JPH06293186A

JPH06293186A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH06293186A
Application number: JP5082897A
Authority: JP
Inventors: Michiko Tamano; 美智子玉野
Original assignee: Toyo Ink Mfg Co Ltd
Current assignee: Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date: 1993-04-09
Filing date: 1993-04-09
Publication date: 1994-10-21
Anticipated expiration: 2016-02-19
Also published as: JP3136828B2

Abstract

(57)【要約】【目的】従来の追記機能、編集機能を有するＣＤあるい
はＣＤ−ＲＯＭの持つ欠点を解決し、７７０〜８１０ｎ
ｍの波長再生が可能なオレンジブックに準拠した光デイ
スクを提供する。【構成】基盤上に下記一般式［Ｉ］で示されるフタロシ
アニン系化合物の少なくとも一種を含有する有機薄膜層
を有することを特徴とする光学記録媒体。一般式［Ｉ］【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光線によっ
て、情報を書き込んだり、読み取ったりする事が可能な
光学記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】集光レーザー光による情報記録媒体の中
で、オーデオ等の音楽再生用としてのコンパクトデイス
ク（ＣＤ）が広く普及している。このようなＣＤは、通
常ポリカーボネート等の透明基板表面にＣＤフォーマッ
ト信号を有するピット列を射出成形時に形成し、その上
からアルミニウムまたは金等を蒸着あるいはスパッタリ
ングにより反射膜として設け、さらに保護層をコートし
て作成する。このようにして作成した光デイスクの基板
の裏面から再生レーザー光（７８０ｎｍ半導体レーザー
光）を照射して、ピットの凹凸による反射率の変化から
各信号を読み取り、情報を再生するものである。しか
し、このようなＣＤは再生専用であり記録が出来ないた
め、追記型光デイスクあるいは書き換え可能な光磁気デ
イスク等のような編集機能がないという不都合さがあっ
た。一方、編集機能を有する追記型光デイスクあるいは
光磁気デイスクとしては、Ｔｅ等カルコゲナイト系化合
物、希土類金属化合物もしくはシアニン、ナフタロシア
ニン等の有機色素等を記録膜としたものが実用化されて
いる。しかしながら、これらの光デイスクは基盤面から
の反射率が低く、現状のままＣＤあるいはＣＤ−ＲＯＭ
の再生装置により信号の再生を行うことは出来ないとい
う問題点がある。このような問題点を解決するために、
シアニン等の記録膜の上に金等の反射膜を設けて、基板
面反射率で７０％以上を確保して７８０ｎｍでＣＤフォ
ーマットあるいはＣＤ−ＲＯＭフォーマット信号を記録
し、ＣＤまたはＣＤ−ＲＯＭの再生装置で情報を読み出
す光デイスクおよび方法が提案されている。

【０００３】しかしながら、一般にシアニン色素は光安
定性が悪いため、ＣＤのような単面構成で直接太陽光に
さらされるような使用条件では、記録の信頼性に問題が
生じる可能性がある。そのため、シアニン色素に代え
て、化学的、物理的安定性の優れたフタロシアニン色素
を記録膜材料に使用する試みが検討されている。

【０００４】このフタロシアニン色素の場合には、熱的
にも安定なため記録感度が低い、さらに吸収バンドが非
常にシャープであるため、ＣＤドライブのピックアップ
に搭載される半導体レーザーの発振波長の許容範囲（７
７０〜８１０ｎｍ程度）で安定した光学特性（反射率お
よび吸収）を得ることが困難であり、記録感度の波長依
存性が大きい等の欠点があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、化学的、物
理的に安定でレーザー光線により高感度に記録、再生で
きる安価な特定のフタロシアニン化合物を用いた光学記
録媒体を提供するものであり、ＣＤ型光記録媒体につい
ては、従来の追記機能、編集機能を有するＣＤあるいは
ＣＤ−ＲＯＭの持つ欠点を解決し、７７０ｎｍ〜８１０
ｎｍの波長範囲で安定した光学特性を実現し、この波長
範囲で完全に記録再生が可能なレッドブックに準拠した
光デイスクを提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意研究を
行った結果、基板上に特定のフタロシアニン化合物を含
有する記録層を有する光学記録媒体が優れた種々の特性
を有することを見いだし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の第一は基板上に下記一般式［Ｉ］で示さ
れる特定のフタロシアニン化合物の少なくとも一種以上
を含有する有機薄膜層を記録層として持つことを特徴と
する追記型の光学記録媒体である。一般式［Ｉ］

【０００７】

【化２】

【０００８】［式中、置換基Ｘ¹〜Ｘ⁴はそれぞれ独立
に、−ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ¹Ｒ²、−Ｐ（＝Ｏ）Ｒ¹Ｒ²、−Ｏ
Ｐ（＝Ｓ）Ｒ¹Ｒ²、−Ｐ（＝Ｓ）Ｒ¹Ｒ²、（ただし、Ｒ
¹およびＲ²は、それぞれ独立にアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、ジアルキルアミ
ノ基を示す。）を表し、ｎ１〜ｎ４は置換基Ｘ¹〜Ｘ⁴の
置換基数で１〜４の整数を表す。Ｙ¹〜Ｙ⁴はそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有しても良いア
ルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を
有してもよいアルコキシ基、置換基を有しても良いアリ
ールオキシ基、置換基を有しても良いアルキルチオ基、
置換基を有しても良いアリールチオ基、ニトロ基、シア
ノ基、スルホン酸基、スルホン酸アミド基、スルホン酸
エステル基を表す。Ｍは、２Ｈもしくは金属原子を表
す。置換基Ｚは、アルキル基、アルコキシル基、アシル
基、−ＯＰ（＝Ｏ）Ｒ³Ｒ⁴，−ＯＰ（＝Ｏ）Ａｒ¹Ａｒ²
を表す。ここで、Ｒ³、Ｒ⁴は置換基を有しても良い直
鎖、分岐または環状のアルキル基を表し、Ａｒ¹、Ａｒ²
は置換基を有しても良いアリール基を表す。ｍは、Ｏか
ら２の整数であり置換基Ｚの個数を表す。］

【０００９】つまり、一般式［Ｉ］で示されるフタロシ
アニン化合物の特徴は、フタロシアニン環に導入された
置換基（一般式［Ｉ］中の置換基Ｘ）の効果により、大
きな重量減少を伴う分解点が４００℃以下となり、か
つ、置換基Ｘ¹〜Ｘ⁴の導入位置により最大吸収極大のシ
フトに影響するため、適切な記録感度を与える位置に記
録媒体の吸収を調整し、記録レーザーの熱エネルギーを
有効に活用することができるとともに記録感度の波長依
存性をも調整することができる。また、中心金属から、
フタロシアニン環の分子平面に垂直な方向に導入された
置換基（一般式［Ｉ］中の置換基Ｚ）の効果により、記
録膜上でのフタロシアニン分子同士の会合を抑制するた
め、高い分子吸光係数を示すとともに、最大吸収極大と
最大反射率を示す点が半導体レーザーの波長域に近づく
ため、ディスクとしてオレンジブックの規格に充分準拠
する高い感度をもつとともに、６５％以上の反射率を確
保することができる。また、この新規なフタロシアニン
化合物は汎用性の有機溶剤に対する溶解度が向上し、ス
ピンコート法による記録膜の作成が容易となる。

【００１０】本発明の一般式［Ｉ］で示されるフタロシ
アニン系色素に導入される置換基Ｘ ¹〜Ｘ⁴を構成する有
機置換基の代表例としては、ジメチルオキシホスホリル
基、ジチルオキシホスホリル基、ジプロピルオキシホス
ホリル基、ジブチルオキシホスホリル基、ジフェニルオ
キシホスホリル基、ジ（４−メチルフェニル）オキシホ
スホリル基、ジ（４−ニトロフェニルオキシ）ホスホリ
ル基、ジメトキシホスフィノオキシ基、ジエトキシホス
フィノオキシ基、ジプロポキシホスフィノオキシ基、ジ
ブトキシホスフィノオキシ基、ジフェニルホスフィノオ
キシ基、メチル−フェニルホスフィノオキシ基、ジエト
キシホスフィノチオキシ基、ジブトキシホスフィノチオ
キシ基、ジフェニルホスフィノチオキシ基等がそれぞれ
挙げられるが、これらに限定させるものではない。

【００１１】本発明の一般式［Ｉ］で示されるフタロシ
アニン系色素に導入される置換基Ｙ ¹〜Ｙ⁴を構成する原
子および有機置換基の代表例としては、置換基を持たな
い場合に相当する水素原子をはじめ、ハロゲン原子とし
ては塩素、臭素、ヨウ素、フ素があり、置換基を有して
良いアルキル基としては、メチル基、ｎ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ステアリル基、トリクロトメチル基、トリ
フルオロメチル基、２−メトキシエチル基、フタルイミ
ドメチル基等を、置換基を有してもよいアリール基とし
ては、フェニル基、ナフチル基、ｐ−ニトロフェニル
基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基等があり、置換基を有し
てもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基、ｎ−ブトキシ基等があり、置換基を有しても良いア
リールオキシ基としては、フェノキシ基、ペンタフルオ
ロフェニル基等があり、置換基を有しても良いアルキル
チオ基としては、メチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基等が
ある、置換基を有しても良いアリールチオ基としては、
フェニルチオ基、ｐ−ニトロフェニルチオ等がそれぞれ
挙げられるが、これらに限定させるものではない。

【００１２】本発明において、一般式［Ｉ］で示される
化合物は、例えば以下の方法により製造することができ
る。

【００１３】すなわち、下記一般式［ＩＩ］で示される
フタロニトリル類、または、下記一般式［ＩＩＩ］で示
されるイソイドリン化合物、あるいは、相当するフタル
酸無水物類、フタルイミド類として一般式［Ｉ］中のＭ
で示される金属の各種金属塩を出発原料として常法によ
り、一般式［ＩＶ］で示されるフタロシアニン系化合物
を製造できる。

【００１４】一般式［ＩＩ］

【化３】［式中、Ｘ，Ｙ，ｎはそれぞれ一般式［Ｉ］におけるＸ
¹〜Ｘ⁴，Ｙ¹〜Ｙ⁴，ｎ ¹〜ｎ⁴と同じ意味を表す。］

【００１５】一般式［ＩＩＩ］

【化４】［式中、Ｘ，Ｙ，ｎはそれぞれ一般式［Ｉ］におけるＸ
¹〜Ｘ⁴，Ｙ¹〜Ｙ⁴，ｎ ¹〜ｎ⁴と同じ意味を表す。］

【００１６】一般式［ＩＶ］

【化５】［式中、Ｘ¹〜Ｘ⁴，Ｙ¹〜Ｙ⁴，ｎ¹〜ｎ⁴、Ｍ，ｍはそれ
ぞれ一般式［Ｉ］におけるＸ¹〜Ｘ⁴，Ｙ¹〜Ｙ⁴，ｎ¹〜
ｎ⁴、Ｍ，ｍと同じ意味を表す。］

【００１７】次に、得られた一般式［ＩＶ］で示される
フタロシアニン化合物に、種々の置換基を有しても良い
直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基を有す
るクロロホスフィン誘導体を反応させることにより、一
般式［Ｉ］で示されるフタロシアニン化合物を製造する
ことができる。

【００１８】本発明で使用される一般式［Ｉ］で示され
るフタロシアニン化合物の代表的な例として下記に示す
フタロシアニン化合物（ａ）〜（ｄ）等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。

【００１９】（ａ）

【化６】

【００２０】（ｂ）

【化７】

【００２１】（ｃ）

【化８】

【００２２】（ｄ）

【化９】

【００２３】本発明における一般式［Ｉ］で示されるフ
タロシアニン化合物を用いた記録膜層には、記録膜の耐
光性、耐環境性等の安定性、繰り返し再生の安定性をさ
らに向上させる目的で、酸素クエンチャー、紫外線吸収
剤等の添加剤を加えても良い。

【００２４】記録膜層の成膜方法としては、ドライプロ
セス、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法によって
も可能であるが、ウエットプロセス、例えば、スピンコ
ート法、デップ法、スプレー法、ロールコート法あるい
はＬＢ（ラングミュアーブロジェット）法によっても可
能である。本発明の記録膜素材は、汎用の有機溶媒、例
えば、アルコール系、ケトン系、セロソルブ系、ハロゲ
ン系、炭化水素系、フロン系等に溶解するため、生産性
および記録膜の均一性からスピンコート法により成膜す
る方法が好ましい。

【００２５】このように、いわゆる塗布法で成膜する場
合には、必要に応じて高分子バインダーを加えても良
い。高分子バインダーとしてはアクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩
化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ニトロセルロー
ス、フェノール樹脂等が挙げられるがこれに限られるも
のではない。高分子バインダーの混合比としては特に制
限はないが、色素に対して３０ｗｔ％以下が好ましい。

【００２６】本発明の記録膜層の最適膜厚は、記録膜材
料の種類および組み合わせにより異なるため特に制限は
なく、５００〜３０００Ａが好ましく、さらに１０００
〜２５００Ａが最適膜厚範囲である。

【００２７】本発明の反射膜素材としては、金、銀、
銅、白金、アルミニウム、コバルト、スズ等の金属およ
びこれらを主成分とした合金、ＭｇＯ，ＺｎＯ，ＳｎＯ
等の金属酸化物、ＳｉＮ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ等の窒化物
等が挙げられるが、絶対反射率が高く安定性に優れてい
る点から金が最適である。また、場合によっては有機性
の高反射膜を使用することもできる。このような反射膜
の成膜方法としては、ドライプロセス例えば真空蒸着
法、スパッタリング法が最も好ましいがこれらに限られ
るものではない。本発明の反射膜の最適膜厚について
は、特に制限はないが４００〜１３００Ａの範囲が好ま
しい。

【００２８】さらに、反射膜の上より、デイスク特に記
録膜層および反射膜層の化学的劣化（例えば酸化、吸水
等）および物理的劣化（例えば傷、けずれ等）を防ぐ目
的でデイスクを保護するための保護層を設ける。保護層
用の材料としては、紫外線硬化型樹脂を用いて、スピン
コートにより塗布し、紫外線照射により硬化させる方法
が好ましいがこれに限られるものではない。保護層の最
適膜厚については、薄い場合には、保護の効果が低下
し、厚い場合には樹脂の硬化時の収縮によりデイスクの
そり等の機械特性の悪化の原因になるため、２〜２０ミ
クロンの範囲で成膜することが好ましい。

【００２９】また、本発明に用いられるデイスク基板と
しては信号の書き込みや読みだしを行うための光の透過
率が好ましくは８５％以上であり、かつ光学異方性の小
さいものが好ましい。例えば、ガラス、またはアクリル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
アミド樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（ポリ−４−
メチルペンテン等）、ポリエーテルスルホン樹脂などの
熱可塑性樹脂やエポキシ樹脂、アリル樹脂等の熱硬化性
樹脂からなる基板が挙げられる。これらの中で、成形の
しやすさ、ＡＴＩＰ用ウオッブル信号および案内溝等の
付与のしやすさなどから熱可塑性樹脂からなるものが好
ましく、さらに光学特性や機械特性およびコストからみ
てアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂からなるものが
特に好ましい。また、ＡＴＩＰウオブル信号および案内
溝などの付与は熱可塑性樹脂を成形（射出成形、圧縮成
形）する際のスタンパーなどを用いて付与する方法が好
ましいが、フォトポリマー樹脂を用いるいわゆる２Ｐ法
による方法によっても行うことが出来る。

【００３０】本発明の案内溝の形状については、特に制
限はなく台形あるいはＵ字形であっても良い。また、案
内溝の寸法については、記録膜材料の種類および組み合
わせ等により最適値はそれぞれ異なるが、平均溝幅（溝
深さの１／２の位置の幅）が０．４〜０．６ミクロン、
また、溝深さが１０００〜２０００Ａの範囲が好まし
い。

【００３１】本発明のデイスク形態は、記録後ＣＤある
いはＣＤ−ＲＯＭとして機能する必要があるため、ＣＤ
あるいはＣＤ−ＲＯＭの規格（レッドブック）およびＲ
−ＣＤの規格（オレンジブック）に準拠していることが
好ましい。

【００３２】

【実施例】以下の実施例および比較例により本発明を具
体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限られるも
のではない。はじめに、本発明で使用されるフタロシア
ニン化合物の代表例の製造法について説明する。

【００３３】製造例１：フタロシアニン化合物（ａ）の
製造３−ブロモ−１、２−フタロニトリル５部をジエチルエ
ーテル２００部、マグネシウム３部と共に、加熱還流す
る。反応終了後、０度まで冷却しこれに、クロロジブト
キシホスフィン５部とジエチルエーテル２０部の混合液
をゆっくり滴下する。再度、加熱還流を行った後、冷
却、ジエチルエーテル層を濃縮し、さらに、カラムクロ
マトグラフィーによって精製を行い、白色個体として４
部の３−ジブトキシホスホリル−１、２−フタロニトリ
ルを得た。上記の３−ブトキシホスホリル−１、２−フ
タロニトリル３部をｎ−アミルアルコール５０部、ｎ−
トリブチルアミン３部、塩化パラジウム４部と共に、５
時間加熱還流を行い、冷却し、５００部のメタノールで
希釈した。析出した沈澱を濾別、メタノール／水（４／
１）混合溶液で洗浄、乾燥しさらに、この粉末をカラム
クロマトグラフィーで精製して緑青色の粉末２部を得
た。この粉末はＦＤ−ＭＳ分析の結果、フタロシアニン
化合物（ａ）であることが確認された。

【００３４】製造例２：フタロシアニン化合物（ｂ）の
製造ｏ−ジクロロベンゼン５０部、トリ−ｎ−ブチルアミン
２５部に、４−ヒドロキシ−１、３−ジイミノイソイン
ドリン８部および塩化アルミニウム６部を加え、１６０
ー１７０℃で７時間加熱撹拌後、冷却し、メタノール１
０００部で希釈、析出した沈澱を濾別、メタノール／水
（３／１）混合溶液で洗浄、乾燥して緑色の粉末５．５
部を得た。この粉末を濃硫酸３００部に溶解した後、氷
水６０００部に注入、析出した沈澱を濾別、水洗、乾燥
して緑青色の粉末４．３部を得た。この粉末はＦＤ−Ｍ
Ｓ分析の結果、一般式［ＩＶ］に相当するヒドロキシア
ルミニウムフタロシアニン体であることが確認された。
上記で得られたヒドロキシアルミニウムフタロシアニン
体４部をピリジン８０部、トリ−ｎ−ブチルアミン２０
部に撹拌溶解した後、冷却しながらクロロジブトキシフ
ェニルホスフィン１５部を加え、１１０℃で２時間加熱
撹拌した後、冷却し、氷水１０００部に注入した。析出
した沈澱を濾別し、水洗、乾燥して緑色の粉末３．５部
を得た。ＦＤ−ＭＳ分析の結果、この粉末はフタロシア
ニン化合物（ｂ）であることが確認された。

【００３５】製造例３：フタロシアニン化合物（ｃ）の
製造製造例１と同様にして３−ブロモ−６−（２、２、３、
３−テトラフルオロプロポキシ）−１、２−フタロニト
リル１０部をジエチルエーテル３００部中、マグネシウ
ム５部、クロロジメトキシホスフィン１０部と反応し
て、３−ジメトキシホスホリル−６−（２、２、３、
３、−テトラフルオロプロポキシ）−１、２−フタロニ
トリル７部を得た。上記フタロニトリルを金属ナトリウ
ム、エタノール中、アンモニアと反応させることにより
４−ジメトキシホスホリル−７−（２、２、３、３−テ
トラフルオロプロポキシ）−１、３−ジイミノイソイン
ドリンを得た。ｏ−ジクロロベンゼン１５０部、トリ−
ｎ−ブチルアミン３０部に４−ジメトキシホスホリル−
７−（２、２、３、３−テトラフルオロプロポキシ−
１、３−ジイミノイソインドリン１０部および四塩化珪
素１５部を加え、１６０〜１７０℃で８時間加熱撹拌
後、冷却し、２０００部のメタノールで希釈した。析
出した沈澱を濾別、メタノール／水（４／１）混合溶液
で洗浄、乾燥して緑色の粉末８部を得た。この粉末を濃
硫酸４００部に溶解した後、氷水２０００部に注入、析
出した沈澱を濾別、水洗、乾燥して緑青色の粉末６部を
得た。この粉末はＦＤ−ＭＳ分析の結果、一般式［Ｉ
Ｖ］に相当するジヒドロキシシリコンフタロシアニン体
であることが確認された。上記で得られたジヒドロキシ
シリコンフタロシアニン体５部をピリジン１００部、ト
リ−ｎ−ブチルアミン２５部に撹拌溶解した後、冷却し
ながらクロロジフェニルホスフィン１０部を加え、１１
０℃で２時間加熱撹拌した後、冷却し、氷水１０００部
中に注入した。析出した沈澱を濾別し、水洗、乾燥して
フタロシアニン化合物（ｃ）を７部得た。

【００３６】製造例４：フタロシアニン化合物（ｄ）の
製造製造例２と同様にしてｏ−ジクロロベンゼン２００部、
トリ−ｎ−ブチルアミン５０部に４−ｎ−ブチルオキシ
−６−ヒドロキシ−１、３−ジイミノイソインドリン１
０部および四塩化珪素１５部を加え、１６０〜１７０℃
で８時間加熱撹拌後、冷却し、１５００部のメタノール
で希釈した。析出した沈澱を濾別、メタノール／水
（４／１）混合溶液で洗浄、乾燥して緑色の粉末８部を
得た。この粉末を濃硫酸３００部に溶解した後、氷水２
０００部に注入、析出した沈澱を濾別、水洗、乾燥して
緑青色の粉末６部を得た。この粉末はＦＤ−ＭＳ分析の
結果、一般式［ＩＶ］に相当するジヒドロキシシリコン
フタロシアニン体であることが確認された。上記で得ら
れたジヒドロキシシリコンフタロシアニン体５部をピリ
ジン７０部、トリ−ｎ−ブチルアミン２０部に撹拌溶解
した後、冷却しながらクロロジフェニルホスフィン２０
部を加え、１１０℃で２時間加熱撹拌した後、冷却し、
氷水１０００部中に注入した。析出した沈澱を濾別し、
水洗、乾燥してフタロシアニン化合物（ｄ）を４部得
た。

【００３７】実施例１深さ１２００オングストローム、幅０．５０ミクロン、
ピッチ１．６ミクロンの案内溝を有する厚さ１．２０ｍ
ｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのポリカーボネート
基板上に、フタロシアニン化合物［ａ］を２、２、３、
３−テトラフルオロプロパノールに５０ｍｇ／ｍｌの濃
度で溶解し、０．２ミクロンのフイルタリングを行い塗
液を調整し、この塗液を用いて、スピンコーターにより
記録膜厚１３００オングストロームに成膜した。次に、
このようにして得た記録膜の上にスパッタリングにより
金を膜厚８００オングストロームに成膜した。さらに、
この上に紫外線硬化型樹脂により保護膜層を５ミクロン
の膜厚で設けて光デッスクを作成した。このようにして
作成した光デイスクの反射率は６６％であったこのよう
にして作成した光デイスクを用い、波長７８５ｎｍの半
導体レーザーを使用して線速度１．４ｍ／ｓｅｃでＥＦ
Ｍ−ＣＤフォーマット信号を記録したところ、最適記録
レーザーパワーが６．９ｍＷで記録が可能であった。次
に、この信号をＣＤプレーヤーによりレーザーパワー
０．５ｍＷで再生を行ったところ、得られた信号は良好
であり、市販のＣＤプレーヤーに十分かかるレベルであ
った。

【００３８】実施例２深さ１２００オングストローム、幅０．５０ミクロン、
ピッチ１．６ミクロンの案内溝を有する厚さ１．２０ｍ
ｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのポリカーボネート
基板上に、フタロシアニン化合物［ｂ］をジアセトンア
ルコールに６０ｍｇ／ｍｌの濃度で溶解し、０．２ミク
ロンのフイルタリングを行い塗液を調整し、この塗液を
用いて、スピンコーターにより記録膜厚１２００オング
ストロームに成膜した。次に、このようにして得た記録
膜の上にスパッタリングにより金を膜厚８００オングス
トロームに成膜した。さらに、この上に紫外線硬化型樹
脂により保護膜層を５ミクロンの膜厚で設けて光デッス
クを作成した。このようにして作成した光デイスクの反
射率は７０％であったこのようにして作成した光デイス
クを用い、波長７８５ｎｍの半導体レーザーを使用して
線速度１．４ｍ／ｓｅｃでＥＦＭ−ＣＤフォーマット信
号を記録したところ、最適記録レーザーパワーが７．５
ｍＷで記録が可能であった。次に、この信号をＣＤプレ
ーヤーによりレーザーパワー０．５ｍＷで再生を行った
ところ、得られた信号は良好であり、市販のＣＤプレー
ヤーに十分かかるレベルであった。

【００３９】実施例３〜４深さ１２５０オングストローム、幅０．４８ミクロン、
ピッチ１．６ミクロンの案内溝を有する厚さ１．２０ｍ
ｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのポリカーボネート
基板上に、表１に示すフタロシアニン化合物をジアセト
ンアルコールに６０ｍｇ／ｍｌの濃度で溶解し、０．２
ミクロンのフイルタリングを行い塗液を調整し、この塗
液を用いて、スピンコーターにより記録膜厚１２００オ
ングストロームに成膜した。次に、このようにして得た
記録膜の上にスパッタリングにより金を膜厚８００オン
グストロームに成膜した。さらに、この上に紫外線硬化
型樹脂により保護膜層を５ミクロンの膜厚で設けて光デ
イスクを作成した。このようにして作成した光デイスク
の反射率および実施例１と同様の方法で記録、再生を行
なった場合の最適レーザーパワーを表１に示す。

【００４０】表１実施例フタロシアニン化合物反射率最適記録３（ｃ）６５６．３４（ｄ）６７６．９

【００４１】

【発明の効果】本発明の構成により光デイスクを作成す
ることにより、７８０ｎｍから８１０ｎｍの半導体レー
ザーに対して、より高感度でかつ高反射率な安定した記
録再生特性を示す光記録媒体を提供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基盤上に下記一般式［Ｉ］で示されるフ
タロシアニン化合物の少なくとも一種を含有する有機薄
膜層を有することを特徴とする光学記録媒体。一般式
［Ｉ］【化１】［式中、置換基Ｘ¹〜Ｘ⁴はそれぞれ独立に、−ＯＰ（＝
Ｏ）Ｒ¹Ｒ²、−Ｐ（＝Ｏ）Ｒ¹Ｒ²、−ＯＰ（＝Ｓ）Ｒ¹
Ｒ²、−Ｐ（＝Ｓ）Ｒ¹Ｒ²、（ただし、Ｒ¹およびＲ
²は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、チオアルコキシ基、ジアルキルアミノ基を示
す。）を表し、ｎ１〜ｎ４は置換基Ｘ¹〜Ｘ⁴の置換基数
で１〜４の整数を表す。Ｙ¹〜Ｙ⁴はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、置換基を有しても良いアルキル
基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有して
もよいアルコキシ基、置換基を有しても良いアリールオ
キシ基、置換基を有しても良いアルキルチオ基、置換基
を有しても良いアリールチオ基、ニトロ基、シアノ基、
スルホン酸基、スルホン酸アミド基、スルホン酸エステ
ル基を表す。Ｍは、２Ｈもしくは金属原子を表す。置換
基Ｚは、アルキル基、アルコキシル基、アシル基、−Ｏ
Ｐ（＝Ｏ）Ｒ³Ｒ⁴，−ＯＰ（＝Ｏ）Ａｒ¹Ａｒ²を表す。
ここで、Ｒ³、Ｒ⁴は置換基を有しても良い直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基を表し、Ａｒ¹、Ａｒ²は置換基を
有しても良いアリール基を表す。ｍは、Ｏから２の整数
であり置換基Ｚの個数を表す。］