JPH0290172A - レジストパターンの剥離方法 - Google Patents

レジストパターンの剥離方法

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JPH0290172A
JPH0290172A JP24102588A JP24102588A JPH0290172A JP H0290172 A JPH0290172 A JP H0290172A JP 24102588 A JP24102588 A JP 24102588A JP 24102588 A JP24102588 A JP 24102588A JP H0290172 A JPH0290172 A JP H0290172A
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JP
Japan
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resist
resist patterns
laser light
excimer laser
resist pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP24102588A
Other languages
English (en)
Inventor
Akiko Mizushima
明子 水島
Hisashi Sugiyama
寿 杉山
Mitsuo Yoshimoto
吉本 光雄
Kazuo Nate
和男 名手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0290172A publication Critical patent/JPH0290172A/ja
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、レジストの剥離方法に係り、特にリソグラフ
ィープロセスにお(・て用いられるレジストパターンの
剥離方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、一般的なレジストパターンの剥離方法としては、
(リフエノール系の剥離液で剥離する方法、(2)アミ
ン系の剥離液で剥離する方法、(5)酸素プラズマによ
ってアッシングすることによって除去する方法等が挙げ
られる。そこで、まず上記(す〜(3)の従来技術およ
びその問題点について説明する。
(1)  フェノール系剥離液?用いた場合:この剥離
液には、主成分となるフェノールにジクロルベンセン、
テトラクロルエチレン等力添加されているが、これらは
いずれも有害な揮発性有機溶剤であるため、安全衛生上
の観点で問題がある。また、ドライエツチングやイオン
注入プロセスのマスクとして用いたレジスト膜に対して
は剥離力が不十分である。さらに、剥離液が有害である
ため、剥離全行なった後にメタノールやトリクレン等の
有機溶媒によるリンス処理が必要である。
さらに、この剥離液は、@張によって酸性となり、下地
配線層を腐食しやすいと(・う欠点を有する。
(2)  アミン糸剥離液を用いた場合:この剥離液は
、高沸点のアミンとグリコール系の溶媒を主成分として
いる。この糸では、上記(1)のフェノール系剥離液に
おけるような安全性の問題は少ない。しかし、この液は
、ポジ形レジスト専用であり、剥離力の点ではフェノー
ル系に劣っているため、一般的に使われるには至ってい
ない。
(3)酸素プラズマによるアッシングの場合:この方法
は、バレル形の石英反応管を真空排気装置で減圧し、−
足圧の酸素を導入し、反応管の外側に配置した外部電極
に高周波電力を印加してプラズマを発生させ、これとレ
ジスト・シターンを反応させることによって、灰化、除
去するものである。この方法では、ウェットプロセスと
比較して廃液処理が不要になる等の種々の利点があるも
のの、以下のような欠点も有する。すなわち、ウェハ面
内でレジストパターン剥離速度の分布が生じるため、剥
離時間の設定が嬉しく、レジスト残渣が生じやすい。ま
た、ウェット法に比べて処理時間が長く、スルーブツト
が低下する等である。
レジスト剥離方法の現状は、概ね上記の通りであるが、
剥離力の点でフェノール系剥離液が最も優れているため
、現在最も広(常用されている。
しかしフェノール系剥離液は、上述のように毒性が強い
ため、特に自動化装置を用いない場合には作業者VCと
って危険であり、化学物質に対する規制が厳しい昨今、
問題となって(・る。一方、近年半導体素子等の製造に
おいては、加工寸法は微細化の一途をたどっており、エ
ツチング方法としては在来のウェットエツチングに代、
Q、CF、、CHFs、CCI、、BCIA 等の〕・
ロダン化合物ガスによる反応性プラズマを用いたドライ
エツチングが主流となっている。特に、平行平板形ドラ
イエツチング装置全用い、プラズマ中の反応性イオンの
爪面入射効果を利用した、反応性イオンエ・ソチング(
以下RIEと略称する)あるいは反応性スノシノタエッ
チング等の高異方性ドライエツチングは、加工寸法の微
細度および加工精度の観点で有利であるが、その一方で
、エツチング時にレジスト表面がプラズマと反応し、ま
たイオン衝撃ヲ受けて変質してしまうため、ウェットエ
ツチングを行なった場合と比べ レジストパターンの剥
離が困難になって(・る。半導体素子等の集積度の増大
に伴って、ドライエツチングプロセスの条件は、ますま
す過酷になる傾向にあり、特に二層レジスト法において
上層に用いられる有機ケイ素系レジストは、02RIE
によって純粋な5102とならず、高度に架橋した変質
膜全形成する可能性があり、ドライエツチング後のレジ
スト剥離はフェノール糸の剥離液を用いても今後−層困
難になるものと予想される。
また、パターンの微細化に伴い、レジスト残渣による歩
止まりの低下が近年問題となりつつある。
現在のウェットによる剥離においては、剥離槽にフィル
ターを・取り付け、剥離液をフィルタリングする方法等
が考えられているが、根本的な解決策とはなっていない
〔発明が解決しようとする課題〕
上述の通り、ドライエツチングやイオン注入等の過酷な
条件下でマスクとして用いたレジストパターンに対して
は、上記した従来の剥離技術は、剥離力が不十分でレジ
スト残渣の問題が生じる上、安全衛生面における梱々の
問題や、処理工程あるいは処理時間の短縮、レジスト剥
離面の下地層に対する配慮といった点が解決されていな
い。
本発明の目的は、ドライ二1テングやイオン注入等のプ
ロセス全経て著しく変質したレジストパターンf&−も
十分に剥離し、かつレジストパターン下の配線層にダメ
ージ?与えることのな(・ドライのレジスト剥離方法全
提供することにろる。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、レジスト表面に真空中でエキシマレーザ光
を照射する事によって達成される。
ここで、エキシマレーザ光としては、特に限定されるも
のではないが、i95rLm 、 248nm 、 5
08ル” + 351 nmなどの波長のもの音用いる
ことができる。
更に上記のエキシマレーザ光は、1パルス当たりのエネ
ルギーが、100 mJ/−以上であることが望ましい
。これは、1パルス当たりのエネルギーが大きいほど、
一定照射量に対するパルス数は少なくなり、剥離時間は
短縮される上、レーザ光の安定度はその出力時間に依存
するためであυ、また、市販されているエキシマレーザ
の多くの1パルス当たりのエネルギーが数百mJ/ad
であるためでもある。
また、レーザ光の照射は10−2〜10 ’Torrの
範囲の真空中で行うことが望ましい。これは、真空度が
高いほどいったん剥離したレジスiの平均自由行路が長
く、基板上に再付着する確率が小さくなることとポンプ
の排気能力を想定した結果に基くものである。
〔作用〕
本発明における、レジストパターンへのエキシマレーザ
光の照射は、ドライエツチングやイオン注入によって高
度に架橋、変質し、従来のウェットによる剥離方法では
充分に剥離することのできなかったレジストパターンを
も、アブレーション作用によって完全く分解、除夫でき
る。また、高真空条件は、いったん分解したレジストパ
ターンが基板に再付着するのを防止し、完全に除去する
作用を与えるものである。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について説明する。
実施例1 シリコンウェハ基板上に東京応化製のフォトレジスト0
FPR−8oo 2 t5μm塗布してグリベーク処理
を施した後、フォトリソグラフィープロセスにより露光
、現像を行(・、レジストパターンを形成する。次に、
140℃、20分のボストベーキング処理ヲ権し、この
レジストパターンをマスクとして下地層であるアルミ膜
を平行平板型RIE装at用いてB Cts Vcよる
ドライエツチングを行う。このウニ・・に10 ”fo
rrの真空下で波長248rLmのエキシマレーザ光を
照射し、レジストパターンの剥mを行った。この時、レ
ーザ光1パルス当たシのエネルギーは500 mJ/〜
であシ、全照射量は、1ooo mJ/crdである。
このレジスト剥離後の基板表面を走査形電子顕@鍵で観
察したところ、レジスト残渣もなく、また下地へのダメ
ージもな(、きれいくレジストが剥離されており、従来
のウェットによる剥離方法を用いた場合に比較して剥離
性が良好であることが確認できた。
実施例2〜15 実施例1と同様にして、シリコンウェノ・基板上あるい
は段差部を有するアルミ膜上に各種フォトレジストを塗
布し、グリベーク処理を施した後、フォトリソグラフィ
ープロセスによシ露光、現像を行い、レジストバター/
を形成する。次に140℃、20分のポストベーキング
処理を施し、このレジストパターンをマスクとして下地
層をドライエツチングあるいはイオン注入と行う。上記
のようなウェハのレジストパターンを表1に示す条件に
より剥離した。このレジスト@離後の基板表面を老香形
電子顕微鏡で観察したところ、いずれの実施例について
もレジスト残渣もなく、また下地へのダメージもなく、
きれいにレジストが剥離されており、従来のウェットに
よる剥離方法を用いた場合に比較して剥離性が良好であ
ることが確認できた。
以下余白 実施例14 ポリインド樹脂全塗布、ベークしたシリコン基板上に、
アルカリ現像形ラダーシリコーン系有機ケイ素系ポジ形
レジストを1.5μm塗布し、プリベーク処理kmした
後、フォトリソグラフィープロセスにより露光、現像を
行い、レジストパターンを形成する。次に140℃、2
0分のボストベーキング処理tmし、このレジストパタ
ーンをマスクとして下地層であるポリイツト樹脂に02
RIEを打う。このウェハIc10  Torrの真空
下で波長308n77Iのエキシマレーザ光全照射し、
レジストパターンの剥flit k行った。この時、レ
ーザ光1パルス当たシのエネルギーは400 mJ/−
であり、全照射量は6000 mJ/cdである。この
レジスト剥離後の基板表面全走査形電子顕微鏡で観察し
たところ、レジスト残渣もなく、また下地へのダメージ
もなく、きれいにレジストが剥離されておシ、従来のウ
ニツticよる剥離方法を用いた場合に比較して剥離性
が良好であることが確認できた。
なお、本発明は、これら実施例に限定されるものではな
い。
〔発明の効果〕
以上のように本発明の剥離方法を用いれば、ドライエツ
チングやイオン注入等の過酷な条件で用いた後の高度に
変質したンジスト膜に対しても剥離力は十分であシ、在
来のレジスト剥離液を用いたウェットの方法に比べ プ
ロセスも簡便で安全衛生上の問題も少ない。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、エキシマレーザ光を真空中で照射する事を特徴とす
    るレジストパターンの剥離方法。
JP24102588A 1988-09-28 1988-09-28 レジストパターンの剥離方法 Pending JPH0290172A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100447561B1 (ko) * 1995-09-29 2004-11-03 소니 가부시끼 가이샤 박막반도체장치의제조방법
JP2009205771A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Fuji Electric Device Technology Co Ltd パターン化磁気記録媒体の製造方法
US7686972B2 (en) 2006-02-16 2010-03-30 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for manufacturing magnetic recording medium
JP2010123160A (ja) * 2008-11-17 2010-06-03 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 磁気記録媒体の製造方法
US7931819B2 (en) 2006-08-15 2011-04-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for pattern formation
US8105952B2 (en) 2007-09-26 2012-01-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of forming a pattern

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