WO2022210655A1 - チタン基材、水電解用電極、および、固体高分子形水電解装置 - Google Patents

チタン基材、水電解用電極、および、固体高分子形水電解装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2022210655A1
WO2022210655A1 PCT/JP2022/015310 JP2022015310W WO2022210655A1 WO 2022210655 A1 WO2022210655 A1 WO 2022210655A1 JP 2022015310 W JP2022015310 W JP 2022015310W WO 2022210655 A1 WO2022210655 A1 WO 2022210655A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
titanium
titanium oxide
oxide film
water electrolysis
magneli
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/015310
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
陽祐 佐野
信一 大森
Original Assignee
三菱マテリアル株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三菱マテリアル株式会社 filed Critical 三菱マテリアル株式会社
Publication of WO2022210655A1 publication Critical patent/WO2022210655A1/ja

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/10Sintering only
    • B22F3/11Making porous workpieces or articles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • C25B1/01Products
    • C25B1/02Hydrogen or oxygen
    • C25B1/04Hydrogen or oxygen by electrolysis of water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/02Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form
    • C25B11/03Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form perforated or foraminous
    • C25B11/031Porous electrodes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/052Electrodes comprising one or more electrocatalytic coatings on a substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/055Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
    • C25B11/057Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
    • C25B11/061Metal or alloy
    • C25B11/063Valve metal, e.g. titanium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/075Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
    • C25B11/077Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound the compound being a non-noble metal oxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B9/00Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/26Anodisation of refractory metals or alloys based thereon
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/36Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis

Definitions

  • the present invention relates to a titanium base material excellent in electrical conductivity and corrosion resistance, and to a water electrolysis electrode and a solid polymer type water electrolysis apparatus comprising the titanium base material.
  • Titanium substrates made of titanium or titanium alloys are used in current-carrying members such as electrodes, particularly in applications where oxidation resistance (corrosion resistance) is required.
  • oxidation resistance corrosion resistance
  • cathode electrodes of polymer electrolyte fuel cells (PEFC), anode electrodes of water electrolyzers, electrode materials for lithium ion batteries and lithium ion capacitors, etc. are subjected to severe corrosion such as high potential, the presence of oxygen, and a strongly acidic atmosphere.
  • the corrosion resistance is not sufficient, and an insulating TiO 2 film is formed on the surface of the titanium base material during use, degrading the performance as a current-carrying member such as an electrode. I had a problem.
  • Patent Document 1 proposes a base material made of aluminum, nickel, or titanium, on which a coating of a noble metal such as gold or platinum is formed to improve corrosion resistance while maintaining electrical conductivity.
  • Patent Document 2 proposes a titanium material in which an oxide film is formed on the surface of titanium or a titanium alloy, in which the X-diffraction peak of TiO 2 is not observed.
  • Patent Document 3 a titanium oxide layer having an atomic concentration ratio of oxygen and titanium (O/Ti) of 0.3 or more and 1.7 or less is provided on the surface of a titanium material made of pure titanium or a titanium alloy.
  • an alloy layer containing at least one noble metal selected from Au, Pt and Pd is formed on the titanium oxide layer.
  • Patent Documents 1 and 2 when a noble metal film is formed, the cost increases significantly, and it cannot be widely used.
  • the oxide film described in Patent Document 3 has insufficient electrical conductivity and corrosion resistance, so it cannot be applied as a member to be used in a severe environment.
  • Patent Document 4 an electrode material on which a titanium suboxide film represented by Ti n O 2n-1 (n is an integer of 1 or more and 7 or less) is formed, and in Patent Document 5, a chemical formula Ti n O 2n- 1 (4 ⁇ n ⁇ 10) has been proposed.
  • Ti n O 2n-1 n is an integer of 1 or more and 7 or less
  • Patent Document 5 a chemical formula Ti n O 2n- 1 (4 ⁇ n ⁇ 10) has been proposed.
  • Magneli-phase titanium oxide has corrosion resistance equivalent to that of TiO2 and electrical conductivity equivalent to that of graphite, and can be used even in severe corrosive environments. .
  • Patent Document 4 discloses forming a titanium suboxide film on the surface of a titanium plate by a sputtering method using a Ti 4 O 7 target and a Ti 5 O 9 target.
  • Patent Document 5 discloses that plasma electrolytic oxidation is performed in an aqueous solution containing a phosphorus compound to form a TiO 2 film, which is then subjected to microwave plasma reduction treatment to form a Magneli phase titanium oxide film.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-135316 A) Japanese Patent No. 5831670
  • B Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-236083
  • Patent Document 4 since a Magneli phase titanium oxide film or a titanium suboxide film is formed on the surface of a titanium plate using a sputtering method, the specific surface area of the film is relatively small, and the electrode surface has a large surface area. There was a possibility that the reaction could not be sufficiently accelerated.
  • Patent Document 5 a TiO 2 film is formed by plasma electrolytic oxidation in an aqueous solution containing a phosphorus compound, and the film is reduced to form a Magneli phase titanium oxide film. The specific surface area of is relatively large.
  • Patent Document 5 plasma electrolytic oxidation is performed in an aqueous solution containing a phosphorus compound, so phosphorus (P) is contained in the Magneli phase titanium oxide film.
  • phosphorus (P) is contained in the Magneli phase titanium oxide film.
  • the present invention has been made against the background of the above circumstances, and provides a titanium base material having a Magneli phase titanium oxide film with no P elution and a large specific surface area, and a titanium base material.
  • An object of the present invention is to provide an electrode for water electrolysis and a solid polymer type water electrolysis device.
  • the titanium substrate of the present invention has a substrate body made of titanium or a titanium alloy, and a surface of the substrate body having the chemical formula Ti n O
  • a Magneli phase titanium oxide film made of Magneli phase titanium oxide represented by 2n ⁇ 1 (4 ⁇ n ⁇ 10) is formed, and the Magneli phase titanium oxide film has a BET value exceeding 0.1 m 2 /g. , has a porous structure, and is characterized by a phosphorus content of 0.1 atomic % or less.
  • the surface of the base material body made of titanium or a titanium alloy is coated with Magneli phase oxidation of Magneli phase titanium oxide represented by the chemical formula Ti n O 2n ⁇ 1 (4 ⁇ n ⁇ 10).
  • a titanium film is formed, and the Magneli phase titanium oxide film has a BET value of more than 0.1 m 2 /g and has a porous structure. It can promote reactions on the surface.
  • the content of phosphorus element in the Magneli phase titanium oxide film is limited to 0.1 at % or less, the elution of P during use can be suppressed, and the ion-permeable film, etc., provided in the water electrolysis cell can be used. deterioration can be suppressed.
  • the Magneli phase titanium oxide film preferably contains at least one or both of Ti 4 O 7 and Ti 5 O 9 .
  • the Magneli phase titanium oxide film contains at least one or both of Ti 4 O 7 and Ti 5 O 9 , which are particularly excellent in electrical conductivity and corrosion resistance, high potential, presence of oxygen, strong acid atmosphere It is particularly suitable as a current-carrying member used in severe corrosive environments such as.
  • the film thickness of the Magneli phase titanium oxide film is in the range of 0.01 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less. In this case, since the film thickness of the Magneli phase titanium oxide film is set to 0.01 ⁇ m or more, sufficient corrosion resistance can be ensured. On the other hand, since the film thickness of the Magneli phase titanium oxide film is set to 10.0 ⁇ m or less, it is possible to ensure sufficient conductivity as a titanium base material.
  • the substrate body is preferably a porous body having a porosity in the range of 30% or more and 97% or less.
  • the base body made of titanium or a titanium alloy is porous and has a porosity of 30% or more, which increases the specific surface area and promotes the reaction on the surface of the titanium base. can do. Also, the gas generated by the reaction can be efficiently discharged.
  • the porosity of the base body is set to 97% or less, the strength of the base body can be secured.
  • the electrode for water electrolysis of the present invention is characterized by comprising the titanium base material described above. According to the electrode for water electrolysis having this configuration, it is composed of a titanium base material on which a Magneli phase titanium oxide film made of Magneli phase titanium oxide represented by the chemical formula Ti n O 2n ⁇ 1 (4 ⁇ n ⁇ 10) is formed. Therefore, it is particularly excellent in conductivity and corrosion resistance, can suppress deterioration due to oxidation, and can greatly extend the service life. Moreover, since it is excellent in corrosion resistance, it can be used as a substitute for noble metal electrodes, and it becomes possible to construct electrodes for water electrolysis at low cost.
  • the Magneli-phase titanium oxide film has a porous structure with a BET value exceeding 0.1 m 2 /g, the reaction on the electrode surface can be promoted. Further, since the content of the phosphorus element in the Magneli phase titanium oxide film is set to 0.1 at % or less, the elution of P during use can be suppressed, and the ion permeable membrane provided in the water electrolysis cell, etc. Deterioration can be suppressed.
  • a solid polymer type water electrolysis device of the present invention is characterized by comprising the above-described electrode for water electrolysis.
  • a titanium base material on which a Magneli phase titanium oxide film made of Magneli phase titanium oxide represented by the chemical formula Ti n O 2n ⁇ 1 (4 ⁇ n ⁇ 10) is formed. Since the electrode for water electrolysis is provided, it is possible to suppress deterioration of the electrode for water electrolysis due to oxidation during use. Moreover, there is no need to use noble metal electrodes, and the manufacturing cost of the water electrolysis device can be greatly reduced.
  • the Magneli-phase titanium oxide film has a porous structure with a BET value exceeding 0.1 m 2 /g, the reaction on the electrode surface can be promoted. Further, since the content of the phosphorus element in the Magneli phase titanium oxide film is set to 0.1 at % or less, the elution of P during use can be suppressed, and the ion permeable membrane provided in the water electrolysis cell, etc. Deterioration can be suppressed.
  • a titanium base material having a Magneli-phase titanium oxide film with a large specific surface area and no P elution, an electrode for water electrolysis comprising this titanium base material, and a polymer electrolyte water electrolysis device. can be provided.
  • FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example of a titanium base material that is an embodiment of the present invention
  • 2 is an enlarged schematic diagram of a surface layer portion of the titanium base material shown in FIG. 1.
  • FIG. FIG. 2 is a diagram showing XRD analysis results of a titanium oxide film on a titanium substrate that is an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a flowchart showing an example of a method for producing the titanium base material shown in FIG. 1; 1.
  • FIG. 5(a) shows the substrate body preparation step S01
  • FIG. 5(b) shows the TiO 2 film formation step S02
  • FIG. 5(c) shows the reduction treatment step S03.
  • FIG. 1 is a schematic illustration of a solid polymer type water electrolysis device provided with electrodes for water electrolysis, which is an embodiment of the present invention
  • a titanium base material, an electrode for water electrolysis, and a polymer electrolyte water electrolysis device which are embodiments of the present invention, will be described below with reference to the accompanying drawings.
  • the titanium base material 10 of the present embodiment is used, for example, as a current-carrying member such as a cathode electrode of a polymer electrolyte fuel cell (PEFC), an anode electrode of a water electrolysis device, an electrode material for a lithium ion battery or a lithium ion capacitor. It is a thing.
  • a current-carrying member such as a cathode electrode of a polymer electrolyte fuel cell (PEFC), an anode electrode of a water electrolysis device, an electrode material for a lithium ion battery or a lithium ion capacitor.
  • the titanium substrate 10 of the present embodiment comprises a substrate body 11 made of titanium or a titanium alloy and a Magneli phase titanium oxide film 16 formed on the surface of the substrate body 11. and has.
  • the base material body 11 is a porous body, and includes a skeleton portion 12 having a three-dimensional mesh structure and pores 13 surrounded by the skeleton portion 12. and has.
  • the base body 11 has a porosity P in the range of 30% or more and 97% or less.
  • the base material body 11 made of this porous body is made of, for example, a titanium sintered body obtained by sintering a titanium sintering raw material containing titanium. Moreover, the pores 13 surrounded by the framework 12 communicate with each other and are open to the outside of the substrate body 11 .
  • a Magneli phase titanium oxide film 16 is formed on the surface of the substrate body 11 .
  • this Magneli phase titanium oxide film 16 is composed of Magneli phase titanium oxide represented by the chemical formula TinO 2n ⁇ 1 (4 ⁇ n ⁇ 10).
  • the Magneli-phase titanium oxide film 16 has a porous structure, and the BET value of the Magneli-phase titanium oxide film 16 exceeds 0.1 m 2 /g.
  • the BET value of the Magneli phase titanium oxide film 16 is preferably 0.2 m 2 /g or more, more preferably 0.3 m 2 /g or more.
  • the content of elemental phosphorus in the Magneli phase titanium oxide film 16 is 0.1 at % or less. That is, the Magneli phase titanium oxide film 16 contains almost no elemental phosphorus.
  • the Magneli phase titanium oxide film 16 preferably contains at least one or both of Ti 4 O 7 and Ti 5 O 9 .
  • the structure of titanium oxide in this Magneli phase titanium oxide film 16 can be identified by an X-ray diffraction analysis (XRD) method.
  • XRD X-ray diffraction analysis
  • the XRD peaks of Ti 4 O 7 and Ti 5 O 9 are included in X-ray diffraction (XRD), and the sum of the maximum peak intensities of both of them is the sum of the other Magneli phase oxidation. greater than the maximum peak intensity of Ti (6 ⁇ n ⁇ 10).
  • the film thickness t of the Magneli phase titanium oxide film 16 is preferably set as appropriate according to the required properties of the titanium base material 10 .
  • the lower limit of the film thickness t of the Magneli phase titanium oxide film 16 is set to 0.01 ⁇ m or more in order to sufficiently improve the corrosion resistance.
  • the upper limit of the film thickness t of the Magneli phase titanium oxide film 16 is set to 10.0 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness t of the Magneli phase titanium oxide film 16 is preferably 0.02 ⁇ m or more, more preferably 0.03 ⁇ m or more.
  • the upper limit of the film thickness t of the Magneli phase titanium oxide film 16 is preferably 8.0 ⁇ m or less, more preferably 5.0 ⁇ m or less.
  • a substrate body 11 made of titanium and a titanium alloy is prepared as shown in FIG. 5(a).
  • a porous titanium sintered body is prepared as the base body 11 .
  • the substrate body 11 made of this porous titanium sintered body can be manufactured, for example, by the following steps.
  • a sintering raw material containing titanium is mixed with an organic binder, a foaming agent, a plasticizer, water and, if necessary, a surfactant to prepare a foamable slurry.
  • This foamable slurry is applied using a doctor blade (applying device) to form a sheet-like molding. This sheet-like molded article is heated and foamed to obtain a foamed molded article.
  • the substrate body 11 made of a porous titanium sintered body is produced (see, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-138005 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-082405).
  • TiO 2 film forming step S02 the substrate body 11 is anodized in sulfuric acid to form a TiO 2 film 26 on the surface of the substrate body 11 .
  • the TiO 2 film 26 is formed by a plasma electrolytic oxidation method in which a voltage higher than that of normal anodization is applied in sulfuric acid to generate arc discharge on the substrate surface to promote oxidation.
  • the concentration of sulfuric acid is preferably in the range of 0.3M or more and 10.0M or less.
  • the film thickness t0 of the TiO 2 film 26 is preferably within the range of 0.01 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less.
  • Reduction treatment step S03 Next, the TiO 2 film 26 is subjected to a reduction treatment (microwave plasma reduction treatment) using plasma generated by irradiating a gas with microwaves, thereby reducing the TiO 2 film 26 as shown in FIG.
  • the second film 26 is the Magneli phase titanium oxide film 16 made of Magneli phase titanium oxide represented by the chemical formula Ti n O 2n ⁇ 1 (4 ⁇ n ⁇ 10).
  • This reduction treatment step S03 is performed under the conditions of a substrate temperature of 400.degree.
  • the lower limit of the substrate temperature in the reduction treatment step S03 can be set to 0° C., and the lower limit of the treatment time can be set to 0.01 minute.
  • the film thickness t 0 of the TiO 2 film 26 becomes the film thickness t of the Magneli phase titanium oxide film 16 . Therefore, the film thickness t of the Magneli phase titanium oxide film 16 can be controlled by adjusting the film thickness t0 of the TiO 2 film 26 in the TiO 2 film forming step S02.
  • a Magneli phase titanium oxide film 16 made of Magneli phase titanium oxide represented by the chemical formula Ti n O 2n-1 (4 ⁇ n ⁇ 10) is formed on the surface of the base body 11 made of titanium or a titanium alloy.
  • a titanium base material 10 on which is formed is produced.
  • FIG. 6 shows a schematic diagram of the electrode for water electrolysis and the polymer electrolyte water electrolysis device of this embodiment.
  • the water electrolysis device of the present embodiment is a solid polymer type water electrolysis device with high electrolysis efficiency and hydrogen purity at the time of generation.
  • the solid polymer type water electrolysis device 30 of the present embodiment includes an anode 32 and a cathode 33 facing each other, and ions disposed between the anode 32 and the cathode 33.
  • a water electrolysis cell 31 having a permeable membrane 34 is provided.
  • Catalyst layers 35 and 36 are formed on both surfaces of the ion permeable membrane 34 (the contact surface with the anode 32 and the contact surface with the cathode 33), respectively.
  • the cathode electrode 33, the ion permeable membrane 34, and the catalyst layers 35 and 36 those used in a conventional general solid polymer type water electrolysis apparatus can be applied.
  • the above anode electrode 32 is the electrode for water electrolysis according to the present embodiment.
  • the anode 32 (electrode for water electrolysis) is composed of the titanium base material 10 of the present embodiment described above, and is formed on the base body 11 made of titanium or a titanium alloy and on the surface of the base body 11. and a Magneli phase titanium oxide film 16. Further, the base material body 11 is made of a porous body, and has a structure including a skeleton portion 12 having a three-dimensional network structure and pores 13 surrounded by the skeleton portion 12 .
  • the surface of the base material body 11 made of titanium or a titanium alloy is coated with the chemical formula Ti n O 2n-1 (4 ⁇ n ⁇ 10).
  • Magneli phase titanium oxide film 16 made of Magneli phase titanium oxide is formed, and this Magneli phase titanium oxide film 16 has a BET value exceeding 0.1 m 2 /g and has a porous structure. It is particularly excellent in electrical conductivity and corrosion resistance, and can promote reactions on the surface of the titanium base material 10 .
  • the content of elemental phosphorus in the Magneli phase titanium oxide film 16 is limited to 0.1 at % or less. Deterioration of the ion permeable membrane 34 and the like provided in the water electrolysis cell 31 can be suppressed.
  • the Magneli phase titanium oxide film 16 contains at least one or both of Ti 4 O 7 and Ti 5 O 9 which are particularly excellent in electrical conductivity and corrosion resistance as Magneli phase titanium oxide. , high potential, presence of oxygen, strong acid atmosphere, and other severe corrosive environments. Furthermore, in the present embodiment, the film thickness t of the Magneli phase titanium oxide film 16 is in the range of 0.01 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less, so that corrosion resistance and conductivity can be improved in a well-balanced manner. .
  • the base body 11 made of titanium or a titanium alloy is porous and has a porosity P of 30% or more. 10 surface reactions can be facilitated. Also, the gas generated by the reaction can be efficiently discharged. Therefore, it is particularly suitable as an electrode member. On the other hand, since the porosity P of the base body 11 which is a porous body is set to 97% or less, the strength of the base body 11 can be secured.
  • the electrode for water electrolysis (anode electrode 32) and the polymer electrolyte water electrolysis device 30 of the present embodiment are made of the titanium base material 10 described above, they are particularly excellent in conductivity and corrosion resistance. , the deterioration due to oxidation can be suppressed, and the service life can be greatly improved. Moreover, since it is excellent in corrosion resistance, it can be used as a substitute for noble metal electrodes, and it becomes possible to construct electrodes for water electrolysis at low cost. Furthermore, since the Magneli-phase titanium oxide film 16 has a porous structure with a BET value exceeding 0.1 m 2 /g, the reaction on the electrode surface can be promoted.
  • the phosphorus element content in the Magneli phase titanium oxide film 16 is set to 0.1 at % or less, the elution of P during use can be suppressed, and the ion permeable film 34 provided in the water electrolysis cell 31, etc. deterioration can be suppressed.
  • the substrate body 11 is described as being porous, but the substrate body 11 is not limited to this, and may have a shape such as a plate, wire, rod, tube, or the like.
  • the substrate main body 11 has been described as being made of a titanium sintered body, the present invention is not limited to this, and a mesh plate or the like may be used.
  • the Magneli phase titanium oxide film has been described as containing at least one or both of Ti 4 O 7 and Ti 5 O 9 , but is not limited to this and has the chemical formula Ti It may be composed of Magneli phase titanium oxide represented by n O 2n ⁇ 1 (4 ⁇ n ⁇ 10).
  • the film thickness of the Magneli phase titanium oxide coating was described as being in the range of 0.01 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less. The film thickness of is preferably set as appropriate according to the required properties of the titanium base material.
  • the solid polymer type water electrolysis device (water electrolysis cell) having the structure shown in FIG.
  • a water electrolysis device (water electrolysis cell) having another structure may be used as long as it has a water electrolysis electrode made of a material.
  • the substrate body shown in Table 1 is prepared.
  • titanium is pure titanium with a purity of 99.9 mass% or more
  • titanium alloy is a titanium alloy of Ti-0.15 mass% Pd.
  • the dimensions of each prepared substrate body were 50 mm in width ⁇ 60 mm in length ⁇ 0.3 mm in thickness.
  • the porosity of the porous body was calculated by the following formula.
  • P (%) (1 - (W / (V x DT))) x 100 W: mass (g)
  • DT true density of titanium or titanium alloy (g/cm 3 )
  • a TiO 2 film was formed on the surface of the substrate body by the method and conditions shown in Table 1.
  • Table 1 The values shown in Table 1 were used for the film thickness of the TiO 2 film.
  • anodic oxidation (sulfuric acid) a titanium base material was placed as a working electrode in the center of a rectangular cell made of quartz glass filled with 1M sulfuric acid, and 40 mm square electrodes were placed on both sides of the titanium base material.
  • a Pt mesh was placed as a counter electrode, and anodization was performed under constant current conditions of 3A.
  • the substrate main body on which the TiO 2 film was formed was loaded into a microwave plasma reduction apparatus, and the inside of the apparatus was once evacuated to vacuum (3.8 ⁇ 10 ⁇ 2 torr (5 Pa) or less). After that, hydrogen gas was introduced into the apparatus, the pressure was set to 30 Pa, and microwaves of 2.45 GHz were irradiated. The reduction time was 0.1 to 15 minutes.
  • a titanium substrate was obtained in which a titanium oxide film was formed on the surface of the substrate main body made of titanium or a titanium alloy.
  • the obtained titanium base material was evaluated for identification of the titanium oxide film, BET value, and P content as follows.
  • Titanium oxide in the titanium oxide film was identified by an X-ray diffraction analysis (XRD) method.
  • the acceleration voltage was set to 30 keV, and the Ka line of Cu of 8 keV was used for the measurement.
  • Regarding the presence or absence of Ti 4 O 7 and Ti 5 O 9 it is either around 21°, 26°, and 30° (Ti 4 O 7 ), or around 22°, 26°, and 29° (Ti 5 O 9 ), respectively. It was confirmed by the presence or absence of a peak at .
  • Table 1 shows the evaluation results.
  • BET value of titanium oxide film A square piece of 2 mm ⁇ 2 mm or less was cut from the sample after film formation, and about 0.3 g of the square piece was filled in a sample folder.
  • the sample folder was set in AUTOSORB-iQ2 manufactured by QUANTACHROME, and degassed at a temperature of 200°C for 60 minutes. After that, krypton gas was introduced and the specific surface area was measured. Table 1 shows the evaluation results.
  • Comparative Example 1 in which the TiO 2 film was formed by anodization in phosphoric acid, the amount of P in the titanium oxide film having the Magnelithitanium phase was 15 at%, and there was a risk of deterioration of the adjacent member when used as an electrode. .
  • Comparative Example 2 in which the TiO 2 film was formed by the atmospheric firing, a titanium oxide film having a Magnellititanium phase could not be formed.
  • Comparative Example 3 in which the TiO 2 film was formed by physical vapor deposition, the BET value of the titanium oxide film was 0.1 m 2 /g and the surface area was small.
  • Comparative Example 4 in which no TiO2 film was formed, a titanium oxide film having a Magnellititanium phase could not be formed.
  • Examples 1-7 of the present invention in which the TiO 2 film was formed by anodization in sulfuric acid, the amount of P in the titanium oxide film having the Magnelithitanium phase was 0.1 at % or less.
  • the BET value of the titanium oxide film exceeded 0.1 m 2 /g, indicating a large surface area.
  • the present invention provides a titanium substrate having a Magneli-phase titanium oxide film with a large specific surface area and no P elution, an electrode for water electrolysis, and a polymer electrolyte water electrolysis device comprising this titanium substrate. can do.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

本発明のチタン基材は、チタンまたはチタン合金からなる基材本体(11)を有し、この基材本体(11)の表面に、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜(16)が形成されており、マグネリ相酸化チタン皮膜(16)は、BET値が0.1m/gを超え、多孔質構造とされており、リン元素の含有量が0.1at%以下である。

Description

チタン基材、水電解用電極、および、固体高分子形水電解装置
 本発明は、導電性および耐食性に優れたチタン基材、および、このチタン基材からなる水電解用電極、固体高分子形水電解装置に関するものである。
 本願は、2021年3月29日に、日本に出願された特願2021-054473号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
 チタンまたはチタン合金からなるチタン基材は、電極等の通電部材の中でも、特に耐酸化性(耐食性)が要求される用途において用いられている。
 しかしながら、例えば、固体高分子形燃料電池(PEFC)のカソード電極、水電解装置のアノード電極、リチウムイオン電池やリチウムイオンキャパシタ向け電極材など、高電位、酸素存在、強酸性雰囲気等の過酷な腐食環境下で使用される場合には、耐食性が十分とは言えず、使用時にチタン基材の表面に絶縁性のTiO膜が形成されてしまい、電極等の通電部材としての性能が劣化するといった問題があった。
 このため、例えば特許文献1には、アルミニウム、ニッケル若しくはチタンからなる基材の表面に、金および白金等の貴金属皮膜を形成し、導電性を確保したまま耐食性を向上させたものが提案されている。
 また、特許文献2には、チタンまたはチタン合金の表面に、TiOのX回折ピークが見られない酸化被膜を成膜したチタン材が提案されている。
 さらに、特許文献3には、純チタン若しくはチタン合金からなるチタン材の表面に、酸素とチタンの原子濃度比(O/Ti)が0.3以上1.7以下である酸化チタン層を有し、この酸化チタン層の上に、Au,Pt,Pdから選択される少なくとも1種の貴金属を含む合金層を形成したものが提案されている。
 ところで、特許文献1および特許文献2に示すように、貴金属皮膜を形成した場合には、コストが非常に増加してしまい、広く使用することはできない。
 また、特許文献3に記載された酸化被膜においては、導電性および耐食性が不十分なため、過酷な環境下で使用する部材として適用することはできない。
 そこで、特許文献4では、Ti2n-1(nは、1以上7以下の整数)であらわされるチタン亜酸化物被膜が形成された電極材、特許文献5では、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜が形成されたチタン基材が提案されている。チタン亜酸化物の中でも、マグネリ相酸化チタンは、TiOと同等の耐食性を有するとともに、グラファイトと同等の導電性を有しており、過酷な腐食環境下においても使用可能なものとされている。
 なお、特許文献4においては、TiターゲットおよびTiターゲットを用いて、スパッタ法によって、チタン板の表面にチタン亜酸化物皮膜を形成することが開示されている。
 特許文献5においては、リン化合物を含む水溶液中でプラズマ電解酸化を行ってTiO膜を形成し、これをマイクロ波プラズマ還元処理することにより、マグネリ相酸化チタン皮膜を形成することが開示されている。
日本国特開2010-135316号公報(A) 日本国特許第5831670号公報(B) 日本国特開2010-236083号公報(A) 日本国特開2020-057551号公報(A) 日本国特開2019-157273号公報(A)
 ところで、特許文献4においては、スパッタ法を用いてチタン板の表面にマグネリ相酸化チタン皮膜やチタン亜酸化物皮膜を形成しているため、皮膜の比表面積が比較的小さくなり、電極表面での反応を十分に促進することができないおそれがあった。
 一方、特許文献5においては、リン化合物を含む水溶液中でプラズマ電解酸化によってTiO膜を形成し、これを還元処理することでマグネリ相酸化チタン皮膜を形成しているため、マグネリ相酸化チタン皮膜の比表面積が比較的大きくなる。
 しかしながら、特許文献5においては、リン化合物を含む水溶液中でプラズマ電解酸化していることから、マグネリ相酸化チタン皮膜にリン(P)が含有されることになる。Pを含むマグネリ相酸化チタン皮膜を備えたチタン基材を水電解用電極に使用した場合、使用中にPが溶け出し、水電解セルに備えられたイオン透過膜等を劣化させるおそれがあった。
 本発明は、以上のような事情を背景としてなされたものであって、Pの溶出がなく、かつ、比表面積が大きなマグネリ相酸化チタン皮膜を備えたチタン基材、および、このチタン基材からなる水電解用電極、固体高分子形水電解装置を提供することを目的とする。
 このような課題を解決して、前記目的を達成するために、本発明のチタン基材は、チタンまたはチタン合金からなる基材本体を有し、この基材本体の表面に、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜が形成されており、前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、BET値が0.1m/gを超え、多孔質構造とされており、リン元素の含有量が0.1at%以下であることを特徴としている。
 この構成のチタン基材によれば、チタンまたはチタン合金からなる基材本体の表面に、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜が形成されており、前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、BET値が0.1m/gを超え、多孔質構造とされているので、導電性および耐食性に特に優れるとともに、チタン基材の表面での反応を促進することができる。
 そして、前記マグネリ相酸化チタン皮膜のおけるリン元素の含有量が0.1at%以下に制限されているので、使用時にPが溶出することを抑制でき、水電解セルに備えられたイオン透過膜等の劣化を抑制することができる。
 ここで、本発明のチタン基材においては、前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、TiおよびTiの少なくも一方又は両方を含有することが好ましい。
 この場合、前記マグネリ相酸化チタン皮膜が、特に導電性および耐食性に優れたTiおよびTiの少なくも一方又は両方を含有しているので、高電位、酸素存在、強酸性雰囲気等の過酷な腐食環境下において使用される通電部材として特に適している。
 また、本発明のチタン基材においては、前記マグネリ相酸化チタン皮膜の膜厚が0.01μm以上10.0μm以下の範囲内とされていることが好ましい。
 この場合、前記マグネリ相酸化チタン皮膜の膜厚が0.01μm以上とされているので、十分な耐食性を確保することができる。
 一方、前記マグネリ相酸化チタン皮膜の膜厚が10.0μm以下とされているので、チタン基材として十分な導電性を確保することができる。
 さらに、本発明のチタン基材においては、前記基材本体は、気孔率が30%以上97%以下の範囲内とされた多孔質体とされていることが好ましい。
 この場合、チタンまたはチタン合金からなる基材本体が多孔質体とされており、その気孔率が30%以上とされているので、比表面積が大きくなり、チタン基材の表面での反応を促進することができる。また、反応によって生成したガスを効率的に排出することができる。
 一方、前記基材本体の気孔率が97%以下とされているので、基材本体の強度を確保することができる。
 本発明の水電解用電極は、上述のチタン基材からなることを特徴としている。
 この構成の水電解用電極によれば、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜が形成されたチタン基材で構成されているので、導電性および耐食性に特に優れており、酸化による劣化を抑えることができ、使用寿命を大幅に向上させることができる。また、耐食性に優れているので、貴金属電極の代替として使用することができ、水電解用電極を低コストで構成することが可能となる。
 さらに、前記マグネリ相酸化チタン皮膜が、BET値が0.1m/gを超えた多孔質構造とされているので、電極表面での反応を促進することができる。
 そして、前記マグネリ相酸化チタン皮膜のおけるリン元素の含有量が0.1at%以下とされているので、使用時にPが溶出することを抑制でき、水電解セルに備えられたイオン透過膜等の劣化を抑制することができる。
 本発明の固体高分子形水電解装置は、上述の水電解用電極を備えたことを特徴としている。
 この構成の固体高分子形水電解装置によれば、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜が形成されたチタン基材で構成された水電解用電極を備えているので、使用時における水電解用電極の酸化による劣化を抑えることができる。また、貴金属電極を用いる必要がなく、水電解装置の製造コストを大幅に削減することができる。
 さらに、前記マグネリ相酸化チタン皮膜が、BET値が0.1m/gを超えた多孔質構造とされているので、電極表面での反応を促進することができる。
 そして、前記マグネリ相酸化チタン皮膜のおけるリン元素の含有量が0.1at%以下とされているので、使用時にPが溶出することを抑制でき、水電解セルに備えられたイオン透過膜等の劣化を抑制することができる。
 本発明によれば、Pの溶出がなく、かつ、比表面積が大きなマグネリ相酸化チタン皮膜を備えたチタン基材、および、このチタン基材からなる水電解用電極、固体高分子形水電解装置を提供することができる。
本発明の実施形態であるチタン基材の一例を示す説明図である。 図1に示すチタン基材の表層部分の拡大模式図である。 本発明の実施形態であるチタン基材における酸化チタン皮膜のXRD分析結果を示す図である。 図1に示すチタン基材の製造方法の一例を示すフロー図である。 図1に示すチタン基材を製造する製造工程を示す説明図である。図5の(a)は基材本体準備工程S01、図5の(b)はTiO皮膜形成工程S02、図5の(c)は還元処理工程S03を示す。 本発明の実施形態である水電解用電極を備えた固体高分子形水電解装置の概略説明図である。
 以下に、本発明の実施形態であるチタン基材、および、水電解用電極、固体高分子形水電解装置について、添付した図面を参照して説明する。
 本実施形態であるチタン基材10は、例えば、固体高分子形燃料電池(PEFC)のカソード電極、水電解装置のアノード電極、リチウムイオン電池やリチウムイオンキャパシタ向け電極材等の通電部材として使用されるものである。
 本実施形態であるチタン基材10は、図1および図2に示すように、チタンまたはチタン合金からなる基材本体11と、この基材本体11の表面に形成されたマグネリ相酸化チタン皮膜16と、を備えている。
 本実施形態においては、基材本体11は、図1に示すように、多孔質体とされており、3次元網目構造とされた骨格部12と、この骨格部12に囲まれた気孔部13と、を備えている。
 この基材本体11は、その気孔率Pが30%以上97%以下の範囲内とされている。基材本体11の気孔率Pは、以下の式で算出される。
  P(%)=(1-(W/(V×DT)))×100
   W:基材本体11の質量(g)
   V:基材本体11の体積(cm
   DT:基材本体11を構成するチタンまたはチタン合金の真密度(g/cm
 なお、本実施形態においては、この多孔質体からなる基材本体11は、例えば、チタンを含むチタン焼結原料を焼結させたチタン焼結体で構成されている。
 また、骨格部12に囲まれた気孔部13は、互いに連通するとともに、基材本体11の外部に向けて開口した構造とされている。
 本実施形態のチタン基材10においては、図2に示すように、この基材本体11の表面に、マグネリ相酸化チタン皮膜16が形成されている。
 このマグネリ相酸化チタン皮膜16は、図3に示すように、化学式TinO2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンで構成されている。
 本実施形態においては、マグネリ相酸化チタン皮膜16は、多孔質構造とされており、マグネリ相酸化チタン皮膜16のBET値が0.1m/g超えとされている。
 なお、本実施形態において、マグネリ相酸化チタン皮膜16のBET値は、0.2m/g以上であることが好ましく、0.3m/g以上であることがさらに好ましい。
 そして、本実施形態においては、マグネリ相酸化チタン皮膜16においては、リン元素の含有量が0.1at%以下とされている。すなわち、マグネリ相酸化チタン皮膜16には、リン元素がほとんど含有されていないことになる。
 また、本実施形態においては、マグネリ相酸化チタン皮膜16は、TiおよびTiの少なくも一方又は両方を含有するものとされていることが好ましい。このマグネリ相酸化チタン皮膜16におけるチタン酸化物の構造については、X線回折分析(XRD)法によって同定することができる。
 なお、本実施形態のマグネリ相酸化チタン皮膜16においては、X線回折(XRD)におけるTiおよびTiのXRDピークを含み、両者の最大ピーク強度の和が他のマグネリ相酸化Ti(6≦n≦10)の最大ピーク強度よりも大きい。
 ここで、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tを薄くすると、耐食性が低下するが導電性が向上することになる。一方、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tを厚くすると、耐食性が向上するが導電性が低下することになる。このため、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tは、チタン基材10への要求特性に応じて適宜設定することが好ましい。
 本実施形態においては、耐食性を十分に向上させるために、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tの下限を0.01μm以上としている。また、導電性を十分に向上させるために、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tの上限を10.0μm以下としている。
 なお、耐食性をさらに向上させるためには、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tの下限を0.02μm以上とすることが好ましく、0.03μm以上とすることがさらに好ましい。一方、導電性をさらに向上させるためには、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tの上限を8.0μm以下とすることが好ましく、5.0μm以下とすることがさらに好ましい。
 以下に、本実施形態であるチタン基材10の製造方法について、図4のフロー図および図5の工程図等を参照して説明する。
(基材本体準備工程S01)
 まず、図5(a)で示す、チタンおよびチタン合金からなる基材本体11を準備する。
本実施形態では、基材本体11として、多孔質のチタン焼結体を準備する。
 この多孔質のチタン焼結体からなる基材本体11は、例えば、以下のような工程で製造することができる。チタンを含む焼結原料を、有機バインダー、発泡剤、可塑剤、水および必要に応じて界面活性剤を混合して、発泡性スラリーを作製する。この発泡性スラリーを、ドクターブレード(塗布装置)を用いて塗布し、シート状の成形体を成形する。このシート状の成形体を加熱して発泡させて発泡成形体を得る。そして、これを脱脂した後で焼結する。これにより、多孔質のチタン焼結体からなる基材本体11が作製される(例えば、特開2006-138005号公報、特開2003-082405号公報参照)。
(TiO皮膜形成工程S02)
 次に、図5(b)に示すように、基材本体11に対して硫酸中で陽極酸化を行うことにより、基材本体11の表面にTiO皮膜26を形成する。本実施形態においては、硫酸中で、通常の陽極酸化よりも高電圧を印加し、基材表面にアーク放電を発生させ酸化を進める、プラズマ電解酸化法によってTiO皮膜26を成膜している。なお、硫酸の濃度は、0.3M以上10.0M以下の範囲内とすることが好ましい。
 ここで、TiO皮膜26の膜厚t0は、0.01μm以上10.0μm以下の範囲内とすることが好ましい。
(還元処理工程S03)
 次に、TiO皮膜26に対して、ガスにマイクロ波を照射して生成したプラズマを用いて還元処理(マイクロ波プラズマ還元処理)を行うことで、図5(c)に示すように、TiO皮膜26を、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜16とする。この還元処理工程S03においては、酸素が基材本体11側に拡散することを抑制するために、基板温度400℃以下、処理時間15分以下の条件で実施する。
 還元処理工程S03の基板温度の下限値は0℃、処理時間の下限値は0.01分とすることができる。
 なお、TiO皮膜26の全体を還元処理してマグネリ相酸化チタン皮膜16とすることにより、TiO皮膜26の膜厚t0が、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tとなる。よって、TiO皮膜形成工程S02におけるTiO皮膜26の膜厚t0を調整することにより、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tを制御することが可能となる。
 上述の製造方法により、チタンまたはチタン合金からなる基材本体11の表面に、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜16が形成されたチタン基材10が製造されることになる。
 次に、本実施形態である水電解用電極および固体高分子形水電解装置の概略図を図6に示す。なお、本実施形態の水電解装置は、電解効率および生成時の水素純度が高い、固体高分子形水電解装置とされている。
 本実施形態の固体高分子形水電解装置30は、図6に示すように、対向配置されたアノード極32およびカソード極33と、これらアノード極32とカソード極33との間に配置されたイオン透過膜34と、を備えた水電解セル31を備えている。なお、イオン透過膜34の両面(アノード極32との接触面およびカソード極33との接触面)には、それぞれ触媒層35,36が形成されている。
 ここで、カソード極33、イオン透過膜34、触媒層35,36については、従来の一般的な固体高分子形水電解装置で使用されているものを適用することができる。
 そして、上述のアノード極32が、本実施形態である水電解用電極とされている。このアノード極32(水電解用電極)は、上述した本実施形態であるチタン基材10で構成されており、チタンまたはチタン合金からなる基材本体11と、この基材本体11の表面に形成されたマグネリ相酸化チタン皮膜16と、を備えている。また、基材本体11が、多孔質体とされており、3次元網目構造とされた骨格部12と、この骨格部12に囲まれた気孔部13と、を備えた構造とされている。
 上述の固体高分子形水電解装置30(水電解セル31)においては、図6に示すように、アノード極32側から水(HO)が供給されるとともに、アノード極32およびカソード極33に通電される。すると、水の電解によって生じた酸素(O)がアノード極32から排出され、水素(H)がカソード極33から排出されることになる。
 ここで、アノード極32においては、上述のように、水(液体)と酸素(気体)が流通することになるので、これら液体および気体を安定して流通させるために、高い気孔率を有することが好ましい。また、アノード極32は酸素に晒されるため、優れた耐食性が求められる。このため、本実施形態であるチタン基材10からなる水電解用電極が、アノード極32として特に適している。
 以上のような構成とされた本実施形態であるチタン基材10によれば、チタンまたはチタン合金からなる基材本体11の表面に、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜16が形成されており、このマグネリ相酸化チタン皮膜16は、BET値が0.1m2/gを超え、多孔質構造とされているので、導電性および耐食性に特に優れるとともに、チタン基材10の表面での反応を促進することができる。
 そして、本実施形態であるチタン基材10においては、マグネリ相酸化チタン皮膜16においてリン元素の含有量が0.1at%以下に制限されているので、使用時にPが溶出することを抑制でき、水電解セル31に備えられたイオン透過膜34等の劣化を抑制することができる。
 また、本実施形態においては、マグネリ相酸化チタン皮膜16が、マグネリ相酸化チタンとして、特に導電性および耐食性に優れたTiおよびTiの少なくとも一方又は両方を含有しているので、高電位、酸素存在、強酸性雰囲気等の過酷な腐食環境下において使用される通電部材として特に適している。
 さらに、本実施形態においては、マグネリ相酸化チタン皮膜16の膜厚tが0.01μm以上10.0μm以下の範囲内とされているので、耐食性と導電性をバランス良く向上させることが可能となる。
 また、本実施形態においては、チタンまたはチタン合金からなる基材本体11が多孔質体とされており、その気孔率Pが30%以上とされているので、比表面積が大きくなり、チタン基材10の表面での反応を促進することができる。また、反応によって生成したガスを効率的に排出することができる。よって、電極部材として特に適している。
 一方、多孔質体とされた基材本体11の気孔率Pが97%以下とされているので、基材本体11の強度を確保することができる。
 本実施形態である水電解用電極(アノード極32)、および、固体高分子形水電解装置30においては、上述したチタン基材10で構成されているので、導電性および耐食性に特に優れており、酸化による劣化を抑えることができ、使用寿命を大幅に向上させることができる。また、耐食性に優れているので、貴金属電極の代替として使用することができ、水電解用電極を低コストで構成することが可能となる。さらに、マグネリ相酸化チタン皮膜16は、BET値が0.1m/gを超えた多孔質構造とされているので、電極表面での反応を促進することができる。
 そして、マグネリ相酸化チタン皮膜16におけるリン元素の含有量が0.1at%以下とされているので、使用時にPが溶出することを抑制でき、水電解セル31に備えられたイオン透過膜34等の劣化を抑制することができる。
 以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
 例えば、本実施形態では、基材本体11を多孔質体として説明したが、これに限定されることはなく、板、線、棒、管等の形状の基材本体11であってもよい。また、基材本体11がチタン焼結体で構成されたものとして説明したが、これに限定されることはなく、メッシュ板等を用いてもよい。
 また、本実施形態においては、マグネリ相酸化チタン皮膜は、TiおよびTiの少なくも一方又は両方を含有するものとして説明したが、これに限定されることはなく、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンで構成されていればよい。
 さらに、本実施形態においては、マグネリ相酸化チタン皮膜の膜厚を0.01μm以上10.0μm以下の範囲内としたもので説明したが、これに限定されることはなく、マグネリ相酸化チタン皮膜の膜厚は、チタン基材への要求特性に応じて適宜設定することが好ましい。
 さらに、本実施形態では、図6に示す構造の固体高分子形水電解装置(水電解セル)を例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、本実施形態であるチタン基材からなる水電解用電極を備えていれば、その他の構造の水電解装置(水電解セル)であってもよい。
 以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験の結果について説明する。
 まず、表1に示す基材本体を準備する。なお、表1において「チタン」は純度99.9mass%以上の純チタンとし、「チタン合金」はTi-0.15mass%Pdのチタン合金とした。
 用意した各基材本体の寸法は、幅50mm×長さ60mm×厚さ0.3mmとした。
 なお、多孔質体の気孔率は、以下の式で算出した。
   P(%)=(1-(W/(V×DT)))×100
   W:質量(g)
   V:体積(cm
   DT:チタンまたはチタン合金の真密度(g/cm
 次に、基材本体の表面に、表1に示す方法および条件で、TiO皮膜を成膜した。なお、TiO皮膜の膜厚を表1に示す値とした。
 表1において、「陽極酸化(硫酸)」では、1Mの硫酸で満たされた石英ガラス製の角型セルの中央に、作用極としてチタン基材を配置し、チタン基材の両側に40mm角のPtメッシュを対極として配置し、3Aの定電流条件で、陽極酸化を実施した。
 表1において、「陽極酸化(リン酸)」では、0.3Mのリン酸水溶液で満たされた石英ガラス製の角型セルの中央に、作用極としてチタン基材を配置し、チタン基材の両側に40mm角のPtメッシュを対極として配置し、3Aの定電流条件で、陽極酸化を実施した。
 表1において、「大気焼成」は、大気雰囲気で表1に示す条件で加熱することでTiO皮膜を成膜した。
 表1において、「物理蒸着」は、スパッタリングターゲットを用いたスパッタ法により、TiO皮膜を成膜した。
 次に、TiO皮膜を成膜した基材本体を、マイクロ波プラズマ還元装置に装入し、装置内を一度真空(3.8×10-2torr(5Pa)以下)まで減圧した。その後、装置内に水素ガスを導入して、圧力を30Paとし、2.45GHzのマイクロ波を照射した。還元時間を0.1~15分とした。
 以上のようにして、チタンまたはチタン合金からなる基材本体の表面に、酸化チタン皮膜を成膜したチタン基材を得た。
 得られたチタン基材について、酸化チタン皮膜の同定、BET値、Pの含有量を、以下のように評価した。
(酸化チタン皮膜におけるチタン酸化物の同定)
 X線回折分析(XRD)法によって、酸化チタン皮膜のチタン酸化物を同定した。加速電圧を30keVとし、測定には8keVのCuのKa線を用いた。測定範囲は2θ=15°~35°とした。Ti及びTiの存在の有無については、それぞれ21°と26°と30°(Ti)、22°と26°と29°(Ti)付近のいずれかでのピークの有無で確認した。評価結果を表1に示す。
(酸化チタン皮膜のBET値)
 成膜後のサンプルを2mm×2mm以下の角片に切り出し、約0.3gをサンプルフォルダに充填した。サンプルフォルダをQUANTACHROME社製のAUTOSORB-iQ2に設置し、温度200度で60分間脱気した。その後、クリプトンガスを導入し、比表面積を測定した。
評価結果を表1に示す。
(酸化チタン皮膜におけるPの含有量)
 電子顕微鏡(JEOL社製JCM7000)を用いて、酸化チタン皮膜のEDX測定を行い、定量分析解析によってPの含有量を求めた。評価結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 リン酸中での陽極酸化によってTiO皮膜を成膜した比較例1においては、マグネリチタン相を有する酸化チタン皮膜におけるP量が15at%となり、電極として使用時に隣接する部材を劣化させるおそれがあった。
 大気焼成によってTiO皮膜を成膜した比較例2においては、マグネリチタン相を有する酸化チタン皮膜を成膜することができなかった。
 物理蒸着によってTiO皮膜を成膜した比較例3においては、酸化チタン皮膜におけるBET値が0.1m/gとなり、表面積が小さくなった。
 TiO2皮膜を成膜しなかった比較例4においては、マグネリチタン相を有する酸化チタン皮膜を成膜することができなかった。
 これに対して、硫酸中での陽極酸化によってTiO皮膜を成膜した本発明例1-7においては、マグネリチタン相を有する酸化チタン皮膜におけるP量が0.1at%以下となった。また、酸化チタン皮膜におけるBET値が0.1m/gを超えており、表面積が大きくなった。
 以上の確認実験の結果から、本発明例によれば、Pの溶出がなく、かつ、比表面積が大きなマグネリ相酸化チタン皮膜を備えたチタン基材を提供可能であることが確認された。
 本発明は、Pの溶出がなく、かつ、比表面積が大きなマグネリ相酸化チタン皮膜を備えたチタン基材、および、このチタン基材からなる水電解用電極、固体高分子形水電解装置を提供することができる。
 10  チタン基材
 11  基材本体
 16  マグネリ相酸化チタン皮膜
 30  固体高分子形水電解装置
 32  アノード極(水電解用電極)

Claims (6)

  1.  チタンまたはチタン合金からなる基材本体を有し、
     この基材本体の表面に、化学式Ti2n-1(4≦n≦10)で表されるマグネリ相酸化チタンからなるマグネリ相酸化チタン皮膜が形成されており、
     前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、BET値が0.1m/gを超え、多孔質構造とされており、リン元素の含有量が0.1at%以下であることを特徴とチタン基材。
  2.  前記マグネリ相酸化チタン皮膜は、Ti又はTiを含有することを特徴とする請求項1に記載のチタン基材。
  3.  前記マグネリ相酸化チタン皮膜の膜厚が0.01μm以上10.0μm以下の範囲内とされていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のチタン基材。
  4.  前記基材本体は、気孔率が30%以上97%以下の範囲内とされた多孔質体とされていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のチタン基材。
  5.  請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のチタン基材からなることを特徴とする水電解用電極。
  6.  請求項5に記載の水電解用電極を備えたことを特徴とする固体高分子形水電解装置。
PCT/JP2022/015310 2021-03-29 2022-03-29 チタン基材、水電解用電極、および、固体高分子形水電解装置 WO2022210655A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-054473 2021-03-29
JP2021054473A JP2022151917A (ja) 2021-03-29 2021-03-29 チタン基材、水電解用電極、および、固体高分子形水電解装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022210655A1 true WO2022210655A1 (ja) 2022-10-06

Family

ID=83459415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/015310 WO2022210655A1 (ja) 2021-03-29 2022-03-29 チタン基材、水電解用電極、および、固体高分子形水電解装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2022151917A (ja)
WO (1) WO2022210655A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120040254A1 (en) * 2010-08-10 2012-02-16 Steven Amendola Bifunctional (rechargeable) air electrodes
US20170152163A1 (en) * 2015-11-30 2017-06-01 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Ultrafiltration tio2 magnéli phase reactive electrochemical membranes
CN109701510A (zh) * 2019-01-28 2019-05-03 广东朗研科技有限公司 一种Magneli相氧化钛介孔表面的制备方法
US20190185351A1 (en) * 2016-08-19 2019-06-20 University Of Georgia Research Foundation, Inc. Methods and systems for electrochemical oxidation of polyfluoroalkyl and perfluroalkyl contaminants
JP2019157273A (ja) * 2018-03-12 2019-09-19 三菱マテリアル株式会社 チタン基材、チタン基材の製造方法、及び、水電解用電極、水電解装置
CN113061926A (zh) * 2019-12-14 2021-07-02 中国科学院大连化学物理研究所 一种用于pem水电解池的亚氧化钛阳极扩散层及其制备方法与应用

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120040254A1 (en) * 2010-08-10 2012-02-16 Steven Amendola Bifunctional (rechargeable) air electrodes
US20170152163A1 (en) * 2015-11-30 2017-06-01 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Ultrafiltration tio2 magnéli phase reactive electrochemical membranes
US20190185351A1 (en) * 2016-08-19 2019-06-20 University Of Georgia Research Foundation, Inc. Methods and systems for electrochemical oxidation of polyfluoroalkyl and perfluroalkyl contaminants
JP2019157273A (ja) * 2018-03-12 2019-09-19 三菱マテリアル株式会社 チタン基材、チタン基材の製造方法、及び、水電解用電極、水電解装置
CN109701510A (zh) * 2019-01-28 2019-05-03 广东朗研科技有限公司 一种Magneli相氧化钛介孔表面的制备方法
CN113061926A (zh) * 2019-12-14 2021-07-02 中国科学院大连化学物理研究所 一种用于pem水电解池的亚氧化钛阳极扩散层及其制备方法与应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022151917A (ja) 2022-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7092076B2 (ja) チタン基材、チタン基材の製造方法、及び、水電解用電極、水電解装置
JP7227543B2 (ja) チタン基材、チタン基材の製造方法、及び、水電解用電極、水電解装置
US5580430A (en) Selective metal cation-conducting ceramics
US8734999B2 (en) Carbon nanotube forming substrate, carbon nanotube complex, energy device, method for manufacturing energy device, and apparatus including energy device
CN108701841B (zh) 层和层体系以及双极板、燃料电池和电解装置
Zayat et al. Inexpensive and efficient alkaline water electrolyzer with robust steel-based electrodes
TWI490371B (zh) 電解應用上的電極及其製法以及在電極表面上陽極釋氧之電解法和電冶法
WO2013130983A2 (en) Impregnated sintered solid state composite electrode, solid state battery, and methods of preparation
EP2945909A1 (en) A mixed metal oxide material of tin and titanium
WO2022044417A1 (ja) アルカリ水電解用アノード
WO2015151775A1 (ja) 水分解用光電極、水分解装置
Shibata et al. Effect of Heat Treatment on Catalytic Activity for Oxygen Reduction Reaction of TaO x N y∕ Ti Prepared by Electrophoretic Deposition
WO2019189701A1 (ja) 電解セル及び電解装置
WO2003042425A1 (fr) Film d'oxyde de titane composite, procede de production associe et condensateur electrolytique de titane
Zhao et al. A molten Mg corrosion method for preparing porous Ti foam as self-supported Li–O2 battery cathodes
WO2016140306A1 (ja) チタン材、セパレータ、および固体高分子形燃料電池、ならびにチタン材の製造方法
WO2022210655A1 (ja) チタン基材、水電解用電極、および、固体高分子形水電解装置
JP2001357859A (ja) 燃料電池用セパレータ
Liu et al. IrO2-Ta2O5 anode for oxygen evolution with TaOx interlayer prepared by thermal decomposition in inert atmosphere
WO2020132149A1 (en) Large-area copper nanofoam with hierarchical structure for use as electrode
WO2021193857A1 (ja) チタン基材、チタン基材の製造方法、及び、水電解用電極、水電解装置
JP2023543875A (ja) 層及び層システム及び導電性プレート及び電気化学電池
TW200800803A (en) Complex oxide film and method for producing the same, composite body and method for producing the same, dielectric material, piezoelectric material, capacitor, piezoelectric element and electronic device
Qin et al. Fast fabrication of small pore anodic titania nanotube arrays under high voltage
WO1996027697A1 (en) Selective metal cation-conducting ceramics

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22780866

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 22780866

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1