JPH06309620A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH06309620A JPH06309620A JP5100940A JP10094093A JPH06309620A JP H06309620 A JPH06309620 A JP H06309620A JP 5100940 A JP5100940 A JP 5100940A JP 10094093 A JP10094093 A JP 10094093A JP H06309620 A JPH06309620 A JP H06309620A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S428/90—Magnetic feature
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/11—Magnetic recording head
- Y10T428/1171—Magnetic recording head with defined laminate structural detail
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スペーシングロスが発生しない磁気ヘッドを
提供すること。 【構成】 フェライトよりなる１対の対向する磁気コア
半体１ａ、１ｂの対向面の夫々に被着された金属磁性膜
２を有する磁気ヘッドにおいて、前記各金属磁性膜２の
表面のそれぞれにホウ珪酸を主成分とするガラス層４と
Ｃｒ層４とを順次被着して磁気ギャップ層を形成し、前
記Ｃｒ層４同士を突き合わせて接合したことを特徴とす
る。
提供すること。 【構成】 フェライトよりなる１対の対向する磁気コア
半体１ａ、１ｂの対向面の夫々に被着された金属磁性膜
２を有する磁気ヘッドにおいて、前記各金属磁性膜２の
表面のそれぞれにホウ珪酸を主成分とするガラス層４と
Ｃｒ層４とを順次被着して磁気ギャップ層を形成し、前
記Ｃｒ層４同士を突き合わせて接合したことを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＶＴＲ、ＤＡＴ、ＦＤ
Ｄ、ＨＤＤ等に用いられる高保磁力の磁気記録媒体に高
密度に情報を記録再生するのに使用される磁気ヘッドに
関する。
Ｄ、ＨＤＤ等に用いられる高保磁力の磁気記録媒体に高
密度に情報を記録再生するのに使用される磁気ヘッドに
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＶＴＲ等の磁気記録装置には、フ
ェライトを用いた磁気ヘッドが使用されてきた。しか
し、情報を高密度に記録再生しようとすれば、記録媒体
の抗磁力（以下、Ｈｃという）を高めることが必要であ
り、Ｈｃが８０ｋＡ／ｍを越えるようなメタルテープが
用いられるようになっている。このため、磁気ヘッドの
磁気飽和を回避する目的から、磁気コアの一部にセンダ
スト合金、Ｃｏ系超構造窒化合金、Ｆｅ系窒化合金等の
高い飽和磁束密度（以下、Ｂｓという）で透磁率が高い
金属軟磁性材料を用いた磁気ヘッドが開発されている。
ェライトを用いた磁気ヘッドが使用されてきた。しか
し、情報を高密度に記録再生しようとすれば、記録媒体
の抗磁力（以下、Ｈｃという）を高めることが必要であ
り、Ｈｃが８０ｋＡ／ｍを越えるようなメタルテープが
用いられるようになっている。このため、磁気ヘッドの
磁気飽和を回避する目的から、磁気コアの一部にセンダ
スト合金、Ｃｏ系超構造窒化合金、Ｆｅ系窒化合金等の
高い飽和磁束密度（以下、Ｂｓという）で透磁率が高い
金属軟磁性材料を用いた磁気ヘッドが開発されている。
【０００３】従来例の磁気ヘッドの構造を図５に基づい
て説明する。図５は、従来例を摺動面側から見た図であ
る。図５に示すように、フェライトより成る１対の対向
する磁気コア半体１１ａ、１１ｂのそれぞれのギャップ
形成面上にスパッタ、蒸着法等で高Ｂｓの金属磁性膜１
２を形成したメタルインギャップヘッド（以下、ＭＩＧ
ヘッドという）がある。このＭＩＧヘッドでは、それぞ
れの金属磁性膜１２を覆うようにＳｉＯ2 層１３が主ギ
ャップ層として設けられ、このＳｉＯ2 層１３の表面に
は、更に、ＳｉＯ2 層１３を覆うようにそれぞれＣｒ層
１４が設けられており、このＣｒ層１４を対向させた状
態で、接合ガラス１５により融着し、ギャップ接合して
いる。この場合、Ｃｒ層１４は、ＳｉＯ2 層１３がギャ
ップ接合時に溶融した接合ガラス１５と反応するのを防
止し、金属磁性膜１２表面の磁気特性の劣化や接合ガラ
ス１５内の発泡を防ぎ、また、接合ガラスの濡れ性を良
くする働きがある。また、ＳｉＯ2 層１３は、金属磁性
膜１２の元素がＣｒ層１４中に拡散して金属磁性膜１２
の特性が劣化するのを防ぐ働きがある。
て説明する。図５は、従来例を摺動面側から見た図であ
る。図５に示すように、フェライトより成る１対の対向
する磁気コア半体１１ａ、１１ｂのそれぞれのギャップ
形成面上にスパッタ、蒸着法等で高Ｂｓの金属磁性膜１
２を形成したメタルインギャップヘッド（以下、ＭＩＧ
ヘッドという）がある。このＭＩＧヘッドでは、それぞ
れの金属磁性膜１２を覆うようにＳｉＯ2 層１３が主ギ
ャップ層として設けられ、このＳｉＯ2 層１３の表面に
は、更に、ＳｉＯ2 層１３を覆うようにそれぞれＣｒ層
１４が設けられており、このＣｒ層１４を対向させた状
態で、接合ガラス１５により融着し、ギャップ接合して
いる。この場合、Ｃｒ層１４は、ＳｉＯ2 層１３がギャ
ップ接合時に溶融した接合ガラス１５と反応するのを防
止し、金属磁性膜１２表面の磁気特性の劣化や接合ガラ
ス１５内の発泡を防ぎ、また、接合ガラスの濡れ性を良
くする働きがある。また、ＳｉＯ2 層１３は、金属磁性
膜１２の元素がＣｒ層１４中に拡散して金属磁性膜１２
の特性が劣化するのを防ぐ働きがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来例
の構成では、金属磁性膜１２の表面には主ギャップ材と
してＳｉＯ2 層１３が用いられているが、このＳｉＯ2
層１３は軟化温度１７００℃、ビッカース硬度７２０ｋ
ｇ／ｍｍ2 である。これに対してフェライトのビッカー
ス硬度は７００ｋｇ／ｍｍ2 程度で、金属磁性膜１２の
ビッカース硬度は６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下であり主ギャ
ップ材がもっとも硬い構成になっている。
の構成では、金属磁性膜１２の表面には主ギャップ材と
してＳｉＯ2 層１３が用いられているが、このＳｉＯ2
層１３は軟化温度１７００℃、ビッカース硬度７２０ｋ
ｇ／ｍｍ2 である。これに対してフェライトのビッカー
ス硬度は７００ｋｇ／ｍｍ2 程度で、金属磁性膜１２の
ビッカース硬度は６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下であり主ギャ
ップ材がもっとも硬い構成になっている。
【０００５】図６に、従来の磁気ヘッドに磁気テープ２
０を摺動させた場合の磁気ヘッドの断面図を示す。上述
のようにＳｉＯ2 層１３を主ギャップ材に用いた従来例
の磁気ヘッドにおいては、磁気テープ２０の走行に伴っ
て、最も軟らかい金属磁性膜１２が選択的に摩耗するた
めに、ＳｉＯ2 層１３と金属磁性膜１２の間に偏摩耗と
よばれる段差が発生し、結果的に磁気ギャップと磁気テ
ープ２０の間に偏摩耗分の空隙が生じ、磁気ヘッド出力
は偏摩耗分のスペーシングロスにより低下するという問
題点があった。
０を摺動させた場合の磁気ヘッドの断面図を示す。上述
のようにＳｉＯ2 層１３を主ギャップ材に用いた従来例
の磁気ヘッドにおいては、磁気テープ２０の走行に伴っ
て、最も軟らかい金属磁性膜１２が選択的に摩耗するた
めに、ＳｉＯ2 層１３と金属磁性膜１２の間に偏摩耗と
よばれる段差が発生し、結果的に磁気ギャップと磁気テ
ープ２０の間に偏摩耗分の空隙が生じ、磁気ヘッド出力
は偏摩耗分のスペーシングロスにより低下するという問
題点があった。
【０００６】本発明は、上記の問題点を解決し、スペー
シングロスが発生しない磁気ヘッドを提供することを課
題とする。
シングロスが発生しない磁気ヘッドを提供することを課
題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
上記の課題を解決するために、フェライトよりなる１対
の対向する磁気コア半体の対向面の夫々に被着された金
属磁性膜を有する磁気ヘッドにおいて、前記各金属磁性
膜の表面のそれぞれにホウ珪酸を主成分とするガラス層
とＣｒ層とを順次被着して磁気ギャップ層を形成し、前
記Ｃｒ層同士を突き合わせて接合したことを特徴とす
る。
上記の課題を解決するために、フェライトよりなる１対
の対向する磁気コア半体の対向面の夫々に被着された金
属磁性膜を有する磁気ヘッドにおいて、前記各金属磁性
膜の表面のそれぞれにホウ珪酸を主成分とするガラス層
とＣｒ層とを順次被着して磁気ギャップ層を形成し、前
記Ｃｒ層同士を突き合わせて接合したことを特徴とす
る。
【０００８】又、本発明の磁気ヘッドは、上記の課題を
解決するために、金属磁性膜は、Ｆｅ合金もしくはＣｏ
合金もしくはＦｅＣｏ合金から成る組成物をＴで表し、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｒｅ、Ｒｕから選ばれる少なくとも１種類以上の元
素からなる組成物をＭで表し、ａとｂとｃとを原子比と
し、 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ０．０１５≦ｃ≦０．２０ ａ＋ｂ＋ｃ＝１．０ とした場合に、平均組成が一般式ＴａＭｂＮｃで表さ
れ、且つ、アモルファス合金または微結晶合金層とその
窒化物層とが交互に積層された、あるいは膜厚方向に少
なくとも窒素の組成が変調されている窒化アモルファス
合金または窒化微結晶合金からなることが好適である。
解決するために、金属磁性膜は、Ｆｅ合金もしくはＣｏ
合金もしくはＦｅＣｏ合金から成る組成物をＴで表し、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｒｅ、Ｒｕから選ばれる少なくとも１種類以上の元
素からなる組成物をＭで表し、ａとｂとｃとを原子比と
し、 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ０．０１５≦ｃ≦０．２０ ａ＋ｂ＋ｃ＝１．０ とした場合に、平均組成が一般式ＴａＭｂＮｃで表さ
れ、且つ、アモルファス合金または微結晶合金層とその
窒化物層とが交互に積層された、あるいは膜厚方向に少
なくとも窒素の組成が変調されている窒化アモルファス
合金または窒化微結晶合金からなることが好適である。
【０００９】又、本発明の磁気ヘッドは、上記の課題を
解決するために、ホウ珪酸を主成分とするガラス層は、
ビッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下で、且つ、軟
化温度が５５０℃以上であることが好適である。
解決するために、ホウ珪酸を主成分とするガラス層は、
ビッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下で、且つ、軟
化温度が５５０℃以上であることが好適である。
【００１０】
【作用】本発明の磁気ヘッドでは、１対の対向する磁気
コア半体の対向面の夫々に金属磁性膜を被着し、各金属
磁性膜の表面のそれぞれにホウ珪酸を主成分とするガラ
ス層とＣｒ層とを順次被着して磁気ギャップ層を形成
し、これらのＣｒ層同士を突き合わせて接合ガラスによ
り接合してギャップ形成を行っている。
コア半体の対向面の夫々に金属磁性膜を被着し、各金属
磁性膜の表面のそれぞれにホウ珪酸を主成分とするガラ
ス層とＣｒ層とを順次被着して磁気ギャップ層を形成
し、これらのＣｒ層同士を突き合わせて接合ガラスによ
り接合してギャップ形成を行っている。
【００１１】上記の磁気ギャップ層を形成するガラス層
には、軟化温度が高いガラスが必要で、軟化温度が高い
ことによって、金属磁性膜と硬質ガラス層間の反応を抑
制でき、また、Ｃｒ層によって接合ガラスとガラス層間
の反応を抑制できるため、劣化が少ない特性を実現でき
る。この条件を満足するガラスは極めて限られ、従来例
ではＳｉＯ2 が使用されているが、前記のように、Ｓｉ
Ｏ2 層はビッカース硬度が約７２０ｋｇ／ｍｍ2 と大き
いので、ビッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2以下の金
属磁性膜が偏摩耗するという問題点があった。これに対
して、本発明の磁気ヘッドでは、限られたガラスの中か
ら、軟化温度が高くて、ビッカース硬度が金属磁性膜に
近いガラスとして、ホウ珪酸を主成分とするガラスを選
択使用して、製造時の製品の特性劣化が少なく、且つ、
偏摩耗が少ない磁気ヘッドを得ている。
には、軟化温度が高いガラスが必要で、軟化温度が高い
ことによって、金属磁性膜と硬質ガラス層間の反応を抑
制でき、また、Ｃｒ層によって接合ガラスとガラス層間
の反応を抑制できるため、劣化が少ない特性を実現でき
る。この条件を満足するガラスは極めて限られ、従来例
ではＳｉＯ2 が使用されているが、前記のように、Ｓｉ
Ｏ2 層はビッカース硬度が約７２０ｋｇ／ｍｍ2 と大き
いので、ビッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2以下の金
属磁性膜が偏摩耗するという問題点があった。これに対
して、本発明の磁気ヘッドでは、限られたガラスの中か
ら、軟化温度が高くて、ビッカース硬度が金属磁性膜に
近いガラスとして、ホウ珪酸を主成分とするガラスを選
択使用して、製造時の製品の特性劣化が少なく、且つ、
偏摩耗が少ない磁気ヘッドを得ている。
【００１２】特に、本発明の磁気ヘッドでは、ギャップ
層に用いるホウ珪酸を主成分とするガラスとして、ビッ
カース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下で、且つ、軟化温
度が５５０℃以上のホウ珪酸ガラスを主成分としたガラ
スを用いているので、軟化温度が５５０℃以上あって、
金属磁性膜とホウ珪酸を主成分とするガラス層間の反応
を抑制でき、また、Ｃｒ層によって接合ガラスとホウ珪
酸を主成分とするガラス層間の反応を抑制できるため、
劣化が少ない特性を実現できる。そして、ギャップ層の
ビッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下なので、金属
磁性膜の６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下、及び、フェライトの
約６９０ｋｇ／ｍｍ2 に比べて同等以下になり、磁気テ
ープ走行により発生する金属磁性層とギャップ層間の偏
摩耗による段差が小さく、安定したインターフェイスが
実現し、スペーシングロスによる電磁変換特性の劣化も
少ない。
層に用いるホウ珪酸を主成分とするガラスとして、ビッ
カース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下で、且つ、軟化温
度が５５０℃以上のホウ珪酸ガラスを主成分としたガラ
スを用いているので、軟化温度が５５０℃以上あって、
金属磁性膜とホウ珪酸を主成分とするガラス層間の反応
を抑制でき、また、Ｃｒ層によって接合ガラスとホウ珪
酸を主成分とするガラス層間の反応を抑制できるため、
劣化が少ない特性を実現できる。そして、ギャップ層の
ビッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下なので、金属
磁性膜の６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下、及び、フェライトの
約６９０ｋｇ／ｍｍ2 に比べて同等以下になり、磁気テ
ープ走行により発生する金属磁性層とギャップ層間の偏
摩耗による段差が小さく、安定したインターフェイスが
実現し、スペーシングロスによる電磁変換特性の劣化も
少ない。
【００１３】又、磁気ヘッド用の金属磁性膜は、高い飽
和磁束密度と、高い透磁率と、高い結晶化温度を有する
ことが必要であるが、本発明の磁気ヘッドでは、Ｆｅ合
金もしくはＣｏ合金もしくはＦｅＣｏ合金から成る組成
物をＴで表し、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｒｕから選ばれる少なくとも１
種類以上の元素からなる組成物をＭで表し、ａとｂとｃ
とを原子比とし、 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ０．０１５≦ｃ≦０．２０ ａ＋ｂ＋ｃ＝１．０ とした場合に、平均組成が一般式ＴａＭｂＮｃで表さ
れ、且つ、アモルファス合金または微結晶合金層とその
窒化物層とが交互に積層された、あるいは膜厚方向に少
なくとも窒素の組成が変調されている窒化アモルファス
合金または窒化微結晶合金からなる金属磁性膜を使用し
てこれを達成している。
和磁束密度と、高い透磁率と、高い結晶化温度を有する
ことが必要であるが、本発明の磁気ヘッドでは、Ｆｅ合
金もしくはＣｏ合金もしくはＦｅＣｏ合金から成る組成
物をＴで表し、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｒｕから選ばれる少なくとも１
種類以上の元素からなる組成物をＭで表し、ａとｂとｃ
とを原子比とし、 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ０．０１５≦ｃ≦０．２０ ａ＋ｂ＋ｃ＝１．０ とした場合に、平均組成が一般式ＴａＭｂＮｃで表さ
れ、且つ、アモルファス合金または微結晶合金層とその
窒化物層とが交互に積層された、あるいは膜厚方向に少
なくとも窒素の組成が変調されている窒化アモルファス
合金または窒化微結晶合金からなる金属磁性膜を使用し
てこれを達成している。
【００１４】
【実施例】本発明の磁気ヘッドの一実施例を図１〜図４
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【００１５】図１は、本発明の磁気ヘッドの一実施例を
摺動面側からみた図である。主磁路を構成する磁気コア
半体１ａ，１ｂは酸化物磁性材料であるフェライトから
なる。磁気コア半体１ａ，１ｂがギャップ面を隔てて対
向している対向面には、フェライトよりも高いＢｓと、
高い透磁率と、高い結晶化温度を有する金属磁性膜２が
スパッタ、蒸着法等により形成されている。金属磁性膜
２として本実施例では、ＣｏＮｂＺｒとＣｏＮｂＺｒＮ
とを２０ｎｍずつ交互に積層した膜厚３μｍ（ギャップ
対向面上）のＣｏＮｂＺｒ組成変調窒化合金膜を用いて
いる。金属磁性膜２の表面には、金属磁性膜を完全に覆
い隠すように、主ギャップ材としてホウ珪酸を主成分と
するガラス層３がスパッタ法等により形成されている。
このホウ珪酸を主成分とするガラス層３の表面にはＣｒ
層４がホウ珪酸を主成分とするガラス層３を完全に覆い
隠すように形成されている。
摺動面側からみた図である。主磁路を構成する磁気コア
半体１ａ，１ｂは酸化物磁性材料であるフェライトから
なる。磁気コア半体１ａ，１ｂがギャップ面を隔てて対
向している対向面には、フェライトよりも高いＢｓと、
高い透磁率と、高い結晶化温度を有する金属磁性膜２が
スパッタ、蒸着法等により形成されている。金属磁性膜
２として本実施例では、ＣｏＮｂＺｒとＣｏＮｂＺｒＮ
とを２０ｎｍずつ交互に積層した膜厚３μｍ（ギャップ
対向面上）のＣｏＮｂＺｒ組成変調窒化合金膜を用いて
いる。金属磁性膜２の表面には、金属磁性膜を完全に覆
い隠すように、主ギャップ材としてホウ珪酸を主成分と
するガラス層３がスパッタ法等により形成されている。
このホウ珪酸を主成分とするガラス層３の表面にはＣｒ
層４がホウ珪酸を主成分とするガラス層３を完全に覆い
隠すように形成されている。
【００１６】磁気ヘッドはＣｒ層４同士を突き合わせた
状態で接合ガラス５によってギャップ接合されている。
このとき接合ガラス５には低融点ガラスを用いる。Ｃｒ
層４には、接合ガラス５とホウ珪酸を主成分とするガラ
ス層３とがギャップ接合時に溶融して、その下にある金
属磁性膜２と反応を起こすことを防止し、また、ギャッ
プ接合時に接合ガラス５の流れ性を改善して発泡を抑止
する役割がある。ホウ珪酸を主成分とするガラス層３
は、金属磁性膜２中の元素がＣｒ層４中に拡散して金属
磁性膜２の表面に磁気的劣化層が生じることを防ぐ働き
をする。
状態で接合ガラス５によってギャップ接合されている。
このとき接合ガラス５には低融点ガラスを用いる。Ｃｒ
層４には、接合ガラス５とホウ珪酸を主成分とするガラ
ス層３とがギャップ接合時に溶融して、その下にある金
属磁性膜２と反応を起こすことを防止し、また、ギャッ
プ接合時に接合ガラス５の流れ性を改善して発泡を抑止
する役割がある。ホウ珪酸を主成分とするガラス層３
は、金属磁性膜２中の元素がＣｒ層４中に拡散して金属
磁性膜２の表面に磁気的劣化層が生じることを防ぐ働き
をする。
【００１７】図２に本発明の磁気ヘッドに磁気テープ２
０を摺動させた場合の磁気ヘッドの断面図を示す。本発
明の磁気ヘッドにおいては、ビッカース硬度が６５０ｋ
ｇ／ｍｍ2 以下のホウ珪酸ガラスを主成分とするガラス
層３を主ギャップ材に用いているので、磁気テープ２０
が走行した場合でも金属磁性膜２とホウ珪酸ガラスを主
成分とするガラス層３とがほぼ同じ速度で摩耗するため
に、ホウ珪酸ガラスを主成分とするガラス層３と金属磁
性膜２との間に偏摩耗とよばれる段差が発生しないた
め、磁気テープ２０は磁気ギャップ部表面に沿って、ス
ペーシングロスが極めて少ない状態で安定走行するた
め、優れた電磁変換特性を示す。
０を摺動させた場合の磁気ヘッドの断面図を示す。本発
明の磁気ヘッドにおいては、ビッカース硬度が６５０ｋ
ｇ／ｍｍ2 以下のホウ珪酸ガラスを主成分とするガラス
層３を主ギャップ材に用いているので、磁気テープ２０
が走行した場合でも金属磁性膜２とホウ珪酸ガラスを主
成分とするガラス層３とがほぼ同じ速度で摩耗するため
に、ホウ珪酸ガラスを主成分とするガラス層３と金属磁
性膜２との間に偏摩耗とよばれる段差が発生しないた
め、磁気テープ２０は磁気ギャップ部表面に沿って、ス
ペーシングロスが極めて少ない状態で安定走行するた
め、優れた電磁変換特性を示す。
【００１８】図３に本発明の磁気ヘッドと従来例の磁気
ヘッドとにおける磁気ギャップ部表面の偏摩耗量の磁気
テープ走行時間依存性を示す。前述した通り従来例の磁
気ヘッドでは磁気テープ走行にともなって、磁気ギャッ
プ部の偏摩耗が進行し、最大３０ｎｍ程度の偏摩耗が生
じるが、本発明の磁気ヘッドでは磁気ギャップ部の偏摩
耗は５ｎｍ以下のままで安定しており、きわめて良好な
テープヘッドインターフェイスが実現している。
ヘッドとにおける磁気ギャップ部表面の偏摩耗量の磁気
テープ走行時間依存性を示す。前述した通り従来例の磁
気ヘッドでは磁気テープ走行にともなって、磁気ギャッ
プ部の偏摩耗が進行し、最大３０ｎｍ程度の偏摩耗が生
じるが、本発明の磁気ヘッドでは磁気ギャップ部の偏摩
耗は５ｎｍ以下のままで安定しており、きわめて良好な
テープヘッドインターフェイスが実現している。
【００１９】図４に本発明の磁気ヘッドと従来の磁気ヘ
ッドとにおける磁気ヘッド出力の磁気テープ走行時間依
存性を示す。図３の結果から容易に想像できるように、
従来例の磁気ヘッドでは磁気テープ走行にともなって、
偏摩耗が進行し、その結果スペーシングロスが増大し電
磁変換特性が劣化するが、本発明の磁気ヘッドでは偏摩
耗が少ないために極めて良好な電磁変換特性を実現して
いる。
ッドとにおける磁気ヘッド出力の磁気テープ走行時間依
存性を示す。図３の結果から容易に想像できるように、
従来例の磁気ヘッドでは磁気テープ走行にともなって、
偏摩耗が進行し、その結果スペーシングロスが増大し電
磁変換特性が劣化するが、本発明の磁気ヘッドでは偏摩
耗が少ないために極めて良好な電磁変換特性を実現して
いる。
【００２０】尚、本発明の磁気ヘッドは、上記の実施例
に限らず種々の態様が可能である。
に限らず種々の態様が可能である。
【００２１】例えば、金属磁性膜の組成は、実施例のも
のに限らず、請求項２に記載の組成のものが使用でき
る。
のに限らず、請求項２に記載の組成のものが使用でき
る。
【００２２】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドは、磁気ギャップの
主ギャップ材として、ホウ珪酸ガラスを主成分とするガ
ラス層を使用しているので、このガラス層の高い軟化温
度によって、金属磁性膜とこのガラス層間の反応を抑制
でき、また、Ｃｒ層によって接合ガラスとこのガラス層
間の反応を抑制できるため、製造工程での金属磁性膜の
劣化を少なくできる。又、このガラス層のビッカース硬
度は、金属磁性体及びフェライトのビッカース硬度に比
べて同等以下であるので、磁気テープの走行によって発
生する金属磁性層とこのガラス層間の段差が小さく、安
定したインターフェイスが実現し、スペーシングロスに
よる電磁変換特性の劣化が少ないという効果を奏する。
主ギャップ材として、ホウ珪酸ガラスを主成分とするガ
ラス層を使用しているので、このガラス層の高い軟化温
度によって、金属磁性膜とこのガラス層間の反応を抑制
でき、また、Ｃｒ層によって接合ガラスとこのガラス層
間の反応を抑制できるため、製造工程での金属磁性膜の
劣化を少なくできる。又、このガラス層のビッカース硬
度は、金属磁性体及びフェライトのビッカース硬度に比
べて同等以下であるので、磁気テープの走行によって発
生する金属磁性層とこのガラス層間の段差が小さく、安
定したインターフェイスが実現し、スペーシングロスに
よる電磁変換特性の劣化が少ないという効果を奏する。
【００２３】そして、ホウ珪酸を主成分とするガラス層
の、ビッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下で、且
つ、軟化温度が５５０℃以上であると、特に優れた特性
が得られる。
の、ビッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下で、且
つ、軟化温度が５５０℃以上であると、特に優れた特性
が得られる。
【００２４】又、本発明の磁気ヘッドは、金属磁性膜を
請求項３に記載する組成を有するように構成すると、高
い飽和磁束密度と、高い透磁率と、高い結晶化温度を有
し、優れた電磁変換特性が得られるという効果を奏す
る。
請求項３に記載する組成を有するように構成すると、高
い飽和磁束密度と、高い透磁率と、高い結晶化温度を有
し、優れた電磁変換特性が得られるという効果を奏す
る。
【図１】本発明の磁気ヘッドの一実施例の摺動面の平面
図である。
図である。
【図２】本発明の磁気ヘッドと磁気テープとの断面図で
ある。
ある。
【図３】本発明の磁気ヘッドと従来例の磁気ヘッドとの
磁気ギャップ部の段差の時間変化を比較した図である。
磁気ギャップ部の段差の時間変化を比較した図である。
【図４】本発明の磁気ヘッドと従来例の磁気ヘッドとの
出力の時間変化を比較した図である。
出力の時間変化を比較した図である。
【図５】従来例の磁気ヘッドの摺動面の平面図である。
【図６】従来例の磁気ヘッドと磁気テープとの断面図で
ある。
ある。
１ａ，１ｂ 磁気コア半体 ２ 金属磁性膜 ３ ホウ珪酸を主成分とするガラス層 ４ Ｃｒ層 ５ 接合ガラス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 沢井 瑛昌 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 武田 裕美 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 フェライトよりなる１対の対向する磁気
コア半体の対向面の夫々に被着された金属磁性膜を有す
る磁気ヘッドにおいて、前記各金属磁性膜の表面のそれ
ぞれにホウ珪酸を主成分とするガラス層とＣｒ層とを順
次被着して磁気ギャップ層を形成し、前記Ｃｒ層同士を
突き合わせて接合したことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 金属磁性膜は、Ｆｅ合金もしくはＣｏ合
金もしくはＦｅＣｏ合金から成る組成物をＴで表し、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｍｎ、
Ｒｅ、Ｒｕから選ばれる少なくとも１種類以上の元素か
らなる組成物をＭで表し、ａとｂとｃとを原子比とし、 ０．７０≦ａ≦０．９５ ０．０５≦ｂ≦０．３０ ０．０１５≦ｃ≦０．２０ ａ＋ｂ＋ｃ＝１．０ とした場合に、平均組成が一般式ＴａＭｂＮｃで表さ
れ、且つ、アモルファス合金または微結晶合金層とその
窒化物層とが交互に積層された、あるいは膜厚方向に少
なくとも窒素の組成が変調されている窒化アモルファス
合金または窒化微結晶合金からなる請求項１に記載の磁
気ヘッド。 - 【請求項３】 ホウ珪酸を主成分とするガラス層は、ビ
ッカース硬度が６５０ｋｇ／ｍｍ2 以下で、且つ、軟化
温度が５５０℃以上である請求項１又は２に記載の磁気
ヘッド。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5100940A JPH06309620A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | 磁気ヘッド |
| EP94106451A EP0628949B1 (en) | 1993-04-27 | 1994-04-26 | Magnetic head |
| US08/233,259 US6150044A (en) | 1993-04-27 | 1994-04-26 | Magnetic head |
| DE69414465T DE69414465T2 (de) | 1993-04-27 | 1994-04-26 | Magnetkopf |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5100940A JPH06309620A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06309620A true JPH06309620A (ja) | 1994-11-04 |
Family
ID=14287354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5100940A Pending JPH06309620A (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | 磁気ヘッド |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6150044A (ja) |
| EP (1) | EP0628949B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06309620A (ja) |
| DE (1) | DE69414465T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007248562A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Shincron:Kk | 光学物品およびその製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20090246952A1 (en) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | Tokyo Electron Limited | Method of forming a cobalt metal nitride barrier film |
| CN106231501B (zh) | 2009-11-30 | 2020-07-14 | 诺基亚技术有限公司 | 用于处理音频信号的方法和装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3458926A (en) * | 1965-10-08 | 1969-08-05 | Ibm | Method of forming a glass filled gap |
| US4048714A (en) * | 1975-06-12 | 1977-09-20 | Huntt Robert L | Glass bonding of manganese-zinc ferrite |
| JPS5827565B2 (ja) * | 1977-09-19 | 1983-06-10 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| US4475137A (en) * | 1981-05-11 | 1984-10-02 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetic transducer |
| JPS59107416A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-21 | Tdk Corp | 磁気ヘツド |
| JPS59146431A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS62219217A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ヘツド |
| JP2790451B2 (ja) * | 1987-04-10 | 1998-08-27 | 松下電器産業株式会社 | 窒素を含む軟磁性合金膜 |
| JPH01276410A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-07 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘッド |
| JPH0258714A (ja) * | 1988-08-23 | 1990-02-27 | Nippon Mining Co Ltd | 磁気ヘッド |
| DE3934284C2 (de) * | 1988-10-13 | 1994-06-16 | Canon Denshi Kk | Magnetkopf |
| US5155645A (en) * | 1989-11-14 | 1992-10-13 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetic head with improved efficiency in both high and low frequency ranges |
-
1993
- 1993-04-27 JP JP5100940A patent/JPH06309620A/ja active Pending
-
1994
- 1994-04-26 DE DE69414465T patent/DE69414465T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-26 US US08/233,259 patent/US6150044A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-26 EP EP94106451A patent/EP0628949B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007248562A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Shincron:Kk | 光学物品およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0628949A1 (en) | 1994-12-14 |
| EP0628949B1 (en) | 1998-11-11 |
| DE69414465T2 (de) | 1999-04-15 |
| DE69414465D1 (de) | 1998-12-17 |
| US6150044A (en) | 2000-11-21 |
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