JPH0644977A - 電解コンデンサの電極用シート及びその製造方法 - Google Patents
電解コンデンサの電極用シート及びその製造方法Info
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- JPH0644977A JPH0644977A JP5021249A JP2124993A JPH0644977A JP H0644977 A JPH0644977 A JP H0644977A JP 5021249 A JP5021249 A JP 5021249A JP 2124993 A JP2124993 A JP 2124993A JP H0644977 A JPH0644977 A JP H0644977A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】電解コンデンサの陽極又は陰極を形成するのに
使用されるシート、並びに該シートの製造方法。このシ
ートは電気伝導性基板をアルミニウムベースのデポジッ
トで被覆したものからなり、その製造方法は酸化雰囲気
でアルミニウムを蒸発させることにより基板上にデポジ
ットを形成することからなる。 【効果】容量の大きいシートが得られるためコンデンサ
の小型化が可能である。
使用されるシート、並びに該シートの製造方法。このシ
ートは電気伝導性基板をアルミニウムベースのデポジッ
トで被覆したものからなり、その製造方法は酸化雰囲気
でアルミニウムを蒸発させることにより基板上にデポジ
ットを形成することからなる。 【効果】容量の大きいシートが得られるためコンデンサ
の小型化が可能である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、300,000マイク
ロファラド/dm2以上の値に達し得る大きな電気容量
を有する電解コンデンサの電極用シート、並びに該シー
トの製造方法に関する。
ロファラド/dm2以上の値に達し得る大きな電気容量
を有する電解コンデンサの電極用シート、並びに該シー
トの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電解コンデンサ、特にアルミニウム箔を
用いる電解コンデンサの製造業者には良く知られている
ように、容量を高めるためには電極の表面積を増加させ
なければならない。そこで、前記シートには表面積を増
すためのあらゆるタイプの刻みが施されるようになっ
た。
用いる電解コンデンサの製造業者には良く知られている
ように、容量を高めるためには電極の表面積を増加させ
なければならない。そこで、前記シートには表面積を増
すためのあらゆるタイプの刻みが施されるようになっ
た。
【0003】この刻みは通常、シート表面をざらざら及
び/又は多孔質にする化学的又は電気化学的エッチング
によって実施される。
び/又は多孔質にする化学的又は電気化学的エッチング
によって実施される。
【0004】その後、表面を前述のように多孔質にする
ために、金属膜をシート上に物理的にデポジットさせる
ことからなる別の方法が使用されるようになった。その
結果、多かれ少なかれ毒性であり、腐食性であり又は環
境に有害である化学物質を用いる腐食浴を使用せずに、
容量を増加させることが可能になった。
ために、金属膜をシート上に物理的にデポジットさせる
ことからなる別の方法が使用されるようになった。その
結果、多かれ少なかれ毒性であり、腐食性であり又は環
境に有害である化学物質を用いる腐食浴を使用せずに、
容量を増加させることが可能になった。
【0005】このようなコーティングを行う方法では、
刻みを施す方法と同様に、得られたシートを、電解質を
用いる化学的又は電気化学的化成(formatio
n)及び/又は安定化処理にかける。この処理は、外部
物質の作用による表面状態の劣化を防止し、それによっ
てコンデンサの容量を経時的に維持するためのものであ
る。
刻みを施す方法と同様に、得られたシートを、電解質を
用いる化学的又は電気化学的化成(formatio
n)及び/又は安定化処理にかける。この処理は、外部
物質の作用による表面状態の劣化を防止し、それによっ
てコンデンサの容量を経時的に維持するためのものであ
る。
【0006】コーティング分野では、例えば米国特許第
4,309,810号を引用することができる。この先
行特許は、金属製又はプラスチック製基板を真空蒸着に
よりアルミニウム、タンタル又は複数の金属の合金のデ
ポジットでコーティングしたものを用いる電解コンデン
サを教示している。得られるデポジットは多孔質であ
り、一列に並んだ金属結晶柱で構成されている。しかし
ながら、真空下のデポジットチャンバに微量の酸素が導
入されると、デポジットした結晶の大きさが減少し、前
記結晶がある程度架橋されるという結果が生じる。
4,309,810号を引用することができる。この先
行特許は、金属製又はプラスチック製基板を真空蒸着に
よりアルミニウム、タンタル又は複数の金属の合金のデ
ポジットでコーティングしたものを用いる電解コンデン
サを教示している。得られるデポジットは多孔質であ
り、一列に並んだ金属結晶柱で構成されている。しかし
ながら、真空下のデポジットチャンバに微量の酸素が導
入されると、デポジットした結晶の大きさが減少し、前
記結晶がある程度架橋されるという結果が生じる。
【0007】前記先行特許はより正確には、下記のステ
ップを含むコンデンサの製造方法を開示している:適当
な表面積を有する基板を形成する;線繰り出し機から給
送される陽極酸化可能金属を加熱源に供給する;前記金
属を蒸発させて金属蒸気を形成する;10-4トール
(0.0133パスカル)を超えない分圧で酸素を存在
させて60°以下の入射角で前記金属蒸気を前記基板の
表面にデポジットさせることにより、多孔質金属コーテ
ィングを形成する;前記多孔質コーティングの表面を陽
極酸化する;陽極酸化した表面に電気接触子を具備す
る;陽極酸化した多孔質コーティングを有する前記基板
をコンデンサの形態に巻く。
ップを含むコンデンサの製造方法を開示している:適当
な表面積を有する基板を形成する;線繰り出し機から給
送される陽極酸化可能金属を加熱源に供給する;前記金
属を蒸発させて金属蒸気を形成する;10-4トール
(0.0133パスカル)を超えない分圧で酸素を存在
させて60°以下の入射角で前記金属蒸気を前記基板の
表面にデポジットさせることにより、多孔質金属コーテ
ィングを形成する;前記多孔質コーティングの表面を陽
極酸化する;陽極酸化した表面に電気接触子を具備す
る;陽極酸化した多孔質コーティングを有する前記基板
をコンデンサの形態に巻く。
【0008】ある適用例では、真空下のチャンバでアル
ミニウムを蒸着させることにより、厚さ10マイクロメ
ートルのアルミニウム箔を厚さ6マイクロメートルの多
孔質膜でコーティングしたと記述されている。前記多孔
質膜を4重量%ホウ酸溶液中で200Vの化成電圧で陽
極酸化した後のこのアルミニウムシートの単位表面積当
たり容量は96マイクロファラド/dm2である。
ミニウムを蒸着させることにより、厚さ10マイクロメ
ートルのアルミニウム箔を厚さ6マイクロメートルの多
孔質膜でコーティングしたと記述されている。前記多孔
質膜を4重量%ホウ酸溶液中で200Vの化成電圧で陽
極酸化した後のこのアルミニウムシートの単位表面積当
たり容量は96マイクロファラド/dm2である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】陽極であれ陰極であ
れ、電解コンデンサの電極の分野に絶えず存在する問題
は単位表面積当たりの電気容量である。実際、同じ総容
量では、比容量が大きければ大きいほど電極を小さくす
ることができる。その結果、原価が下がると共に、コン
デンサを小型化して、嵩及び重量の減少が望まれる用途
で使用することが可能となる。
れ、電解コンデンサの電極の分野に絶えず存在する問題
は単位表面積当たりの電気容量である。実際、同じ総容
量では、比容量が大きければ大きいほど電極を小さくす
ることができる。その結果、原価が下がると共に、コン
デンサを小型化して、嵩及び重量の減少が望まれる用途
で使用することが可能となる。
【0010】基板をアルミニウムでコーティングし次い
で化成及び/又は安定化処理にかける方法によって電気
容量が改善されることから、本出願人は、これと同じ方
法で、特に従来のものより遥かに薄いコーティングを用
いて、従ってより安い原価で実質的な改善をなし、これ
までに達成された容量値を大幅に上回る容量値に到達で
きるであろうと考えた。
で化成及び/又は安定化処理にかける方法によって電気
容量が改善されることから、本出願人は、これと同じ方
法で、特に従来のものより遥かに薄いコーティングを用
いて、従ってより安い原価で実質的な改善をなし、これ
までに達成された容量値を大幅に上回る容量値に到達で
きるであろうと考えた。
【0011】本出願人は、このような改善には、基板に
適当に付着する特別の組成及び構造を有するデポジット
の存在が必要であることを発見した。このデポジットは
また、容量が経時的に維持されるように、特に外部物質
に対して適当な経時的安定性を示すようなものでなけれ
ばならない。
適当に付着する特別の組成及び構造を有するデポジット
の存在が必要であることを発見した。このデポジットは
また、容量が経時的に維持されるように、特に外部物質
に対して適当な経時的安定性を示すようなものでなけれ
ばならない。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、表面をぎざぎ
さにした又はしていない電気伝導性基板の片面又は両面
を、蒸着−凝縮により、主としてアルミニウムを含む厚
さ100〜10000ナノメートルのデポジットでコー
ティングしたものからなる電解コンデンサの電極用シー
トであって、前記デポジットが酸化物形態のアルミニウ
ムを50%以上含み且つ粒子凝集物で構成されており、
これらの凝集物が、粒子内にランダムに配置された金属
アルミニウム微結晶を含む酸化アルミニウムの多孔質マ
トリクスを構成していることを特徴とする電極用シート
を提供する。
さにした又はしていない電気伝導性基板の片面又は両面
を、蒸着−凝縮により、主としてアルミニウムを含む厚
さ100〜10000ナノメートルのデポジットでコー
ティングしたものからなる電解コンデンサの電極用シー
トであって、前記デポジットが酸化物形態のアルミニウ
ムを50%以上含み且つ粒子凝集物で構成されており、
これらの凝集物が、粒子内にランダムに配置された金属
アルミニウム微結晶を含む酸化アルミニウムの多孔質マ
トリクスを構成していることを特徴とする電極用シート
を提供する。
【0013】従って、多かれ少なかれ架橋された一連の
金属結晶柱からなるデポジットが形成される米国特許第
4,309,810号と比べると、本発明には製品のレ
ベルで下記の相異点が見られる:組成の点では、デポジ
ットがアルミニウムだけからなるのではなく、アルミニ
ウムを酸化物形態で50%以上含む混合物からなる;構
造の点では、デポジットが金属結晶だけの集合体からな
る先行技術と異なり、デポジットが酸化物多孔質マトリ
クスを構成する粒子凝集物からなり、これらの粒子中に
アルミニウム微結晶が分散されている。
金属結晶柱からなるデポジットが形成される米国特許第
4,309,810号と比べると、本発明には製品のレ
ベルで下記の相異点が見られる:組成の点では、デポジ
ットがアルミニウムだけからなるのではなく、アルミニ
ウムを酸化物形態で50%以上含む混合物からなる;構
造の点では、デポジットが金属結晶だけの集合体からな
る先行技術と異なり、デポジットが酸化物多孔質マトリ
クスを構成する粒子凝集物からなり、これらの粒子中に
アルミニウム微結晶が分散されている。
【0014】また、得られるデポジットは灰色がかった
薄茶から漆黒にいたるまでの色を有する。
薄茶から漆黒にいたるまでの色を有する。
【0015】このようなデポジットでコーティングした
シートには、前記特徴のおかげで、比較的大きい容量が
与えられる。
シートには、前記特徴のおかげで、比較的大きい容量が
与えられる。
【0016】好ましくは、粒子凝集物が100〜100
0ナノメートルの平均直径を有し、凝集物の粒子が10
〜50ナノメートルの平均直径を有し、これらの粒子の
中に挿入された微結晶が前記粒子の直径より小さい直径
を有し、その平均値が1〜20ナノメートルである。
0ナノメートルの平均直径を有し、凝集物の粒子が10
〜50ナノメートルの平均直径を有し、これらの粒子の
中に挿入された微結晶が前記粒子の直径より小さい直径
を有し、その平均値が1〜20ナノメートルである。
【0017】実際、これらの範囲を超えると、得られる
容量が適当ではあってもそれほど高くはなく、限界値か
ら遠ざかるにつれて低下する。
容量が適当ではあってもそれほど高くはなく、限界値か
ら遠ざかるにつれて低下する。
【0018】また、粒子は、デポジットが該デポジット
の20〜50容量%の空隙体積を有する多孔質体を構成
するように、互いに連通し合う空隙の網状格子(res
eau ramifie)を相互間に設けながら配置さ
れているのが好ましい。
の20〜50容量%の空隙体積を有する多孔質体を構成
するように、互いに連通し合う空隙の網状格子(res
eau ramifie)を相互間に設けながら配置さ
れているのが好ましい。
【0019】このような構造では電解質の完全浸透が可
能であるため、化成及び/又は安定化操作時並びにコン
デンサでの最終使用時に展開表面積が全部使用され、そ
の結果、大きな容量と大きな経時的性能安定性とが得ら
れる。
能であるため、化成及び/又は安定化操作時並びにコン
デンサでの最終使用時に展開表面積が全部使用され、そ
の結果、大きな容量と大きな経時的性能安定性とが得ら
れる。
【0020】このようにして、特に安定化処理では、外
部物質による酸化又は水和を防止する化合物、好ましく
はリンの酸素化化合物に由来するイオンがデポジット全
体にわたって存在するという結果が得られる。
部物質による酸化又は水和を防止する化合物、好ましく
はリンの酸素化化合物に由来するイオンがデポジット全
体にわたって存在するという結果が得られる。
【0021】電気伝導性基板は、アルミニウム、その合
金の1つ、又はアルミニウムでコーティングしたプラス
チック材料の中から選択するのが好ましい。
金の1つ、又はアルミニウムでコーティングしたプラス
チック材料の中から選択するのが好ましい。
【0022】この導体は、製造すべきコンデンサの寸法
に依存する幅及び厚さを有する連続ストリップの形態を
有し、その片面又は好ましくは両面に本発明のデポジッ
トが形成される。
に依存する幅及び厚さを有する連続ストリップの形態を
有し、その片面又は好ましくは両面に本発明のデポジッ
トが形成される。
【0023】本発明は、前述の組成及び構造を有するデ
ポジットの製造方法にも関する。
ポジットの製造方法にも関する。
【0024】この製造方法は、デポジットゾーンの圧力
が2.8〜0.3Paであるチャンバ内の固定又は可動
基板に、片面当たり0.03〜0.2マイクロメートル
/秒の厚み増加速度で、酸素又は酸素化化合物を含む雰
囲気でアルミニウムを蒸発させ次いで凝縮及び凝固させ
ることによりデポジットを形成することを特徴とする。
が2.8〜0.3Paであるチャンバ内の固定又は可動
基板に、片面当たり0.03〜0.2マイクロメートル
/秒の厚み増加速度で、酸素又は酸素化化合物を含む雰
囲気でアルミニウムを蒸発させ次いで凝縮及び凝固させ
ることによりデポジットを形成することを特徴とする。
【0025】このように本発明の方法は、酸素だけか、
酸素を含む気体混合物か、又は酸素化化合物からなり得
る酸化雰囲気でデポジットを形成することからなる。本
発明の組成及び構造を有するデポジットを得るための重
要な因子は、デポジットゾーンの圧力、即ち基板の近傍
の圧力である。この圧力は2.8〜0.3Paでなけれ
ばならない。
酸素を含む気体混合物か、又は酸素化化合物からなり得
る酸化雰囲気でデポジットを形成することからなる。本
発明の組成及び構造を有するデポジットを得るための重
要な因子は、デポジットゾーンの圧力、即ち基板の近傍
の圧力である。この圧力は2.8〜0.3Paでなけれ
ばならない。
【0026】実際、圧力が0.3Pa未満の場合には、
酸化形態のアルミニウムの量が少ないためにデポジット
が稠密化し且つデポジットする粒子の大きさが減少する
という理由によって、比容量の値が急減することが確認
された。圧力が2.8Paを超えた時にも比容量は減少
するが、この場合の原因は粒子が大きくなり過ぎること
にある。
酸化形態のアルミニウムの量が少ないためにデポジット
が稠密化し且つデポジットする粒子の大きさが減少する
という理由によって、比容量の値が急減することが確認
された。圧力が2.8Paを超えた時にも比容量は減少
するが、この場合の原因は粒子が大きくなり過ぎること
にある。
【0027】本発明の方法の別の特徴は、厚さ100〜
10000ナノメートルのデポジットを0.03〜0.
2マイクロメートル/秒/面という比較遅い速度で形成
することにある。実際、前記速度は、粒子間の空隙の網
状化の度合い(degrede ramificati
on)に影響するため、比容量にとって重要であること
が確認された。この速度が遅いと酸化物マトリクスが迅
速に形成され、この速度が速いとデポジットの密度が増
加してデポジットの空隙体積及び展開表面積が減少す
る。
10000ナノメートルのデポジットを0.03〜0.
2マイクロメートル/秒/面という比較遅い速度で形成
することにある。実際、前記速度は、粒子間の空隙の網
状化の度合い(degrede ramificati
on)に影響するため、比容量にとって重要であること
が確認された。この速度が遅いと酸化物マトリクスが迅
速に形成され、この速度が速いとデポジットの密度が増
加してデポジットの空隙体積及び展開表面積が減少す
る。
【0028】デポジットの厚さは、速度が一定であれば
蒸発処理時間に依存するが、この時間は100秒以下が
好ましい。なぜなら、それ以上の時間では得られるデポ
ジットが厚く、脆弱であり、且つ閉塞された空隙を有す
るため、容量が低下するからである。
蒸発処理時間に依存するが、この時間は100秒以下が
好ましい。なぜなら、それ以上の時間では得られるデポ
ジットが厚く、脆弱であり、且つ閉塞された空隙を有す
るため、容量が低下するからである。
【0029】比容量は確かにデポジットの厚さに伴って
増加する。しかしながら、この厚みは実際には1000
0ナノメートルに限定される。なぜなら、この値を超え
ると、デポジットが脆化する危険が生じると共に、デポ
ジットの製造原価が法外に高くなるからである。
増加する。しかしながら、この厚みは実際には1000
0ナノメートルに限定される。なぜなら、この値を超え
ると、デポジットが脆化する危険が生じると共に、デポ
ジットの製造原価が法外に高くなるからである。
【0030】酸化雰囲気は、片面のみにデポジットを形
成する場合にはガスを1〜100l/hの流量で循環さ
せるように協働する真空ポンプと酸化用ガス加圧導入手
段との作用の組合わせにより、チャンバ内で継続的に再
生される。実際、前記流量が1l/h未満の場合には蒸
発アルミニウム粒子の酸化が不十分なため所期の構造を
得ることができず、100l/hを超えるとチャンバ内
の圧力が増加してデポジットの容量を低下させることに
なる。
成する場合にはガスを1〜100l/hの流量で循環さ
せるように協働する真空ポンプと酸化用ガス加圧導入手
段との作用の組合わせにより、チャンバ内で継続的に再
生される。実際、前記流量が1l/h未満の場合には蒸
発アルミニウム粒子の酸化が不十分なため所期の構造を
得ることができず、100l/hを超えるとチャンバ内
の圧力が増加してデポジットの容量を低下させることに
なる。
【0031】酸化用ガスは0.002〜0.04MPa
の圧力下でチャンバ内に導入するのが好ましい。この範
囲を超えると、適当な特性を有するデポジットが得られ
ないからである。
の圧力下でチャンバ内に導入するのが好ましい。この範
囲を超えると、適当な特性を有するデポジットが得られ
ないからである。
【0032】これらの条件では、デポジットを両面に形
成した後の容量が300,000マイクロファラド/d
m2に達し得る。
成した後の容量が300,000マイクロファラド/d
m2に達し得る。
【0033】アルミニウムの蒸発は、ジュール効果、誘
導、電子ボンバード又はアークによる固体アルミニウム
の加熱により実施し得る。
導、電子ボンバード又はアークによる固体アルミニウム
の加熱により実施し得る。
【0034】しかしながら、初期容量の高いデポジット
を形成するだけでは不十分であり、得られた性能が例え
ば空気の湿気等のような外部物質との接触に起因する水
和又は酸化によって経時的に低下するのを制限すること
も必要である。
を形成するだけでは不十分であり、得られた性能が例え
ば空気の湿気等のような外部物質との接触に起因する水
和又は酸化によって経時的に低下するのを制限すること
も必要である。
【0035】そこで、予め化成した又はしていないデポ
ジットを化学的又は電気化学的安定化処理にかけること
が必要がとなる。この処理は、安定化処理していないシ
ートの初期容量に比べて容量を低下させるが、その新し
い容量値を経時的に低下させずに維持せしめる効果を有
する。
ジットを化学的又は電気化学的安定化処理にかけること
が必要がとなる。この処理は、安定化処理していないシ
ートの初期容量に比べて容量を低下させるが、その新し
い容量値を経時的に低下させずに維持せしめる効果を有
する。
【0036】この安定化処理は、リンの酸素化化合物に
由来するイオンを含む通電可能な水溶液にコーティング
した基板を浸漬することによって行うのが好ましい。
由来するイオンを含む通電可能な水溶液にコーティング
した基板を浸漬することによって行うのが好ましい。
【0037】電気化学的処理の場合は、最終用途に応じ
て選択した電圧を用いてシートの陽極酸化を行う。
て選択した電圧を用いてシートの陽極酸化を行う。
【0038】
【実施例】以下、添付図面に基づき実施例を挙げて本発
明をより詳細に説明する。
明をより詳細に説明する。
【0039】図1では、デポジットチャンバ1内に繰り
出しボビン2と巻取りボビン3とが配置されている。基
板4はこれらのボビンにより、アルミニウム線供給手段
6を含むアルミニウム加熱蒸発システムの上方を矢印5
に従って移動する。アルミニウム線は、加熱源(図示せ
ず)によって加熱されており且つ容器9内に配置されて
いる坩堝8内で溶融する。容器9には、管11を介して
加圧下で導入された酸化用ガスが流入するための導入孔
10と、アルミニウム蒸気と酸化用ガスとの混合物が基
板方向に流出するための排出孔12とが具備されてい
る。デポジットチャンバの壁に設けられており且つポン
ピングシステム(図示せず)に接続されている管13
は、デポジットゾーン内に適当な圧力を維持する機能を
果たす。この圧力はマノメータ14によって測定され
る。管13はまた、ガスを適当な流量で循環させる機能
も果たす。この流量は、管11で流量計(図示せず)に
より測定される。
出しボビン2と巻取りボビン3とが配置されている。基
板4はこれらのボビンにより、アルミニウム線供給手段
6を含むアルミニウム加熱蒸発システムの上方を矢印5
に従って移動する。アルミニウム線は、加熱源(図示せ
ず)によって加熱されており且つ容器9内に配置されて
いる坩堝8内で溶融する。容器9には、管11を介して
加圧下で導入された酸化用ガスが流入するための導入孔
10と、アルミニウム蒸気と酸化用ガスとの混合物が基
板方向に流出するための排出孔12とが具備されてい
る。デポジットチャンバの壁に設けられており且つポン
ピングシステム(図示せず)に接続されている管13
は、デポジットゾーン内に適当な圧力を維持する機能を
果たす。この圧力はマノメータ14によって測定され
る。管13はまた、ガスを適当な流量で循環させる機能
も果たす。この流量は、管11で流量計(図示せず)に
より測定される。
【0040】この構造では、デポジットが片面だけに形
成される。第2の坩堝を設置し且つ基板移動シテスムを
改造すれば、デポジットを両面に同時に形成することが
可能である。
成される。第2の坩堝を設置し且つ基板移動シテスムを
改造すれば、デポジットを両面に同時に形成することが
可能である。
【0041】図2は、厚さ2200ナノメートルのデポ
ジットの切断面を示している。この切断面は均質であ
り、その生長形態として、200〜800ナノメートル
の大きさの凝集物を示している。
ジットの切断面を示している。この切断面は均質であ
り、その生長形態として、200〜800ナノメートル
の大きさの凝集物を示している。
【0042】図3はデポジットの面を10000倍に拡
大して示しており、この面では凝集物の輪郭が300ナ
ノメートルの平均直径を有している。
大して示しており、この面では凝集物の輪郭が300ナ
ノメートルの平均直径を有している。
【0043】デポジットのフラグメントを示す図4で
は、平均直径3ナノメートルのアルミニウム微結晶が酸
化アルミニウム中に分散しているのが見られる。
は、平均直径3ナノメートルのアルミニウム微結晶が酸
化アルミニウム中に分散しているのが見られる。
【0044】図5はデポジットの面を1マイクロートル
*1マイクロートルの映像化視野で示しており、10〜
20ナノメートルの大きさの粒子の存在が見られる。
*1マイクロートルの映像化視野で示しており、10〜
20ナノメートルの大きさの粒子の存在が見られる。
【0045】実施例1 圧延後に脱脂した厚さ30マイクロメートル、幅300
mmの99.5重量%アルミニウムシートを本発明に従
い下記の条件で処理した: 酸素導入圧力:0.005MPa、 ガスの流量:15l/h、 デポジットゾーン内の圧力:1.2Pa、 デポジット形成速度:0.08マイクロメートル/秒、 デポジット形成時間:30秒、 デポジットの厚さ:2.4マイクロメートル。
mmの99.5重量%アルミニウムシートを本発明に従
い下記の条件で処理した: 酸素導入圧力:0.005MPa、 ガスの流量:15l/h、 デポジットゾーン内の圧力:1.2Pa、 デポジット形成速度:0.08マイクロメートル/秒、 デポジット形成時間:30秒、 デポジットの厚さ:2.4マイクロメートル。
【0046】両面にデポジットを形成した後、リン酸と
リン酸アンモニウムとの混合物を含む水溶液中で1.7
ボルトの電圧を用いて、前記シートを陽極電気化学的安
定化処理にかけた。
リン酸アンモニウムとの混合物を含む水溶液中で1.7
ボルトの電圧を用いて、前記シートを陽極電気化学的安
定化処理にかけた。
【0047】種々の顕微鏡技術を用いて観察した結果、
粒子の平均粒度は15ナノメートルであり、微結晶の平
均粒度は3ナノメートルであった。
粒子の平均粒度は15ナノメートルであり、微結晶の平
均粒度は3ナノメートルであった。
【0048】比表面積の測定によって多孔率を調べたと
ころ、空隙の体積はデポジットの総体積の30%であっ
た。
ころ、空隙の体積はデポジットの総体積の30%であっ
た。
【0049】このシートの1ケ月間のエージング後の容
量は180,000マイクロファラド/dm2である。
量は180,000マイクロファラド/dm2である。
【0050】実施例2 厚さ20マイクロメートルのポリプロピレンフィルム1
つと、厚さ10マイクロメートルの脱脂した99.5重
量%アルミニウムフィルム2つとを同時圧延にかけて形
成した複合シートを本発明に従い下記の条件で処理し
た: 酸素導入圧力:0.02MPa、 ガスの流量:70l/h、 デポジットゾーン内の圧力:2Pa、 デポジット形成速度:0.15マイクロメートル/秒、 デポジット形成時間:10秒、 デポジットの厚さ:1.5マイクロメートル。
つと、厚さ10マイクロメートルの脱脂した99.5重
量%アルミニウムフィルム2つとを同時圧延にかけて形
成した複合シートを本発明に従い下記の条件で処理し
た: 酸素導入圧力:0.02MPa、 ガスの流量:70l/h、 デポジットゾーン内の圧力:2Pa、 デポジット形成速度:0.15マイクロメートル/秒、 デポジット形成時間:10秒、 デポジットの厚さ:1.5マイクロメートル。
【0051】両面にデポジットを形成し、実施例1と同
じ安定化処理にかけた後、前記と同じ手段でシートを観
察、下記の測定値を得た: 粒子の平均粒度:27ナノメートル、 アルミニウム微結晶の平均粒度:5ナノメートル 空隙体積:デポジットの総体積の20%。
じ安定化処理にかけた後、前記と同じ手段でシートを観
察、下記の測定値を得た: 粒子の平均粒度:27ナノメートル、 アルミニウム微結晶の平均粒度:5ナノメートル 空隙体積:デポジットの総体積の20%。
【0052】このシートの1ケ月間のエージング後の容
量は80,000マイクロファラド/dm2である。
量は80,000マイクロファラド/dm2である。
【0053】実施例3 実施例1と同じシートを本発明に従い下記の条件で処理
した: 酸素導入圧力:0.007MPa、 ガスの流量:20l/h、 デポジットゾーン内の圧力:0.5Pa、 デポジット形成速度:0.1マイクロメートル/秒、 デポジット形成時間:100秒、 デポジットの厚さ:10マイクロメートル。
した: 酸素導入圧力:0.007MPa、 ガスの流量:20l/h、 デポジットゾーン内の圧力:0.5Pa、 デポジット形成速度:0.1マイクロメートル/秒、 デポジット形成時間:100秒、 デポジットの厚さ:10マイクロメートル。
【0054】両面にデポジットを形成し、実施例1と同
じ安定化処理にかけた後、前記と同じ手段でシートを観
察し、下記の測定値を得た: 粒子の平均粒度:12ナノメートル、 アルミニウム微結晶の平均粒度:2ナノメートル 空隙体積:デポジットの総体積の35%。
じ安定化処理にかけた後、前記と同じ手段でシートを観
察し、下記の測定値を得た: 粒子の平均粒度:12ナノメートル、 アルミニウム微結晶の平均粒度:2ナノメートル 空隙体積:デポジットの総体積の35%。
【0055】このシートの1ケ月間のエージング後の容
量は250,000マイクロファラド/dm2である。
量は250,000マイクロファラド/dm2である。
【0056】これらの実施例では、基板の形態に鑑み、
基板をデポジットチャンバ内に2回連続して通すことに
より、基板の両面をコーティングした。
基板をデポジットチャンバ内に2回連続して通すことに
より、基板の両面をコーティングした。
【0057】本発明は比容量の大きいコンデンサの製造
に使用でき、その結果コンデンサの小型化及びコストの
改善が可能になる。
に使用でき、その結果コンデンサの小型化及びコストの
改善が可能になる。
【図1】本発明のシート(片面にデポジット形成)を製
造するための装置の縦断面図である。
造するための装置の縦断面図である。
【2図】走査電子顕微鏡によるデポジット切断面の粒子
構造を示す顕微鏡写真である。
構造を示す顕微鏡写真である。
【図3】走査電子顕微鏡によるデポジットの外面の粒子
構造を示す顕微鏡写真である。
構造を示す顕微鏡写真である。
【図4】高分解能透過型電子顕微鏡によるデポジット切
断面の粒子構造を示す顕微鏡写真である。
断面の粒子構造を示す顕微鏡写真である。
【図5】原子力顕微鏡によるデポジットの外面の粒子構
造を示す顕微鏡写真である。
造を示す顕微鏡写真である。
1 デポジットチャンバ 4 基板 7 アルミニウム線 8 坩堝
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年4月23日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図4
【補正方法】変更
【補正内容】
【図4】
【手続補正4】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エマニユエル・ガリエル フランス国、38700・コレンク、ラ・プロ ビダンス、レ・バルコン・ドウ・ベルドン ヌ(番地なし)
Claims (14)
- 【請求項1】 表面をぎざぎさにした又はしていない電
気伝導性基板の片面又は両面を、蒸着−凝縮により、主
としてアルミニウムを含む厚さ100〜10000ナノ
メートルのデポジットでコーティングしたものからなる
電解コンデンサの電極用シートであって、前記デポジッ
トが酸化物形態のアルミニウムを50%以上含み且つ粒
子凝集物で構成されており、これらの凝集物が、粒子内
にランダムに配置された金属アルミニウム微結晶を含む
酸化アルミニウムの多孔質マトリクスを構成しているこ
とを特徴とする電極用シート。 - 【請求項2】 凝集物の平均直径が100〜1000ナ
ノメートルであることを特徴とする請求項1に記載のシ
ート。 - 【請求項3】 粒子の平均直径が10〜50ナノメート
ルであることを特徴とする請求項1に記載のシート。 - 【請求項4】 微結晶が、これらの微結晶を挿入状態で
含んでいる粒子の直径より小さい直径を有し、この直径
の平均値が1〜20ナノメートルであることを特徴とす
る請求項1に記載のシート。 - 【請求項5】 粒子が、互いに連通し合う空隙の網状格
子が相互間に設けられるように配置されていることを特
徴とする請求項1に記載のシート。 - 【請求項6】 空隙の体積がデポジットの総体積の20
〜50%であることを特徴とする請求項1に記載のシー
ト。 - 【請求項7】 デポジットが、リンの酸素化化合物に由
来するイオンも含んでいることを特徴とする請求項1に
記載のシート。 - 【請求項8】 電気伝導体が、アルミニウム、アルミニ
ウム合金の1つ、アルミニウムで被覆されたプラスチッ
ク材料から選択したものであることを特徴とする請求項
1に記載のシート。 - 【請求項9】 酸素又は酸素化化合物を含む雰囲気でア
ルミニウムを蒸発させ次いで凝縮及び凝固させることに
より、デポジットゾーンの圧力が2.8〜0.3Paで
あるチャンバ内の固定又は可動基板の片面又は両面に、
0.03〜0.2マイクロメートル/秒の厚み増加速度
でデポジットを形成することを特徴とする請求項1に記
載のシートの製造方法。 - 【請求項10】 基板の一点における凝縮時間を100
秒未満にすることを特徴とする請求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 酸化雰囲気を0.002〜0.04M
Paの圧力下で、且つ片面だけにデポジットを形成する
場合には1〜100l/hの流量でチャンバ内に導入す
ることを特徴とする請求項9に記載の方法。 - 【請求項12】 アルミニウムの蒸発を、ジュール効
果、誘導、電子ボンバード、アークから選択した手段に
よるアルミニウムの加熱によって行うことを特徴とする
請求項9に記載の方法。 - 【請求項13】 シートを、化成及び/又は化学的もし
くは電気化学的安定化処理にかけることを特徴とする請
求項9に記載の方法。 - 【請求項14】 安定化を、リンの酸素化化合物に由来
するイオンの存在下で行うことを特徴とする請求項13
に記載の方法。
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