JPH05182259A - 光ディスク用スタンパー及びその製法 - Google Patents
光ディスク用スタンパー及びその製法Info
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- JPH05182259A JPH05182259A JP35963991A JP35963991A JPH05182259A JP H05182259 A JPH05182259 A JP H05182259A JP 35963991 A JP35963991 A JP 35963991A JP 35963991 A JP35963991 A JP 35963991A JP H05182259 A JPH05182259 A JP H05182259A
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- optical disk
- pure water
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 プレピットまたは案内溝に対応する凹凸部
と、鏡面部とを有し、該鏡面部における純水の接触角θ
が１０°〜７０°の範囲にあることを特徴とする光ディ
スク用スタンパー。１８０〜３００ｎｍの波長を有する
紫外線を、空気中または酸素雰囲気中で照射する工程を
含むことを特徴とする上記の光ディスク用スタンパーの
製法。 【効果】 多数の成形ショットにわたって、ピットずれ
を発生させることのない光ディスク用スタンパー及びそ
の製法が提供される。
と、鏡面部とを有し、該鏡面部における純水の接触角θ
が１０°〜７０°の範囲にあることを特徴とする光ディ
スク用スタンパー。１８０〜３００ｎｍの波長を有する
紫外線を、空気中または酸素雰囲気中で照射する工程を
含むことを特徴とする上記の光ディスク用スタンパーの
製法。 【効果】 多数の成形ショットにわたって、ピットずれ
を発生させることのない光ディスク用スタンパー及びそ
の製法が提供される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスク用スタンパー
及びその製法に関する。
及びその製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に光ディスクの製造に用いられるス
タンパーは、一般に、ガラス基板上に塗布されたフォト
レジストをレーザービーム等で露光し、これを現像する
ことにより、凹凸パターンが形成された面に導電化処理
を施した後、Ｎｉ電鋳を施すことにより作製される。作
製されたスタンパーの表面には、通常若干のフォトレジ
ストが残留している。フォトレジストが表面に残留した
スタンパーを用いて、光ディスク基板を成形すると、成
形された基板には、残留フォトレジストによる凹凸が転
写される結果、基板ノイズが著しく増加し、Ｃ／Ｎが低
下する。この問題を解決するために、酸素プラズマアッ
シング装置等を用いて、スタンパー表面の残留フォトレ
ジストを酸化除去する（ドライ洗浄）工程がスタンパー
の作製工程に含まれているのが一般的である。
タンパーは、一般に、ガラス基板上に塗布されたフォト
レジストをレーザービーム等で露光し、これを現像する
ことにより、凹凸パターンが形成された面に導電化処理
を施した後、Ｎｉ電鋳を施すことにより作製される。作
製されたスタンパーの表面には、通常若干のフォトレジ
ストが残留している。フォトレジストが表面に残留した
スタンパーを用いて、光ディスク基板を成形すると、成
形された基板には、残留フォトレジストによる凹凸が転
写される結果、基板ノイズが著しく増加し、Ｃ／Ｎが低
下する。この問題を解決するために、酸素プラズマアッ
シング装置等を用いて、スタンパー表面の残留フォトレ
ジストを酸化除去する（ドライ洗浄）工程がスタンパー
の作製工程に含まれているのが一般的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】スタンパーにドライ洗
浄を施すと、酸素プラズマがスタンパー表面のＮｉを酸
化させ、光ディスク基板の成形時に、樹脂に含まれる離
型剤の水酸基がスタンパー表面の酸化Ｎｉと結合するこ
とにより、表面の濡れ性が著しく低下し、樹脂とスタン
パーとの密着性が低下する。スタンパーと樹脂との密着
性が低下することにより、型開時（成形された光ディス
ク基板の離型時）より前にスタンパーから基板が剥離
し、そのために、ピットがずれて転写される。スタンパ
ー表面に結合した離型剤は、スタンパー表面の酸化Ｎｉ
と比較的結合力の強い水素結合等で結合し、成形時に離
脱することはなく、成形条件を変更してもピットずれの
ない光ディスク基板を得ることはできない。
浄を施すと、酸素プラズマがスタンパー表面のＮｉを酸
化させ、光ディスク基板の成形時に、樹脂に含まれる離
型剤の水酸基がスタンパー表面の酸化Ｎｉと結合するこ
とにより、表面の濡れ性が著しく低下し、樹脂とスタン
パーとの密着性が低下する。スタンパーと樹脂との密着
性が低下することにより、型開時（成形された光ディス
ク基板の離型時）より前にスタンパーから基板が剥離
し、そのために、ピットがずれて転写される。スタンパ
ー表面に結合した離型剤は、スタンパー表面の酸化Ｎｉ
と比較的結合力の強い水素結合等で結合し、成形時に離
脱することはなく、成形条件を変更してもピットずれの
ない光ディスク基板を得ることはできない。
【０００４】本発明の１つの目的は、多数の成形ショッ
トにわたって、ピットがずれて転写されるピットずれを
発生させることのない光ディスク用スタンパーを提供す
ることにある。
トにわたって、ピットがずれて転写されるピットずれを
発生させることのない光ディスク用スタンパーを提供す
ることにある。
【０００５】本発明の他の１つの目的は、上記ピットず
れを発生させることのない光ディスク用スタンパーを得
る方法を提供することにある。
れを発生させることのない光ディスク用スタンパーを得
る方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
１つの目的は、プレピットまたは案内溝に対応する凹凸
部と、鏡面部とを有し、該鏡面部における純水の接触角
が１０°〜７０°の範囲にあることを特徴とする光ディ
スク用スタンパーを提供することにより達成される。
１つの目的は、プレピットまたは案内溝に対応する凹凸
部と、鏡面部とを有し、該鏡面部における純水の接触角
が１０°〜７０°の範囲にあることを特徴とする光ディ
スク用スタンパーを提供することにより達成される。
【０００７】また、上記の他の１つの目的は、１８０〜
３００ｎｍの波長を有する紫外線を、空気中または酸素
ガス（雰囲気）中で照射する工程を含むことを特徴とす
る上記の光ディスク用スタンパーの製法を提供すること
により達成される。
３００ｎｍの波長を有する紫外線を、空気中または酸素
ガス（雰囲気）中で照射する工程を含むことを特徴とす
る上記の光ディスク用スタンパーの製法を提供すること
により達成される。
【０００８】なお、本発明における純水の接触角とは、
室温下で、スタンパー１上の純水の水滴２と空気３との
界面で形成される角度θ（図１）をいう。
室温下で、スタンパー１上の純水の水滴２と空気３との
界面で形成される角度θ（図１）をいう。
【０００９】
【作用】空気中または酸素雰囲気中で、スタンパーの表
面に１８０〜３００ｎｍの波長を有する紫外線が照射さ
れると、スタンパーの表面に吸着した離型剤が分解し、
スタンパー表面の濡れ性が高められ、樹脂とスタンパー
との密着性が向上する。ここで酸素プラズマアッシング
を施すか、低真空下でスパッタエッチングを施すことに
よっても、スタンパー表面の濡れ性が高められるが、こ
れらの処理を施したスタンパーの表面は密着力が極めて
高く、成形時に離型剤が再び吸着し、ピットずれが発生
する。これに対し、上記の紫外線を照射した場合には、
適当な密着力を有するスタンパーが得られる。
面に１８０〜３００ｎｍの波長を有する紫外線が照射さ
れると、スタンパーの表面に吸着した離型剤が分解し、
スタンパー表面の濡れ性が高められ、樹脂とスタンパー
との密着性が向上する。ここで酸素プラズマアッシング
を施すか、低真空下でスパッタエッチングを施すことに
よっても、スタンパー表面の濡れ性が高められるが、こ
れらの処理を施したスタンパーの表面は密着力が極めて
高く、成形時に離型剤が再び吸着し、ピットずれが発生
する。これに対し、上記の紫外線を照射した場合には、
適当な密着力を有するスタンパーが得られる。
【００１０】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００１１】実施例１・２ 比較例１・２ Ｎｉ製のスタンパー（アドレス情報用ピットおよび案内
溝に対応する凹凸部を有する）に、種々の条件で酸素プ
ラズマアッシング処理を実施し、かかるスタンパーを用
いて光ディスク用ポリカーボネイト樹脂基板を射出成形
法により作製した。成形前のスタンパー表面の鏡面部に
おける純水の接触角と、ピットずれの発生状況とを表１
に示す。表１から純水の接触角が１０°〜７０°の範囲
にあるスタンパーを用いれば、多数の成形ショットを行
っても良好なピット転写がなされることがわかる。
溝に対応する凹凸部を有する）に、種々の条件で酸素プ
ラズマアッシング処理を実施し、かかるスタンパーを用
いて光ディスク用ポリカーボネイト樹脂基板を射出成形
法により作製した。成形前のスタンパー表面の鏡面部に
おける純水の接触角と、ピットずれの発生状況とを表１
に示す。表１から純水の接触角が１０°〜７０°の範囲
にあるスタンパーを用いれば、多数の成形ショットを行
っても良好なピット転写がなされることがわかる。
【００１２】実施例３〜６ 比較例３・４ 成形時にピットずれが発生するＮｉ製のスタンパー表面
に、空気中で１８５ｎｍおよび２５４ｎｍの発光ピーク
波長を有する紫外線を照射した。紫外線の照射時間とス
タンパー表面の鏡面部における純水の接触角とを表２に
示す。また、表２中にはかかるスタンパーを用いて光デ
ィスク用ポリカーボネイト樹脂基板を射出成形法により
作製した際のピークずれの発生状況をも示す。表２か
ら、ピットずれが発生するスタンパーに紫外線を照射
し、スタンパー表面の鏡面部における純水の接触角が１
０°〜７０°の範囲になるように調整したスタンパーを
用いれば、多数の成形ショットを行っても良好なピット
転写がなされることがわかる。
に、空気中で１８５ｎｍおよび２５４ｎｍの発光ピーク
波長を有する紫外線を照射した。紫外線の照射時間とス
タンパー表面の鏡面部における純水の接触角とを表２に
示す。また、表２中にはかかるスタンパーを用いて光デ
ィスク用ポリカーボネイト樹脂基板を射出成形法により
作製した際のピークずれの発生状況をも示す。表２か
ら、ピットずれが発生するスタンパーに紫外線を照射
し、スタンパー表面の鏡面部における純水の接触角が１
０°〜７０°の範囲になるように調整したスタンパーを
用いれば、多数の成形ショットを行っても良好なピット
転写がなされることがわかる。
【００１３】比較例５〜８ 成形時にピットずれが発生するＮｉ製のスタンパーを酸
素プラズマアッシング装置を用いて種々の条件で表面処
理を施した。処理条件と処理後のスタンパー表面の鏡面
部における純水の接触角、および各スタンパーを用いて
光ディスク用ポリカーボネイト樹脂基板を射出成形法に
より作製した際のピットずれの発生状況を表３に示す。
表３から酸素プラズマアッシング処理を施したスタンパ
ーの接触角は５°以下であり、少ない成形ショット数で
ピットずれが発生していることがわかる。
素プラズマアッシング装置を用いて種々の条件で表面処
理を施した。処理条件と処理後のスタンパー表面の鏡面
部における純水の接触角、および各スタンパーを用いて
光ディスク用ポリカーボネイト樹脂基板を射出成形法に
より作製した際のピットずれの発生状況を表３に示す。
表３から酸素プラズマアッシング処理を施したスタンパ
ーの接触角は５°以下であり、少ない成形ショット数で
ピットずれが発生していることがわかる。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、多数の成形ショットに
わたって、ピットずれを発生させることのない光ディス
ク用スタンパー及びその製法が提供される。
わたって、ピットずれを発生させることのない光ディス
ク用スタンパー及びその製法が提供される。
【図１】純水の接触角を示す説明図である。
１ 光ディスク用スタンパー ２ 純水 ３ 空気
【表１】
【表２】
【表３】
Claims (2)
- 【請求項１】 プレピットまたは案内溝に対応する凹凸
部と、鏡面部とを有し、該鏡面部における純水の接触角
が１０°〜７０°の範囲にあることを特徴とする光ディ
スク用スタンパー。 - 【請求項２】 １８０〜３００ｎｍの波長を有する紫外
線を、空気中または酸素雰囲気中で照射する工程を含む
ことを特徴とする請求項１記載の光ディスク用スタンパ
ーの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35963991A JP2967958B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 光ディスク用スタンパー及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35963991A JP2967958B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 光ディスク用スタンパー及びその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05182259A true JPH05182259A (ja) | 1993-07-23 |
| JP2967958B2 JP2967958B2 (ja) | 1999-10-25 |
Family
ID=18465533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35963991A Expired - Fee Related JP2967958B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 光ディスク用スタンパー及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2967958B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005148313A (ja) * | 2003-11-13 | 2005-06-09 | Hoya Corp | マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 |
| JP2010244075A (ja) * | 2010-07-06 | 2010-10-28 | Hoya Corp | マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 |
-
1991
- 1991-12-26 JP JP35963991A patent/JP2967958B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005148313A (ja) * | 2003-11-13 | 2005-06-09 | Hoya Corp | マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 |
| JP4566547B2 (ja) * | 2003-11-13 | 2010-10-20 | Ｈｏｙａ株式会社 | マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 |
| JP2010244075A (ja) * | 2010-07-06 | 2010-10-28 | Hoya Corp | マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 |
| JP4688966B2 (ja) * | 2010-07-06 | 2011-05-25 | Ｈｏｙａ株式会社 | マスクブランクスの製造方法及び転写マスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2967958B2 (ja) | 1999-10-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |