JPH0642512B2 - 半導体集積回路の製造方法 - Google Patents

半導体集積回路の製造方法

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JPH0642512B2
JPH0642512B2 JP60081244A JP8124485A JPH0642512B2 JP H0642512 B2 JPH0642512 B2 JP H0642512B2 JP 60081244 A JP60081244 A JP 60081244A JP 8124485 A JP8124485 A JP 8124485A JP H0642512 B2 JPH0642512 B2 JP H0642512B2
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正昭 山田
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    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、複数品種の半導体集積回路をシリーズ化し
て製造する際の製造方法にに関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
半導体集積回路を多品種少量に製造する方法として、設
計コスト,製造コストを低減する方法が種々提案されて
いる。
その代表的なものが、ゲートアレイである。ゲートアレ
イは、トランジスタ等のパタンを固定し品種によって配
線層のパタンのみを変えることによって所望の集積回路
を得ている。このことによって、設計の容易化、フォト
マスク及び製造工程の一部共通化、パッケージの共通化
等数多くの長所が得られている。しかし、ゲートアレイ
はトランジスタのパタンが固定のため、特性の異なった
多くのトランジスタを柔軟に使った設計が不可能であ
り、素子領域と配線領域が固定のため最適な配線が困難
で、チップサイズが大きくなる欠点があった。
多品種少量に半導体集積回路を製造する他の方法とし
て、スタンダードセル方式がある。この方法は、ゲート
アレイの欠点を改良したもので、特性の異なる多くのト
ランジスタを柔軟に使った設計が可能であり、素子をあ
る程度自由に配置することにより、チップサイズを縮小
することができる。しかし、スタンダードセル方式で
は、ゲートアレイの持っている長所であるフォトマスク
の一部共通化、パッケージの共通化等は望めない。
〔発明の目的〕
本発明は、上述したゲートアレイ方式及びスタンダード
セル方式の問題点を改善したもので、設計・製造の容易
さと、柔軟な回路設計・レイアウト設計との両要求を、
ともに満足することを目的とする。
〔発明の概要〕
複数品種のスタンダードセル方式の半導体集積回路を製
造する際、第1図に示すようにパッド2とチップ1の外
枠のみ固定して製造する。第1図(a)及び(b)は、それぞ
れ異なる品種の半導体集積回路であり、内部のセル3の
配置及び配線4は全く異なる。
上記のような設計方法を用いれば、パッドの位置が固定
であることから、製造最終工程の保護膜に対して開けら
れるパッド開口のマスクは共通になる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、パッド開口マスクが共通化でき、また
パッド位置が一定であることから、パッケージの共通
化、ワイヤボンディング工程の共通化が可能である。従
って、ゲートアレイの長所である設計・製造の容易さを
引きつぎ、スタンダードセルの欠点である設計・製造の
複雑さを改善している。
一方、内部のセル及び配線は自由に設計することができ
るため、スタンダードセルの持つ設計の柔軟さを引きつ
ぎ、スタンダードセル同様にチップサイズを小さくする
ことが可能である。
〔発明の実施例〕
本発明の第一の実施例は、第1図のようにパッドのみを
固定配置し、他の部分は品種毎に自由に設計する方法で
ある。品種毎に自由に設計する部分には、ポリセル方式
等の配置配線法を採用すればよい。
本実施例における半導体集積回路の製造工程の前半は、
通常の半導体集積回路の製造工程と何ら変わるところは
ない。すなわち、セル形成工程・配線形成工程は、品種
毎に別個に作成されたマスクを用いて行なわれる。しか
し、保護膜形成工程は、共通のパッド開口マスクを用い
て行なわれる。さらに半導体集積回路の実装工程は、パ
ッド位置が共通であることから、すべて共通の方法で行
なわれる。
本発明の他の実施例は、第2図のようにパッド1ととも
に入出力バッファ2も固定配置とするものである。入出
力バッファはパッドと直接接続される素子群であるた
め、その位置をパッドの近くに固定しても支障がない。
しかも、入出力バッファはチップ内部の回路の構成とは
著しく異なるため、入出力バッファのみをシリーズ共通
に設計しておくことは、個別設計のコストを減少させる
効果がある。本実施例の半導体集積回路の製造工程は、
第一の実施例の製造工程に準ずる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第一の実施例の平面図、第2図はこ
の発明の他の実施例の平面図である。 図において、 1…チップ外枠、2…パッド、3…セル、4…配線、5
…入出力バッファ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数品種のスタンダードセル方式の半導体
    集積回路を、パッド開口マスクを共通にして製造する事
    を特徴とする半導体集積回路の製造方法。
JP60081244A 1985-04-18 1985-04-18 半導体集積回路の製造方法 Expired - Lifetime JPH0642512B2 (ja)

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JPS6132456A (ja) * 1984-07-24 1986-02-15 Fujitsu Ltd スタンダ−ド・セル集積回路の製造方法

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