JPH06302633A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JPH06302633A
JPH06302633A JP5086489A JP8648993A JPH06302633A JP H06302633 A JPH06302633 A JP H06302633A JP 5086489 A JP5086489 A JP 5086489A JP 8648993 A JP8648993 A JP 8648993A JP H06302633 A JPH06302633 A JP H06302633A
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JP
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mold
package
eject
lead frame
cavity
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JP5086489A
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Akira Takashima
晃 高島
Toshiyuki Yoda
敏幸 誉田
Masaki Waki
政樹 脇
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Kyushu Fujitsu Electronics Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Kyushu Fujitsu Electronics Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/14Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles
    • B29C45/14639Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles for obtaining an insulating effect, e.g. for electrical components
    • B29C45/14655Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles for obtaining an insulating effect, e.g. for electrical components connected to or mounted on a carrier, e.g. lead frame
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は樹脂製パッケージの半導体装置の製
造方法に関し、モールド時のステージ変形を防止すると
共に、実装時のパッケージクラックを防止することを目
的とする。 【構成】 リードフレーム21を上金型22a及び下金
型22bに位置させるときに、リードフレーム21のキ
ャビティ23以外の部分を上下方向からイジェクトピン
24,25により挟持する。そして、樹脂モールド後
に、イジェクトピン24,25によりパッケージ28が
形成されたリードフレーム21がイジェクトされる構成
とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂製パッケージの半
導体装置の製造方法に関する。
【0002】近年の半導体装置は実装効率を向上させる
ために小型化、薄型化が図られており、パッケージ形態
がDIP(Dual In-Line Package)型からSOJ(Smal
l Outline J-Leaded Package)型、QFP(Quad Flat
Package )型へ移行し、更に薄型のTSOP(Thin Sma
ll Outline Package)型へ移行してきている。これに伴
い、パッケージの機能的強度は低下し、モールド後のイ
ジェクト時にステージ変形が発生し、実装時において熱
印加時に発生する水蒸気によりパッケージに割れが発生
するおそれがある。
【0003】そこで、ステージ変形が生じないと共に、
熱ストレスに強く、熱印加時においてもパッケージ割れ
が発生しない半導体装置が望まれている。
【0004】
【従来の技術】図6に、従来の半導体装置の断面図を示
す。図6において、半導体装置11は、半導体チップ1
2をリードフレーム13のステージ13a上にダイス付
けし、半導体チップ12とリード13bとをワイヤ14
によりボンディングした後、樹脂モールドすることによ
りパッケージ15を形成した構造のものが知られてい
る。
【0005】この場合、樹脂モールド後に金型よりイジ
ェクトすることから、パッケージ15の上面及び下面に
イジェクトマーク15a〜15dが形成される。
【0006】ここで、図7に、従来の製造時におけるイ
ジェクトの説明図を示す。図7(A)において、半導体
チップ12がダイス付けされ、ワイヤボンディングされ
たリードフレーム13が、上金型16及び下金型17に
より形成されるキャビティ内に位置されて樹脂モールド
される。このとき、上金型16には、パッケージ上面に
対応する位置に可動ピン18a,18bが備えられ、下
金型17には、パッケージ下面に対応する位置に可動ピ
ン19a,19bが備えられる。
【0007】そして、樹脂モールド後上金型16と下金
型17とを分離する際、それぞれの可動ピン18a,1
8b,19a,19bが可動して、リードフレーム13
が上下金型16,17よりイジェクトされる。従って、
図7(B)及び図6に示すように、パッケージ15の上
面及び下面には、可動ピン18a,18b,19a,1
9b跡の凹状のイジェクトマーク15a〜15d(例え
ば深さが最大100μm )が形成される(下面は図面に
表われず)。すなわち、パッケージ15の上面及び下面
でイジェクトマーク15a〜15dにより最大200μ
m 薄くなる。
【0008】このような樹脂製パッケージ15の半導体
装置11は、パッケージ15が薄く且つ半導体チップ1
2の占有率が大きくなると、モールド時に容積的にモー
ルド樹脂の流動性が悪くなりステージ13aの変形やワ
イヤ14の変形が発生する。
【0009】すなわち、上述のパッケージ15にイジェ
クトマーク15a〜15dを形成する要因の可動ピン1
8a,18b,19a,19bがモールド樹脂の流動性
を悪化させているもので、ステージ変形やワイヤ変形が
大きくなると、イジェクトマーク15a〜15dにワイ
ヤ14が露出するという事態を生じる。
【0010】そこで、このステージ変形やワイヤ変形を
防止するために、モールド樹脂においてオイル等の可撓
剤の添加量を低減させたり、シリカ等のフィラー充填率
を減少させて粘度を低下させることにより流動性の向上
を図っている。
【0011】一方、上述の半導体装置では、室温に放置
しているとパッケージ自体が水分を吸収し、この水分は
半導体装置の実装時に行われる加熱処理により水蒸気と
なる。この水蒸気圧は非常に大きな圧力であり、この水
蒸気圧が直接パッケージに印加されると、パッケージに
ステージコーナー、チップコーナーからクラックが発生
してしまう。これにより、耐湿性の劣化を生じる。
【0012】そこで、水蒸気の発生によるパッケージク
ラックを防止する手段として、ステージ13aとモール
ド樹脂の密着力を向上させる方法、樹脂強度(ヤング
率)を向上させる方法、パッケージ15の吸湿率を低減
させる方法がある。
【0013】密着力を向上させる方法には、ステージ1
3aやその周辺にディンプル加工や十字スリット加工を
施し、貫通孔を形成したり、またモールド樹脂、リード
フレームの材質改良を行う方法がある。また、吸湿率の
低減する方法には、モールド樹脂として使用されるエポ
キシ樹脂の改良や、フィラー充填率の増大を行う方法が
ある。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかし、モールド時の
ステージ変形を防止するにはフィラー充填率を減少させ
ることが最も有効であり、またパッケージクラック防止
にはパッケージの信頼性の高い吸湿率を低減させるため
のフィラー充填率の増大を行うことが最も有効である。
すなわち、パッケージクラック防止のためのステージ1
3aの加工はコスト高やダイス付けの困難性のデメリッ
トがある。
【0015】従って、ステージ変形防止及びパッケージ
クラック防止のためのフィラー充填率の低減とフィラー
充填率の増大とは相反することとなり、何れをも満足さ
せることが困難であるという問題がある。
【0016】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、モールド時のステージ変形を防止すると共に、
実装時のパッケージクラックを防止する半導体装置の製
造方法を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】図1に、本発明の原理説
明図を示す。図1(A)〜(C)において、まず、金属
導体であるリードフレーム21のステージ上に半導体チ
ップを搭載し、リードフレーム21のインナリードとの
間でワイヤボンディングする(図3(A)参照)。そこ
で、ステージ上の半導体チップの周辺を、それぞれ可動
自在な上金型22a及び下金型22bで形成されるキャ
ビティ23内に位置させると共に、該キャビティ23以
外の部分に位置されるリードフレーム21の所定部分を
該上金型(22a)側及び該下金型(22b)側より可
動自在な所定数のイジェクト部材であるイジェクトピン
24,25により挟持する。この場合の挟持部分の平面
図が図1(B)に示される。なお、図1(B)中、26
はモールド樹脂を注入するためのゲートである。
【0018】そして、キャビティ23内にモールド樹脂
27を充填してパッケージ28を形成した後、上金型2
2a及び下金型22bを分離し、イジェクト部材24,
25により樹脂モールド後のリードフレーム21をイジ
ェクトするものである。
【0019】
【作用】図1に示すように、リードフレーム21を上金
型22a及び下金型22bに位置させるときに、リード
フレーム21のキャビティ23以外の部分を上下方向か
らイジェクトピン24,25により挟持する。そして、
樹脂モールド後に、イジェクトピン24,25によりパ
ッケージ28が形成されたリードフレーム21がイジェ
クトされる。
【0020】すなわち、イジェクト時にはパッケージ2
8部分でイジェクトせずに、リードフレーム21部分で
イジェクトすることから、パッケージ28にはイジェク
トマークが形成されない。
【0021】従って、パッケージ28が薄型になって
も、27にはフィラー充填率の高いモールド樹脂27を
使用しても流動性が悪化しない。これにより、モールド
時のステージ変形やワイヤ変形を防止することが可能と
なり、製造後の加熱によるパッケージクラックを防止す
ることが可能となるものである。
【0022】
【実施例】図2に、本発明の一実施例の構成図を示す。
図2において、上金型22a上には、所定数のピン31
及びイジェクト部材であるイジェクトピン24が立設さ
れたピンプレート32が設けられ、ピンプレート32と
所定数のバネ(33,図5参照)で連結されたプレート
34が設けられる。ピン31はピンプレート32の例え
ば四隅に設けられ、イジェクトピン24は後述するキャ
ビティ23以外の部分であって該キャビティ23の近傍
に位置するリードフレーム21の所定位置に対応するよ
うに設けられる。
【0023】また、上金型22aには、上記ピン31及
びイジェクトピン24を貫通させる孔(35)が形成さ
れており、該孔(35)内をピン31及びイジェクトピ
ン24が可動する(図5において説明する)。この上金
型22a,ピンプレート32,プレート34は上金型駆
動部36により図面上、上下方向に自在に移動可能であ
る。
【0024】そして、下金型22bには、個々の半導体
チップが樹脂モールドされた金属導体であるリードフレ
ーム21が位置される(図3において説明する)。この
下金型22bは下金型駆動部37により図面上、上下方
向に自在に移動可能である。すなわち、上金型22aと
下金型22bとは対向する方向に可動自在である。な
お、本実施例でいう上金型、下金型とは、キャビティブ
ロック、ランナブロック、ゲートブロックを組み込んだ
チエイスブロックのことを指す。
【0025】一方、下金型22bの下方には、所定数の
イジェクトピン25が立設されたピンプレート38が配
置され、該ピンプレート38の下方にプレート39が配
置される。このピンプレート38に立設されたイジェク
トピン25は、下金型22bに形成された孔(40)内
を自在に移動可能であると共に、上記ピンプレート38
に立設されたイジェクトピン24と位置及び個数が対応
する。なお、プレート39は固定されており、ピンプレ
ート38は下金型22bと共に移動される。
【0026】ここで、図3に、本発明のモールド前のリ
ードフレームの説明図を示す。図3(A)において、リ
ードフレーム21はステージ21a及びその周辺に対応
するインナリード21bと、インナリード21bから一
体的に延出するアウタリード21cとが連結状に形成さ
れたもので、各ステージ21a上には半導体チップ41
がダイス付けされる。そして、半導体チップ41の電極
パッドとインナリード21bとがワイヤ42によりボン
ディングされる。
【0027】一方、図3(B)は下金型22bを示した
もので、下金型22bにはランナ43より各ゲート44
を介してそれぞれのキャビティ23を形成する凹部23
bに連結されている。なお、上金型22aにおいても同
様のキャビティ23を形成する凹部が形成されており、
上金型22aと下金型22bとが密接することによりキ
ャビティ23を形成する。
【0028】そして、下金型22bの凹部23bに、図
3(A)に示すリードフレーム21の半導体チップ41
の周辺部分を位置させるように載置される。すなわち、
上金型22aと下金型22bとが密接して形成されるキ
ャビティ23内に半導体チップ41周辺が位置され、ラ
ンナ43よりモールド樹脂27を注入して樹脂モールド
が行われる。この場合、使用されるモールド樹脂27
は、シリカ等のフィラーの充填率を増加させたものが用
いられる。
【0029】そこで、図4に、本発明のモールド後のリ
ードフレームの説明図を示す。図4(A)は全体平面
図、図4(B)は一部拡大図、図4(C)は図4(B)
の側面図である。
【0030】図4(A)に示すように、一連のリードフ
レーム21には樹脂モールドによりそれぞれパッケージ
28が形成される。この場合、図4(B)に示すよう
に、上金型22a及び下金型22b(図2)内ではキャ
ビティ23(図2)の近傍、すなわち、パッケージ28
の近傍に配置されるイジェクトピン24(図4(B)で
は斜線円で示す)と、リードフレーム21を介して対応
するイジェクトピン25(図に表われず)により挟持さ
れた状態であり、樹脂モールド後に、このイジェクトピ
ン24,25によりイジェクトされる。すなわち、イジ
ェクトピン24,25はリードフレーム21部分を挟持
することから、図4(C)に示すように、樹脂モールド
で形成されるパッケージ28にはイジェクトマークが形
成されないことになる。
【0031】なお、図4(B)では、リード中央部分に
サポートバー21dが形成されたリードフレーム21を
示したが、このサポートバー21dを有しないリードフ
レームの場合は形成されるパッケージ28の四隅近傍で
イジェクトピン24,25により挟持される。
【0032】その後、リードフレーム21より個々のパ
ッケージ28が切断により取り出され、パッケージ28
より延出するアウタリード21cを所定形状(例えばJ
形状又はガルウィング形状等)に折曲されて半導体装置
が完成する。
【0033】ここで、図5に、図5の製造工程の動作説
明図を示す。まず、図5(A)において、下金型22b
には図3(B)に示すように半導体チップ41がダイス
付けされてワイヤボンディングされたリードフレーム2
1が載置されている。この場合、下金型22b上にはピ
ンプレート38のイジェクトピン25が突出されていな
い状態であり、ピンプレート38とプレート39とは離
隔している。
【0034】一方、ピンプレート32は、プレート34
よりバネ33の付勢力によりピン31及びイジェクトピ
ン24が上金型22aより突出した状態である。そし
て、上型22a及びプレート34が上金型駆動部36に
より下金型22b側に移動する。
【0035】そして、図5(B)に示すように、上金型
22aと下金型22bとが密接すると、バネ33を押し
縮めてピンプレート32におけるピン31及びイジェク
トピン24の先端が上金型22aの表面位置となる。こ
のときのピン31は上金型22aと下金型22bとの位
置決めの役割をなし、ピンプレート32のイジェクトピ
ン24とピンプレート38のイジェクトピン25によ
り、図4(B)に示すようにそれぞれのパッケージ28
(キャビティ23)近傍のリードフレーム21を両面で
挟持する。
【0036】この状態で、図3(B)に示すようにラン
ナ43にモールド樹脂27が注入され、キャビティ23
内で樹脂モールドが行われる。
【0037】続いて、樹脂モールドが終了して、所定時
間のモールド樹脂の硬化後、図5(C)に示すように、
上金型駆動部36により上金型22aとプレート34
を、上金型22a及び下金型22bの対向する方向と反
対方向に移動させて、上金型22aを下金型22bより
分離される。このとき、バネ33の付勢力によりピン3
1及びイジェクトピン24は上金型22a面より突出し
た状態となる。すなわち、イジェクトピン24により、
まず上金型22aから樹脂モールド後のリードフレーム
21がイジェクトされる。
【0038】また、下金型駆動部37により、下金型2
2bを、上金型22a及び下金型22bの対向する方向
と反対方向、すなわちプレート39方向に移動させる。
そして、ピンプレート38がプレート39に当接した後
もさらに下金型22bを移動させると、イジェクトピン
25が下金型22b表面より突出した状態となる。これ
により、下金型22bから樹脂モールド後のリードフレ
ーム21がイジェクトされることになる。
【0039】なお、樹脂モールド後のリードフレーム2
1のイジェクトをパッケージ28近傍位置のリードフレ
ーム21部分で行うことから当接部分のリードフレーム
21を変形させることはない。
【0040】このように、パッケージ28にはイジェク
トマークが形成されないことから、実装時の熱印加によ
るパッケージクラックを防止するためにモールド樹脂2
7へのフィラー充填率を増大させることができ、またイ
ジェクトマークによる樹脂注入における流動性が悪化せ
ず、ステージ変形やワイヤ変形を防止することができ
る。このことは、パッケージクラックのマージを大きく
取ることができ、同時に組立てのマージンを大きく取る
ことができるものである。
【0041】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、金属導体
を上金型及び下金型に位置させるときに、金属導体のキ
ャビティ以外の部分を両面からイジェクト部材により挟
持し、樹脂モールド後に該イジェクト部材で該金属導体
をイジェクトすることにより、モールド時のステージ変
形を防止することができると共に、実装時のパッケージ
クラックを防止することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理説明図である。
【図2】本発明の一実施例の構成図である。
【図3】本発明のモールド前のリードフレームの説明図
である。
【図4】本発明のモールド後のリードフレームの説明図
である。
【図5】図2の製造工程の動作説明図である。
【図6】従来の半導体装置の断面図である。
【図7】従来の製造時におけるイジェクトの説明図であ
る。
【符号の説明】
21 リードフレーム 22a 上金型 22b 下金型 23 キャビティ 24,25 イジェクトピン 26 ゲート 27 モールド樹脂 28 パッケージ 31 ピン 32,38 ピンプレート 33 バネ 34,39 プレート 35,40 孔 36 上金型駆動部 37 下金型駆動部 41 半導体チップ 42 ワイヤ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 脇 政樹 鹿児島県薩摩郡入来町副田5950番地 株式 会社九州富士通エレクトロニクス内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属導体(21)のステージ(21a)
    上に半導体チップ(41)を搭載し、該金属導体(2
    1)のインナリード(21b)との間でワイヤボンディ
    ングする工程と、 該ステージ(21a)上の該半導体チップ(41)の周
    辺を、それぞれ可動自在な上金型(22a)及び下金型
    (22b)で形成されるキャビティ(23)内に位置さ
    せると共に、該キャビティ(23)以外の部分に位置さ
    れる該金属導体(21)の所定部分を該上金型(22
    a)側及び該下金型(22b)側より可動自在な所定数
    のイジェクト部材により挟持する工程と、 該キャビティ(23)内にモールド樹脂(27)を充填
    する工程と、 該上金型(22a)及び下金型(22b)を分離すると
    共に、該イジェクト部材(24,25)により樹脂モー
    ルド後の該金属導体(21)をイジェクトする工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記イジェクト部材(24,25)は、
    前記上金型(22a)及び下金型(22b)を可動自在
    に貫通することを特徴とする請求項1記載の半導体装置
    の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記イジェクト部材(24,25)は、
    前記キャビティ(23)以外の部分に位置される前記金
    属導体(21)の、該キャビティ(23)近傍位置を挟
    持することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製
    造方法。
  4. 【請求項4】 前記上金型(22a)及び下金型(22
    b)は互いに対向する方向に可動自在であり、前記樹脂
    モールド後に、該上金型(22a)及び下金型(22
    b)より分離し、該下金型(22b)を対向する方向と
    反対方向に移動させて、該下金型(22b)側の前記イ
    ジェクト部材(25)により前記金属導体(21)をイ
    ジェクトすることを特徴とする請求項1記載の半導体装
    置の製造方法。
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