JPH06305814A - セラミックス・グリーンシート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】本発明は、セラミックス粉末、紫外線吸光剤お
よび感光性樹脂組成物を含有することを特徴とするセラ
ミックス・グリーンシートに関する。 【効果】本発明によると、ヴィアホールやスルーホール
が極めて容易に、精度よくかつ均一に形成でき、しかも
微細な孔を確実に安価に形成できる。また、本発明のセ
ラミックス・グリーンシートにより形成したセラミック
ス多層基板は性能的にも優れているうえ、ヴィアホール
やスルーホールを飛躍的に小型化できるので、高信頼
性、高性能化、高密度化などを同時に達成することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、焼成セラミックス基板
などの形成に好適に用いられるセラミックス・グリーシ
ートに関するものであり、さらに詳しくは半導体素子を
搭載し、かつそれらを相互に配線した高密度実装などに
好適に用いられる焼成セラミックス基板、特に多層セラ
ミック基板に好適に用いるセラミックで作製したグリー
ンシートに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】多層セラミックス基板には大別すると、
厚膜印刷積層法とグリーンシート法によるものがある。

【０００３】厚膜印刷積層法は、焼成基板上に導電ペー
ストと絶縁ペーストを交互に印刷積層し、多層化するも
ので、印刷、乾燥を繰り返し行なった後に一回で焼成を
完了するものであるが、絶縁ペーストの塗布ごとに一回
ずつ焼成する場合もある。

【０００４】グリーンシート法には印刷法と積層法があ
る。

【０００５】グリーンシート印刷法はグリーンシート上
に導電ペーストと絶縁ペーストを交互に印刷積層し、多
層化するもので、印刷、乾燥を繰り返し行なった後に一
回で焼成を完了するものである。

【０００６】グリーンシート積層法は、グリーンシート
印刷法とほぼ同一の手法であるが、多層化するときに、
導体を印刷し、ヴィアホールやスルーホール（以下まと
めて、ヴィアホールという）加工を済ませたグリーンシ
ートを多数枚積層して熱圧着後、同時に焼成して多層基
板とする方法である。この方法は後で詳細に述べるが、
グリーンシートのヴィアホール形成後の穴径を小さくで
きないことやヴィアホール加工のための金型や治具を多
く必要とするなどの欠点がある。

【０００７】従来のセラミックス・グリーンシートは、
特開平１−２３２７９７や特開平２−１４１４５８号公
報に記載のごとく、通常、セラミックス粉末、有機バイ
ンダー、可塑剤、溶媒および必要に応じて分散剤などを
適宜配合した後、混合してスラリーとしたのち、得られ
たスラリーをドクターブレード法などの公知の方法によ
ってグリーンシートを形成するものである。

【０００８】これらのグリーンシートはカッターあるい
は打抜き型によって所望の形状に加工した後、さらにヴ
ィアホールを設けるためグリーンシートにパンチ・ダイ
による金型やレーザでの穴あけ加工が行われる。

【０００９】たとえば、グリーンシート多層積層法によ
る多層基板の製造はグリーンシート原料であるスラリー
をキャリアフィルム上に連続的に薄く延ばしてグリーン
シートを形成した後、このグリーンシートの裏面からキ
ャリアフィルムを剥離して除去し、グリーンシートを必
要なワークサイズに打ちぬくと共にグリーンシートに穴
あけ加工を施してヴィアホールを形成し、グリーンシー
トに通常のスクリーン印刷法によってヴィアホール内に
導電ペーストを充填する。またグリーンシートの厚みが
５０μｍ以下で薄い場合にはキャリアフィルムと一緒に
穴あけ加工を施し、ヴィアホールを形成している。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、従来の超硬で作製した打抜き金型
（パンチ）などを用いてグリーンシートにヴィアホール
の形成を行う場合、超硬の強度が低いため細径を有する
パンチの製作が難しく、また細い径のパンチによる加工
後の歩留まりが極端に低いため０．２ｍｍ以下の径の穴
を開けることがほとんどできず、実用価値が著しく劣る
ものであった。ヴィアホールの基板での占有面積はヴィ
アホール径の２乗に比例して大きくなるので、微細なヴ
ィアホールが形成できると配線基板の小型化が可能にな
るなどの多くのメリットが期待できるが、従来の技術に
よる限りこのようなメリットを期待することは不可能で
あった。

【００１１】また超硬などを使用すると切粉がグリーン
シート中に混入し、絶縁不良発生の原因にもなる。超硬
パンチで穴開け加工をすると相手材であるセラミックス
が超硬より硬いためパンチが磨耗し、頻繁に交換する必
要があり、穴開けコストが高くなり、基板の５０％以上
占めるなどの問題がある。

【００１２】 レーザ照射によってグリーンシートや
焼結後のセラミックス基板に穴開け加工することも行な
われているが、多数の穴を一度に開けていく場合には多
くの時間を要し、量産には向かない。また、レーザ加工
によって穴開けした場合には裏面側にいわゆる「バリ」
を生ずるため高精度のものが得られないことや焼成後の
基板を研磨することが必要などの欠点を有している。

【００１３】 従来はグリーンシートにヴィアホール
を形成する場合、グリーンシートの厚みが５０μｍ以下
特に２０μｍ以下になるとグリーンシートの強度が低い
ためポリエステルやＰＰＳなどの保護フィルムをグリー
ンシートに密着したまま孔加工を行なってきたが、孔開
け後グリーンシートの裏面側に加工屑などが付着した
り、保護フィルムを剥がすときにグリーンシートが変形
するなどの問題があった。また保護フイルムは使い捨て
になるのでグリーンシートにかかるコストが高くなる問
題があった。

【００１４】 大量の情報を迅速に処理する必要から
情報処理技術の進歩は著しく、情報処理装置の主要部を
構成している半導体チップをセラミック回路基板に緻密
に搭載して使用するが、一個の半導体チップの端子数が
多いことから回路基板上にパターンを形成する配線長の
数は膨大となり、必然的に多層配線構造が必要になる。
この場合、ヴィア形成のためヴィアホールを如何に容易
かつ迅速に形成し、穴径を細くするかが必要である。

【００１５】本発明は、かかる従来技術の諸欠点に鑑み
創案されたもので、その目的とするところは従来のセラ
ミック・グリーンシートが有する欠点を解消し、ヴィア
ホールやスルーホールの形成が極めて容易にかつ精度よ
くできしかも微細な孔を確実に形成することのできるセ
ラミック・グリーンシートを提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
セラミックス粉末、紫外線吸光剤および感光性樹脂組成
物を含有することを特徴とするセラミックス・グリーン
シート、好ましくは、セラミックス粉末、紫外線吸光
剤、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有す
るアクリル系共重合体、光反応性化合物および光重合開
始剤を含有することを特徴とするセラミックス・グリー
ンシートにより達成される。

【００１７】すなわち、本発明はセラミックスで作製し
たグリーンシート自体に感光性を付与したものであり、
これを使用すると、ホトリソグラフィ技術を用いてヴィ
アホールの形成が容易に精度よくできかつ微細な孔を安
価に効率良く形成できるものである。

【００１８】本発明において、セラミックス・グリーン
シートとは、原則、後述の製造方法においてスラリーを
塗布後溶媒を除去した単層のシートであって、露光前の
段階のものをいう。

【００１９】本発明において使用されるセラミックス粉
末としては特に限定されず、低温焼成用など公知のセラ
ミック絶縁材料がいずれも適用できる。

【００２０】本発明において使用されるセラミックス粉
末としては、セラミックス粉末単独、ガラス−セラミッ
クス複合系、結晶化ガラスなどがあげられる。

【００２１】セラミックス粉末単独で用いる場合の例と
しては、アルミナ（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、ジルコニア（ＺｒＯ
₂ ）、マグネシア（ＭｇＯ）、ベリリア（ＢｅＯ）、ム
ライト（３Ａｌ₂ Ｏ₃ ・２ＳｉＯ₂ ），コーディライト
（５ＳｉＯ₂ ・２Ａｌ₂ Ｏ₃・２ＭｇＯ）、スピネル
（ＭｇＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、フォルステライト（２ＭｇＯ
・ＳｉＯ₂ ）、アノーサイト（ＣａＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・２
ＳｉＯ₂ ）、セルジアン（ＢａＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・２Ｓｉ
Ｏ₂ ）、シリカ（ＳｉＯ₂ ）、クリノエンスタタイト
（ＭｇＯ・ＳｉＯ₂ ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）な
どの粉末、あるいは低温焼成セラミックス粉末があげら
れる。これらのセラミックス粉末の純度は９０重量％以
上であることが好ましい。

【００２２】窒化アルミニウム粉末を単独で用いる場合
には、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）に公知の添加剤であ
るカルシウム系化合物（例えばＣａＣ₂ ，ＣａＶＯ₃ ，
ＣａＣＮ₂ ，ＣＡＦ₂ ，ＣａＯ）やイットリウム系化合
物（例えばＹ₂ Ｏ₃ ）を０．５〜２０重量％加えた粉末
を用いることができる。また、Ｙ，希土類元素、アルカ
リ土類元素や炭素などの添加物を金属元素換算で０．０
１〜１５重量％加えた混合粉末、ＭｇＣ₂ ，ＺｒＣ，Ｖ
Ｃ，ＮｂＣなどの炭化物を１〜５重量％添加した粉末、
ＢｅＯなどの酸化物を添加した混合粉末なども使用でき
る。より好ましい添加量は、Ｙ₂ Ｏ₃ およびＢｅＯの場
合、１〜１０重量％、酸化カルシウムの場合、１〜５重
量％、炭素の場合は１重量％以下である。これらの添加
物は単独あるいは二種類以上混合して使用することがで
きる。これらの添加物をを加えることによって窒化アル
ミニウムの焼結性を向上させ、緻密でかつ高熱伝導度を
有する焼結体が得られる。

【００２３】ガラス−セラミックス複合系の例として
は、例えばＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＣａＯ、Ｂ₂ Ｏ₃ お
よび必要に応じてＭｇＯおよびＴｉＯ₂ などを含むガラ
ス組成粉末と、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、ベ
リリア、ムライト、コーディライト、スピネル、フォル
ステライト、アノーサイト、セルジアン、シリカおよび
窒化アルミの群から選ばれる少なくとも一種の無機フィ
ラー粉末との原料混合物があげられる。より好ましくは
セラミックス粉末が酸化物換算表記で ＳｉＯ₂ ３０〜７０重量％ Ａｌ₂ Ｏ₃ ５〜２５重量％ ＣａＯ ５〜２５重量％ ＭｇＯ ０〜１０重量％ Ｂ₂ Ｏ₃ ３〜５０重量％ ＴｉＯ₂ ０〜１５重量％ の組成範囲で、総量が９５重量％以上となるガラス組成
粉末４０〜６０重量％と、アルミナ、ジルコニア、マグ
ネシア、ベリリア、ムライト、コーディライト、スピネ
ル、フォルステライト、アノーサイト、セルジアン、シ
リカおよび窒化アルミの群から選ばれた少なくとも一種
の無機フィラー粉末６０〜４０重量％との原料混合物で
ある。すなわち、ＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＣａＯ、Ｍｇ
Ｏ、Ｂ₂ Ｏ₃ 、ＴｉＯ₂ の組成範囲は、ガラス組成粉末
中の割合であり、これらの成分がガラス組成粉末中で総
量９５重量％以上であることが好ましい。残りの５重量
％はＮａ₂ Ｏ，Ｋ₂ Ｏ，ＢａＯ，ＰｂＯ，Ｆｅ₂ Ｏ₃ ，
Ｍｎ酸化物，Ｃｒ酸化物，ＮｉＯ，Ｃｏ酸化物などを含
有することができる。

【００２４】ガラス−セラミックス複合系の具体例とし
ては、ＳｉＯ₂ −Ｂ₂ Ｏ₃ 系ガラス、ＰｂＯ−ＳｉＯ₂
−Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｂ₂ Ｏ₃ 系ガラス、ＣａＯ−ＳｉＯ₂ −
Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｂ₂ Ｏ₃ 系ガラスなどに、Ａｌ₂ Ｏ₃ ，石
英（ＳｉＯ₂ ），ＺｒＯ₂ ，コーディライトなどのセラ
ミックス成分を加えたものがあげられる。

【００２５】ガラス組成粉末中のＳｉＯ₂ は３０〜７０
重量％の範囲であることが好ましく、３０重量％未満の
場合はガラス層の強度や安定性が低下し、また誘電率や
熱膨張係数が高くなり所望の値から外れやすい。また７
０重量％より多くなると焼成基板の熱膨張係数が高くな
り、また１０００℃以下の焼成が困難となる。

【００２６】Ａｌ₂ Ｏ₃ は５〜２５重量％の範囲で配合
することが好ましい。５重量％未満ではガラス相中の強
度が低下するうえ、１０００℃以下での焼成が困難とな
る。２５重量％を越えるとガラス組成をフリット化する
温度が高くなり過ぎる。

【００２７】ＣａＯは５〜２５重量％の範囲で配合する
のが好ましい。５重量％より少なくなると所望の熱膨張
係数が得られなくなり、また１０００℃以下での焼成が
困難となる。２５重量％を越えると誘電率や熱膨張係数
が大きくなり好ましくない。

【００２８】ＭｇＯは０〜１０重量％の範囲で配合する
ことが好ましく、これによりガラスの溶融温度の制御が
容易になる。１０重量％を越えると得られる基板の熱膨
張係数が高くなる。

【００２９】Ｂ₂ Ｏ₃ はガラスフリットを１３００〜１
４５０℃付近の温度で溶解するため、およびＡｌ₂ Ｏ₃
が多い場合でも誘電率、強度、熱膨張係数、焼結密度な
どの電気、機械および熱的特性を損なうことのないよう
にセラミックス焼成温度を８００〜１０００℃の範囲に
制御するために配合することが好ましく、配合量として
は３〜５０重量％の範囲が好ましい。３重量％未満で
は、Ｂ₂ Ｏ₃ が多すぎるとセラミックスの強度が低下し
やすく、また５０重量％を越えると、ガラスの安定性が
低下し、無機フィラー（結晶）とガラスとの反応による
再結晶化が速くなり、また、多層基板とした場合にガラ
ス相が滲み出る現象が起こり好ましくない。

【００３０】ＴｉＯ₂ は０〜１５重量％の範囲で配合す
ることが好ましい。本発明の低温焼成セラミックス基板
は焼成前には非晶質ガラスと無機フィラーとの混合物で
あるが、フィラーの種類によっては非晶質ガラスとセラ
ミックスと結晶化ガラスの部分結晶化セラミックスとな
っていると推定される。ＴｉＯ₂ は結晶化ガラスの生成
において有効な核形成物質として作用し、上記範囲にあ
ることが好ましい。

【００３１】無機フィラー粉末は、基板の機械的強度の
向上や熱膨張係数を制御するのに有効であり、とくにア
ルミナ、ジルコニア、ムライト、コーディライト、アノ
ーサイトはその効果が優れている。無機フィラーの割合
が６０重量％を越えると焼結しにくくなり、１０００℃
以下で焼結することが困難になる。また４０重量％未満
では、熱膨張係数の制御や低誘電率の基板が得られにく
くなる。したがって、無機フィラー粉末をこの範囲とす
ることによりセラミックスの焼成温度を８００〜１００
０℃とし、強度、誘電率、熱膨張係数、焼結密度、体積
固有抵抗、収縮率を所望の特性とすることができる。

【００３２】本発明で使用される無機フィラー粉末中、
不純物として、０〜５重量％までのＮａ₂ Ｏ，Ｋ₂ Ｏ，
ＢａＯ，ＰｂＯ，Ｆｅ₂ Ｏ₃ ，Ｍｎ酸化物，Ｃｒ酸化
物，ＮｉＯ，Ｃｏ酸化物などを含有することができる。

【００３３】ガラス組成粉末の作製法としては、例え
ば、原料であるＳｉＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃，ＣａＯ，Ｍｇ
Ｏ，Ｂ₂ Ｏ₃ ，ＴｉＯ₂ などを所定の配合組成となるよ
うに混合し、１２５０〜１４５０℃で溶融後、急冷し、
ガラスフリットにしてから粉砕して０．５〜３μｍの微
細な粉末とする方法がある。原料としては、高純度の炭
酸塩、酸化物、水酸化物などを使用できる。またガラス
粉末の種類や組成によっては９９．９９％以上の超高純
度なアルコキシドや有機金属の原料を使用し、ゾル・ゲ
ル法で均質に作製した粉末を使用すると低誘電率で、緻
密で、高強度なセラミックス基板が得られるので好まし
い。

【００３４】結晶化ガラスの具体例としては、ＭｇＯ−
Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ 系やＬｉ₂ Ｏ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｓｉ
Ｏ₂ 系の結晶化ガラスなどが使用される。結晶化ガラス
はたとえばＭｇＯ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ にＢ₂ Ｏ₃ と
核形成物質を加えて、９００〜１０００℃で焼成し、コ
ーディライト結晶を析出させ高強度化を図ったものや、
Ｌｉ₂ Ｏ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ にＢ₂ Ｏ₃ と核形成物
質を加え、スポジュメンを析出させ、同じく高強度化を
図ったものも使用される。

【００３５】上記において使用するセラミックス粉末の
粒子径および比表面積は作製しようとするグリーンシー
トの厚みや焼成後の収縮率を考慮して選ばれるが、粉末
の場合は粒子径０．８〜６μｍ、比表面積０．４〜１４
ｍ² ／ｇを同時に満たすことが好ましい。より好ましい
範囲は粒子径１．０〜４．０μｍ、比表面積０．５〜１
０ｍ² ／ｇである。この範囲にあると紫外線露光時にお
いて光が十分透過し、上下の孔径差のない均一なヴィア
ホールが得られる。粉末粒子径が０．８μｍ未満の場
合、または、比表面積が１４ｍ² ／ｇを越える場合、粉
末が細かくなりすぎて露光時において光が散乱されて未
露光部分を硬化するようになる。このため現像時に真円
度のあるヴィアホールが得られなくなったり、露光時に
紫外光がシートの下部まで十分に達しないうちに光が途
中で吸収されてしまい、光硬化が孔内部まで均一に起こ
らないためヴィア孔内面にビアダル（ビールの樽の形
状）やオーバーハング（孔がテーパ形状）が生ずるなど
して直線性のあるヴィアホールが得られない。また、焼
成後の収縮率が大きくなり高精度のグリーンシートが得
られない。一方、粒子径が６μｍの場合、または、比表
面積が０．５ｍ² ／ｇ未満の場合、焼成後緻密な焼結体
が得られなくなる。粉末の形状としては、球状であるこ
とが好ましく、粒度分布が鋭いと紫外線露光時に散乱の
影響を低く抑制できるので好ましい。

【００３６】本発明のセラミックス・グリーンシートの
形成に用いられる感光性樹脂としては、従来から公知の
感光性樹脂を適用することができる。これらの感光性樹
脂からなる感光層は活性な光線を照射することにより不
溶化または可溶化する層である。

【００３７】光不溶化型感光性物質の例としては、
（１）１分子に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマーやオリゴマーを適当なポリマーバインダーと混
合したもの、（２）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド
化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化合物を適当
なポリマーバインダーと混合したもの、（３）既存の高
分子に感光性の基をペンダントさせることにより得られ
る感光性高分子あるいはそれを改質したもの、（４）ジ
アゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆ
るジアゾ樹脂といわれるもの、などがあげられる。

【００３８】また光可溶型感光性物質の例としては、
（１）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類などを適当なポリマーバインダーと
混合したもの、（２）キノンジアゾ類を適当なポリマー
バインダーと結合させた、例えばフェノール、ノボラッ
ク樹脂のナフトキノン１、２−ジアジド−５−スルフォ
ン酸エステル、などがあげられる。

【００３９】特に好ましい感光性樹脂は、側鎖にカルボ
キシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重
合体であり、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合
物を共重合させて形成したアクリル系共重合体に、エチ
レン性不飽和基を側鎖に付加させることによって製造す
ることができる。

【００４０】不飽和カルボン酸の具体的な例としては、
アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無
水物などがあげられる。一方、エチレン性不飽和化合物
の具体的な例としては、メチルアクリラート、メチルメ
タアクリラート、エチルアクリラート、エチルメタクリ
ラート、ｎ−プロピルアクリラート、イソプロピルアク
リラート、ｎ−ブチルアクリラート、ｎ−ブチルメタク
リラート、ｓｅｃ−ブチルアクリラート、ｓｅｃ−ブチ
ルメタクリラート、イソ−ブチルアクリラート、イソブ
チルメタクリラート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリラート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリラート、ｎ−ペンチルアクリ
ラート、ｎ−ペンチルメタクリラート、スチレン、ｐ−
メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチ
レンなどがあげられるが、これらに限定されない。これ
らのアクリル系主鎖ポリマの主重合成分として前記のエ
チレン性不飽和化合物の中から少なくともメタクリル酸
メチルを含むことによって熱分解性の良好な共重合体を
得ることができる。

【００４１】側鎖のエチレン不飽和基としてはビニル
基、アリル基、アクリル基、メタクリル基のようなもの
がある。このような側鎖をアクリル系共重合体に付加さ
せる方法としては、アクリル系共重合体中のカルボキシ
ル基にグリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物や
アクリル酸クロライドを付加反応させて作る方法があ
る。

【００４２】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。また、アクリル酸クロライド
化合物としては、アクリル酸クロライド、メタアクリル
酸クロライド、アリルクロライドなどがあげられる。こ
れらのエチレン性不飽和化合物あるいはアクリル酸クロ
ライドの付加量としては、アクリル系共重合体中のカル
ボキシル基に対して０．０５〜１モル当量が好ましく、
さらに好ましくは０．１〜０．８モル当量である。付加
量が０．０５モル当量未満では感光特性が不良となりパ
ターンの形成が困難になるため好ましくない。また、付
加量が１モル当量より大きい場合は、未露光部の現像液
溶解性が低下したり、塗布膜の硬度が低くなり好ましく
ない。

【００４３】側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和
基を有するアクリル重合体の酸価（ＡＶ）は５０〜１８
０であることが好ましく、より好ましくは７０〜１６０
である。さらに好ましくは８０〜１２０である。酸価が
５０未満であるとエチレン性不飽和基の量が増加し、感
光性を有するカルボキシル基の割合が低下するので現像
許容幅が狭いうえ、ヴィアホールエッジの切れが悪くな
る。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像液に
対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度を濃
くすると露光部まで剥がれが発生し、高精度を有するヴ
ィアホールが得られにくくなる。またグリーンシートの
硬度が低下する。

【００４４】また、ポリマの分子量には数平均分子量
（Ｍｎ），重量平均分子量（Ｍｗ），Ｚ平均分子量（Ｍ
ｚ）があるが、好ましい範囲はそれぞれ１万〜２万、２
万〜６万、５０００〜２０万である。この範囲にあると
現像性が向上し微細なヴィアホールが得られやすい。ま
た、分散度を表わす（Ｍｗ／Ｍｎ）比が２〜４の範囲に
あり、分子量分布が鋭いほど現像特性が向上し、微細な
ヴィアホールが得られるので好ましい。

【００４５】これらの感光性樹脂は、ポリマーバインダ
ーとして作用するものであるが、ポリマーバインダー成
分として非感光性ポリマーを含有することが好ましい。
非感光性のポリマーを含有しないグリーンシートに紫外
線を照射して硬化させると、引っ張り強度は２倍以上向
上するが、伸びが低下する。ここで、非感光性ポリマー
を含有することによって伸びが向上する。非感光性ポリ
マーの含有量は感光性ポリマーの５〜５０重量％である
ことが好ましい。５重量％未満では、伸びの向上に対し
て効果が低く、５０重量％を越えるとグリーンシートに
紫外線を照射しても十分硬化されないのでグリーンシー
トの耐薬品性や耐溶解性や機械的強度がが向上しない。
具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラ
ール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステ
ル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル
共重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリ
レート樹脂などがあげられる。

【００４６】本発明で使用される光反応性化合物は光反
応性を有する炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物を
用いることができ、その具体的な例としてアリルアクリ
ラート、ベンジルアクリラート、ブトキシエチルアクリ
ラート、ブトキシトリエチレングリコールアクリラー
ト、シクロヘキシルアクリラート、ジシクロペンタニル
アクリラート、ジシクロペンテニルアクリラート、２−
エチルヘキシルアクリラート、グリセロールアクリラー
ト、グリシジルアクリラート、ヘプタデカフロロデシル
アクリラート、２−ヒドロキシエチルアクリラート、イ
ソボニルアクリラート、２−ヒドロキシプロピルアクリ
ラート、イソデキシルアクリラート、イソオクチルアク
リラート、ラウリルアクリラート、２−メトキシエチル
アクリラート、メトキシエチレングリコールアクリラー
ト、メトキシジエチレングリコールアクリラート、オク
タフロロペンチルアクリラート、フェノキシエチルアク
リラート、ステアリルアクリラート、トリフロロエチル
アクリラート、アリルシクロヘキシルジアクリラート、
ビスフェノ−ルＡジアクリラート、１，４−ブタンジオ
−ルジアクリラート、１，３−ブチレングリコールジア
クリラート、エチレングリコールジアクリラート、ジエ
チレングリコールジアクリラート、トリエチレングリコ
ールジアクリラート、ポリエチレングリコールジアクリ
ラート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート、
ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリラ
ート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリラート、
グリセロールジアクリラート、メトキシシクロヘキシル
ジアクリラート、ネオペンチルグリコールジアクリラー
ト、プロピレングリコールジアクリラート、ポリプロピ
レングリコールジアクリラート、トリグリセロールジア
クリラート、トリメチロールプロパントリアクリラート
および上記のアクリラートをメタクリラートに変えたも
の、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。本発明
ではこれらの光反応性化合物を１種または２種以上使用
することができる。

【００４７】側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和
基を有するアクリル系共重合体は、光反応性化合物に対
して、通常、重量比で０．５〜５倍量用いる。該アクリ
ル系共重合体の量が少なすぎると、スラリーの粘度が小
さくなり、スラリー中での分散の均一性が低下するおそ
れがある。一方、アクリル系共重合体の量が多すぎれ
ば、未露光部の現像液への溶解性が不良となる。

【００４８】本発明で使用される光重合開始剤の具体的
な例として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸
メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノ
ン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４
−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオ
レノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−
ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノ
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロ
ロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキ
サントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピ
ルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジ
ル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジル−メトキシ
エチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２
−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノ
ン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズア
ントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４
−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−
アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス
（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサ
ノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−
メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパ
ンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、
１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エ
トキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エト
キシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキ
シム、ミヒラ−ケトン、２−メチル−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、
ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニル
クロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４、４−ア
ゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、
ベンズチアゾ−ルジスルフィド、トリフェニルホルフィ
ン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェ
ニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレン
ブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエ
タノールアミンなどの還元剤の組合せなどがあげられ
る。本発明ではこれらを１種または２種以上使用するこ
とができる。

【００４９】光重合開始剤は、側鎖にカルボキシル基と
エチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体と光反
応性化合物の和に対し、０．１〜５０重量％の範囲で添
加され、より好ましくは、２〜２５重量％である。光重
合開始剤の量が少なすぎると、光感度が不良となり、光
重合開始剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さく
なりすぎるおそれがある。

【００５０】本発明において、グリーンシートのヴィア
ホール形成のために感光性樹脂とセラミックス粉末に紫
外線（ＵＶ）吸光剤を添加することが必須である。紫外
線吸収効果の高い吸光剤を添加することによって高解像
度が得られる。すなわち、通常、セラミックス粉末だけ
では、余計な部分まで光硬化し、現像してもヴィアホー
ルの形成ができなくなったり、真円度が大きく低下する
ことが起こる。この原因について、本発明者らが鋭意検
討を行った結果、散乱された紫外光が吸収されてあるい
は弱められて露光マスクによる遮光部分にまでまわり込
むことが原因であることが判明した。したがって、紫外
線吸光剤を添加することによって散乱光のまわり込みが
ほぼ回避され，マスク部分の感光性樹脂の硬化を防ぎ、
露光マスクに相当したパターンが形成されるようにな
る。

【００５１】また、紫外線吸光剤がない場合、シートに
紫外線を照射しても、セラミックス粉末によって反射、
散乱されてシートの表面の一部しか硬化されないためグ
リーンシートの耐薬品性や機械強度の向上はほとんど認
められず、また紫外線照射後のグリーンシートに曲りや
反りが発生し、高寸法精度が必要なグリーンシートが得
られず、機械強度も低くなる。しかしながら、紫外線吸
光剤を添加すると、紫外線が効果的に吸収されてグリー
ンシートの下部まで達することができるので、シートの
内部まで均一に光硬化されてグリーンシートの耐薬品
性、寸法精度が向上し、さらに機械強度が大幅に向上す
る。とくに引っ張り強度は２〜５倍増加する。

【００５２】紫外線吸光剤としては３５０〜４５０ｎｍ
の波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する無機粉末あるいは
有機染料などが好ましく用いられる。無機粉末として
は、酸化コバルトＣｏ₂ Ｏ₃ ，ＣｏＯ、酸化鉄Ｆｅ₂ Ｏ
₃ 、酸化クロムＣｒ₂ Ｏ₃ 、酸化マンガンＭｎＯ₂ 、酸
化銅Ｃｕ₂ Ｏ，ＣｕＯ、酸化チタンＴｉＯ₂ などの酸化
物、炭化チタンＴｉＣ、炭化タングステンＷＣ，炭化ジ
ルコンＺｒＣ，炭化珪素ＳｉＣ、炭化ニオブＮｂＣなど
の炭化物、チタニウム・ボライドＴｉＢ₂ 、ジルコニウ
ム・ボライドＺｒＢ₂ などの硼化物、窒化チタンＴｉ
Ｎ，窒化ジルコンＺｒＮ、窒化タンタルＴａＮなどの窒
化物、炭素（Ｃ）がある。この中で好ましい無機粉末は
炭素および炭化物で、パターンがにじみなく鋭く形成で
き、しかもヴィアホールを上下の孔径差がなく微細に形
成できる。特に炭素は酸素含有雰囲気下で焼成すると炭
酸ガスとして揮発するのでセラミックス基板としての絶
縁や誘電特性の低下を最小限にできるので好ましい。

【００５３】これらの無機粉末は酸化物と窒化物、炭化
物との２種あるいは３種類以上の複合粉末としても用い
ることができるが、セラミックス基板としての絶縁、誘
電体特性を低下させない範囲で選択することが好まし
い。無機粉末の添加量としては、０．１〜５重量％が好
ましい。０．１重量％未満では紫外線吸光剤の添加効果
が減少し、５重量％を越えると基板特性が低下するので
好ましくない。より好ましくは０．２５〜１重量％であ
る。

【００５４】有機染料としては、高い吸光度を有する種
々の染料が使用できる。有機染料としてアゾ系染料、キ
ノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系
染料、ベンゾフェノン系染料、ベンゾトリアゾール系染
料、シアノアクリレート系染料、キサンテン系染料から
選ばれた少なくとも一種が使用できる。有機染料は、吸
光剤として添加した場合にも焼成時に蒸発するため焼成
後の基板中に残存しないので吸光剤による絶縁抵抗の低
下がないので好ましい。

【００５５】アゾ系染料としての代表的なものとして、
スダンブルー（Ｃ₂₂Ｈ₁₈Ｎ₂ Ｏ₂ ＝３４２．４）、スダ
ンＲ（Ｃ₁₇Ｈ₁₄Ｎ₂ Ｏ₂ ＝２７８．３１）、スダンII
（Ｃ₁₈Ｈ₁₄Ｎ₂ Ｏ＝２７６．３４）、スダンIII （Ｃ₂₂
Ｈ₁₆Ｎ₄ Ｏ＝３５２．４）、スダンIV（Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄ ０
＝３８０．４５）、オイルオレンジＳＳ（ＣＨ₃ Ｃ₆ Ｈ
₄ Ｎ：ＮＣ₁₀Ｈ₆ ＯＨ＝２６２．３１）、オイルバイオ
レット（Ｃ₂₄Ｈ₂₁Ｎ₅ ＝３７９．４６）、オイルイエロ
ーＡＢ、オイルイエローＯＢ（ＣＨ₃ Ｃ₄ Ｈ₄ Ｎ：ＮＣ
₁₀Ｈ₄ ＮＨ₂ ＝２６１．３３）、オイルブラック２Ｈ
Ｂ，ナフチルレッド、ナフチルアミンボルドー、アシッ
ドレッド５２、ニューコクシン、アゾブルー、ベンゾパ
ープリン４Ｂ，クロラチンフアストレッド５Ｂなどがあ
る。アントラキノン系染料は、アルゴールドレッド５Ｇ
が，キサンテン系染料は、アシッドローダミンＢなどが
挙げられる。

【００５６】これらの有機染料の中でもスダンＩ、スダ
ンII、スダンIII 、スダンIV、オイルオレンジＳＳ，オ
イルブラック２ＨＢ，アシッドレッド５２，ニューコク
シン、オイルイエローＡＢ，オイルイエローＯＢは紫外
線に対する３５０〜４５０ｎｍにおける吸光度の積分値
が１５０以上と非常に高く、また中性あるいは還元雰囲
気中において６００〜８００℃の温度でほぼ完全に分解
し、残査を残さないので好ましい。

【００５７】有機染料の添加量としては、焼成後のセラ
ミックス基板特性である曲げ強度、絶縁抵抗、誘電率、
熱膨張特性などを低下させない範囲であり、セラミック
ス粉末に対して０．１〜２重量％である。

【００５８】有機染料の添加方法としては以下の方法に
よることが好ましい。すなわち、有機染料を予め有機溶
媒あるいは水中に溶解させた溶液を作製する。次に溶液
に分散剤を加えて均一な溶液とした後に、超音波分散と
ホモジナイザで充分に攪拌、混合後、回転式エバポレイ
ターを用いて有機溶媒あるいは水を蒸発・除去しながら
乾燥する。この方法によると、セラミックス粉末の個々
の表面に均質に有機染料の膜で均一にコーティングされ
たいわゆるカプセル状のセラミックス粉末が作製でき
る。カプセル状にしたときの有機染料の膜厚は、１０〜
１５０ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは２０〜１
００ｎｍである。膜厚が１０ｎｍ未満であると紫外線露
光時において光がシートの下部まで十分透過する前に粉
末によって散乱されて未露光部を硬化するようになり、
真円度のあるヴィアホールが得られなくなる。また膜厚
が１５０ｎｍを越えると光がシートの下部まで達する前
に粉末に吸収されてしまい。下部のシートまで光が透過
しないため光硬化できなくなる。この結果、現像時に下
部のシートが剥がれるようになり、ヴィアホールの形成
が困難になる。使用する分散剤としては、カチオン系界
面活性剤が好ましく、その量はセラミックス粉末に対し
て０．１〜３重量％である。

【００５９】本発明においては、紫外線吸光剤の３５０
ｎｍ〜４５０ｎｍにおける吸光度の積分値について好ま
しい範囲がある。すなわち吸光度の積分値は、粉末の状
態で測定されるもので、有機染料、あるいはセラミック
ス粉末の表面を有機染料で被覆したものについて測定さ
れる。

【００６０】本発明で、吸光度は下記のように定義され
る。すなわち、市販の分光光度計を使用して積分球の中
で光を測定用試料に当て、そこで反射された光を集めて
検出する。また積分球により検出された光以外は、すべ
て吸収光とみなして下記の式から求められる。

【００６１】対照光の光強度をＩｒ（Ｉｒは試料の吸光
度を測定する前に、積分球内面に塗布してある材料と同
じ材料のＢａＳＯ₃ を試料台に取り付けて反射による光
強度を測定したデータ） 試料に入射した光の光強度をＩ、試料に当たった後、吸
収分の光強度をＩｏとすると、試料からの反射分の光強
度は（Ｉ−Ｉｏ）で表わされ、吸光度は下記の（１）式
ように定義される。上記で光強度の単位は、Ｗ／ｃｍ₂
で表わす。 吸光度＝−ｌｏｇ（（Ｉ−Ｉｏ）／Ｉｒ） （１）

【００６２】吸光度の測定は下記のようにして行う。 １．吸光剤を添加した粉末をプレス機で直径２０ｍｍ、
厚み４ｍｍのサイズに成型する。 ２．次に分光光度計を用いて積分球の反射試料の取り付
け口に粉末の成型体を取り付けて、反射光による吸光度
を波長範囲２００〜６５０ｎｍで測定すると図１のよう
なグラフが得られる。縦軸は（１）式の吸光度で、横軸
は測定波長を示す。３．次に図１で波長３５０〜４５０
ｎｍの範囲を１０ｎｍ毎の１０区間に分け、それぞれの
区間毎の面積を求める。面積は次のように求められる。
例えば、 ３５０ｎｍのときの吸光度を０．７５ ３６０ｎｍのときの吸光度を０．８０ ３７０ｎｍのときの吸光度を０．８５ ・ ・ ４４０ｎｍのときの吸光度を０．６０ ４５０ｎｍのときの吸光度を０．５５として、３５０〜
３６０ｎｍの部分の面積をＡとし、台形とみなすとＡは
下記のように計算される。 面積Ａ＝（０．７５＋０．８０）×１０／２＝７．７５ 同様に面積Ｂは 面積Ｂ＝（０．８０＋０．８５）×１０／２＝８．２５ ・ ・ 同様に面積Ｊは 面積Ｊ＝（０．６０＋０．５５）×１０／２＝５．７５ となる。１０区間の面積の積分値Ｓは下記のようにして
求められる。 Ｓ＝Ａ＋Ｂ＋…Ｊ 上記の面積Ｓを３５０〜４５０ｎｍにおける吸光度の積
分値として定義した。

【００６３】本発明で上記の吸光度の積分値の好ましい
範囲は、３０〜１５０であり、さらに好ましい範囲は３
０〜７０である。吸光度が３０未満であると紫外線露光
時において光がグリーンシートの下まで十分透過する前
に粉末によって散乱されて未露光部を硬化するようにな
り、真円度のあるヴィアホル形成ができなくなる。また
吸光度が１５０を超えると光がグリーンシートの下部に
達する前に粉末に吸収されてしまい、下部のシートまで
光が透過しないため光硬化できなくなる。この結果、現
像時に剥がれるようになり、ヴィアホールの形成が困難
になる。

【００６４】本発明においてセラミックス粉末あるいは
紫外線吸光剤に含まれるＰｂ，Ｂｉ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍ
ｎ，Ｃｏ，Ｍｇなどの金属およびその酸化物が、ペース
ト中に含有する感光性ポリマーのカルボキシル基と反応
してペーストが短時間でゲル化し、塊となりペーストと
して印刷できなくなる場合がある。これは感光性ポリマ
ーと上記の金属や酸化物粉末とのイオン架橋反応と推定
されるが、このような架橋反応を防止するために、感光
性ポリマーには勿論のこと、光反応性化合物、光重合開
始剤あるいは可塑剤などに悪い影響を与えない化合物
（安定化剤）を添加しゲル化を防止することが好まし
い。すなわち、ゲル化反応を引き起こす金属や酸化物粉
末との錯体化、あるいは酸官能基との塩形成などの効果
のある化合物で粉末を表面処理し、感光性グリーンシー
トを安定化させることが好ましい。

【００６５】上記の要件を満たす安定化剤として、トリ
アゾール化合物が好ましく使用できる。トリアゾール化
合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有効に作用す
る。またヘキサメチレンテトラミン、ナフテン酸リチウ
ム（Ｌｉ）などもゲル化抑制に効果がある。

【００６６】ベンゾトリアゾールを用いてセラミックス
粉末や紫外線吸光剤中の金属および金属酸化物の粉末の
表面処理する方法は、以下の通りである。すなわち、所
定の量のベンゾトリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチ
ル、エチルアルコール、メチルアルコールなどの有機溶
媒に溶解し、これらの粉末が十分に浸ることができるよ
うに溶液中に１〜２４時間浸漬することが好ましい。浸
漬後、好ましくは２０〜３０℃下で自然乾燥して溶媒を
蒸発させることにより、トリアゾール処理を行った粉末
が得られる。

【００６７】本発明において使用される安定化剤の割合
（安定化剤／セラミックス粉末や紫外線吸光剤中の金属
および金属酸化物）は０．２〜４重量％が好ましく、さ
らに０．４〜３重量％であることがより好ましい。０．
２重量％未満ではポリマーの架橋反応を防止するのに効
果がなく、短時間でゲル化しやすい。また４重量％を越
えると安定化剤の量が多くなり過ぎて非酸化性雰囲気中
でのグリーンシートの焼成時においてポリマーバインダ
ー、光反応性化合物および安定化剤などの脱バインダー
が困難となり、基板の特性が低下する。

【００６８】本発明においてセラミックス・グリーンシ
ート中に、増感剤、増感助剤、光重合促進剤、熱重合禁
止剤、可塑剤、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機
の沈殿防止剤などを添加することも好ましく行われる。

【００６９】増感剤、増感助剤、光重合促進剤は、高感
度を向上させるために添加される。増感剤、増感助剤、
光重合促進剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニ
ル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、
３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノール
アミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオ−テトラゾー
ラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオ
−テトラゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを
１種または２種以上使用することができる。なお、増感
剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがあ
る。増感剤を本発明のセラミックス・グリーンシートに
添加する場合、その添加量は側鎖にカルボキシル基とエ
チレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体と光反応
性化合物の和に対して通常０．１〜３０重量％、より好
ましくは０．５〜１５重量％である。増感剤の量が少な
すぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤
の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるお
それがある。

【００７０】熱重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上
させるために添加される。熱重合禁止剤の具体的な例と
しては、ヒドロキノン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミ
ン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−
フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ
−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなど
が挙げられる。熱重合禁止剤を添加する場合、その添加
量は、側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル系共
重合体と光反応性重合性化合物の和に対し、通常、０．
１〜２０重量％、より好ましくは、０．５〜１０重量％
である。熱重合禁止剤の量が少なすぎれば、保存時の熱
的な安定性を向上させる効果が発揮されず、熱重合禁止
剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎ
るおそれがある。

【００７１】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００７２】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ク
レゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ
−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス
−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２
−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）、４，４−チビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−
（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）
ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシッド］グリコー
ルエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフ
ェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添
加する場合、その添加量は通常、セラミックス粉末、側
鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、
光反応重合性化合物、ガラスフリットおよび光重合開始
剤の総和に対して０．０１〜５重量％、より好ましくは
０．１〜１重量％である。酸化防止剤の量が少なければ
保存時のアクリル系共同重合体の酸化を防ぐ効果が得ら
れず、酸化防止剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小
さくなりすぎるおそれがある。

【００７３】本発明のセラミックス・グリーンシート形
成用のスラリーの好ましい組成としては、次の範囲で選
択するのが好ましい。

【００７４】（ａ）セラミックス粉末 ；（ａ），
（ｂ）の和に対して８２〜９４重量％ （ｂ）側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するアクリル系共重合体と光反応性化合物 ；
（ａ），（ｂ）の和に対して１８〜６重量％ （ｃ）光重合開始剤 ；（ｂ）に対して２〜２５重
量％ （ｄ）紫外線吸光剤 ；（ａ）に対して０．０５〜
４重量％ 上記においてより好ましくは、セラミックス粉末
（ａ）、（ｂ）および（ｄ）成分の組成をそれぞれ８５
〜９２重量％、１５〜８重量％、および０．１〜１重量
％の範囲に選択するのがよい。この範囲にあると露光時
において紫外線が良く透過し、光硬化の機能が十分発揮
され、後の現像時における未露光部の残膜の発生をほと
んどなくすることができ、高い真円度を有するヴィアホ
ールの形成ができる。また特に（ｂ）成分であるアクリ
ル系共重合体と光反応性化合物の合計量をこの範囲とす
ることにより焼成後の焼結体が緻密になり、高強度のセ
ラミックス基板が得られる利点がある。

【００７５】本発明のセラミックス・グリーンシート用
のスラリーは、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽
和基を有するアクリル系共重合体と光重合開始剤を光反
応性化合物に溶解し、この溶液にセラミックス粉末と紫
外線吸光剤とを分散させることによって製造することが
できる。側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル系
共重合体と光重合開始剤が光反応性化合物に溶解しない
場合、あるいは溶液の粘度を調整したい場合には該アク
リル系共重合体、光重合開始剤および光反応性化合物の
混合溶液が溶解可能である有機溶媒を加えてもよい。こ
のとき使用される有機溶媒は側鎖にエチレン性不飽和基
を有するアクリル系共重合体、光重合開始剤および光反
応性化合物の混合物を溶解しうるものであればよい。た
とえばメチルセルソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチル
アルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、
トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、トリクロー
ルエチレン、メチルイソブチルケトン、イソホロンなど
やこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が
用いられる。

【００７６】さらに必要に応じて、有機溶媒、安定化
剤、増感剤、増感助剤、光重合促進剤、熱重合禁止剤、
可塑剤、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿
防止剤などを添加し、ボールミルあるいはアトライター
でたとえば１２〜４８時間粉砕・混合し、スラリーを作
製する。また、スラリー中に気泡が残存するとシート成
型後に欠陥となるので気泡を脱泡機を使用して除去する
ことが好ましい。

【００７７】また、スラリーの粘度を調整するために必
要に応じて上記の有機溶媒を添加する。好ましい粘度は
１０００〜５０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）であり、
この範囲にあるとシートの膜厚の調整が均質にできる。
得られたスラリーをドクタブレードを用いてポリエステ
ルフィルムなどのフィルム上に連続的に厚さ１０〜６０
０μｍに成形する。次いで８０〜１２０℃の温度で１０
分〜１時間、加熱して溶媒類を蒸発させ、セラミックス
・シートにする。このシートを所定の形状に切断する。

【００７８】本発明のセラミックス・グリーンシートの
厚みは通常、１０〜５００μｍの範囲であり、好ましく
は３０〜２００μｍである。５００μｍを越えると紫外
線の露光に対して十分透過せず、光硬化の効果が薄れ
る。また、１０μｍ未満であるとグリーンシートの取り
扱いが難しくなる。より好ましいシートの厚みは０．０
１〜０．０５ｍｍである。この範囲にあると径０．０１
〜０．０２ｍｍを有するヴィアホールを上下の孔径差が
つかずに形成できる利点がある。またヴィアホールの解
像度はグリーンシートの厚みによって異なるが、アスペ
クト比（シートの厚み／ヴィアホール径）は１以下であ
るのが紫外線の透過が十分行われるので好ましい。４０
μｍ厚の場合は４０μｍのヴィアホールの形成が好まし
い。

【００７９】セラミックス・グリーンシートは通常のフ
ォトリソグラフィー法を用いて露光される。この際使用
される活性光源としては、たとえば紫外線、電子線、Ｘ
線などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これら
の中でも超高圧水銀灯が好適である。露光条件はグリー
ンシートの厚みなどによっても異なるが、５〜１００ｍ
Ｗ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀灯を用いて１〜３０分間
露光を行なうことが好ましい。露光の方式はグリーンシ
ートの厚みによって適宜選択できるが、厚みが１００μ
ｍを越え、アスペクト比が０．２〜１の場合は、両面露
光すると上下の孔径差のないヴィアホールが形成できる
ので好ましい。

【００８０】露光後、現像液を使用して現像を行い、光
硬化していない部分を除去し、いわゆるネガ型のパター
ンを形成し、ヴィアホール径０．００１〜０．２ｍｍの
穴をヴィアホールピッチ０．０２〜０．５ｍｍの間隔に
あける。現像方法としては、浸漬法やスプレー法で行な
う。現像液としては前記の側鎖にエチレン性不飽和基を
有するアクリル系共重合体、光反応性化合物および光重
合開始剤の混合物が溶解可能である有機溶媒を使用でき
る。また該有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水
を添加してもよい。またアクリル系共重合体の側鎖にカ
ルボキシル基が存在する場合、アルカリ水溶液で現像で
きる。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや水酸化
カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使
用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時に
アルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカ
リの具体例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロ
キサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサ
イド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなど
が挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜
５重量％、より好ましくは０．１〜１重量％である。ア
ルカリ濃度が低すぎれば未露光部が除去されずに、アル
カリ濃度が高すぎれば、露光部の剥離を引き起こし、ま
た腐食させるおそれがあり良くない。

【００８１】本発明のグリーンシートの調合、シート成
型、露光、現像工程は紫外線を遮断できるところで行な
う必要がある。そうでないとスラリーやグリーンシート
が紫外線によって光硬化してしまい、本発明の効果を有
するグリーンシートが得られないからである。

【００８２】次に、ヴィアホール部の信号層あるいは電
源層に導体ペーストを用いて配線の層間接続用の導体を
形成する。導体ペーストの埋め込みは配線パターン形成
に用いたものと同じ、あるいは別の、銅、銀、銀−パラ
ジウム、タングステン、モリブデンあるいは金導体ペー
ストを用いて、スクリーン印刷、スキージ、ディスペン
サあるいはローラなどの方法により行う。このグリーン
シートのヴィアホールに対する導体ペーストの埋め込み
は層数ごとに繰り返し行う。

【００８３】また、必要に応じてシート表面に所定の導
体、絶縁体あるいは抵抗体パターンを印刷する。またヴ
ィアホールを形成するのと同様の方法でガイド穴をあけ
る。次に、必要な枚数のシートをガイド孔を用いて積み
重ね、９０〜１３０℃の温度で５０〜２００ｋｇ／ｃｍ
² の圧力で接着し、多層基板からなるシートを作製す
る。

【００８４】次に、焼成炉にて焼成を行ってヴィアホー
ルに導体が形成された多層のセラミックス・グリーンシ
ートを形成する。焼成雰囲気や温度はセラミック基板や
導体の種類によって異なる。ガラス・セラミックスから
なる低温多層基板の場合は、通常、８５０〜１０００℃
の温度で数時間保持して絶縁層を焼成する。アルミナや
窒化アルミ基板の場合は、通常、１６００℃の温度で数
時間かけて焼成する。Ｃｕ，Ｗ，Ｍｏ，Ｗ−Ｍｏなどの
導体では窒素などの中性や水素を含む還元性雰囲気で焼
成する。焼成時に感光性グリーンシート中に含まれる側
鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、
光反応重合性化合物、安定化剤、あるいは溶媒などの有
機物の酸化、蒸発を可能にする雰囲気であればよい。例
えば、導体がＣｕ，Ｗ，Ｍｏ，Ｗ−Ｍｏの場合は、酸素
を３〜１００ｐｐｍ含有し、残部が窒素あるいはアルゴ
ンなどの中性ガスまたは水蒸気で制御した雰囲気中で焼
成できる。焼成条件としては、有機バインダー完全に酸
化、蒸発させる温度として３００〜６００℃で５分〜数
時間保持した後、８００〜１６００℃の温度で数時間保
持してからセラミックス多層基板を作製すればよい。

【００８５】焼成後の多層基板中に残存する炭素量は２
５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。残存する炭素量
が多いと、多層基板の気孔率の低下、強度低下、誘電率
の増加、誘電損失の増加、リーク電流の増加あるいは絶
縁抵抗の低下などの問題を生ずる。より好ましくは、１
００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５０ｐｐｍ以下であ
る。

【００８６】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお、以下の説明で使用量や配合割合はすべて重量
で表わす。

【００８７】実施例

【００８８】Ａ．セラミックス成分 ９９．５％純度のアルミナ粉末；平均粒子径２．８μ
ｍ、比表面積０．７ｍ²／ｇの球状粉末 コーディライト粉末；平均粒子径１．４μｍ、比表面
積３．２ｍ² ／ｇの球状粉末 ガラス−セラミックス粉末 ；９６％純度アルミナ粉末５０％、硅酸塩ガラス組成粉
末５０％（アルミナ粉末は、平均粒子径２．８μｍ、比
表面積０．７ｍ² ／ｇの球状粉末，ガラス組成は、Ｓｉ
Ｏ₂ ；７０％，ＢａＯ；３％，Ａｌ₂ Ｏ₃ ；７％，Ｂ₂
Ｏ₃ ；１８％，Ｎａ₂ Ｏ；２％である。予めアトライタ
ーにて微粉末にした後、造粒乾燥機で球状化処理した。
粉末の平均粒子径２．２μｍ，比表面積５．０ｍ² ／
ｇ。）

【００８９】Ｂ．紫外線吸光剤 有機染料；アゾ系染料；スダン（Ｓｕｄａｎ）IV、化
学式；Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄ Ｏ，分子量；３８０．４５ 有機顔料；アゾ系染料；オイルイエロ−ＯＢ（Ｏｉｌ
Ｙｅｌｌｏｗ ＯＢ）、化学式；ＣＨ₃ Ｃ₄ Ｈ₄ Ｎ：
ＮＣ₁₀Ｈ₄ ＮＨ₂ ，分子量；２６１．３３

【００９０】Ｃ．ポリマバインダ ４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、３０％のメチルメ
タアクリレート（ＭＭＡ）および３０％のスチレン（Ｓ
ｔ）からなる共重合体のカルボキシル基（ＭＡＡ）に対
して０．４当量（４０％に相当する。）のグリシジルア
クリレート（ＧＭＡ）を付加反応させたポリマ。ポリマ
の酸価は９５であった。また、ポリマの数平均分子量
（Ｍｎ）は１２０００、重量平均分子量（Ｍｗ）は３３
０００、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）は６５０００であり、分
散度を表す（Ｍｗ／Ｍｚ）比は、２．７５であった。

【００９１】Ｄ．光反応性化合物（モノマ） トリメチロール・プロパン・トリアクリラート

【００９２】Ｅ．溶媒 イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ブチルアルコール
（ＢＡ）およびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）の混合溶
媒（１６：２：８２）

【００９３】Ｆ．光重合開始剤 ２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルホリノプロパノン−１と２，４−ジエチルチオキ
サントンをポリマとモノマとの総和に対してそれぞれ２
０重量％添加した。

【００９４】Ｇ．増感助剤ないし光重合促進剤 Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルおよび３，
３´−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）
をポリマとモノマとの総和に対してそれぞれ１０重量％
添加した。

【００９５】Ｈ．可塑剤 ジブチルフタレート（ＤＢＰ）

【００９６】Ｉ．分散剤 カチオンまたは“フローレン”（Ｇ−７００，マレイン
酸部分エステル系）をセラミックス粉末に対して１．５
重量％添加した。

【００９７】＜グリーンシートの作製と評価＞ ａ．有機ビヒクルの作製 溶媒およびポリマ・バインダを混合し、攪拌しながら１
２０℃まで加熱しすべてのポリマ・バインダを均質に溶
解させた。ついで溶液を室温まで冷却し、光重合開始剤
を加えて溶解させた。その後この溶液を４００メッシュ
のフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製し
た。

【００９８】ｂ．ガラシ−セラミックス粉末の安定化処
理 ガラス−セラミックス粉末に対して１．５％のベンゾト
リアゾールを酢酸メチルに溶解した後、ガラス−セラミ
ックス粉末を該溶液中に１２時間浸漬した。浸漬後、２
０〜２５℃のドラフト内で乾燥して溶媒を蒸発させてト
リアゾール処理を行なったガラス−セラミックス粉末を
作製した。

【００９９】ｃ．吸光剤添加粉末の作製 紫外線吸光剤を所定の量（セラミックス粉末に対して）
秤量し、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）に溶解させ
た溶液にカチオン系分散剤５０％溶液（溶媒はＩＰＡ）
を加えてホモジナイザで均質に攪拌した。次にこの溶液
中にセラミックス粉末を所定の量添加して均質に分散・
混合しながら、ロータリエバポレータを用いて、１５０
〜２００℃の温度で乾燥し、ＩＰＡを蒸発させた。こう
して有機染料の膜でセラミックス粉末の表面を均質にコ
ーティングした（カプセル処理した）粉末を作製した。
該粉末の３５０〜４５０ｎｍにおける吸光度の積分値を
表１および２に示す。コーティング膜厚は．５ｎｍであ
った。

【０１００】ｄ．スラリー調製 スラリーの作製は上記の有機ビヒクルに光反応性化合
物、紫外線吸光剤で被覆したセラミックス粉末、フロー
レン分散剤、増感助剤ないし光重合促進剤および可塑剤
を所定の組成となるように添加し、アトライターで２４
時間湿式混合・分散して調製した。さらに真空攪拌機に
て２４時間脱泡してスラリーを調整した。作製したスラ
リーの粘度は、ブルックフィールド粘度計（型式；ＲＶ
ＤＶ−II＋）で回転数５０ｒｐｍで測定して２０００ｃ
ｐｓで合った。スラリー組成を表１および表２に示す。

【０１０１】ｅ．グリーンシートの作製 成形は紫外線を遮断した室内でポリエステルのキャリア
フィルムとブレードとのギャップを０．６〜０．８ｍｍ
とし、成形速度１ｍ／ｍｉｎでドクターブレード法によ
って行った。得られたグリーンシートの膜厚は１０５〜
１１５μｍ。であった。

【０１０２】ｆ．露光、現像 上記で作製したグリーンシートを１２０ｍｍ角に切断し
た後、温度９０℃に４０分加熱し、溶媒を蒸発させた。
次にクロムマスクを用いて径６０μｍのヴィアホール数
６０００本を有するクロムマスクを用いて、上面から１
５００ｍＪ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀灯で紫外線露光
した。次に２５℃に保持したモノエタノールアミンの
０．５重量％の水溶液に浸漬して現像し、その後スプレ
ーを用いて光硬化していないヴィアホールを水洗浄し
た。

【０１０３】ｇ．ヴィアホールへの導体埋め込みとパタ
ーン形成、積層 次にグリーンシートのヴィアホールにスクリーン印刷法
でタングステン（セラミックス粉末を用いたとき）ま
たは銀−パラジウム合金（セラミックス粉末または
を用いたとき）の厚膜ペーストを埋め込み、配線の層間
接続用の導体を形成した。またグリーンシートの表面に
上記と同じ厚膜ペーストを用いて所定の回路パターンを
印刷した。

【０１０４】導体を印刷された６枚のグリーンシートを
ガイド穴を用いて積み重ね、１２０℃で、１５０ｋｇ／
ｃｍ² の圧力で熱圧着し、６層からなる多層セラミック
スグリーンシートを作製した。

【０１０５】ｈ．焼結 銀−パラジウム合金を導体としたグリーンシートは、５
００℃で空気中で１時間の焼成を行い、バインダを蒸発
させた後、９００〜１０００℃で１．５時間焼結させ、
多層セラミックス基板を得た。

【０１０６】タングステンを導体としたグリーンシート
は、Ｈ₂ （水素）ガスとＮ₂ （窒素）ガス雰囲気中で５
００℃で５時間の焼成を行い、バインダを蒸発させた
後、１６００℃の温度で１．５時間焼結し、多層セラミ
ック基板を得た。

【０１０７】焼結温度を表１および表２に示す。

【０１０８】ｉ．グリーンシートの強度測定 上記で作製した３種類のグリーンシートについて露光量
１０００ｍＪ／ｃｍ²で紫外線露光前後の引張強度を測
定した。結果を表１および２に示す。

【０１０９】ｊ．評価 焼成後のセラミックス多層基板についてリーク電流、ヴ
ィアホール部からの断線不良発生の有無、ヴィアホール
の抵抗の変化率および湿中負荷（ＴＨＢ）試験を行っ
た。ＴＨＢ試験は初期の絶縁抵抗を調べ、さらに温度８
５°Ｃ，湿度８５％の環境下で１５００時間保持後、絶
縁層間に５０Ｖの直流電圧を印加して絶縁抵抗を測定し
た。結果を表１および表２に示す。

【０１１０】

【表１】

【表２】 得られた多層セラミックス配線基板は、微細なヴィアホ
ールが均一に形成されていた。ヴィアホールが微細であ
るのでヴィアホール形成部でのポアーの発生、断線がま
ったく見られず、この結果、高い信頼性を得ることがで
きた。またヴィアホール径が４〜８倍である従来の多層
基板に比較して信号伝播速度が大幅に減少した。さら
に、ヴィアホール形成のためのスクリーンが必要なく、
セルフアライメントとなり、従来のような位置ズレがな
くなった。

【０１１１】さらに光硬化したグリーンシートは従来の
未硬化のシートの引っ張り強度が１．０〜１．５ＭＰａ
に対して２．７〜８．０ＭＰａに大きく増加した。強度
が向上したことにより薄いシートでも導体埋め込み、プ
レス積層化、フィルムからのシート引き剥がしなどのプ
ロセスでの取扱いが容易になるのでセラミックス多層基
板の小形化、高密度化が期待できる。

【０１１２】比較例１，２ 上記のセラミックス粉末のうちのアルミナ粉末（比較
例１）およびのコーディライト粉末（比較例２）を用
い、粉末組成５３％，アクリレート樹脂１０％，トルエ
ン２４％、イソプロピルアルコール８％およびジブチル
フタレート５％をアトライタで混合し、上記と同じ条件
でドクターブレード法にて膜厚１５０μｍのグリーンシ
ートを作製した。次に金型によるパンチプレスにてヴィ
アホール径８０μｍの穴を２０００本加工し、実施例と
同様にして多層セラミックス配線基板を得た。

【０１１３】得られた多層セラミックス配線基板には、
導体配線およびヴィアホールの回りにクラック、バリ、
電極はがれなどが多数観察された。

【０１１４】

【発明の効果】本発明のグリーンシートによれば、ヴィ
アホールやスルーホールの形成が極めて容易にかつ精度
よくできしかも微細な孔を確実に安価に形成できる。

【０１１５】また、本発明のセラミックス・グリーンシ
ートにより形成したセラミックス多層基板は性能的にも
極めて優れたものであるうえ、ヴィアホールやスルーホ
ールを飛躍的に小形化されるので、高信頼性、高性能
化、高密度化などを達成することができる。例えば、大
きさ１２０ｍｍ角のグリーンシートにおける全体のヴィ
アホール数が４０００〜１５０００本であり、このうち
信号用の本数が約３０００本であるが、本発明によれば
ヴィアホール径の微細化と均一で高精度のヴィアホール
によって小型化、高密度化に加えて導体ペーストの信頼
性が飛躍的に向上する。すなわち、ヴィアホール径を
０．０８ｍｍ以下、好ましくは０．０５ｍｍ以下とする
ことによりヴィアホール内への導体ペーストの印刷が容
易になり、埋め込み不足や抜け落ちがなくなる。また導
電ペーストを焼成した場合、焼成に伴う収縮量もヴィア
ホール径の微細化に伴って小さくなるので電極割れが発
生しなくなるなど顕著な実用効果を奏するものである。

【０１１６】さらに、導電ペーストを焼成した場合、焼
成に伴う収縮量もヴィアホール径の微細化に伴って小さ
くなるので電極割れが発生しなくなるなど顕著な実用効
果を奏するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】測定波長と吸光度の関係を表すグラフである。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 セラミックス粉末、紫外線吸光剤および
   感光性樹脂組成物を含有することを特徴とするセラミッ
   クス・グリーンシート。
2. 【請求項２】 セラミックス粉末、紫外線吸光剤、側鎖
   にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリ
   ル系共重合体、光反応性化合物および光重合開始剤を含
   有することを特徴とするセラミックス・グリーンシー
   ト。
3. 【請求項３】 該セラミックス粉末が、アルミナ、ジル
   コニア、マグネシア、ベリリア、ムライト、コーディラ
   イト、スピネル、フォルステライト、アノーサイト、セ
   ルジアン、シリカおよび窒化アルミの群から選ばれた少
   なくとも一種であることを特徴とする請求項１または２
   記載のセラミックス・グリーンシート。
4. 【請求項４】 該セラミックス粉末が、酸化物換算表記
   で ＳｉＯ₂ ３０〜７０重量％ Ａｌ₂ Ｏ₃ ５〜２５重量％ ＣａＯ ５〜２５重量％ ＭｇＯ ０〜１０重量％ Ｂ₂ Ｏ₃ ３〜５０重量％ ＴｉＯ₂ ０〜１５重量％ の組成範囲で、総量が９５重量％以上となるガラス組成
   粉末４０〜６０重量％と、アルミナ、ジルコニア、マグ
   ネシア、ベリリア、ムライト、コーディライト、スピネ
   ル、フォルステライト、アノーサイト、セルジアン、シ
   リカおよび窒化アルミの群から選ばれた少なくとも一種
   の無機フィラー粉末６０〜４０重量％との原料混合物で
   あることを特徴とする請求項１または２記載のセラミッ
   クス・グリーンシート。
5. 【請求項５】 該紫外線吸光剤が有機染料であることを
   特徴とする請求項１または２記載のセラミックス・グリ
   ーンシート。
6. 【請求項６】 該有機染料が、アゾ系染料、キノリン系
   染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系染料、ベ
   ンゾフェノン系染料、ベンゾトリアゾール系染料、シア
   ノアクリレート系染料およびキサンテン系染料の群から
   選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項
   ５記載のセラミックス・グリーンシート。
7. 【請求項７】 該紫外線吸光剤の３５０〜４５０ｎｍに
   おける吸光度の積分値が３０〜１５０であることを特徴
   とする請求項１または２記載のセラミックス・グリーン
   シート。
8. 【請求項８】 該セラミックス粉末が、該紫外線吸光剤
   により被覆されていることを特徴とする請求項１または
   ２記載のセラミックス・グリーンシート。
9. 【請求項９】 安定化剤を含有することを特徴とする請
   求項１または２記載のセラミックス・グリーンシート。