JPS62219217A - 磁気ヘツド - Google Patents
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- JPS62219217A JPS62219217A JP61059433A JP5943386A JPS62219217A JP S62219217 A JPS62219217 A JP S62219217A JP 61059433 A JP61059433 A JP 61059433A JP 5943386 A JP5943386 A JP 5943386A JP S62219217 A JPS62219217 A JP S62219217A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ディスクや磁気テープなどの磁気記録媒
体への情報の書き込みや読み出しを行なう磁気ヘッドに
関するものである。
体への情報の書き込みや読み出しを行なう磁気ヘッドに
関するものである。
従来、磁気ディスク記録再生装置や磁気テープ記録再生
装置などに用いられろ磁気ヘッドとして様々な構成のも
のがあるが、その一つとして磁性金属薄膜と非磁性の中
間層とを積層した積層体で磁気コアを構成する磁気ヘッ
ドが知られている。
装置などに用いられろ磁気ヘッドとして様々な構成のも
のがあるが、その一つとして磁性金属薄膜と非磁性の中
間層とを積層した積層体で磁気コアを構成する磁気ヘッ
ドが知られている。
この種の磁気ヘッドにおいて、前記中間層は磁性薄膜間
を磁気的に絶縁することで渦電流の損失を抑えて、磁気
記録再生特性の低下を防止するためのもので1通常、二
酸化ケイ素(SiOz)が用いられている。このSin
:からなろ中間層は十分な絶縁を得るために0.1μm
以上にする必要があるが、この5iOz19の中間層は
アモルファスやパーマロイなどからなる磁性金属薄膜に
比較して硬度が極端に高く、そのために非常に摩耗し難
い。
を磁気的に絶縁することで渦電流の損失を抑えて、磁気
記録再生特性の低下を防止するためのもので1通常、二
酸化ケイ素(SiOz)が用いられている。このSin
:からなろ中間層は十分な絶縁を得るために0.1μm
以上にする必要があるが、この5iOz19の中間層は
アモルファスやパーマロイなどからなる磁性金属薄膜に
比較して硬度が極端に高く、そのために非常に摩耗し難
い。
前述の積層体を用いて磁気ヘッドを製作する際には、そ
の磁気ヘットの記録媒体との摺接面を研磨して所望の表
面精度を得ようとする訳であるが。
の磁気ヘットの記録媒体との摺接面を研磨して所望の表
面精度を得ようとする訳であるが。
前述のように磁性金属薄膜と中間層との摩耗速度が大き
く異なっているから、慴接面において中間層の端面が磁
性金属薄膜の端面より突き出てしまい、そのために高い
表面精度が得られない、また磁気ディスクや磁気テープ
などの記録媒体と摺゛接する際にも、中間層よりも磁性
金属薄膜の方が先に摩耗してしまい、その結果、前述の
研磨加工時と同じように中間層の端面が磁性金属薄膜の
端面よりも突き出た状態となる。
く異なっているから、慴接面において中間層の端面が磁
性金属薄膜の端面より突き出てしまい、そのために高い
表面精度が得られない、また磁気ディスクや磁気テープ
などの記録媒体と摺゛接する際にも、中間層よりも磁性
金属薄膜の方が先に摩耗してしまい、その結果、前述の
研磨加工時と同じように中間層の端面が磁性金属薄膜の
端面よりも突き出た状態となる。
第3図はこの状態を示した図で1図中の1は磁性金属薄
膜、2は中間層、3は磁気記録媒体である。同図に示す
ように研磨加工時や磁気記録媒体との摺接によって中間
層2の端面が磁性金属薄膜1の端面より突出しており、
そのため中間層2の端部付近において磁気記録媒体3が
浮き上がった状態となる。
膜、2は中間層、3は磁気記録媒体である。同図に示す
ように研磨加工時や磁気記録媒体との摺接によって中間
層2の端面が磁性金属薄膜1の端面より突出しており、
そのため中間層2の端部付近において磁気記録媒体3が
浮き上がった状態となる。
前述のように中間層2の端部が突出していると、磁気記
録媒体3が傷付けられて、それの耐久性が低下する。ま
た、磁気ヘッドと磁気記録媒体3とのコンタクトが不十
分となり1部分的に書き込みや読み出しが不可能な個所
ができる。
録媒体3が傷付けられて、それの耐久性が低下する。ま
た、磁気ヘッドと磁気記録媒体3とのコンタクトが不十
分となり1部分的に書き込みや読み出しが不可能な個所
ができる。
第4図はこの状態を模式的に示しており、図中の4が磁
化されないかあるいは磁化の非常に弱い部分、5が磁化
される部分を現わしており、磁化されないかあるいは磁
化の非常に弱い部分4が磁気記録媒体3の走行方向に沿
って帯状に形成さ九ることになる。前述の磁化されない
かあるいは磁化の非常に弱い部分4が、突出した中間層
2の端部によって浮き上がった部分に相当する。このよ
うに磁気記録媒体3の記録面において、磁化される部分
5と、磁化されないか磁化されてもそれが非常に弱い部
分4とが形成されることは、本来、磁気記録媒体3とし
てあってはならないことであり、磁気ヘッドの信頼性に
問題がある。
化されないかあるいは磁化の非常に弱い部分、5が磁化
される部分を現わしており、磁化されないかあるいは磁
化の非常に弱い部分4が磁気記録媒体3の走行方向に沿
って帯状に形成さ九ることになる。前述の磁化されない
かあるいは磁化の非常に弱い部分4が、突出した中間層
2の端部によって浮き上がった部分に相当する。このよ
うに磁気記録媒体3の記録面において、磁化される部分
5と、磁化されないか磁化されてもそれが非常に弱い部
分4とが形成されることは、本来、磁気記録媒体3とし
てあってはならないことであり、磁気ヘッドの信頼性に
問題がある。
本発明の目的は、前述した従来技術の欠点を解消し、摺
接しても磁気記録媒体を傷付けず、しかも磁気記録媒体
とのコンタクトが良好で信頼性の高い磁気ヘッドを提供
することにある。
接しても磁気記録媒体を傷付けず、しかも磁気記録媒体
とのコンタクトが良好で信頼性の高い磁気ヘッドを提供
することにある。
前述の目的を達成するため1本発明は1例えばコバルト
を主成分とするアモルファス合金やパーマロイなどから
なる複数の磁性金属薄膜と、その磁性金属薄膜の間に配
置されて渦電流による磁気損失を抑制する非磁性の中間
層との積層体で少なくとも磁気コアの一部を構成する磁
気ヘッドを対象とする。
を主成分とするアモルファス合金やパーマロイなどから
なる複数の磁性金属薄膜と、その磁性金属薄膜の間に配
置されて渦電流による磁気損失を抑制する非磁性の中間
層との積層体で少なくとも磁気コアの一部を構成する磁
気ヘッドを対象とする。
そして本発明は前記中間層として、ビッカース硬度が2
00以上で1200未満の例えばSin。
00以上で1200未満の例えばSin。
A l 20q 、 MgOならびにB a T i
Osなどの材質のものを用いることを特徴とするもので
ある。
Osなどの材質のものを用いることを特徴とするもので
ある。
一般に金属酸化物では、それの降伏応力、破壊応力ある
いは引張強度などの機械的強度は硬度と深い相関関係が
あるとされている。摩耗とは微視的な破壊とみなすこと
ができるので、耐摩耗性と硬度とは相関関係があり、実
際に硬度の大きな材料はど耐摩耗性は高い。
いは引張強度などの機械的強度は硬度と深い相関関係が
あるとされている。摩耗とは微視的な破壊とみなすこと
ができるので、耐摩耗性と硬度とは相関関係があり、実
際に硬度の大きな材料はど耐摩耗性は高い。
そこで5i02より硬度の低い非磁性材料を選んで磁気
ヘッドの中間層に使用すれば、中間層の耐摩耗性は5i
Ozのときよりも小さくなり、その結果、磁気ヘッドの
摺接面での突き出しが軽減ないしは解消される。
ヘッドの中間層に使用すれば、中間層の耐摩耗性は5i
Ozのときよりも小さくなり、その結果、磁気ヘッドの
摺接面での突き出しが軽減ないしは解消される。
SiO2のビッカース硬度(以下、Hvと略称する。)
は約1200であって前述のような弊害を有しているか
ら、本発明で使用される中間層の材料はHvが1200
未満でなければならない。
は約1200であって前述のような弊害を有しているか
ら、本発明で使用される中間層の材料はHvが1200
未満でなければならない。
一方、磁気ヘッドに使用する磁性金属のHvは。
コバルト系アモルファス合金で600〜800、Mo−
パーマロイで200前後である。そのため。
パーマロイで200前後である。そのため。
これらの材料よりも極端にHvの低い材料を中間層に使
用すると、逆に中間層が隣の全屈磁性薄膜よりも先に摩
耗され、磁気ヘッドの摺接面に凹みができてしまい、前
述した従来のものと同じような欠点を生じる。従って、
中間層のHvは200以上でなければならない。
用すると、逆に中間層が隣の全屈磁性薄膜よりも先に摩
耗され、磁気ヘッドの摺接面に凹みができてしまい、前
述した従来のものと同じような欠点を生じる。従って、
中間層のHvは200以上でなければならない。
以上述べたようにHvが200以上でかっ1200未満
の非磁性材料としては、Mg0(HV;約600)、A
1203(Hv=約800)、BaTtOi(Hv=約
800)、 S i 0(Hv===約1000)など
がある。
の非磁性材料としては、Mg0(HV;約600)、A
1203(Hv=約800)、BaTtOi(Hv=約
800)、 S i 0(Hv===約1000)など
がある。
このような材料を中間層として用いて金属磁性薄膜のH
vと近似させることによって、磁気ヘッド摺接面での中
間層の突き出しや凹みのない磁気ヘッドを提供すること
ができろ。
vと近似させることによって、磁気ヘッド摺接面での中
間層の突き出しや凹みのない磁気ヘッドを提供すること
ができろ。
次に本発明の実施例について図とともに説明する。第1
図は実施例に係る磁気ヘッドの斜視図、第2図は第1図
A−A線上の断面図である。
図は実施例に係る磁気ヘッドの斜視図、第2図は第1図
A−A線上の断面図である。
例えばMn−Znフェライト、Znフェライトあるいは
チタン酸カルシウ11などからなる基体6の片面に l
5 lt m厚の磁性層7If膜7が3層。
チタン酸カルシウ11などからなる基体6の片面に l
5 lt m厚の磁性層7If膜7が3層。
それらの中間に0.15μm厚の中間層8が2層スパッ
タリングや蒸着などの薄膜形成技術によってそれぞれ形
成される。このようにして形成されたコア半休が非磁性
体からなる磁気ギャップ10を介して一体に接合され、
ガラス層9によってその接合が補強されろ。
タリングや蒸着などの薄膜形成技術によってそれぞれ形
成される。このようにして形成されたコア半休が非磁性
体からなる磁気ギャップ10を介して一体に接合され、
ガラス層9によってその接合が補強されろ。
前記磁性金属薄膜7としてコバルトを主成分とするG
o −T a −N b系のアモルファス合金が用いら
れ、それのHvは約600である。また中間層8として
B a T i Osが用いられ、それのHvは約60
0で金属磁性薄膜7のそれとほぼ同じである。
o −T a −N b系のアモルファス合金が用いら
れ、それのHvは約600である。また中間層8として
B a T i Osが用いられ、それのHvは約60
0で金属磁性薄膜7のそれとほぼ同じである。
コバルトを主成分とするアモルファス合金を磁性金属薄
膜として用いた場合、それのHvは約600〜800で
あるから、MgO,A I 303ならびにB a T
i Ovのグループから選択された少なくとも1種の
金属酸化物を中間層として用いると、Hvが近似して常
にl8のない平滑な摺接面が保持できる。
膜として用いた場合、それのHvは約600〜800で
あるから、MgO,A I 303ならびにB a T
i Ovのグループから選択された少なくとも1種の
金属酸化物を中間層として用いると、Hvが近似して常
にl8のない平滑な摺接面が保持できる。
なお本発明において、磁性金yIL′:Il膜7の膜厚
としては約10〜25μm、中間yIs8の膜厚として
は約0.05〜0.3μmが適当である。
としては約10〜25μm、中間yIs8の膜厚として
は約0.05〜0.3μmが適当である。
(発明の効果〕
磁気ヘッドの基体としてM n −Z nフェライトを
、磁性金属薄膜としてCo−Ta−Nb系アモルファス
をそれぞれ用い、中間層をB a ’r i 011と
した本発明に係る磁気ヘッドと、中間層を5iC)zと
した従来の磁気ヘッドとを、各層の厚さなどを同一とし
て組立てた。
、磁性金属薄膜としてCo−Ta−Nb系アモルファス
をそれぞれ用い、中間層をB a ’r i 011と
した本発明に係る磁気ヘッドと、中間層を5iC)zと
した従来の磁気ヘッドとを、各層の厚さなどを同一とし
て組立てた。
これら磁気ヘッドを使用した場合のS/Nならびに磁気
記録媒体の耐久性のテスト結果を次の表に示す。
記録媒体の耐久性のテスト結果を次の表に示す。
表
なお媒体の耐久性とは、ポリエステルフィルムからなる
ベースフィルムの上に磁性層を塗布形成した磁気ディス
クを用い、これをディスクドライブ装置に装着して磁気
ディスクを回転させ、同じ個所で書き込み読み出しを繰
返して行ない、再生出力が30%低下するまでの磁気デ
ィスクの回転数を示している。
ベースフィルムの上に磁性層を塗布形成した磁気ディス
クを用い、これをディスクドライブ装置に装着して磁気
ディスクを回転させ、同じ個所で書き込み読み出しを繰
返して行ない、再生出力が30%低下するまでの磁気デ
ィスクの回転数を示している。
本発明は前述のような構成になっているから。
中間層の突き出しがなく、前述の表からも明らかなよう
に、磁気ヘッドと磁気記録媒体とのコンタクト不良が解
消されて、前述の表からも明らかなように従来のものに
比較して、記録再生特性の低下がなくなり、しかも磁気
記録媒体の傷付きがなく耐久性が増し、信頼性の向上が
図れる。
に、磁気ヘッドと磁気記録媒体とのコンタクト不良が解
消されて、前述の表からも明らかなように従来のものに
比較して、記録再生特性の低下がなくなり、しかも磁気
記録媒体の傷付きがなく耐久性が増し、信頼性の向上が
図れる。
前述の表では中間層にB a T i O:lを用いた
試験例を示したが、この他)1vが200以上で120
0未満の非磁性材料1例えばSjO。
試験例を示したが、この他)1vが200以上で120
0未満の非磁性材料1例えばSjO。
AlzOヨならびにMgOなどにおいても同様の効果が
得られる。
得られる。
第1図は本発明の実施例に係る磁気・\ラドの斜視図、
第2図は第1図A−A線上の断面図、第3図は従来の磁
気ヘッドの一部拡大断面図、第4図は従来の磁気ヘッド
を用いて記録した記録媒体の記録状態を模式的に示す説
明図である。 6・・・・・・基体、7・・・・・・磁性金属薄膜、8
・・・・・・中間層・ 第2図 第3図 第4図
第2図は第1図A−A線上の断面図、第3図は従来の磁
気ヘッドの一部拡大断面図、第4図は従来の磁気ヘッド
を用いて記録した記録媒体の記録状態を模式的に示す説
明図である。 6・・・・・・基体、7・・・・・・磁性金属薄膜、8
・・・・・・中間層・ 第2図 第3図 第4図
Claims (3)
- (1)複数の磁性金属薄膜を非磁性の中間層を介して積
層してなる積層体で少なくとも磁気コアの一部を構成す
る磁気ヘッドにおいて、前記中間層のビッカース硬度が
200以上で1200未満であることを特徴とする磁気
ヘッド。 - (2)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記中
間層がSiO、Al_2O_3、MgOならびにBaT
iO_3のグループから選択された少なくとも1種の金
属酸化物で構成されていることを特徴とする磁気ヘッド
。 - (3)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記磁
性金属薄膜がコバルトを主成分とするアモルファス合金
で、前記中間層がMgO、Al_2O_3ならびにBa
TiO_3のグループから選択された少なくとも1種の
金属酸化物で、それぞれ構成されていることを特徴とす
る磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61059433A JPS62219217A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 磁気ヘツド |
US07/026,620 US4948667A (en) | 1986-03-19 | 1987-03-17 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61059433A JPS62219217A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62219217A true JPS62219217A (ja) | 1987-09-26 |
Family
ID=13113131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61059433A Pending JPS62219217A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 磁気ヘツド |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
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1987
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