JP2009205771A - パターン化磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁性層のエッチングに用いたエッチングレジストの剥離工程が、磁性層または保護層上のエッチングレジストに、減圧下にエキシマVUVレーザを照射する工程、および磁性層または保護層上に残存するレジストをレジスト剥離剤溶液に浸漬して洗浄除去する工程、からなることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
実施例1におけるキセノンランプから放射される172nmのエキシマVUVレーザの照射に代えて、UV洗浄装置から放射される波長範囲が129〜450nmの紫外線を照射し、さらに真空オーブン中において200℃に40分加熱し、DMFによる洗浄処理を省略した以外は実施例1と同様に処理し、パターン化磁気記録媒体を製造した。
実施例1におけるエキシマVUVレーザ照射処理およびDMF溶液による洗浄処理によるレジスト剥離処理に代えて、O2プラズマ処理によりレジストの剥離を行った以外は、実施例1と同様に処理し、パターン化磁気記録媒体を製造した。
2 下地層
3 磁性層
4 保護層
5 レジスト
6 モールド
Claims (3)
- 基板上に積層された磁性層または磁性層上の保護層上にエッチングレジストを塗布しレジスト被膜を形成する工程、レジスト被膜上に所望のパターンを有するモールドを押圧して硬化させエッチングパターンを形成する工程、エッチングパターンに沿って磁性層または保護層および磁性層をエッチングする工程、磁性層または保護層上のエッチングレジストを剥離する工程、およびパターン化された磁性層上に保護層を形成する工程、を含み、前記エッチングレジスト剥離工程が、磁性層または保護層上のエッチングレジストに、減圧下にエキシマVUVレーザを照射する工程、および磁性層または保護層上に残存するレジストをレジスト剥離剤溶液に浸漬して洗浄除去する工程、からなることを特徴とするパターン化磁気記録媒体の製造方法。
- 前記エキシマVUVレーザが、キセノンランプから放射される波長が172nm±15nmのレーザであることを特徴とする請求項1に記載のパターン化磁気記録媒体の製造方法。
- 前記レジスト剥離剤溶液が、ジメチルホルミアミド(DMF)を主成分とすることを特徴とする請求項1または2に記載のパターン化磁気記録媒体の製造方法。
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