JP2008010490A - 電解コンデンサ用電極の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アルミニウム箔20周辺の圧力と蒸発源周辺の圧力と相違させた状態で真空蒸着を行う。すなわち、アルミニウム箔20周辺の気圧を上げる一方、蒸発源周辺の気圧をアルミニウム箔20周辺の気圧より下げた状態で真空蒸着を行うことで、アルミニウム箔20に蒸着される蒸着粒子径をコントロールすることができるので、静電容量を向上させながら、安定した稼働が可能となる。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明を適用した巻取式真空蒸着装置の要部の構成を示す説明図である。図1に示す巻取式真空蒸着装置は、ロールから引き出されたアルミニウム箔20に対して連続的に真空蒸着を行う装置であり、チャンバ11内には、巻出軸1、巻取軸2、メインローラ3、真空排気口4、ガス導入ノズル5、蒸発源ルツボ6、蒸着材料7、基材加熱用ヒータ8などを有している。ここで、アルミニウム箔20としては、化学的若しくは電気化学的なエッチングが施された箔、またはエッチングが施されていない箔の何れをも用いることができる。
本形態において、図1を参照して説明した巻取式真空蒸着装置を用いて電解コンデンサ用電極箔を製造するにあたっては、まず、真空排気口4を介してチャンバ11を真空引きしながらガス導入ノズルから不活性ガスを導入して、チャンバ11内の気圧を0.0133〜0.133Paに調整する。その際、チャンバ11を真空引きした後、ガス導入ノズル5から不活性ガスを導入してチャンバ11内の気圧を0.0133〜0.133Paに調整してもよい。その際に用いる不活性ガスは、例えば、アルゴン、窒素、またはこれらの混合ガスである。何れの場合でも、まず、チャンバ11内における蒸発源ルツボ6周辺の雰囲気と、蒸着室90内の雰囲気とを同一にする。
チャンバ11内を0.0013Paまで真空引きした後、アルゴンガスを気圧0.13Paになるように導入し、蒸着室90内にアルゴンガスに対する酸素分圧が1/12になるよう調整した酸素を含んだアルゴンガスをガス導入ノズル5より導入し、蒸着室の気圧が0.66Paになるよう調整した。
チャンバ11内を0.0013Paまで真空引きした後、窒素ガスを気圧0.13Paになるように導入し、蒸着室90内に窒素ガスに対する酸素分圧が1/20になるよう調整した酸素を含んだ窒素ガスをガス導入ノズル5より導入し蒸着室の気圧が0.18Paになるよう調整した。
チャンバ11内を0.0013Paまで真空引きした後、窒素ガスを気圧0.13Paになるように導入し、蒸着室90内に窒素ガスに対する酸素分圧が1/30になるよう調整した酸素を含んだ窒素ガスをガス導入ノズル5より導入し蒸着室の気圧が0.18Paになるよう調整した。
陽極箔の従来例として、110μm厚みのアルミニウム箔に所定のエッチングを施した後、pH7、50℃の純水中に3分浸漬し、次に300℃にて5分間熱処理をした。この試料を、所定の方法にて20Vの陽極酸化を施し、陽極箔Dとした。
チャンバ11内を0.0013Paまで真空引きした後、アルゴンガスを気圧0.13Paになるように導入し、蒸着室90内にアルゴンガスのみをガス導入ノズル5より導入して0.66Paになるよう調整した。
チャンバ11内を0.0013Paまで真空引きした後、アルゴンガスを気圧0.13Paになるように導入し、蒸着室90内にアルゴンガスに対する酸素分圧が1/12になるよう調整した酸素を含んだアルゴンガスをガス導入ノズル5より導入し、蒸着室の気圧が0.10Paになるよう調整した。
チャンバ11内を0.0013Paまで真空引きした後、アルゴンガスを気圧0.13Paになるように導入し、蒸着室90内にアルゴンガスに対する酸素分圧が1/12になるよう調整した酸素を含んだアルゴンガスをガス導入ノズル5より導入して0.66Paになるよう調整した。
陰極箔の従来例として、厚さ50μmのアルミニウム箔に所定のエッチングを施した後、リン酸アンモニウムを含む溶液80℃中に5分浸漬し、次に、200℃にて5分間熱処理を行い、陰極箔Hとした。
上記の各試料A、B、C、D、E、F、Gの各々について厚さおよび静電容量を測定し、その結果を表1に示す。
図1の真空蒸着装置にてチャンバ11内を0.0013Paまで真空引きした後、窒素ガスを気圧0.13Paになるように導入し、蒸着室90内に窒素ガスに対する酸素分圧が1/20になるよう調整した酸素を含んだ窒素ガスを0.66Paになるよう調整した。この状態にて、厚さ30μmの軟質アルミニウム箔20を、基材加熱用ヒータ8で予備加熱を行った後、蒸着層の厚さが20μmになるようにアルミニウム微粒子を連続蒸着した。
図2の真空蒸着装置にてチャンバ11内を0.0013Paまで真空引きした後、窒素ガスに対する酸素分圧が1/20になるよう調整した酸素を含んだ窒素ガスを0.66Paになるよう調整した。この状態にて、厚さ30μmの軟質アルミニウム箔20を、基材加熱用ヒータ8で予備加熱を行った後、蒸着層の厚さが20μmになるよう、アルミニウム微粒子を連続蒸着した。
実施例4と従来例3を巻き戻し、未化成静電容量が500μF/cm2以上である長さを調査し表2の結果を得た。
2:巻取軸
3:メインローラ
4:真空排気口
5:ガス導入ノズル
6:蒸発源ルツボ
7:蒸着材料
8:基材加熱用ヒータ
9:隔壁
11:チャンバ
20:アルミニウム箔
41:仕切り板
50:ガス導入ノズル
90:蒸着室
91:開口部
Claims (9)
- 蒸発源が配置されたチャンバ内での真空蒸着法によりアルミニウム箔に弁金属の微粒子、弁金属酸化物の微粒子、およびそれらの混合物の微粒子のうちの少なくとも1つを堆積させる電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、
前記蒸発源周辺の雰囲気と前記アルミニウム箔周辺の雰囲気とを相違させた状態で真空蒸着を行うことを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 - 前記アルミニウム箔周辺を、前記蒸発源と対向する位置に開口部を備えた蒸着室により前記蒸発源側と区画し、前記蒸発源周辺の雰囲気と前記蒸着室内の雰囲気とを相違させた状態で真空蒸着を行うことを特徴とする請求項1に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
- 前記チャンバ内の気圧を0.0133〜0.133Paに調整した後、
酸素を含有する不活性ガスを前記蒸着室に導入して該蒸着室の気圧を0.133Pa〜13.3Paに調整した状態で真空蒸着を行うことを特徴とする請求項2に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 - 前記不活性ガスは、アルゴン、窒素、またはこれらの混合ガスであることを特徴とする請求項3に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
- 真空蒸着中の前記アルミニウム箔の温度を550℃以下にすることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
- 前記弁金属は、アルミニウムおよびチタンのうちの少なくとも一方であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
- 前記アルミニウム箔が、軟質材または表面にエッチングを施した軟質材であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
- 前記電解コンデンサ用電極箔を陽極用として製造するにあたって、
前記真空蒸着を行った前記アルミニウム箔を、液温が30〜70℃、pHが5〜12の処理液中に浸漬して表面に水酸化物層を形成し、
次に、前記アルミニウム箔に対して温度が200〜550℃の条件下で熱処理を行い、
次に、前記アルミニウム箔に対して陽極酸化を行うことを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 - 前記電解コンデンサ用電極箔を陰極用として製造するにあたって、
前記真空蒸着を行った前記アルミニウム箔を、液温が20〜90℃のリン酸、亜リン酸、次亜リン酸またはこれらの塩のうちの少なくとも1種を含む処理液に浸漬し、
次に、前記アルミニウム箔に対して温度が200〜550℃の条件で熱処理を行うことを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
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