JPH10279364A - セラミックス・グリーンシート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フォトマスクのパターン通りのビアやライン
パターンを形成することが可能な感光性セラミックス・
グリーンシートを提供すること。 【解決手段】 無機粒子と感光性有機成分とから成るセ
ラミックス・グリーンシートであって、その表面におい
て、評価長さ４ｍｍ、カットオフ値０．８ｍｍの場合
に、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠する算術平均粗さが、１
μｍ以下であるセラミックス・グリーンシート。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は焼成セラミックス基
板などの形成に好適に用いられるセラミックグリーンシ
ートであって、フォトリソグラフィ法によりシートに均
一なビアの一括形成、および断線やむらのない導体パタ
ーンの形成に関するものであり、シートに均一な微細ビ
アと微細パターンを形成するのに必要なシートおよびペ
ースト表面粗さに関するものである。

【０００２】本発明のグリーンシートおよびペースト
は、半導体素子の高密度実装用セラミック焼成基板、特
に多層セラミックス焼成基板に好適に用いられ、基板表
面の表層および内層用電極の微細な回路パターン形成に
有効なセラミックグリーンシートおよび感光性ペースト
である。

【０００３】

【従来の技術】近年、電子部品の高速化、高周波化、小
型化が進むにつれ、それらを実装するためのセラミック
ス基板にも微細なビアホールを高密度に形成することが
要求されている。

【０００４】従来のセラミックグリーンシートは特開平
１−２３１７９７や特開平２−１４１４５８号公報に記
載のごとく、通常、セラミックス粉末、有機バインダ
ー、可塑剤、溶媒および必要に応じて分散剤などを適宜
配合した後、混合してスラリーとした後、得られたスラ
リーをドクターブレード法などの公知の方法によってグ
リーンシートを成形する。

【０００５】このグリーンシートにビアホールを形成す
る方法としては、従来から金型プレスが用いられている
が、シートに対して機械的、熱的負荷をかけて加工する
ため、せいぜい１００μｍまでの直径のビアが限界であ
る。これに代わる方法として、フォトリソグラフィ法に
よる微細ビア加工が検討されている。この方法は、感光
性樹脂と無機粉末からなる感光性グリーンシートに、フ
ォトマスクを介して紫外線等を照射し、一括して微細ビ
アを得る方法である。さらに、形成したビアに導体を充
填し、シート表面に導体ペーストによるパターン形成へ
と基板作製の工程がある。

【０００６】パターン形成においても、従来からスクリ
ーン印刷による方法が主流であったが、さらに微細なパ
ターン形成の要求が高くなったため、フォトリソグラフ
ィ法による感光性ペーストを用いたパターン形成が検討
され始めている。この場合は、感光性グリーンシートだ
けでなく、通常の非感光のグリーンシートにも使用する
ことができるので、適用範囲は極めて広くなる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】感光性グリーンシート
のビア形成、および感光性ペーストを用いたパターン形
成においては、紫外線照射を行うが、シート表面の状態
によって、ビアおよびパターン形成性は光散乱の影響を
著しく受けてしまう。表面起伏が大きいと、光が大きく
散乱されて、フォトマスクのパターン通りのビアやライ
ンパターンを形成することが困難となる。

【０００８】微細なビアおよびラインパターンの形成が
可能な感光性グリーンシートおよび感光性ペーストは、
添加する感光性有機成分が光重合に寄与するため、多く
の量と種類の有機成分の添加が必要である。感光性ポリ
マー、モノマー、光重合開始剤、増感剤、増感助剤、増
粘剤、分散剤、溶剤、可塑剤および紫外線吸光剤などの
有機成分が添加されており、溶剤は真空脱泡、加熱乾燥
によってほとんど揮発してしまう。よって、乾燥後は乾
燥前に平滑であったシートやペースト表面も凹凸が目立
つようになる。

【０００９】本発明の目的は、フォトマスクのパターン
通りのビアやラインパターンを形成することが可能な感
光性セラミックス・グリーンシートを提供することであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本願発明者らは、鋭意研
究の結果、セラミックス粉末、紫外線吸光剤、および感
光性樹脂組成物とを含有するセラミックグリーンシート
および感光性ペーストにおいて、シート表面、ペースト
表面の粗さを特定の範囲内に規定することにより、ビア
形成性、ラインパターン形成性を向上することができる
ことを見出し本発明を完成した。

【００１１】すなわち、本発明は、無機粒子と感光性有
機成分とから成るセラミックス・グリーンシートであっ
て、その表面において、評価長さ４ｍｍ、カットオフ値
０．８ｍｍの場合に、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠する算
術平均粗さが、１μｍ以下であるセラミックス・グリー
ンシートを提供する。また、本発明は、セラミックス・
グリーンシート上に電極パターンを形成し、該電極パタ
ーン表面の算術平均粗さが１μｍ以下であるセラミック
ス・グリーンシートを提供する。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明のビア形成性、パターン形
成性が良好なグリーンシートを作製する方法について、
以下に感光性グリーンシートにフォトリソグラフィ法に
よるビア形成を行い、感光性ペーストを用いたパターン
形成方法を中心として述べる。

【００１３】＜感光性セラミックグリーンシートの構成
＞本発明に用いられる感光性セラミックグリーンシート
は、無機粉末と感光性有機成分からなる。無機粉末と
は、一般的に電子材料に用いられる、ガラスや金属
（金、白金、銀、銅、ニッケル、アルミ、パラジウム、
タングステン、酸化ルテニウム等）の粉末であるが、本
発明において特に有用であるのは、セラミックスおよび
ガラス粉末である。

【００１４】また、発明者らは無機粉末として、形状が
等軸の粒状または球状であるものを用いることによっ
て、高アスペクト比のビアホールの形成が可能であるこ
とを見い出した。球形率８０個数％以上の無機粉末を用
いることが好ましい。

【００１５】この場合に用いる無機粉末としては、５０
重量％（平均）粒子径が１〜７μｍ、１０重量％粒子径
が０．４〜１μｍ、９０重量％粒子径が２〜１０μｍ、
比表面積０．２〜３ｍ²/ｇの無機粉末が適している。無
機粉末５０〜９５重量部と有機成分５〜５０重量部から
なり、無機粉末にガラス粉末を用いる場合は、平均屈折
率が１．５〜１．６５の範囲のガラス粉末を用いること
が望ましい。

【００１６】セラミック粉末としてはアルミナ、ジルコ
ニア、マグネシア、ベリリア、ムライト、コーディライ
ト、スピネル、フォルステライト、アノーサイト、セル
ジアン、シリカおよび窒化アルミなどの群から選ばれた
少なくとも一種を用いることができる。

【００１７】ガラスとセラミックスの複合粉末の場合
は、ガラス粉末を３０重量％以上用いることが好まし
く、より好ましくは５０重量％以上用いることが好まし
い。ガラス粉末としては、一般的なものであれば、特に
限定はないが、加工性に優れ、ポットライフの長いもの
がよい。粉末が球形であれば、充填密度が高くなり、緻
密な焼結体が得られること、表面積が小さくなるため露
光の際の光散乱が低減できるなどの利点がある。

【００１８】ガラス粉末中の組成としては、ＳｉＯ₂ は
１５〜７０重量％の範囲で配合することが好ましく、１
５重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安定性
が低下し、また半導体素子であるシリコンと熱膨張係数
のミスマッチが起こり、所望の値から外れる。また７０
重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、
１０００℃以下での焼成が可能になるなどの利点があ
る。Ａｌ₂ Ｏ₃ は１０〜６０重量％であることが望まし
い。１０％以下では焼成基板の強度を十分保つことが困
難であり、６０％以上では基板の誘電率が高くなってし
まう。Ｂ₂ Ｏ₃ は４〜２０重量％の範囲で配合すること
によって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻
密性などの電気、機械および熱的特性を向上することが
できる。

【００１９】特に、ガラス粉末が、酸化物換算表記で ＳｉＯ₂ １５〜７０重量部 Ａｌ₂ Ｏ₃ １０〜６０重量部 Ｂ₂ Ｏ₃ ４〜２０重量部 ＭｇＯ １〜２５重量部 ＴｉＯ₂ １〜１０重量部 およびＬｉ₂ Ｏ、Ｎａ₂ Ｏ、Ｋ₂ Ｏ、ＢａＯ、ＣａＯお
よびＰｂＯの群から選ばれた少なくとも１種の化合物を
１〜２５重量部からなるガラス粉末３０重量％以上と、
アルミナ、ジルコニア、マグネシア、ベリリア、ムライ
ト、コーディライト、スピネル、フォルステライト、ア
ノーサイト、セルジアン、シリカおよび窒化アルミの群
から選ばれた少なくとも一種のセラミック粉末７０重量
％以下との混合物であることが感光性セラミックグリー
ンシートの組成として望ましい。

【００２０】また、ガラス粉末中には他にもＺｒＯ₂ 、
ＳｎＯ、ＺｎＯ、Ｙ₂ Ｏ₃ などの金属酸化物をなどを含
有することができるが、その量は５重量％以下であるこ
とが好ましい。これらの成分は、あまり多くなると吸湿
性が生じて、ペーストやスラリーの粘度が高くなってし
まう。

【００２１】また、本発明において使用される感光性有
機成分とは、セラミックグリーンシート中の感光性化合
物を含む有機成分（セラミックグリーンシートから無機
成分を除いた部分）のことである。

【００２２】無機粉末としては屈折率は１．５〜１．８
のものが好ましい。一般に無機粉末は、１．５〜２．５
程度の屈折率を有している。有機成分の平均屈折率が無
機粉末の平均屈折率と大きく異なる場合は、無機粉末と
感光性有機成分の界面での反射・散乱が大きくなり、精
細なパターンが得られない。一般的な有機成分の屈折率
は１．４５〜１．７であるため、無機粉末の平均屈折率
を１．５〜１．８にすることにより、無機粉末と有機成
分の屈折率を整合させることができる。さらに好ましく
は、屈折率１．５４〜１．８、さらには１．５６〜１．
７８のものを用いることによって、無機粉末と感光性有
機成分の界面での反射・散乱が低減され、高アスペクト
比で、高精細なビアホールが形成される。

【００２３】この場合に、用いる感光性有機成分の屈折
率と無機粉末の屈折率差が重要になり、有機成分の平均
屈折率Ｎ１と無機粉末の平均屈折率Ｎ２に関して、次式
を満たすことによって、界面での反射・散乱は低減さ
れ、より高アスペクト比のパターンが得られる。 −０．０５≦Ｎ２−Ｎ１≦０．２ 好ましくは、−０．０３≦Ｎ２−Ｎ１≦０．１である。

【００２４】本発明における屈折率の測定は、感光性セ
ラミックグリーンシートを形成した後に、照射する紫外
光の波長で測定することが効果を確認する上で正確であ
る。特に、３５０〜４８０ｎｍの範囲の中で、任意の波
長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３
６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定
が好ましい。

【００２５】感光性有機成分には、感光性モノマー、感
光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種
類から選ばれる感光性化合物を含有し、さらに必要に応
じて、バインダー、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感
剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶
媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止
剤やレベリング剤などの添加剤成分を加えることも行わ
れる。

【００２６】ペースト中の感光性有機成分の含有率は５
〜５０重量％、さらには、５〜３０重量％であることが
好ましい。パターン形成後のシート積層時には、シート
とシートの間に空気層が入り込みやすく、シートの可撓
性が低かったり、シートに通気性がないとシート間の空
気は抜け出すことができず、焼成時にシート間に閉じこ
められた空気が膨張し、シートどうしを剥離してしまう
問題が生じる。シートの可撓性を向上するためには、シ
ート成分中の有機成分量が多い方が望ましいが、あまり
多くなると無機粉末の間隙を埋め尽くしてしまい通気性
を損なってしまう。また、焼成時の収縮率がおおきくな
り、焼成による形状変化がおおきくなってしまう。この
ため、シートの積層性には可撓性と通気性を両立するこ
とが必要である。

【００２７】反応性成分としては、光不溶化型のものと
光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、
（１）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマー、オリゴマー、およびポリマー、（２）芳香族
ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合
物などの感光性化合物含有するもの、（３）ジアゾ系ア
ミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆるジアゾ
樹脂といわれるもの、等がある。

【００２８】また、光可溶型のものとしては、（４）ジ
アゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノ
ンジアゾ類を含有するもの、（５）キノンジアゾ類を適
当なポリマーバインダーと結合させた、例えばフェノー
ル、ノボラック樹脂のナフトキノン１，２−ジアジド−
５−スルフォン酸エステル等がある。

【００２９】本発明において用いる反応性成分は、上記
のすべてのものを用いることができるものの、感光性ペ
ーストとして、無機粉末と混合して簡便に用いることが
できる感光性成分は、（１）のものが好ましい。

【００３０】感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽
和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピル
アクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレー
ト、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブト
キシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロ
ールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルア
クリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコ
ールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアク
リレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノ
キシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ト
リフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシル
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジア
クリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルア
ミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリ
レート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、
ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジア
クリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメ
ルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素
原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換した
モノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、
ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチ
レン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α
−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロ
メチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシ
キメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラ
セン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子
内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレー
トに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げら
れる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用する
ことができる。

【００３１】これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽
和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上する
ことができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれ
らの酸無水物などがあげられる。

【００３２】また、前述の感光性モノマーのうち少なく
とも１種類を重合して得られたオリゴマーやポリマーを
用いることができる。重合する際に、これら感光性モノ
マーの含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３
５重量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共
重合することができる。

【００３３】共重合するモノマーとしては、不飽和カル
ボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後
の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の
具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル
酢酸、またはこれらの酸無水物などが挙げられる。

【００３４】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲
が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部までが剥がれが発生し、高精細なパ
ターンが得られにくい。

【００３５】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、エチレン性不飽和基を側鎖に付加させること
によって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性オリゴ
マーとして用いることができる。

【００３６】側鎖のエチレン不飽和基としてはビニル
基、アリル基、アクリル基、メタクリル基のようなもの
がある。このような側鎖をアクリル系共重合体に付加さ
せる方法としては、アクリル系共重合対中のカルボキシ
ル基にグリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物や
アクリル酸クロライドを付加反応させて作る方法があ
る。

【００３７】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどがあげられる。また、アクリル酸クロライド
化合物としては、アクリル酸クロライド、メタクリル酸
クロライド、アリルクロライドなどがあげられる。これ
らのエチレン性不飽和化合物あるいはアクリル酸クロラ
イドの付加量としては、アクリル系共重合対中のカルボ
キシル基に対して０．０５〜１モル当量が好ましく、さ
らに好ましくは０．１〜０．８モル当量である。付加量
が０．０５モル当量未満では感光特性が不良となりパタ
ーンの形成が困難になるため好ましくない。また、付加
量が１モル当量より大きい場合は、未露光部の現像溶解
性が低下したり、塗布膜の硬度が低くなり好ましくな
い。

【００３８】これらの感光性樹脂は、ポリマーバインダ
ーとして作用するものであるが、ポリマーバインダー成
分として非感光性ポリマーを含有することもできる。具
体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラー
ル、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル
重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共
重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレ
ート樹脂などがあげられる。

【００３９】本発明で使用される光重合開始剤の具体的
な例として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸
メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノ
ン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４
−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレ
ノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジ
メトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトン、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブ
チルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メ
チルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−
イソピロピルチオキサントン、ジエチルチオキサント
ン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジル
−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラ
キノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルア
ントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロ
ン、ベンズアントロン、ジベンズゾスベロン、メチレン
アントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，
６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メ
チルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ジブタ
ジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１
−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカル
ボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリ
オン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−
フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ
−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル
−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ
−１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、
キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアク
リドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェ
ニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、ト
リフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭化炭
素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、
エオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアス
コルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み
合わせなどがあげられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。

【００４０】光重合開始剤は、側鎖にカルボニル基とエ
チレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体と光反応
性化合物の和に対し、０．５〜５０重量％の範囲で添加
され、より好ましくは、２〜２５重量％である。光重合
開始剤の量が少なすぎると、光感度が不良となり、光重
合開始剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくな
りすぎるおそれがある。

【００４１】本発明において、グリーンシートのビアホ
ール形成のために感光性樹脂及びセラミックス粉末に紫
外線（ＵＶ）吸光剤を添加することが好ましい。紫外線
吸収効果の高い吸光剤を添加することによって高解像度
が得られる。すなわち、通常、セラミックス粉末だけで
は、余計な部分まで光硬化し、現像してもビアホールの
形成ができなくなったり、真円度が大きく低下すること
が起きる。この原因は散乱された紫外光が吸収されてあ
るいは弱められて露光マスクによる遮光部分にまでまわ
り込むことが原因である。したがって、紫外線吸光剤を
添加することによって散乱光のまわり込みがほぼ回避さ
れ、マスク部分の感光性樹脂の硬化を防ぎ、露光マスク
に相当したパターンが形成できるようになる。

【００４２】紫外線吸光剤としては３５０〜４５０ｎｍ
の波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する無機粉末あるいは
有機顔料などが好ましく用いられる。無機粉末として
は、酸化コバルトＣｏ₂ Ｏ₃ 、ＣｏＯ、酸化鉄Ｆｅ₂ Ｏ
₃ 、酸化クロムＣｒ₂ Ｏ₃ 、酸化マンガンＭｎＯ₂ 、酸
化銅Ｃｕ₂ Ｏ、ＣｕＯ、酸化チタンＴｉＯ₂ などの酸化
物、炭化チタンＴｉＣ、炭化タングステンＷＣ、炭化ジ
ルコンＺｒＣ、炭化珪素ＳｉＣ、炭化ニオブＮｂＣなど
の炭化物、チタニウム・ボライドＴｉＢ₂ 、ジルコニウ
ム・ボライドＺｒＢ₂ などの硼化物、窒化チタンＴｉ
Ｎ、窒化ジルコンＺｒＮ、窒化タンタルＴａＮなどの窒
化物、炭素（Ｃ）がある。この中で好ましい無機粉末は
炭素および炭化物で、パターンが滲みなく鋭く形成で
き、しかもビアホールを上下の口径差がなく微細に形成
できる。特に炭素は酸素含有雰囲気下で焼成すると炭化
ガスとして揮発するのでセラミックス基板としての絶縁
や誘電特性の低下を最小限にできるので好ましい。

【００４３】これらの無機粉末は酸化物と窒化物、炭化
物との２種あるいは３種以上の複合粉末としても用いる
ことができるが、セラミックス基板としての絶縁、誘電
体特性を低下させない範囲で選択することが好ましい。
無機粉末の添加量としては、０．０１〜５重量％が好ま
しい。０．０１重量％未満では紫外線吸光剤の添加効果
が減少し、５重量％を越えると基板特性が低下するので
好ましくない。より好ましくは０．０５〜１重量％であ
る。

【００４４】また有機顔料としては、高い吸収光係数を
有する種々の顔料が好ましく使用できるが、具体的に
は、アゾ系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染
料、アントラキノン系染料などが使用できる。添加量と
しては、無機粉末の場合と同様の理由から０．０１〜５
重量％の範囲が好ましい。有機顔料は、炭素と同様に焼
成後、セラミックス基板中に残存しないので吸光剤によ
る基板特性の低下を少なくできる。

【００４５】本発明においてセラミックス粉末あるいは
紫外線吸光剤に含まれるＰｂ、Ｂｉ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍ
ｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属およびその酸化物が、ペース
ト中に含有する感光性ポリマーのカルボキシル基と反応
してペーストが短時間でゲル化し、塊となりペーストと
して印刷できなくなる場合がある。これは感光性ポリマ
ーと上記の金属や酸化粉末とのイオン架橋反応と推定さ
れるが、このような架橋反応を防止するために、感光性
ポリマーにはもちろんのこと、光重合開始剤あるいは可
塑剤などに悪影響を与えない化合物（安定化剤）を添加
しゲル化を防止することが好ましい。すなわち、ゲル化
反応を引き起こす金属や酸化物粉末との錯体化、あるい
は酸官能基との塩形成などの効果のある化合物で粉末を
表面処理し、セラミックス・グリーンシートを安定化さ
せることが好ましい。

【００４６】上記の要件を満たす安定化剤として、トリ
アゾール化合物が好ましく使用できる。トリアゾール化
合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有効に作用す
る。またヘキサメチレンテトラアミン、ナフテン酸リチ
ウム（Ｌｉ）などもゲル化抑制に効果がある。

【００４７】ベンゾトリアゾールを用いてセラミックス
粉末や紫外線吸光剤中の金属および金属酸化物の粉末を
表面処理する方法は、以下の通りである。すなわち、所
定の量のベンゾトリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチ
ル、エチルアルコール、メチルアルコールなどの有機溶
媒に溶解し、これらの粉末が十分に浸ることができるよ
うに溶液中に１〜２４時間浸漬することが好ましい。浸
漬後、好ましくは２０〜３０℃下で自然乾燥して溶媒を
蒸発させることにより、トリアゾール処理を行った粉末
が得られる。

【００４８】本発明において使用される安定化剤の割合
（安定化剤／セラミックス粉末や紫外線吸光剤中の金属
および金属酸化物）は０．２％〜４重量％が好ましく、
さらに０．４〜３重量％であることが好ましい。０．２
重量％未満ではポリマーの架橋反応を防止するのに効果
がなく、短時間でゲル化しやすい。また４重量％を越え
ると安定化剤の量が多くなりすぎて非酸化性雰囲気中で
のグリーンシートの焼成時においてポリマーバインダー
および安定化剤などの脱バインダーが困難となり、基板
の特性が低下する。

【００４９】本発明においてセラミックス・グリーンシ
ート中に光反応性化合物、増感剤、熱重合禁止剤、可塑
剤、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止
剤などを添加することも好ましく行われる。

【００５０】光反応性化合物は感度を向上させるために
添加される。本発明で使用される光反応性化合物は光反
応性を有する炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を用
いることができ、その具体的な例としてアリルアクリレ
ート、ベンジルアクリレート、ブトキシアクリレート、
ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレング
リコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニル
アクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリ
シジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレー
ト、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリ
レート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メ
トキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロ
ロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリ
レート、アリルシクロヘキシルジアクリレート、ビスフ
ェノールＡジアクリレート、１，４−ブタンジオールア
クリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロ
ールジアクリレート、メトキシシクロヘキシルジアクリ
レート、、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレング
リコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよび
上記のアクリレートをメタクリレートに変えたもの、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビ
ニル−２−ピロリドンなどがあげられる、本発明ではこ
れらの光反応性化合物を１種または２種以上使用するこ
とができる。

【００５１】側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和
基を有するアクリル系共重合体は、光反応性化合物に対
して、通常、重量比で０．１〜１０倍量用いる。このア
クリル系共重合体の量が少なすぎると、スラリーの粘度
が低くなり、スラリー中での分散の均一性が低下するお
それがある。一方、アクリル系共重合体の量が多すぎれ
ば、未露光部の現像液の溶解性が不良となる。

【００５２】増感剤は、高感度を向上させるために添加
される。増感剤の具体例としては、２，３−ビス（４−
ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン）、２，６
−ビス（ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メ
チルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス
（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス
（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチル
アミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデン
インダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノ
ン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニレンビニレン）−
イソナフトール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベ
ンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジ
エチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル
−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル
−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノー
ルアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニ
ルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミ
ル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル
−５−ベンゾイルチオ−テトラゾーラゾール、１−フェ
ニル−５−エトキシカルボニルチオ−テトラゾールなど
があげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上
使用することができる。なお、増感剤の中には光重合開
始剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の
セラミックス・グリーンシートに添加する場合、その添
加量は側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するアクリル系共重合体に対して通常０．１〜６０重量
％、より好ましくは０．５〜３０重量％である。増感剤
の量が少なければ光感度を向上させる効果が発揮され
ず、増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくな
りすぎるおそれがある。

【００５３】熱重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上
させるために添加される。熱重合禁止剤の具体的な例と
しては、ヒドロキノン、Ｎ−ニトロジフェニルアミン、
フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェ
ニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メ
チルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどがあ
げられる。熱重合禁止剤を添加する場合、その添加量
は、側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重
合体に対し、通常、０．１〜２０重量％、より好ましく
は、０．５〜１０重量％である。熱重合禁止剤の量が少
なければ、保存時の熱的な安定性を向上させる効果が発
揮されず、熱重合禁止剤の量が多すぎれば、露光部の残
存率が小さくなりすぎるおそれがある。

【００５４】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００５５】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ク
レゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ
−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス
−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２
−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）、４，４−チビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−
（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）
ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコール
エステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェ
ニルホスファイトなどがあげられる。酸化防止剤を添加
する場合、その添加量は通常、セラミックス粉末、側鎖
にエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、ガ
ラスフリットおよび光重合開始剤の総和に対して０．０
１〜５重量％、より好ましくは０．１〜１重量％であ
る。酸化防止剤の量が少なければ保存時のアクリル系共
重合体の酸化を防ぐ効果が得られず、酸化防止剤の量が
多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれが
ある。

【００５６】本発明のセラミックス・グリーンシート形
成用スラリーの好ましい組成としては、次の範囲で選択
するのが好ましい。 (a) セラミックス粉末 ；７０〜９５重量％ (b) 感光性樹脂 ；２５〜１０重量％ (c) 紫外線吸光剤 ；０〜１重量％（好ましくは０．０５〜１重量％）

【００５７】また、セラミックス・グリーンシートが、
セラミックス粉末、紫外線吸光剤、側鎖にカルボキシル
基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、
光重合開始剤を含有する場合には、セラミックス・グリ
ーンシート形成用スラリーの好ましい組成としては、次
の範囲で選択するのが好ましい。 （ａ）セラミックス粉末 ；７０〜９５重量％ （ｂ）側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合 体（及び光反応性化合物） ；３０〜５重量％ （ｃ）光重合開始剤 ；（ｂ）に対して２〜２５重量％ （ｄ）紫外線吸光剤 ；（ａ）に対して０．０１〜５重量％

【００５８】各成分が上記範囲にあると露光時において
紫外線が良く透過し、光硬化の機能が十分発揮され、後
の現像時における未露光部の残膜の発生をほとんどなく
すことができ、高い真円度を有するビアホールの形成が
できる。また特に（ｂ）成分であるアクリル系共重合体
（及び光反応性化合物を用いる場合にはこれらの合計
量）をこの範囲にすることにより焼成後の焼結体が緻密
になり、高強度のセラミックス基板が得られる利点があ
る。

【００５９】本発明のセラミックス・グリーンシート形
成用のスラリーは、感光性樹脂を有機溶媒に溶解し、こ
の溶液にセラミックス粉末と紫外線吸光剤とを分散させ
ることによって製造することができる。また、セラミッ
クス・グリーンシートが、セラミックス粉末、紫外線吸
光剤、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するアクリル系共重合体、光重合開始剤を含有する場合
には、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有
するアクリル系共重合体と光開始剤を有機溶媒に溶解
し、この溶液にセラミックス粉末と紫外線吸光剤とを分
散させることによって製造することができる。このとき
使用される有機溶媒は感光性樹脂又は側鎖にエチレン性
不飽和基を有するアクリル系共重合体及び光重合開始剤
の混合物を溶解し得るものであればよい。例えばメチル
セルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、メ
チルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルフォキシド、γ−ブチロラクトン、トルエン、トリ
クロールエチレン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ンなどやこれらのうち１種以上を含有する有機溶媒混合
物が用いられる。また、上記光反応性化合物を用いる場
合であって、該光反応性化合物が感光性樹脂又は側鎖に
エチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体及び光
重合開始剤の混合物を溶解し得るものである場合には、
上記有機溶媒に代えて該光反応性化合物に上記各成分を
溶解してもよい。なお、この場合でも、粘度調節のため
に上記有機溶媒を添加することもできる。

【００６０】紫外線吸光剤の添加方法としては、セラミ
ックス粉末と紫外線吸光剤とを水溶液中で湿式混合後、
乾燥する方法があげられる。より好ましくは、所定の添
加量となるように無機塩の水溶液中にセラミックス粉末
を均質に混合・分散後、乾燥、焼成して混合粉末を作成
する方法である。この方法によってセラミックス粉末の
個々の粉末表面に無機の膜あるいは微細な粉末をコート
したいわゆるカプセル状の粉末が作製できる。例えば紫
外線吸光剤として酸化鉄や酸化コバルトを添加する場
合、塩化鉄や塩化コバルトの水溶液中にセラミックス粉
末を分散させた後、撹拌しながら乾燥させ、４００〜８
００℃で熱処理を行うことによってセラミックス粉末の
表面に酸化鉄や酸化コバルトの皮膜を作製することがで
きる。紫外線吸光剤として炭素を添加する場合はＣＶＤ
（化学的気相沈殿）法などでセラミックス粉末の表面に
均質に炭素の膜を形成することがより好ましい。また、
紫外線吸光剤として有機顔料を添加する場合、有機顔料
を溶解した溶液中にセラミックス粉末を均質に混合、分
散後、乾燥することによってセラミックス粉末の個々の
粒子表面に有機顔料の膜が形成できるので吸光剤の効果
が一層高くなる。

【００６１】さらに必要に応じて、有機溶媒、安定化
剤、増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、酸化防止剤、分散
剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などを添加し、ボー
ルミルあるいはアトライターで例えば１２〜４８時間粉
砕・混合し、スラリーを調整する。

【００６２】また、スラリーの粘度を調整するために必
要に応じて上記の有機溶媒を添加する。好ましい粘度は
１万〜５万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）であり、この範囲
にあるとシートの膜厚の調整が均質にできる。得られた
スラリーをドクターブレードを用いてポリエステルフィ
ルムなどのフィルム上に連続的に厚さ０．０１〜０．５
ｍｍに形成する。ついで８０〜１２０℃の温度で１０分
〜３時間、加熱して溶媒類を蒸発させ、セラミックス・
グリーンシートにする。このシートを所定の形状に切断
する。

【００６３】本発明のセラミックス・グリーンシートの
厚みは通常、５〜５００μｍの範囲であり、好ましくは
５〜３００μｍである。５００μｍを越えると紫外線の
露光に対して十分透過せず、光硬化の効果が薄れる。ま
た、５μｍ未満であるとグリーンシートの取り扱いが難
しくなる。

【００６４】セラミックス・グリーンシートは通常のフ
ォトマスク法を用いて露光される。この際使用される活
性光源としては、例えば紫外線、電子線、Ｘ線などがあ
げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源
としては例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、ハロゲンラン
プ、殺菌灯などが使用できる。これらの中でも超高圧水
銀灯が好適である。露光条件はグリーンシートの厚みな
どによっても異なるが、５〜１００ｍＷ／ｃｍ² の出力
の超高圧水銀灯を用いて１〜３０分間露光を行うことが
好ましい。シートの両面を露光する方法としては、シー
トの上下両面から同時に露光する方法、あるいはシート
の片面から露光した後シートの表裏を反転させ、さらに
反対の面を同様に露光する方法がある。

【００６５】グリーンシート表面の粗さは、無機粒子の
形状、粒径や分散状態、無機粒子と有機成分の比率、乾
燥等による脱溶剤の程度によっても左右されるが、露光
の際、グリーンシート表面の粗さはビア形成性に大きな
影響を与える。

【００６６】表面粗さの測定は、ドクターブレードによ
る成形後または８０〜１００℃にて乾燥後のシートをＪ
ＩＳ Ｂ０６５１に記載された触針式表面粗さ測定器
や、レーザー光などを用いた非接触式表面粗さ測定器を
用いて測定する。表面粗さはＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠
し、対象物であるシートの表面からランダムに抜き取っ
た、各部分における算術平均粗さ（Ｒa ）、最大高さ
（Ｒy ）、十点平均粗さ（Ｒz ）、凹凸の平均間隔（Ｓ
m ）、局部山頂の平均間隔（Ｓ）および負荷長さ率（ｔ
p ）の、それぞれの算術平均値で表される。ここでは算
術平均粗さ（Ｒa ）を、カットオフ値０．８ｍｍ、評価
長さ４ｍｍを標準として求め、１μｍ以下、好ましくは
０．１〜０．８μｍである。感光性グリーンシートを露
光する際には、フォトマスクを介して紫外光を照射する
が、シート表面粗さによって紫外光が散乱されてしま
い、平行光でなくなってしまう。シート表面粗さが、上
記範囲内であれば紫外光の散乱はほとんど影響がない。
表面粗さは小さければ小さいほどよいが、０．１μｍ以
下の表面粗さは、グリーンシートの状態であまり実質的
ではないので除外する。また、セラミックス・グリーン
シートは、８０℃〜１００℃で１０分間〜３時間熱処理
した後も上記表面粗さが１μｍ以下、好ましくは０．１
〜０．８μｍであることが好ましい。

【００６７】露光後、現像液を使用して現像を行い、光
硬化していない部分を除去し、いわゆるネガ型のパター
ンを形成し、ビアホール径例えば０．００５〜０．２ｍ
ｍの穴をビアホールピッチ例えば０．０１〜５．０ｍｍ
の間隔にあける。現像方法としては、浸漬法やスプレー
法で行うことができる。現像液としては前記の側鎖にエ
チレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体、光反応
性化合物および光重合開始剤の混合物が溶解可能である
有機溶媒を使用できる。またこの有機溶媒にその溶解力
が失われない範囲で水を添加してもよい。またアクリル
系共重合体の側鎖にカルボキシル基が存在する場合、ア
ルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液として、水
酸化ナトリウムや水酸化カルシウム水溶液などのような
金属アルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶
液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいの
で好ましい。有機アルカリの具体例としては、テトラメ
チルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジル
アンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミンなどがあげられる。アルカリ水溶液
の濃度は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは
０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎるれば
未露光部が除去されずに、アルカリ濃度が高すぎれば、
露光部の剥離を引き起こし、また腐食させるおそれがあ
り好ましくない。

【００６８】本発明のセラミックス・グリーンシートで
は、その表面において、評価長さ４ｍｍ、カットオフ値
０．８ｍｍの場合に、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠する算
術平均粗さが、１μｍ以下である。この平均粗さが１μ
ｍよりも大きいと、光が大きく散乱されて、フォトマス
クのパターン通りのビアやラインパターンを形成するこ
とが困難となる。また、本発明のセラミックス・グリー
ンシートは、８０℃〜１００℃で１０分間〜３時間熱処
理した後も、その表面における上記の平均粗さが１μｍ
以下であることが好ましい。

【００６９】以上、感光性グリーンシートのビア形成に
ついて詳述したが、本発明はまた、セラミックス・グリ
ーンシート上に電極パターンを形成し、該電極パターン
表面の算術平均粗さが１μｍ以下であるセラミックス・
グリーンシートをも提供する。この場合には、以下に述
べる感光性ペーストを用いたパターン形成を行なえば、
感光性グリーンシートだけでなく、通常の非感光性シー
トを用いることもできる。この場合はシートにフォトリ
ソグラフィ法でビア形成するわけではないから、表面粗
さを厳密に制御する必要はない。ただし、極端な凹凸が
あったりすると、次にペースト塗布した際にペーストの
表面粗さを制御することが困難であるから、シート表面
粗さは適当な範囲であればよい。

【００７０】＜感光性ペーストの構造＞感光性ペースト
のうち、ここでは導電体粉末を用いた感光性導電ペース
トについて述べる。導電体粉末としては、Ｃｕ、Ａｕ、
Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｗ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｍｏなどの金属あ
るいはこれらを含む合金などや下記の抵抗体粉末などが
挙げられる。感光性有機成分に関しては、感光性セラミ
ックグリーンシートに用いたのと同様なものが使用でき
る。

【００７１】Ｃｕ系導電体粉末としては、例えばＣｕ
（９７−７０）−Ａｇ（３−３０）、Ｃｕ（９５−６
０）−Ｎｉ（５−４０）、Ｃｕ（９０−７０）−Ａｇ
（５−２０）−Ｃｒ（３−１５）（以上（）内は重量％
を表す。以下同様）などの２元系あるいは３元系の混合
金属粉末が用いられる。この中でＣｕ−Ａｇ粉末が好ま
しく、その中でもＣｕの表面を３〜３０重量％のＡｇで
コートした粉末がＣｕの酸化を抑えることができるので
特に好ましい。

【００７２】Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｐｔ系導電体粉末とし
ては、例えばＡｇ（３０−９７）−Ｐｄ（７０−３）、
Ａｇ（４０−７０）−Ｐｄ（６０−１０）−Ｐｔ（５−
２０）、Ａｇ（３０−８０）−Ｐｄ（６０−１０）−Ｃ
ｒ（５−１５）、Ｐｔ（２０−４０）−Ａｕ（６０−４
０）−Ｐｄ（２０）、Ａｕ（７５−８０）−Ｐｔ（２５
−２０）、Ａｕ（６０−８０）−Ｐｄ（４０−２０）、
Ａｇ（４０−９５）−Ｐｔ（６０−５）、Ｐｔ（６０−
９０）−Ｒｈ（４０−１０）などの２元系あるいは３元
系の混合金属粉末が好ましく用いられる。上記の中でＣ
ｒやＲｈを添加した物は高温特性を向上できる点で特に
好ましい。

【００７３】Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ系導電性粉末としては、
Ｗ、Ｗ（９２−９８）−ＴｉＢ₂ （８−２）、Ｗ（９２
−９８）−ＺｒＢ₂ （２−８）、Ｗ−（９２−９８）−
ＴｉＢ₂ （１−７）−ＺｒＢ₂ （１−７）、Ｗ（９５−
６０）−ＴｉＮ（５−６０）、Ｗ（９０−６０）−Ｔｉ
Ｎ（５−３５）−ＴｉＯ₂ （２−１０）、Ｗ（９０−６
０）−ＴｉＮ（５−３５）−ＴｉＯ₂ （２−１０）−Ｎ
ｉ（１−１０）、Ｗ（９９．７−９７）−ＡｌＮ（０．
３−３）、Ｗ（１０−９０）−Ｍｏ（９０−１０）、Ｗ
（９２−９８）−Ａｌ₂ Ｙ₂ Ｏ₃ （８−２）、Ｍｏ、Ｍ
ｏ（９２−９８）−ＴｉＢ₂ （８−２）、Ｍｏ（９２−
９８）−ＺｒＢ₂ （８−２）、Ｍｏ（９２−８）−Ｔｉ
Ｂ₂ （１−７）−ＺｒＢ₂ （１−７）、Ｍｏ−ＴｉＮ、
Ｍｏ（９０−６０）−ＴｉＮ（５−３５）−ＴｉＯ₂
（２−１０）、Ｍｏ（９０−６０）−ＴｉＮ（５−３
５）−ＴｉＯ₂ （２−１０）−Ｎｉ（１−１０）、Ｍｏ
（９９．７−９７）−ＡｌＮ（０．３−３）、Ｍｎ（５
０−９０）−Ｍｏ（１０−５０）、Ｍｏ（６０−９０）
−Ｍｎ（４０−１０）−ＳｉＯ₂ （０−２０）、Ｗ（３
０−９０）−Ｍｏ（３０−７０）−Ｍｎ（３−３０）な
どの２元系あるいは３元系の混合金属粉末が用いられ
る。上記の中でＴｉＢ₂ 、ＺｒＢ₂ 、ＴｉＮ、ＡｌＮ、
Ｎｉ、ＴｉＯ₂ を添加したものは導体膜とアルミナ基板
との接着強度を向上させ、導体膜の抵抗を下げるのに効
果がある点で特に好ましい。

【００７４】抵抗体粉末としては、ＲｕＯ₂ 、ＲｕＯ₂
系、Ａｌ粉末およびＢ₂ Ｏ₃ を含有するガラス粉末、Ａ
ｌ粉末、遷移金属粉末およびＢ₂ Ｏ₃ を含有するガラス
粉末、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 系−ガラス粉末、ＲｕＯ₂ −ガラス粉
末、ＬａＢ₆ −ガラス粉末、ＳｎＯ₂ 添加品−ガラス粉
末、珪化物−ガラス粉末、ＮｉＯとＬｉ₂ Ｏ₃ −Ｂ₂Ｏ₃
−ＳｉＯ₂ −ＲＯ（ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａの中
から選ばれる一種）などから構成されるガラス粉末など
が挙げられる。

【００７５】ＲｕＯ₂ は、無定系および結晶系、あるい
はパイロクロア化合物と称されるＣｄＢｉＲｕ₂ Ｏ₇ 、
ＢｉＲｕ₂ Ｏ₇ 、ＢａＲｕＯ₅ 、ＬａＲｕＯ₃ 、ＳｒＲ
ｕＯ₃ 、ＣａＲｕＯ₃ 、Ｂａ₂ ＲｕＯ₄ などでもよい。
ＲｕＯ₂ 系としては、ＲｕＯ₂ −ＳｉＯ₂ が使用でき
る。

【００７６】Ａｌ粉末およびＢ₂ Ｏ₃ を含有するガラス
粉末としては、Ａｌが４〜１５重量％、Ｂ₂ Ｏ₃ を含有
するガラス粉末が９６〜８５重量％があげられる。Ｂ₂
Ｏ₃を含有するガラス粉末としては、Ｂ₂ Ｏ₃ −ＢａＯ
−ＳｉＯ₂ −ＴａｉＯ₅ −Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＣａＯ−ＭｇＯ
系などが挙げられる。これにＭｏＳｉ₂ 、ＡｌＳｉ₂、
ＷＳｉ₂ 、ＴｉＳｉ₂ などの金属珪化物を含むことがで
きる。

【００７７】Ａｌ粉末、遷移金属粉末およびＢ₂ Ｏ₃ を
含有するガラス粉末としては、上記のＡｌ粉末およびＢ
₂ Ｏ₃ を含有するガラス粉末に加えて、Ｎｂ、Ｖ、Ｗ、
Ｍｏ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉなどの遷移金属粉末を含有する
ものである。

【００７８】Ｉｎ₂ Ｏ₃ 系−ガラス粉末は、３０〜８０
重量％のＩｎ₂ Ｏ₃ 系と、７０〜２０重量％のガラス粉
末からなるものがあげられる。Ｉｎ₂ Ｏ₃ 系としては、
ＩＴＯ（ＳｎをＩｎ₂ Ｏ₃ にドープしたもの）、Ｉｎ₂
Ｏ₃ 、ＳｂをドープしたＳｎＯ₃ ＋ＳｎＯ₂ などがあげ
られる。また、ガラス粉末としては、ＳｉＯ₂ −Ａｌ₂
Ｏ₃ −ＭｇＯ−ＺｎＯ−Ｂ₂ Ｏ₃ −ＢａＯ系などであ
る。この中では、ＳｉＯ₂ −Ｂ₂ Ｏ₃ 系が低温焼結でき
るので好ましい。

【００７９】＜感光性導電ペーストの製造方法＞ （１）ペーストの調製 感光性ペーストは、通常、無機粉末、紫外線吸光剤、感
光性ポリマー、感光性モノマー、光重合開始剤、ガラス
フリットおよび溶媒等の各種成分を所定の組成となるよ
うに調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散
し作製する。

【００８０】ペーストの粘度は無機粉末、増粘剤、有機
溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって
適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ
（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗布
をスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合
は、２００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印
刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、５
万〜２０万ｃｐｓが好ましい。

【００８１】セラミックグリーンシート表面にパターン
形成を行う場合において、塗布する感光性ペーストに無
機粉末、感光性有機成分、溶媒を含み、前記溶媒が前記
セラミックグリーンシートを溶解しないことが重要であ
る。

【００８２】感光性グリーンシートの場合は、有機成分
が感光性ペーストと同じであるが、非感光性グリーンシ
ートの場合は、感光性ペーストの溶媒とグリーンシート
の樹脂との間で反応が生じ、パターンが形成できない問
題がある。このため、溶媒にケトン、低級アルコール、
脂肪酸高級アルコールエステル、炭化水素のうち、少な
くとも１種を選択することが望ましい。

【００８３】＜回路配線パターン形成方法＞上記のよう
に、露光、現像によりビアホールパターンを形成したセ
ラミックグリーンシートに、感光性導電ペーストを用い
て回路配線パターンを形成する方法について述べる。

【００８４】本発明では、具体的な方法として、（１）
ビアホール形成したセラミックグリーンシート表面に感
光性導電ペーストを塗布すると同時に、導体のビアホー
ル充填を同時に行う方法、（２）一旦フィルム上に回路
配線パターンを形成した後、熱プレスによりセラミック
グリーンシート上に転写してパターンを形成する方法、
がある。

【００８５】まず、導体充填とペースト塗布を同時に行
う方法について詳細を述べる。この方法は、セラミック
グリーンシートの表面に感光性ペーストを塗布する際
に、同時にビアホールに導体を埋込むのであるが、ビア
ホール形成したシートの支持体を剥がし、裏面を真空引
きするなどして固定し、シート表面にスクリーン印刷、
スピンコート、アプリケーターなどによって銅、銀、銀
−パラジウム、タングステン、モリブデンあるいは金を
含む感光性導体ペーストを全面塗布すると同時にビアホ
ールを充填することにより、配線用の層間接続用の導体
を形成する。

【００８６】続いて、上記の要領でシート表面に所定の
感光性導体、抵抗体、誘電体あるいは絶縁体ペーストを
塗布する。ガラス基板やセラミックスの基板、もしく
は、ポリマー製フィルムの上に、感光性ペーストを全面
塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、
スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイ
コーター、ブレードコーター等一般的な方法を用いるこ
とができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッ
シュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。

【００８７】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としてはシランカップ
リング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−
（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキ
シプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アル
ミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップ
リング剤あるいは有機金属を有機溶媒例えばエチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．
１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面
処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８
０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表
面処理ができる。

【００８８】また、フィルム上に塗布した場合、フィル
ム上で乾燥を行った後、次の露光工程を行う場合と、ガ
ラスやセラミックの基板上に張り付けた後、露光工程を
行う方法がある。

【００８９】本発明の感光性ペーストをポリエステルフ
ィルムなどの上に塗布することによって、回路材料やデ
ィスプレイに用いる感光性セラミックグリーンシートを
得ることができる。

【００９０】感光性ペーストを全面塗布したセラミック
グリーンシート上にパターンを形成するために、回路パ
ターンを有するフォトマスクを用いて紫外線を照射して
露光し、感光性ペーストを光硬化させる。この時、予め
形成されたビアホールの位置を把握するため、ビアホー
ルのフォトマスクとラインパターンのフォトマスクがシ
ート上で一致するように高精度のアライメントを設けて
おく必要がある。

【００９１】露光の際、ペースト表面の粗さは、上述し
たようにグリーンシート表面の粗さと同じようにパター
ン形成性に大きな影響を与える。

【００９２】表面粗さの測定は、スクリーン印刷などに
よるペースト塗布後、または８０〜１００℃にて乾燥
後、シート表面粗さの測定と同様にＪＩＳ Ｂ０６０１
に準拠し、各部分における算術平均粗さ（Ｒa ）、最大
高さ（Ｒy ）、十点平均粗さ（Ｒz ）、凹凸の平均間隔
（Ｓm ）、局部山頂の平均間隔（Ｓ）および負荷長さ率
（ｔp ）からそれぞれの算術平均値で表される。

【００９３】ここでは算術平均粗さ（Ｒa ）を、カット
オフ値０．８ｍｍ、評価長さ４ｍｍを標準として求め、
０．１〜１μｍ以下、好ましくは０．１〜０．８μｍと
する。

【００９４】感光性ペーストを露光によりパターン形成
する際には、フォトマスクを介して紫外光を照射する
が、表面粗さによって紫外光が散乱されてしまい、平行
光でなくなってしまう。表面粗さが、上記範囲内であれ
ば紫外光の散乱はほとんど影響がない。表面粗さは小さ
ければ小さいほどよいが、０．１μｍ以下の表面粗さ
は、実質的ではないので除外する。

【００９５】露光後、感光部分と非感光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行なうが、この場
合、浸漬法やスプレー法、ブラシ法で行なう。用いる現
像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である
有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒にその溶解力が
失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペースト
中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する
場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液と
して水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸化カルシ
ウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用でき
るが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカ
リ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとし
ては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具
体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、
トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられ
る。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜１０重量
％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ
濃度が低すぎれば可溶部が除去されずに、アルカリ濃度
が高すぎれば、パターン部を剥離させ、また非可溶部を
腐食させるおそれがあり良くない。また、現像時の現像
温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好まし
い。露光に用いられる紫外線の光源および現像に用いる
現像液は、上記感光性セラミックグリーンシートで用い
た場合のものと同様である。

【００９６】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定されない。な
お、実施例、比較例中の濃度は重量％である。

【００９７】実施例１〜３、比較例１ 〈セラミックグリーンシートの組成〉 (1) 無機粉末 次の組成のものを使用した。 A.アルミナ粉末；屈折率１．７７、粒状、平均粒径２．
５μm 。 B.ガラスセラミック粉末；屈折率１．５８、平均粒径
２．５μｍ。ガラス組成はＡｌ₂ Ｏ₃ ：３４．５、Ｓｉ
Ｏ₂ ：３８．２、Ｂ₂ Ｏ₃ ：９．２、ＢａＯ：５．１、
ＭｇＯ：４．８、ＣａＯ：４．４、ＴｉＯ₂ ：２．１重
量％である。ガラス粉末の球形率は８０個数％、平均粒
子径は２．５μm である。

【００９８】無機粉末としては、実施例１〜３では上記
アルミナ粉末Ａ３０重量％と、上記ガラスセラミック粉
末７０重量％の混合物を用いた。比較例１では、無機粉
末として上記アルミナ粉末Ａのみを用いた。

【００９９】(2) 紫外線吸光剤 有機染料；アゾ系染料；スダンIV、化学式；Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ
₄ Ｏ、分子量；３８０．４５

【０１００】(3) ポリマー ３０モル％のメタクリル酸、３０モル％のメチルメタク
リレートおよび４０モル％のスチレンに対して０．３当
量（メタクリル酸に対して３０モル％に相当する）のグ
リシジルアクリレートを付加反応させたポリマー。

【０１０１】(4) モノマー トリメチロールプロパントリアクリレートモディファイ
ドＰＯ

【０１０２】(5) 溶媒 イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、および
メチルエチルケトンの混合溶媒。

【０１０３】(6) 光重合開始剤 ２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２
−モルフォリノプロパノン

【０１０４】(7) 増感剤 ２，４−ジエチルチオキサントン

【０１０５】〈感光性ペーストの組成〉 (1) 導電性粉末としては、以下の粉末を用いた。実施例４ A.Ｃｕ粉末；単分散粒状、平均粒子径３．１μｍ、比表
面積０．４４ｍ² ／ｇ

【０１０６】実施例５ B.Ａｇ粉末；単分散粒状、平均粒子径３．７μｍ、比表
面積０．４８ｍ² ／ｇ

【０１０７】実施例６、比較例２ C.Ｗ粉末；単分散粒状、平均粒子径３．０μｍ、比表面
積０．１５ｍ² ／ｇ

【０１０８】(2) 側鎖にカルボキシル基とエチレン性不
飽和基を有するアクリル系共重合体（以下、ポリマーと
略す） ４０モル％のメタクリル酸、３０モル％のメチルメタク
リレートおよび３０モル％のスチレンに対して０．４当
量（メタクリル酸に対して４０モル％に相当する）のグ
リシジルアクリレートを付加反応させたポリマー。

【０１０９】(3) 感光性モノマー（以下、モノマーと略
す） トリメチロールプロパントリアクリレート

【０１１０】(4) ガラスフリット ガラスフリットＡ；（成分重量％）酸化ジルコニウム
（４２）、酸化ホウ素（２４）、二酸化ケイ素（２
１）、酸化リチウム（７）、アルミナ（４）およびその
他の酸化物（２）

【０１１１】ガラスフリットＢ；（成分重量％）酸化ビ
スマス（５０）、二酸化ケイ素（７）、酸化ホウ素（１
５）、酸化亜鉛（１４）、酸化バリウム（１４）

【０１１２】(5) 紫外線吸光剤 アゾ系染料；スダン、化学式；Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄ Ｏ，分子
量；３８０．４５

【０１１３】(6) 溶媒 γ−ブチロラクトン

【０１１４】(7) 光重合開始剤 α−アミノ・アセトフェノンをポリマーとモノマーとの
総和に対して２０％添加した。

【０１１５】(8) 可塑剤 ジブチルフタレート（ＤＢＰ）をポリマーの１０％添加
した。

【０１１６】(9) 増感剤 ２，４−ジエチルチオキサントンをポリマーとモノマー
との総和に対して２０％添加した。

【０１１７】(10)増感助剤 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル（ＥＰＡ）
をポリマーとモノマーとの総和に対して１０％添加し
た。

【０１１８】(11)増粘剤 酢酸２−（２−ブトキシエトキシ）エチルに溶解させた
ＳｉＯ2 濃度１５％溶液をポリマーに対して４％添加し
た。

【０１１９】(12)レベリング剤 特殊アクリル系重合物溶液：Ｌ−１９８０−５０（楠本
化成（株））

【０１２０】〈感光性セラミックグリーンシートの製
造〉 (1) グリーンシートの組成 無機粉末に紫外線吸光剤０．１８％となるように添加
し、吸光剤処理した上記無機粉末８６％に、感光性ポリ
マー１１．７％、感光性モノマ２．３％で１００重量部
の無機ペーストを作製する。これに光重合開始剤２％、
増感剤２％、増感助剤１％、溶剤１２％を加え感光性セ
ラミックグリーンシート用スラリーを作製する。

【０１２１】(3) 作製手順 ａ．無機粉末の紫外線吸光剤処理 無機粉末、紫外線吸光剤、および分散剤を所定の組成と
なるように 添加し、エバポレーターで１時間撹拌し、
紫外線吸光剤を無機粉末に分散させた。これを２５０メ
ッシュのフィルターで濾過後、１５０℃まで加熱して分
散剤を蒸発、除去した。

【０１２２】ｂ．有機ビヒクルの作製 溶媒およびポリマーバインダーを混合し、撹拌しながら
６０℃で加熱し、すべてのポリマーを溶解させた。つい
で溶液を室温まで冷却し、光重合開始剤、光反応性化合
物、増感剤、可塑剤を加えて溶解させた。その後この溶
液を撹拌機で真空脱泡した後、２５０メッシュのフィル
ターで濾過し有機ビヒクルを作製した。

【０１２３】ｃ．スラリー調製 スラリーの作製は上記のビヒクルに吸光剤処理したセラ
ミックス粉末を混合し、ボールミルで２０時間湿式混合
し、スラリーを調製した。調製した組成を表１に示す。

【０１２４】ｄ．グリーンシートの作製 成形は紫外線を遮断した室内でポリエステルのキャリア
フィルムとブレードとの間隔を０．１〜０．８ｍｍと
し、成形速度０．２ｍ／ｍｉｎでドクターブレード法に
よって行った。シート作製後、８０℃で１時間乾燥し
た。

【０１２５】ｅ．グリーンシートの表面粗さ測定 ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠し、算術平均粗さ（Ｒa ）を
カットオフ値０．８ｍｍ、評価長さ４ｍｍを標準として
求めた。

【０１２６】〈感光性導電ペーストの製造〉実施例４ 銅ペースト 銅粉末８７％、ポリマー６％、モノマー３％およびガラ
スフリットＡ４％を添加し、１００重量部の銅ペースト
用原料を作製し、これに光重合開始剤２％、増感剤２
％、増加助剤１％、可塑剤０．６％、増粘剤４％および
レベリング剤０．５％を添加して銅ペースト組成とし
た。

【０１２７】実施例５ 銀ペースト 紫外線吸光剤０．１８％添加した吸光剤処理済銀粉末８
７％に、ポリマー６％、モノマー３％およびガラスフリ
ットＢ４％を添加し、１００重量部の銀ペースト用原料
を作製し、これに光重合開始剤２％、増感剤２％、増加
助剤１％、可塑剤０．６％、増粘剤４％およびレベリン
グ剤０．５％を添加して、銀ペースト組成とした。

【０１２８】実施例６、比較例２ タングステンペース
ト タングステン粉末９０％に、ポリマー６．５％、モノマ
ー３．５％を添加し、１００重量部のタングステンペー
スト用原料を作製して、これに光重合開始剤２％、可塑
剤０．６％、増粘剤４％およびレベリング剤０．５％
（比較例２では添加せず）を添加してタングステンペー
スト組成とした。

【０１２９】(4) ペーストの作製手順 上記導電ペーストの作製手順を以下にまとめる。

【０１３０】A.有機ビヒクルの作製 溶媒およびポリマーを混合し、攪拌しながら８０℃まで
加熱し、すべてのポリマーを均一に溶解させた。ついで
溶液を室温まで冷却し、モノマー、可塑剤増感剤、増感
助剤、増粘剤、レベリング剤および光重合開始剤を加え
て溶解させた。その後、溶液を４００メッシュのフィル
ターを通し濾過した。

【０１３１】B.吸光剤添加粉末の作製 有機染料を所定の量秤量し、アセトンに溶解させた溶液
に分散剤を加えて、ホモジナイザーで均一に攪拌した。
この溶液中に、導電粉末およびガラスフリットを所定の
量添加して、局所排気装置内でアセトンを蒸発させなが
ら均質に分散・混合後を行い、導電性粉末およびガラス
フリットの表面を均質にコ−ティングした（いわゆるカ
プセル処理した）粉末を作製した。

【０１３２】C.ペ−スト作製 上記の有機ビヒクルに有機染料でカプセル化処理した導
電性粉末およびガラスフリットを所定の組成となるよう
に添加し、３本ローラーで混合・分散してペーストを作
製した。

【０１３３】〈ビアホール形成〉ピッチ２００μｍ、マ
スクビアホール径１２０μｍで設計されたクロムマスク
を用い、高圧水銀灯で片面の場合は５．４Ｊ／ｃｍ² 、
両面の場合は、片面ずつ３Ｊ／ｃｍ² で順次、または同
時にて紫外線露光を行った。

【０１３４】その後、モノエタノールアミンの０．５％
水溶液に３０秒浸漬して、現像を行った。

【０１３５】水洗後、乾燥して平均ビアホール径を測定
したところ、７５μｍの均一なビアホールが２００ｍｍ
角サイズで得られた。

【０１３６】〈パターン形成〉 (1) 基板の表面処理 表面処理液として（２−アミノエチル）アミノプロピル
トリメトキシシランのイソプロピルアルコ−ルの０．５
重量％溶液を用いる。この溶液１．０ｍｌを基板上に滴
下し、スピナーで回転数３０００ｒｐｍで１０秒塗布し
た後、室温で乾燥させて表面処理を行った。

【０１３７】(2) 印刷 上記のペーストを３２５メッシュのスクリーンを用いて
９６％アルミナシート、コーディライトシートおよびガ
ラス／セラミックスシート（いずれも７６ｍｍ×７６ｍ
ｍ×０．６３５ｍｍｔ）上に５０ｍｍ角の大きさにベタ
印刷と同時にビアホールに導体を充填し、８０℃で４０
分間乾燥した。乾燥後の塗布膜の厚みは２５μｍであっ
た。

【０１３８】(3) 露光・現像 上記で作製した塗布膜を５０μｍのファインパターンを
有する電極を形成したクロムマスクを用いて、上面から
５００ｍＷ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀灯で紫外線露光
した。次に２５℃に保持したモノエタノールアミンの
０．５％の水溶液に浸漬して現像し、その後スプレーを
用いて未露光部を水洗浄し、その後エアーブローによっ
て水分を吹き飛ばし、５０℃で３０分間乾燥を行った。

【０１３９】

【表１】

【０１４０】

【表２】

【０１４１】

【発明の効果】本発明は、グリーンシートおよび感光性
ペーストによるラインパターンの平均表面粗さを１μｍ
以下にすることにより、フォトリソ法における光散乱を
低減し、微細で断面形状が均一なストレートビア、矩形
のパターン断面が形成できる。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 無機粒子と感光性有機成分とから成るセ
   ラミックス・グリーンシートであって、その表面におい
   て、評価長さ４ｍｍ、カットオフ値０．８ｍｍの場合
   に、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠する算術平均粗さが、１
   μｍ以下であるセラミックス・グリーンシート。
2. 【請求項２】 ８０℃〜１００℃にて熱処理した後、平
   均表面粗さが１μｍ以下である請求項１記載のセラミッ
   クス・グリーンシート。
3. 【請求項３】 前記感光性有機成分の屈折率と前記無機
   粒子の屈折率の差が０．２以内である請求項１又は２記
   載のセラミックス・グリーンシート。
4. 【請求項４】 前記無機粒子が、（ａ）アルミナ（Ａｌ
   ₂ Ｏ₃ ）、ジルコニア（ＺｒＯ₂ ）、マグネシア（Ｍｇ
   Ｏ）、ベリリア（ＢｅＯ）、ムライト（3 Ａｌ₂ Ｏ₃ ・
   2 ＳｉＯ₂ ）、コーディライト（5 ＳｉＯ₂ ・2 Ａｌ₂
   Ｏ₃ ・2 ＭｇＯ）、スピネル（ＭｇＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、
   フォルステライト（2 ＭｇＯ・ＳｉＯ₂ ）、アノーサイ
   ト（ＣａＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・2 ＳｉＯ₂ ）、セルジアン
   （ＢａＯ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・2 ＳｉＯ₂ ）、シリカ（ＳｉＯ
   ₂ ）、クリノエンスタタイト（ＭｇＯ・ＳｉＯ₂ ）、窒
   化アルミ（ＡｌＮ）の群から選ばれた少なくとも１種以
   上か、または、（ｂ）酸化物換算表記で ＳｉＯ₂ １５〜７０重量部 Ａｌ₂ Ｏ₃ １０〜６０重量部 Ｂ₂ Ｏ₃ ４〜２０重量部 ＭｇＯ １〜２５重量部 およびＬｉ₂ Ｏ、Ｎａ₂ Ｏ、ＣａＯ、ＰｂＯおよびＫ₂
   Ｏの少なくとも１種の化合物を０．５〜２５重量％から
   なる組成範囲で、総量が９５重量％以上となるガラス組
   成粒子３０重量％以上と、アルミナ、ジルコニア、マグ
   ネシア、ベリリア、ムライト、コーディライト、スピネ
   ル、フォルステライト、アノーサイト、セルジアン、シ
   リカおよび窒化アルミの群から選ばれた少なくとも一種
   の無機フィラー粉末７０重量％以下との原料混合物であ
   る請求項１ないし３のいずれか１項に記載のセラミック
   ス・グリーンシート。
5. 【請求項５】 前記ガラス粒子として、球形率８０個数
   ％以上のガラス微粒子を５０重量％以上用いる請求項４
   記載のセラミックス・グリーンシート。
6. 【請求項６】 感光性有機成分として、スチレン、ハロ
   ゲン化スチレン、α−メチルスチレン、ハロゲン化α−
   メチルスチレンのうち少なくとも１種類を１０重量％以
   上含有するオリゴマーもしくはポリマーを用いる請求項
   １ないし５のいずれか１項記載のセラミックス・グリー
   ンシート。
7. 【請求項７】 感光性有機成分として、ベンゼン環を含
   有する（メタ）アクリレートを１０重量％以上含有する
   モノマー、もしくはそのモノマーを１０重量％以上含む
   組成物を重合したオリゴマーもしくはポリマーを用いる
   請求項１ないし５のいずれか１項記載のセラミックス・
   グリーンシート。
8. 【請求項８】 感光性有機成分として、紫外線吸光剤を
   ０．０５〜５重量％含有することを特徴とする請求項１
   ないし７のいずれか１項に記載のセラミックス・グリー
   ンシート。
9. 【請求項９】 セラミックス・グリーンシート上に電極
   パターンを形成し、該電極パターン表面の算術平均粗さ
   が１μｍ以下であるセラミックス・グリーンシート。