JPH0644613A - スタンパの保管方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 清浄で、かつ再汚染の進み難い表面を有し、
高い転写精度で光ディスク用スタンパを複製するために
供することができるスタンパが得られ、しかも工程の簡
略化が可能なスタンパを保管する方法を提供すること。 【構成】 スタンパ１ａ〜１ｃの表面に酸素雰囲気中で
低圧水銀灯２ａ〜２ｃなどを用いて紫外線を照射する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光ディスク用等のスタン
パの保管方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】アドレス情報、映像音声信号等の信号を
有する光ディスク用スタンパの従来の保管方法を図４を
用いて説明する。塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体
を主成分とする樹脂８をスピンナ９を使用して光ディス
ク用スタンパ（以下、スタンパを複製するために用いる
スタンパを原スタンパという。）１の表面に塗布し（図
４（ａ））、これを保護膜１０として光ディスク用スタ
ンパの汚染を防止し、スタンパを保護する（図４
（ｂ））。原スタンパ１を用いて、光ディスク用スタン
パを複製する場合、原スタンパの保護膜１０を剥がし
（図４（ｂ））、保護膜により付着した有機汚染物１１
を洗浄処理し、原スタンパ１の表面を清浄にする（図４
（ｃ）、（ｄ））。その後、光ディスク用スタンパの複
製作業（電鋳作業）を行う（図４（ｅ））。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来のスタンパの
保管方法によれば、保護膜中の有機物が光ディスク用ス
タンパ上に薄膜として残る。通常の樹脂基板の成形に使
用する光ディスク用スタンパでは、有機物の薄膜が残っ
ていても問題はないが、光ディスク用スタンパを複製す
るために用いる原スタンパの場合、有機物の薄膜が残っ
ていると、電気メッキの途中で原スタンパと複製スタン
パ（以下、原スタンパから複製されたスタンパを複製ス
タンパという。）とが剥離してしまい複製作業ができな
くなることがある。

【０００４】また、表面上に汚染物が残っている原スタ
ンパを用いて複製スタンパを製作すると、汚染物がその
まま複製スタンパに転写され欠陥となる。このため、通
常、複製作業にあたりスタンパに剥離皮膜をつける前に
洗浄処理を行い、原スタンパの表面を洗浄して清浄な表
面にしてから複製作業を行う。しかし、表面洗浄処理を
行っても、原スタンパの表面を清浄な表面にするのは難
しく、表面洗浄処理によりスタンパ表面の再汚染が進み
やすくなることがある。これは、表面洗浄処理を行うこ
とにより、スタンパの表面に活性の強いサイトが生成さ
れ、その強い吸着作用により、再汚染（主に有機物汚
染）が進むためであると考えられる。一方、表面洗浄処
理を行わない場合でも、時間経過するにつれて表面汚染
が進み、何らかの防汚対策が必要である。

【０００５】本発明は、清浄で、かつ再汚染の進み難い
表面を有し、高い転写精度で光ディスク用スタンパを複
製するために供することができるスタンパが得られ、し
かも工程の簡略化が可能なスタンパを保管する方法を提
供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、スタンパ表面に酸素雰囲気下で紫外線を照射す
ることを特徴とするスタンパの保管方法により達成され
る。

【０００７】

【作用】紫外線をＯ↓2（酸素）雰囲気中で照射する
と、Ｏ↓3（オゾン）を生成し、汚染有機物の分子結合
を切断してラジカル酸素と反応しやすい状態になる。こ
のラジカル酸素は有機汚染物に作用して汚染有機物をＣ
Ｏ、ＣＯ↓2、Ｈ↓2Ｏ等に酸化分解する。本発明によれ
ば、酸素プラズマ洗浄処理等の洗浄処理を行った後の清
浄な表面をもつ原スタンパに紫外線を照射しているの
で、吸着してくる汚染物（主に有機物）をＣＯ、ＣＯ↓
2、Ｈ↓2Ｏ等に酸化分解し、常に清浄な光ディスクスタ
ンパ表面を得ることができる。また、長期間光ディスク
用スタンパを保管する際も、保護膜を塗布して保管する
必要がなく、保護膜中の有機物が光ディスク用スタンパ
上に有機物の薄膜として残り、それを洗浄処理する必要
がないため、工程の簡略化ができる。さらに、表面洗浄
で取りきれなかった有機汚染物が保管中に分解されるた
め、欠陥の少ない複製スタンパの製作が可能である。

【０００８】

【実施例】本発明の実施例を図１を用いて説明する。光
ディスク用スタンパ（原スタンパ）１を用意する（図１
（ａ））。原スタンパ１を波長１８５ｎｍと２５４ｎｍ
との２つの発光ピークを有する紫外線を照射できる低圧
水銀灯２が付いた保管ボックス４に保管する（図１
（ｂ））。複製スタンパ３を製作する時は、保管ボック
ス４から取り出して水洗処理しスピンドライをした後
（図１（ｃ）、（ｄ））、光ディスク用スタンパの複製
作業を行う（図１（ｅ））。

【０００９】上記の保管ボックス４の一例の概略構成図
を図２に示す。図２に示す保管ボックス４では、波長１
８５ｎｍと２５４ｎｍとの２つの発光ピークを有する紫
外線を照射できる低圧水銀灯２ａ〜２ｃをＯ↓2（酸
素）雰囲気中で常に原スタンパ１に照射することがで
き、原スタンパ１ａ〜１ｃの表面が発生したＯ↓3（オ
ゾン）とラジカルとに晒される。ここで、紫外線を常に
照射することにより、スタンパが腐食されることがあ
り、特に保管ボックス中に水分が存在する場合、腐食が
促進されるため、保管ボックス中の空気中の水分のコン
トロールをすることが好ましく、湿度コントロール５を
設けることが好ましい。また、保管ボックス４中のダス
トにより原スタンパ１が汚れるのを防止するために、保
管ボックス４中にＨＥＰＡ等のフィルター６を通じたク
リーンエアー７を循環させることが好ましい。なお、保
管ボックス４に使用する材質に有機材料物質を使うと原
スタンパ１の表面が汚れる場合があるため、有機材料物
質は使用しないことが望ましい。

【００１０】本発明によりスタンパを保管した場合の保
管時間とスタンパ表面の純水との接触角との関係を図３
（ａ：１点鎖線）に示す。図３にあわせて、スタンパに
従来の洗浄処理を施した場合の保管時間とスタンパ表面
の純水との接触角との関係（図３（ｂ：波線））および
洗浄処理を行わない場合の保管時間とスタンパ表面の純
水との接触角との関係（図３（ｃ：実線））を示す。図
３より、本発明によれば、スタンパ表面の汚染が少ない
ことが明らかである。

【００１１】なお、本発明に従って保管するスタンパと
しては、スタンパの複製に供するものの他に、基板の成
形に供するものであっても良いが、前述の通り複製に供
するスタンパを保管する際に本発明に従うことが、顕著
な効果が得られる。

【００１２】

【発明の効果】本発明によれば、清浄で、かつ再汚染の
進み難い表面を有し、高い転写精度で光ディスク用スタ
ンパを複製するために供することができるスタンパが得
られ、しかも工程の簡略化が可能なスタンパを保管する
方法が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の説明図である。

【図２】本発明で使用する保管ボックスの一例の概略構
成図である。

【図３】スタンパの保管時間とスタンパ表面の純水との
接触角との関係を示す図である。

【図４】従来のスタンパの保管方法の説明図である。

【符号の説明】

１、１ａ〜１ｃ 原スタンパ ２、２ａ〜２ｃ 低圧水銀灯 ３ 複製スタンパ ４ 保管ボックス ５ 湿度コントロール ６ フィルター ７ クリーンエアー

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スタンパ表面に酸素雰囲気下で紫外線を
   照射することを特徴とするスタンパの保管方法。