され、O−フェニレン−O 単位(Ar)の少なくとも
20%がSO3H 基によって置換されている。P=2、M
=0、N=0、Y=0 及び P=1、M=1、X=0、
Y=0、N=0 の組合せは、排除すべきである。
いて、95 − 96.5重量%硫酸中に溶かす。式Vの
ポリマーは、94 − 96重量%硫酸中に、好ましく
は、30℃で溶かす。式VIのホモポリマーは、好まし
くは、25 − 50℃において、95 − 96.5重量
%硫酸中に溶かし、次に温度60 − 90℃で、スルホ
ン化する。式Iのポリマーは、25℃で溶かす。実際の
スルホン化は、少なくとも温度50℃、少なくとも酸濃
度98.5重量% H2SO4 で行う。本発明に従う方法に
よって得られた芳香族ポリアリールエーテルケトンは、
幾つかの場合においては新規である。それらは、式Iで
表され、O−フェニレン−O 単位(Ar)の少なくとも
20%がSO3H 基によって置換されている。P=2、M
=0、N=0、Y=0 及び P=1、M=1、X=0、
Y=0、N=0 の組合せは、排除すべきである。
【0022】式VIで表されるホモポリマーのスルホン
化においては、次式II
化においては、次式II
【化16】 (式中、aは0.2 − 1であり、cは0 − 0.8で
あり、且つa+c=1である)を有するスルホン酸が生
じる。
あり、且つa+c=1である)を有するスルホン酸が生
じる。
【0023】式Vで表されるホモポリマーのスルホン化
においては、次式III
においては、次式III
【化17】 (式中、aは0 − 1であり、bは0 − 1であり、c
は0 − 0.5であり、且つa+b+c=1である)を
有するスルホン酸が生じる。
は0 − 0.5であり、且つa+b+c=1である)を
有するスルホン酸が生じる。
【0024】スルホン化においては、一置換生成物(b
=0)が、まず最初に得られる。この場合、aは0.5
− 1であり、cは0 − 0.5である;次に、aは最
大に達し(約1)、bは小さいままであり、cは減少す
る。最後に、ジスルホン化が起こり、aの値は減少し
て、bの値は増加する。
=0)が、まず最初に得られる。この場合、aは0.5
− 1であり、cは0 − 0.5である;次に、aは最
大に達し(約1)、bは小さいままであり、cは減少す
る。最後に、ジスルホン化が起こり、aの値は減少し
て、bの値は増加する。
【0025】反復単位の分子量は、エーテル/ケトン
の割合が増大すると共に増加する。故に、ポリマーI
V、V、及びVIの総重量における SO3H- の割合は、
同じスルホン化度であっても異なる。例えば、スルホン
化度40%を有する式IVのスルホン化ポリエーテルケ
トンは、1.25 mmol/g の SO3H 当量を有し、一方式
VIのスルホン化ポリエーテルケトンは、スルホン化度
40%において、SO3H当量は、わずか 0.94 mmol/g
である。
の割合が増大すると共に増加する。故に、ポリマーI
V、V、及びVIの総重量における SO3H- の割合は、
同じスルホン化度であっても異なる。例えば、スルホン
化度40%を有する式IVのスルホン化ポリエーテルケ
トンは、1.25 mmol/g の SO3H 当量を有し、一方式
VIのスルホン化ポリエーテルケトンは、スルホン化度
40%において、SO3H当量は、わずか 0.94 mmol/g
である。
【0026】スルホン化度(スルホン化された O−フ
ェニル−O 単位の割合)は、前記2つの場合において
同じであるが、物理的及び機械的性質は異なる。ポリマ
ー中のケトンの割合を変化させることによって、反応性
を更に低下させることができるし、又、望ましい種々の
特性を、より選択的に確立することもできる。式VIの
ポリエーテルケトンは、水溶性にせずに、極めて高いレ
ベルまでスルホン化することができる。スルホン化度8
5%では、式IVのポリマーは、完全に水溶性である
が、SO3H 基を85%有する式VIのスルホン化ポリマ
ーは、まだ取扱うことができるので、水から単離するこ
とができる。
ェニル−O 単位の割合)は、前記2つの場合において
同じであるが、物理的及び機械的性質は異なる。ポリマ
ー中のケトンの割合を変化させることによって、反応性
を更に低下させることができるし、又、望ましい種々の
特性を、より選択的に確立することもできる。式VIの
ポリエーテルケトンは、水溶性にせずに、極めて高いレ
ベルまでスルホン化することができる。スルホン化度8
5%では、式IVのポリマーは、完全に水溶性である
が、SO3H 基を85%有する式VIのスルホン化ポリマ
ーは、まだ取扱うことができるので、水から単離するこ
とができる。
【0027】同じスルホン化度では、P=2を有する式
Iのスルホン化ポリマーは、下式IVで表されるスルホ
ン化ポリマーに比べて、水中で、溶けにくく且つ膨潤し
にくい。
Iのスルホン化ポリマーは、下式IVで表されるスルホ
ン化ポリマーに比べて、水中で、溶けにくく且つ膨潤し
にくい。
【0028】
【化18】 式VIのホモポリマーから誘導される式IIのスルホン
酸は、40%を超えるスルホン化度において、DMF、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び濃
硫酸に可溶性である。しかしながら、25%水酸化カリ
ウム、クロロホルム、及びテトラヒドロフランには不溶
性である。用いられるエーテルケトン及び得られるスル
ホン酸は、少なくとも30,000の分子量を有する。
酸は、40%を超えるスルホン化度において、DMF、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び濃
硫酸に可溶性である。しかしながら、25%水酸化カリ
ウム、クロロホルム、及びテトラヒドロフランには不溶
性である。用いられるエーテルケトン及び得られるスル
ホン酸は、少なくとも30,000の分子量を有する。
【0029】以下、実施例を掲げて、本発明を更に詳し
く説明する。
く説明する。
【0030】
【実施例】濃度98%の濃硫酸を、滴下漏斗及び油浴を
備えている4つ口撹拌装置に入れ、そこで種々の芳香族
ポリエーテルケトンを溶かした。発煙硫酸(20% SO3
含有)で滴定することによって、酸濃度を、98.5
− 99.5重量% H2SO4にまで調節した。次に、温度
を上昇させて、スルホン化を加速させる。最終温度は、
それぞれのポリマーによって左右される。表1の実験
は、式IVのホモポリマーを用いて行った。表2の実験
は、式Vのホモポリマーを用いて行った。表3の実験
は、式VIのホモポリマーを用いて行った。表中では、
以下の略語を用いている。
備えている4つ口撹拌装置に入れ、そこで種々の芳香族
ポリエーテルケトンを溶かした。発煙硫酸(20% SO3
含有)で滴定することによって、酸濃度を、98.5
− 99.5重量% H2SO4にまで調節した。次に、温度
を上昇させて、スルホン化を加速させる。最終温度は、
それぞれのポリマーによって左右される。表1の実験
は、式IVのホモポリマーを用いて行った。表2の実験
は、式Vのホモポリマーを用いて行った。表3の実験
は、式VIのホモポリマーを用いて行った。表中では、
以下の略語を用いている。
【0031】凡例 DT = 溶解温度 R温度 = 反応温度 RT = 反応時間 Y = 収率 inh.V. = 25℃、濃 H2SO4 中で測定した内部粘
度(0.1%) Dg.sulf. = 元素分析から得られた硫黄含有率によっ
て測定したスルホン化度(スルホン化された O−フェ
ニレン−O 単位の割合)
度(0.1%) Dg.sulf. = 元素分析から得られた硫黄含有率によっ
て測定したスルホン化度(スルホン化された O−フェ
ニレン−O 単位の割合)
【表1】
【表2】
【表3】
Claims (14)
- 【請求項1】 次式I 【化1】 (式中、Arはパラ及び/又はメタ結合を有するフェニ
レン環であり、Ar’はフェニレン、ナフチレン、ビフ
ェニレン、アンスリレン、又は他の二価芳香族単位であ
り、X、M、及びNはそれぞれ別個に0または1であ
り、Yは0、1、2、又は3であり、Pは1、2、3、
又は4であり、但しP=2、M=0、N=0、Y=0
及びP=1、M=1、X=0、Y=0、N=0 の組合
せは除く)で表され、O−フェニレン−O単位の少なく
とも20%がSO3H基で置換されている、スルホン化
芳香族ポリエーテルケトンを含む高分子電解質。 - 【請求項2】 次式II 【化2】 (式中、aは0.2 − 1であり、cは0 − 0.8で
あり、且つa+c =1である)に従う請求項1記載の
高分子電解質。 - 【請求項3】 次式III 【化3】 (式中、aは0 − 1であり、bは0 − 1であり、c
は0 − 0.5であり、且つa+b+c=1である)に
従う請求項1記載の高分子電解質。 - 【請求項4】 次式Iで表される芳香族ポリエーテルケ
トンをスルホン化することによって高分子電解質を調製
する方法であって、 94 −97重量%硫酸中に前記芳香族ポリエーテルケ
トンを溶かす工程、 その得られた溶液に、硫酸の濃度が98 − 99.9重
量%になるまで、スルホン化剤を加える工程、及び望ま
しいスルホン化度に達したら直ぐに反応混合物を調製す
る工程から成る、前記方法。 【化4】 (式中、P、X、M、Y、N、Ar、及びAr’は請求項
1と同様である) - 【請求項5】 式Iにおいて、ラジカルAr’は、フェ
ニレンのみである請求項4記載の方法。 - 【請求項6】 次式IV、V、及びVI 【化5】 の少なくとも2つの異なる単位から構成されるコポリマ
ーである芳香族ポリエーテルケトンを用いる請求項5記
載の方法。 - 【請求項7】 硫酸中で芳香族ポリエーテルケトンをス
ルホン化することによって高分子電解質を調製する方法
であって、 次式 【化6】 で表される単位、及び非スルホン化性の単位から構成さ
れる芳香族ポリエーテルケトンを用いる工程、 94 − 97重量%硫酸中に芳香族ポリエーテルケトン
を溶かす工程、 その溶液に、硫酸の濃度が98 − 99.5重量%にな
るまで、スルホン化剤を加える工程、及び望ましいスル
ホン化度に達したら直ちに反応混合物を調製する工程か
ら成る前記方法。 - 【請求項8】 非スルホン化性の単位が次式VII 【化7】 を有するような芳香族ポリエーテルケトンを用いる請求
項7記載の方法。 - 【請求項9】 非スルホン化性の単位が次式VIII 【化8】 を有するような芳香族ポリエーテルケトンを用いる請求
項7記載の方法。 - 【請求項10】 スルホン化剤を、発煙硫酸、クロロス
ルホン酸、及び三酸化硫黄から選択する請求項4又は7
記載の方法。 - 【請求項11】 溶液の温度を、スルホン化剤を加えた
後に、少なくとも50℃まで上昇させて、スルホン化を
加速する請求項4又は7記載の方法。 - 【請求項12】 次式IV 【化9】 のポリマーを、最高温度25℃で、95 − 96.5重
量%硫酸中に溶かす請求項4記載の方法。 - 【請求項13】 次式V 【化10】 のポリマーを、温度25℃で、94 − 96重量%硫酸
中に溶かす請求項4記載の方法。 - 【請求項14】 次式VI 【化11】 のポリマーを、温度25 − 50℃で、95 − 96.
5重量%硫酸中に溶かし、温度60 − 90℃でスルホ
ン化する請求項4記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4219077 | 1992-06-11 | ||
DE4219077:0 | 1992-06-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0649202A true JPH0649202A (ja) | 1994-02-22 |
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