JPH0641134U - 半導体素子吸着装置 - Google Patents
半導体素子吸着装置Info
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- JPH0641134U JPH0641134U JP7626092U JP7626092U JPH0641134U JP H0641134 U JPH0641134 U JP H0641134U JP 7626092 U JP7626092 U JP 7626092U JP 7626092 U JP7626092 U JP 7626092U JP H0641134 U JPH0641134 U JP H0641134U
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- collet
- view
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空穴を有する半導体素子吸着装置におい
て、ダイボンドする際のθズレを防止し、生産能力およ
び品質の向上を図る。 【構成】 真空穴12を有し、半導体素子吸着面14が
半導体素子13より小型の長方形平コレット11におい
て、前記半導体素子吸着面14に真空溝15を形成した
ことを特徴とする。
て、ダイボンドする際のθズレを防止し、生産能力およ
び品質の向上を図る。 【構成】 真空穴12を有し、半導体素子吸着面14が
半導体素子13より小型の長方形平コレット11におい
て、前記半導体素子吸着面14に真空溝15を形成した
ことを特徴とする。
Description
【0001】
本考案は半導体素子吸着装置に関し、特に半導体製造において、半導体素子( IC,LSI,Tr,LED,etc)のダイボンド工程に使用するダイボンダ ー装置用半導体素子吸着コレットの先端形状に関する。
【0002】
従来の半導体素子吸着装置について図3乃至図6に従って説明する。
【0003】 図3は従来の角錐コレットを示す断面図である。角錐コレット1は真空穴2を 有し、前記角錐コレット1の先端部で前記真空穴2により半導体素子3を吸着し 、銀ペースト4を介してリードフレーム5上に前記半導体素子3をダイボンドす るものである。さらに、前記角錐コレット1の先端形状は前記半導体素子3より も大きい形状であった。
【0004】 図4及び図5は従来の丸コレットを示す図であり、同図(a)は断面図であり 、同図(b)は下面図である。図4及び図5の如く、丸コレット6,7は上記従 来例と同様に真空穴2を有し、前記丸コレット6,7の先端部で前記真空穴2に より半導体素子3を吸着し、銀ペーストを介してリードフレーム上に前記半導体 素子3をダイボンドするものである。さらに、図4に示す丸コレット6の先端形 状は前記半導体素子3よりも小さい形状であり、図5に示す丸コレット7の先端 形状は前記半導体素子3よりも大きい形状であった。
【0005】 図6は従来の長方形平コレットを示す図であり、同図(a)は正面断面図であ り、同図(b)は側面断面図である。長方形平コレット8は同じく上記従来例と 同様に真空穴2を有し、前記長方形平コレット8の先端部で前記真空穴2により 半導体素子3を吸着し、銀ペーストを介してリードフレーム上に前記半導体素子 3をダイボンドするものである。さらに、前記長方形平コレット8の先端形状は 、前記半導体素子3よりも一回り小さい形状としている。
【0006】
図7の如く、従来の角錐コレット1では、半導体素子3をダイボンドする際に 、銀ペースト4が前記角錐コレット1に付着して、次の半導体素子3を吸着する ときに前記半導体素子3表面に前記銀ペースト4が付着するといった不都合が生 じる。また、前記銀ペースト4を少なくすると付着する可能性が少なくなるが、 前記銀ペースト4の塗布量がばらつく為、少なくできない。
【0007】 また、従来の丸コレット6,7において、半導体素子3よりも小さい先端部を 有する丸コレット6は、前述したような銀ペースト4が丸コレット6に付着する といった不都合は生じないが、前記半導体素子3が長方形である為、前記半導体 素子3を吸着する面積が少ないので、リードフレーム5上にダイボンドする際に 、図8(b)に示すようなθズレが発生し、また図9の如く、半導体素子3をシ ート9より突き上げピン10にて突き上げて丸コレット6に吸着させる際に、前 記丸コレット6の吸着面が小さいのでピックアップミスが発生する。例えば、フ ォトカプラーのチップサイズは1mm未満である為、前述したようなθズレ、ピ ックアップミスを生じる。これに対し、半導体素子3よりも大きい先端部を有す る丸コレット7は、前述したようなθズレ及びピックアップミスが無くなるが、 図10の如く、前記角錐コレット1と同様に銀ペーストの付着が発生する。
【0008】 さらに、従来の長方形平コレット8においても、半導体素子3をダイボンドす る際に、前述したようなθズレが発生する。
【0009】 本考案は、上記問題点を解決することを目的とするものである。
【0010】
本考案は、真空穴を有し、半導体素子吸着面が半導体素子より小型の半導体素 子吸着装置において、前記半導体素子吸着面に真空溝を形成したことを特徴とす るものである。
【0011】
半導体素子吸着面に真空溝を形成したことにより、半導体素子を真空で吸着す る面積が大きくなり、ダイボンドする際のθズレを防止することができる。
【0012】
図1は、本考案の一実施例を示す図であり、同図(a)は正面断面図であり、 同図(b)は側面断面図であり、同図(c)は下面図である。
【0013】 図1の如く、本考案よりなる長方形平コレット11は真空穴12を有し、前記 長方形平コレット11の先端形状は、半導体素子13チップサイズA×Bに対し 、前記長方形平コレット11サイズA′×B′を一回り(約100μ)小さく形 成し、半導体素子吸着面14に前記真空穴12よりも幅広い真空溝15を形成し たものである。
【0014】 図2は、図1に示す長方形平コレット11によるダイボンド中の状態を示す図 であり、同図(a)は正面断面図であり、同図(b)は側面断面図である。この ように、銀ペースト16を介してリードフレーム17に半導体素子13をダイボ ンドした際、前記長方形平コレット11の先端形状は前記半導体素子13より一 回り小さい為、前記銀ペースト16の塗布量が多くなっても前記長方形平コレッ ト11に付着することなくダイボンドを行うことができる。また、半導体素子吸 着面14と半導体素子13の被吸着面とがほぼ同一形状である為、前記半導体素 子13を吸着する際にピックアップが安定する。
【0015】 さらに、前記半導体素子吸着面14に真空溝15を形成したことにより、真空 で吸着する面積が大きくなり、吸着力を向上し、ダイボンドする際のθズレを防 止できる。
【0016】 尚、前記長方形平コレット11は超硬製であり、前記半導体素子吸着面14は 、前記半導体素子13にキズを付けないよう鏡面にし、さらに前記半導体素子吸 着面14の端部四方に、同じくキズを付けないようアールRが形成されている。
【0017】
以上のように、本考案によれば半導体素子吸着面に真空溝を形成したことによ り、半導体素子を真空で吸着する面積が大きくなり、ダイボンドする際のθズレ が防止され、これによりダイボンドが安定し、生産能力および品質を向上する。
【図1】本考案の一実施例を示す図であり、同図(a)
は正面断面図であり、同図(b)は側面断面図であり、
同図(c)は下面図である。
は正面断面図であり、同図(b)は側面断面図であり、
同図(c)は下面図である。
【図2】図1に示す長方形平コレットによるダイボンド
の状態を示す図であり、図(a)は正面断面図であり、
図(b)は側面断面図である。
の状態を示す図であり、図(a)は正面断面図であり、
図(b)は側面断面図である。
【図3】従来例を示す断面図である。
【図4】他の従来例を示す図であり、図(a)は断面図
であり、図(b)は下面図である。
であり、図(b)は下面図である。
【図5】更に他の従来例を示す図であり、図(a)は断
面図であり、図(b)は下面図である。
面図であり、図(b)は下面図である。
【図6】更に他の従来例を示す図であり、図(a)は正
面断面図であり、図(b)は側面断面図である。
面断面図であり、図(b)は側面断面図である。
【図7】図3に示す角錐コレットによるダイボンドの状
態を示す断面図である。
態を示す断面図である。
【図8】ダイボンド後の状態を示す図であり、図(a)
は正常な場合の正面図であり、図(b)はθズレした場
合の正面図である。
は正常な場合の正面図であり、図(b)はθズレした場
合の正面図である。
【図9】図4に示す丸コレットにおいて、ピックアップ
する際の状態を示す断面図である。
する際の状態を示す断面図である。
【図10】図5に示す丸コレットによるダイボンドの状
態を示す断面図である。
態を示す断面図である。
11 長方形平コレット 12 真空穴 13 半導体素子 14 半導体素子吸着面 15 真空溝
Claims (1)
- 【請求項1】 真空穴を有し、半導体素子吸着面が半導
体素子より小型の半導体素子吸着装置において、前記半
導体素子吸着面に真空溝を形成したことを特徴とする半
導体素子吸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7626092U JPH0641134U (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 半導体素子吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7626092U JPH0641134U (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 半導体素子吸着装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0641134U true JPH0641134U (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=13600252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7626092U Pending JPH0641134U (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 半導体素子吸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0641134U (ja) |
-
1992
- 1992-11-05 JP JP7626092U patent/JPH0641134U/ja active Pending
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